JPH0977759A - 光学活性環状化合物の製造方法 - Google Patents
光学活性環状化合物の製造方法Info
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D307/20—Oxygen atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 入手容易な原料及び取扱い容易な試薬を用
い、短い工程で、経済的な光学活性３−ヒドロキシ−γ
−ブチロラクトン又は光学活性３−ヒドロキシテトラヒ
ドロフランの製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式（ＩＩ）で表される光学活性化合
物（４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステル又は４−ハ
ロ−１，３−ブタンジオール）を酸性条件下で環化させ
ることより成る、一般式（Ｉ）で表される光学活性環状
化合物の製造方法。 〔式中、Ｘはハロゲン原子を示し；ＷはＱが低級アルコ
キシカルボニル基の場合にはケト基（Ｃ＝Ｏ）を、Ｑが
ヒドロキシメチル基の場合にはメチレン基（−ＣＨ
２−）を、それぞれ示し；＊印は不斉炭素原子を意味す
る。〕
い、短い工程で、経済的な光学活性３−ヒドロキシ−γ
−ブチロラクトン又は光学活性３−ヒドロキシテトラヒ
ドロフランの製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式（ＩＩ）で表される光学活性化合
物（４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステル又は４−ハ
ロ−１，３−ブタンジオール）を酸性条件下で環化させ
ることより成る、一般式（Ｉ）で表される光学活性環状
化合物の製造方法。 〔式中、Ｘはハロゲン原子を示し；ＷはＱが低級アルコ
キシカルボニル基の場合にはケト基（Ｃ＝Ｏ）を、Ｑが
ヒドロキシメチル基の場合にはメチレン基（−ＣＨ
２−）を、それぞれ示し；＊印は不斉炭素原子を意味す
る。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品や農薬など
の合成中間体として有用な光学活性環状化合物である光
学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン又は光学活
性３−ヒドロキシテトラヒドロフランの新規な製造方法
に関する。
の合成中間体として有用な光学活性環状化合物である光
学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン又は光学活
性３−ヒドロキシテトラヒドロフランの新規な製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、上記一般式（Ｉ）で表される
光学活性環状化合物のうち、Ｗがケト基である光学活性
３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン又は、Ｗがメチレ
ン基である光学活性３−ヒドロキシテトラヒドロフラン
の製造方法については、既に文献などに記載され公知で
ある。
光学活性環状化合物のうち、Ｗがケト基である光学活性
３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン又は、Ｗがメチレ
ン基である光学活性３−ヒドロキシテトラヒドロフラン
の製造方法については、既に文献などに記載され公知で
ある。
【０００３】例えば、光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブ
チロラクトンの製造方法としては、Ｌ−アスコルビン
酸或いはＤ−イソアスコルビン酸を出発原料として用
い、７工程を経て製造する方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ
５７０〜５７２頁，１９８７年）、Ｌ−リンゴ酸を出
発原料として、ジエステル化後ジメチルスルフィド／ボ
ラン試薬で還元してジオールエステルを生成し、次い
で、このものをトリフルオロ酢酸を用いて環化反応を行
う方法（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ １３８
９〜１３９２頁，１９８４年）、Ｄ−リンゴ酸から７
工程を経て３，４−ジヒドロキシブタン酸に変換し、酸
により環化させて製造する方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ ３５巻，９３３〜９４０頁，１９７９年）、Ｌ−
リンゴ酸から３工程で製造する方法（特開平６−１７２
２５６号）などが知られている。
チロラクトンの製造方法としては、Ｌ−アスコルビン
酸或いはＤ−イソアスコルビン酸を出発原料として用
い、７工程を経て製造する方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ
５７０〜５７２頁，１９８７年）、Ｌ−リンゴ酸を出
発原料として、ジエステル化後ジメチルスルフィド／ボ
ラン試薬で還元してジオールエステルを生成し、次い
で、このものをトリフルオロ酢酸を用いて環化反応を行
う方法（Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ １３８
９〜１３９２頁，１９８４年）、Ｄ−リンゴ酸から７
工程を経て３，４−ジヒドロキシブタン酸に変換し、酸
により環化させて製造する方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ ３５巻，９３３〜９４０頁，１９７９年）、Ｌ−
リンゴ酸から３工程で製造する方法（特開平６−１７２
２５６号）などが知られている。
【０００４】また、光学活性３−ヒドロキシテトラヒド
ロフランの製造方法としては、Ｌ−リンゴ酸を出発原
料として、ジエステル化後水素化アルミニウムリチウム
で還元して１，２，４−ブタントリオールを生成し、次
いで、このものをパラトルエンスルホン酸を触媒として
約１８０〜２２０℃の高温で環化反応を行う方法（Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８巻，２７６７〜２７６９頁，
１９８３年）が知られている。
ロフランの製造方法としては、Ｌ−リンゴ酸を出発原
料として、ジエステル化後水素化アルミニウムリチウム
で還元して１，２，４−ブタントリオールを生成し、次
いで、このものをパラトルエンスルホン酸を触媒として
約１８０〜２２０℃の高温で環化反応を行う方法（Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８巻，２７６７〜２７６９頁，
１９８３年）が知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た方法、特にの方法は、多工程反応を経由するために
操作が煩雑になり、収率の面でも決して望ましいもので
はない。また、の方法においては、比較的短い工程で
あるが、保護基を必要としたり、精製にシリカゲルカラ
ムを用いるなど工業的な製造方法とは言い難い。更に、
やの方法は、製造に際して使用される試薬が高価で
あり、取り扱いが難しいなどの問題がある。このよう
に、従来公知の方法は、経済性や効率性の面から未だ工
業的に適した製造方法とは言えない。そこで、本発明は
入手容易で安価な原料及び取扱い容易で安価な試薬を用
い、工程の短い、経済性に優れた光学活性３−ヒドロキ
シ−γ−ブチロラクトン又は光学活性３−ヒドロキシテ
トラヒドロフランの工業的に有利な製造方法を提供する
ことを目的とする。
た方法、特にの方法は、多工程反応を経由するために
操作が煩雑になり、収率の面でも決して望ましいもので
はない。また、の方法においては、比較的短い工程で
あるが、保護基を必要としたり、精製にシリカゲルカラ
ムを用いるなど工業的な製造方法とは言い難い。更に、
やの方法は、製造に際して使用される試薬が高価で
あり、取り扱いが難しいなどの問題がある。このよう
に、従来公知の方法は、経済性や効率性の面から未だ工
業的に適した製造方法とは言えない。そこで、本発明は
入手容易で安価な原料及び取扱い容易で安価な試薬を用
い、工程の短い、経済性に優れた光学活性３−ヒドロキ
シ−γ−ブチロラクトン又は光学活性３−ヒドロキシテ
トラヒドロフランの工業的に有利な製造方法を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく、入手が容易な光学活性４−ハロ−３−
ヒドロキシ酪酸エステル又は光学活性４−ハロ−１，３
−ブタンジオールを原料とする工業的に有利な製造方法
の探索研究を重ねた結果、上記原料化合物である光学活
性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステル、又は、当該
エステル化合物を還元して得られる光学活性４−ハロ−
１，３−ブタンジオールを、酸性条件下で反応させるこ
とにより環化反応が行われることを見出し、本発明を完
成するに到った。
題を解決すべく、入手が容易な光学活性４−ハロ−３−
ヒドロキシ酪酸エステル又は光学活性４−ハロ−１，３
−ブタンジオールを原料とする工業的に有利な製造方法
の探索研究を重ねた結果、上記原料化合物である光学活
性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステル、又は、当該
エステル化合物を還元して得られる光学活性４−ハロ−
１，３−ブタンジオールを、酸性条件下で反応させるこ
とにより環化反応が行われることを見出し、本発明を完
成するに到った。
【０００７】即ち、本発明は、一般式（II）
【化３】 〔式中、Ｑは低級アルコキシカルボニル基またはヒドロ
キシメチル基を、Ｘはハロゲン原子を示し、＊印は不斉
炭素原子を意味する。〕で表される光学活性化合物を酸
性条件下で環化させることを特徴とする、一般式（Ｉ）
キシメチル基を、Ｘはハロゲン原子を示し、＊印は不斉
炭素原子を意味する。〕で表される光学活性化合物を酸
性条件下で環化させることを特徴とする、一般式（Ｉ）
【化４】 〔式中、Ｗは、一般式（II）の置換基Ｑが低級アルコキ
シカルボニル基の場合にはケト基（Ｃ＝Ｏ）を、一般式
（II）の置換基Ｑがヒドロキシメチル基の場合にはメチ
レン基（−ＣＨ2 −）をそれぞれ示し、＊印は不斉炭素
原子を意味する。〕で表される光学活性環状化合物の新
規な製造方法を提供するものである。
シカルボニル基の場合にはケト基（Ｃ＝Ｏ）を、一般式
（II）の置換基Ｑがヒドロキシメチル基の場合にはメチ
レン基（−ＣＨ2 −）をそれぞれ示し、＊印は不斉炭素
原子を意味する。〕で表される光学活性環状化合物の新
規な製造方法を提供するものである。
【０００８】本発明において、一般式（II）中のＱで示
される低級アルコキシカルボニル基とは、炭素数１〜４
（カルボニル基の炭素を除く）のアルコキシカルボニル
基であり、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル又はｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルを、ハロゲン原子とは、例えば、フッ素、
塩素又は臭素をそれぞれ示す。
される低級アルコキシカルボニル基とは、炭素数１〜４
（カルボニル基の炭素を除く）のアルコキシカルボニル
基であり、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル又はｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルを、ハロゲン原子とは、例えば、フッ素、
塩素又は臭素をそれぞれ示す。
【０００９】更に、本発明における光学活性な化合物と
は、（Ｒ）−体及び（Ｓ）−体の光学活性体の両方を含
む。
は、（Ｒ）−体及び（Ｓ）−体の光学活性体の両方を含
む。
【００１０】本発明の出発物質として使用される前記一
般式（II）で表される光学活性化合物は、Ｑがアルコキ
シカルボニル基の場合、光学活性４−ハロ−３−ヒドロ
キシ酪酸エステルであり、Ｑがヒドロキシメチル基の場
合、光学活性４−ハロ−１，３−ブタンジオールであ
る。
般式（II）で表される光学活性化合物は、Ｑがアルコキ
シカルボニル基の場合、光学活性４−ハロ−３−ヒドロ
キシ酪酸エステルであり、Ｑがヒドロキシメチル基の場
合、光学活性４−ハロ−１，３−ブタンジオールであ
る。
【００１１】これらの出発原料のうち、光学活性４−ハ
ロ−３−ヒドロキシ酪酸エステルは、例えば、特開平１
−２１１５５１号公報に開示されている方法、即ち、入
手が容易であるγ−ハロゲノアセト酢酸エステルを、ル
テニウム−光学活性ホスフィン錯体の触媒存在下に不斉
水素化することにより得られる。
ロ−３−ヒドロキシ酪酸エステルは、例えば、特開平１
−２１１５５１号公報に開示されている方法、即ち、入
手が容易であるγ−ハロゲノアセト酢酸エステルを、ル
テニウム−光学活性ホスフィン錯体の触媒存在下に不斉
水素化することにより得られる。
【００１２】光学活性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エ
ステルの好ましい具体例としては、（Ｒ）−又は（Ｓ）
−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチルエステル、
（Ｒ）−又は（Ｓ）−４−ブロモ−３−ヒドロキシ酪酸
エチルエステル、（Ｒ）−又は（Ｓ）−４−クロロ−３
−ヒドロキシ酪酸イソプロピルエステル、（Ｒ）−又は
（Ｓ）−４−ブロモ−３−ヒドロキシ酪酸イソプロピル
エステル、（Ｒ）−又は（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒド
ロキシ酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル、（Ｒ）−又は
（Ｓ）−４−ブロモ−３−ヒドロキシ酪酸ｔｅｒｔ−ブ
チルエステルなどが挙げられる。
ステルの好ましい具体例としては、（Ｒ）−又は（Ｓ）
−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチルエステル、
（Ｒ）−又は（Ｓ）−４−ブロモ−３−ヒドロキシ酪酸
エチルエステル、（Ｒ）−又は（Ｓ）−４−クロロ−３
−ヒドロキシ酪酸イソプロピルエステル、（Ｒ）−又は
（Ｓ）−４−ブロモ−３−ヒドロキシ酪酸イソプロピル
エステル、（Ｒ）−又は（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒド
ロキシ酪酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル、（Ｒ）−又は
（Ｓ）−４−ブロモ−３−ヒドロキシ酪酸ｔｅｒｔ−ブ
チルエステルなどが挙げられる。
【００１３】また、本発明のもう一方の出発物質として
使用される光学活性４−ハロ−１，３−ブタンジオール
は、例えば、特開平２−１７４７３３号公報に開示され
ている方法、即ち、上述した光学活性４−ハロ−３−ヒ
ドロキシ酪酸エステルを、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、ジ
ボランなどの水素化物を用いて還元することにより得る
ことができる。
使用される光学活性４−ハロ−１，３−ブタンジオール
は、例えば、特開平２−１７４７３３号公報に開示され
ている方法、即ち、上述した光学活性４−ハロ−３−ヒ
ドロキシ酪酸エステルを、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、ジ
ボランなどの水素化物を用いて還元することにより得る
ことができる。
【００１４】これら光学活性４−ハロ−１，３−ブタン
ジオールの好ましい具体例としては、（Ｒ）−又は
（Ｓ）−４−クロロ−１，３−ブタンジオールが挙げら
れる。
ジオールの好ましい具体例としては、（Ｒ）−又は
（Ｓ）−４−クロロ−１，３−ブタンジオールが挙げら
れる。
【００１５】本発明に係る製造方法は、上述した方法に
より得られる一般式（II）で表される光学活性４−ハロ
−３−ヒドロキシ酪酸エステル又は光学活性４−ハロ−
１，３−ブタンジオールを酸性条件下で環化反応を行わ
せる方法である。
より得られる一般式（II）で表される光学活性４−ハロ
−３−ヒドロキシ酪酸エステル又は光学活性４−ハロ−
１，３−ブタンジオールを酸性条件下で環化反応を行わ
せる方法である。
【００１６】
【発明の実施の形態】即ち、本発明においては、一般式
（II）で表される化合物に酸性水溶液を添加し、環化反
応させることにより目的とする光学活性環状化合物を得
ることができる。反応に使用される酸としては、塩酸、
硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸などが挙げ
られ、ｐＨ２．０以下好ましくはｐＨ０．５〜１．０の
濃度に調製した酸性水溶液を、基質である一般式（II）
で表される化合物に対して１〜１０倍重量、好ましくは
２〜４倍重量加えて、４０〜１５０℃、好ましくは８０
〜１２０℃で、１〜１０時間加熱することにより反応が
行われる。
（II）で表される化合物に酸性水溶液を添加し、環化反
応させることにより目的とする光学活性環状化合物を得
ることができる。反応に使用される酸としては、塩酸、
硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸などが挙げ
られ、ｐＨ２．０以下好ましくはｐＨ０．５〜１．０の
濃度に調製した酸性水溶液を、基質である一般式（II）
で表される化合物に対して１〜１０倍重量、好ましくは
２〜４倍重量加えて、４０〜１５０℃、好ましくは８０
〜１２０℃で、１〜１０時間加熱することにより反応が
行われる。
【００１７】反応終了後、反応溶液を苛性ソーダなどの
アルカリにより中性とした後、水を減圧下に留去する。
残留物に酢酸メチル、酢酸エチル、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどの有機溶媒を単独或いは２種以上混合して加え、
生成する不溶物をろ別し、更に溶媒を減圧下に留去し、
必要により数回繰り返した後、残留する油状物を減圧蒸
留することにより、本発明の目的化合物である光学活性
環状化合物である光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロ
ラクトン又は光学活性３−ヒドロキシテトラヒドロフラ
ンを製造することができる。
アルカリにより中性とした後、水を減圧下に留去する。
残留物に酢酸メチル、酢酸エチル、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどの有機溶媒を単独或いは２種以上混合して加え、
生成する不溶物をろ別し、更に溶媒を減圧下に留去し、
必要により数回繰り返した後、残留する油状物を減圧蒸
留することにより、本発明の目的化合物である光学活性
環状化合物である光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロ
ラクトン又は光学活性３−ヒドロキシテトラヒドロフラ
ンを製造することができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、出発物質で
ある光学活性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステル又
は光学活性４−ハロ−１，３−ブタンジオールの水酸基
の保護基を必要とせず、工業的に入手容易で安価な光学
活性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステルより１工程
で光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンを製造
することができ、また、光学活性４−ハロ−３−ヒドロ
キシ酪酸エステルを還元して得られる光学活性４−ハロ
−１，３−ブタンジオールを経由して光学活性３−ヒド
ロキシテトラヒドロフランを製造することができる。
ある光学活性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステル又
は光学活性４−ハロ−１，３−ブタンジオールの水酸基
の保護基を必要とせず、工業的に入手容易で安価な光学
活性４−ハロ−３−ヒドロキシ酪酸エステルより１工程
で光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンを製造
することができ、また、光学活性４−ハロ−３−ヒドロ
キシ酪酸エステルを還元して得られる光学活性４−ハロ
−１，３−ブタンジオールを経由して光学活性３−ヒド
ロキシテトラヒドロフランを製造することができる。
【００１９】本発明の製造方法は、従来の製造方法と比
較して、煩雑な合成工程を経ることなく、経済性に優
れ、工業的にも有利な方法である。
較して、煩雑な合成工程を経ることなく、経済性に優
れ、工業的にも有利な方法である。
【００２０】
【実施例】本発明を更に詳細に説明するために、参考例
及び実施例を以下に示すが、本発明の範囲はこれらによ
って何ら限定されるものでない。
及び実施例を以下に示すが、本発明の範囲はこれらによ
って何ら限定されるものでない。
【００２１】なお、各実施例における物性の測定に用い
た機器装置類は次の通りである。 ガスクロマトグラフィー：５８９０−II型（ヒューレッ
ト・パッカード社製） カラム；シリコンＮＢ−１（０．２５mm×３０ｍ）（GL
サイエンス社製） 温 度；５０℃より２５０℃まで１０℃／分で昇温 赤外吸収スペクトル（ＩＲ）：ＩＲ−８１０型〔日本分
光工業（株）製） 質量スペクトル（ＭＳ）：Ｍ−８０Ｂ（イオン化電圧２
０ｅＶ，日立製作所（株）製〕 核磁気共鳴スペクトル：ＡＭ−４００型（ブルッカ社
製）1 Ｈ−ＮＭＲ；４００ＭＨＺ，内部標準物質；テトラメ
チルシラン13 Ｃ−ＮＭＲ；１００ＭＨｚ，内部標準物質；テトラメ
チルシラン 旋光度：ＤＩＰ−４型〔日本分光工業（株）製〕
た機器装置類は次の通りである。 ガスクロマトグラフィー：５８９０−II型（ヒューレッ
ト・パッカード社製） カラム；シリコンＮＢ−１（０．２５mm×３０ｍ）（GL
サイエンス社製） 温 度；５０℃より２５０℃まで１０℃／分で昇温 赤外吸収スペクトル（ＩＲ）：ＩＲ−８１０型〔日本分
光工業（株）製） 質量スペクトル（ＭＳ）：Ｍ−８０Ｂ（イオン化電圧２
０ｅＶ，日立製作所（株）製〕 核磁気共鳴スペクトル：ＡＭ−４００型（ブルッカ社
製）1 Ｈ−ＮＭＲ；４００ＭＨＺ，内部標準物質；テトラメ
チルシラン13 Ｃ−ＮＭＲ；１００ＭＨｚ，内部標準物質；テトラメ
チルシラン 旋光度：ＤＩＰ−４型〔日本分光工業（株）製〕
【００２２】実施例１．（Ｓ）−３−ヒドロキシ−γ−
ブチロラクトンの製造 （Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂
香料工業株式会社製、純度９８％、光学純度９３％ee）
５００ｇ（３モル）に０．５Ｎ塩酸１Ｌを加え、２時間
加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソーダ液で中和し
た。減圧下、水を留去し、残留する結晶と油状物の混合
物に酢酸エチル５００ｍｌを加え攪拌し、結晶物をろ別
した後、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減圧蒸留して無
色の表記化合物を２３２ｇ得た。（純度９９％、収率７
５％）
ブチロラクトンの製造 （Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂
香料工業株式会社製、純度９８％、光学純度９３％ee）
５００ｇ（３モル）に０．５Ｎ塩酸１Ｌを加え、２時間
加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソーダ液で中和し
た。減圧下、水を留去し、残留する結晶と油状物の混合
物に酢酸エチル５００ｍｌを加え攪拌し、結晶物をろ別
した後、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減圧蒸留して無
色の表記化合物を２３２ｇ得た。（純度９９％、収率７
５％）
【００２３】なお、得られた化合物の物性値は下記のと
おりであった。 沸点： 140℃／1mmHg 旋光度：〔α〕D 24＝−79.53 °（ｃ＝2.07，エタノー
ル）1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm; 2.51 (1H, d, J=18Hz ),2.76 (1H, dd, J=6, 18Hz),3.7
1 (1H, brs, OH),4.31 (1H, d, J=10.3Hz),4.42 (1H, d
d, J=4.4, 14.7Hz),4.65−4.69 (1H, m, CH-OH)13 Ｃ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm; 37.81 (CH2),67.40 (C
H), 76.41 (CH2), 177.33 (C=O) ＩＲνmax (neat): 3420, 1775 cm-1 ＭＳ(m/e, ％）: 102(2), 74(23), 44(100), 43(60)
おりであった。 沸点： 140℃／1mmHg 旋光度：〔α〕D 24＝−79.53 °（ｃ＝2.07，エタノー
ル）1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm; 2.51 (1H, d, J=18Hz ),2.76 (1H, dd, J=6, 18Hz),3.7
1 (1H, brs, OH),4.31 (1H, d, J=10.3Hz),4.42 (1H, d
d, J=4.4, 14.7Hz),4.65−4.69 (1H, m, CH-OH)13 Ｃ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm; 37.81 (CH2),67.40 (C
H), 76.41 (CH2), 177.33 (C=O) ＩＲνmax (neat): 3420, 1775 cm-1 ＭＳ(m/e, ％）: 102(2), 74(23), 44(100), 43(60)
【００２４】実施例２．（Ｒ）−３−ヒドロキシ−γ−
ブチロラクトンの製造 （Ｒ）−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂
香料工業株式会社製、純度９８％、光学純度９３％ee）
３０ｇ（０．１８モル) に０．５Ｎ塩酸９０ｍｌを加
え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソーダ液
で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶と油状
物の混合物に酢酸エチル５０ｍｌを加え攪拌した後、結
晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減圧蒸留
して無色の表記化合物を１４．９ｇ得た。（純度９６
％、収率８１％） 旋光度：〔α〕D 24＝＋74.73 °(C=2.4, エタノール）
ブチロラクトンの製造 （Ｒ）−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂
香料工業株式会社製、純度９８％、光学純度９３％ee）
３０ｇ（０．１８モル) に０．５Ｎ塩酸９０ｍｌを加
え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソーダ液
で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶と油状
物の混合物に酢酸エチル５０ｍｌを加え攪拌した後、結
晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減圧蒸留
して無色の表記化合物を１４．９ｇ得た。（純度９６
％、収率８１％） 旋光度：〔α〕D 24＝＋74.73 °(C=2.4, エタノール）
【００２５】実施例３．（Ｓ）−３−ヒドロキシ−γ−
ブチロラクトンの製造 （Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂
香料工業株式会社製、純度９８％、光学純度９３％ee）
１０ｇ（６０ミリモル) に０．５Ｎ硫酸２０ｍｌを加
え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソーダ液
で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶と油状
物の混合物に酢酸エチル５００ｍｌを加え攪拌し、結晶
物をろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減圧蒸
留して無色の表記化合物を５．１ｇ得た。（収率８３
％）
ブチロラクトンの製造 （Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂
香料工業株式会社製、純度９８％、光学純度９３％ee）
１０ｇ（６０ミリモル) に０．５Ｎ硫酸２０ｍｌを加
え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソーダ液
で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶と油状
物の混合物に酢酸エチル５００ｍｌを加え攪拌し、結晶
物をろ別した後、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減圧蒸
留して無色の表記化合物を５．１ｇ得た。（収率８３
％）
【００２６】実施例４．（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラ
ヒドロフランの製造 下記参考例１で得た（Ｓ）−４−クロロ−１，３−ブタ
ンジオール２５０ｇ（２モル）に０．５Ｎ塩酸５００ｍ
ｌを加え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソ
ーダ液で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶
と油状物の混合物にメタノール５００mlを加え攪拌した
後、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減
圧蒸留して無色の表記化合物を１０５ｇ得た。（純度９
９．８％、収率６８％）
ヒドロフランの製造 下記参考例１で得た（Ｓ）−４−クロロ−１，３−ブタ
ンジオール２５０ｇ（２モル）に０．５Ｎ塩酸５００ｍ
ｌを加え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソ
ーダ液で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶
と油状物の混合物にメタノール５００mlを加え攪拌した
後、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減
圧蒸留して無色の表記化合物を１０５ｇ得た。（純度９
９．８％、収率６８％）
【００２７】沸点： 80 ℃／11mmHg 旋光度：〔α〕D 24＝＋16.45 °(C=2.45,メタノール)1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm;1.88−1.92 (1H, m), 2.0
2−2.09 (1H, m),3.65 (1H, brs, OH), 3.71−3.85 (2
H, m),3.93−3.97 (1H, m),4.45−4.48 (1H, m, CH-OH)13 Ｃ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm; 35.28 (CH2),66.63 (CH
2), 71.46 (CH), 75.33 (CH2) ＩＲνmax (neat): 3400, 1125 cm-1 ＭＳ(m/e, ％): 88(11), 70(14), 58(61), 57(100),31
(61), 29(75)
2−2.09 (1H, m),3.65 (1H, brs, OH), 3.71−3.85 (2
H, m),3.93−3.97 (1H, m),4.45−4.48 (1H, m, CH-OH)13 Ｃ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm; 35.28 (CH2),66.63 (CH
2), 71.46 (CH), 75.33 (CH2) ＩＲνmax (neat): 3400, 1125 cm-1 ＭＳ(m/e, ％): 88(11), 70(14), 58(61), 57(100),31
(61), 29(75)
【００２８】実施例５．（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラ
ヒドロフランの製造 下記参考例２で得た（Ｒ）−４−クロロ−１，３−ブタ
ンジオール３５ｇ（０．２８モル) に０．５Ｎ塩酸７０
ｍｌを加え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％荷性
ソーダ液で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結
晶と油状物の混合物にメタノール６０ｍｌを加え攪拌し
た後、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を
減圧蒸留して無色の表記化合物を１６．６ｇ得た。（純
度９９．１％、収率６７％） 旋光度：〔α〕D 23＝−15.91 °(C=2.45,メタノール)
ヒドロフランの製造 下記参考例２で得た（Ｒ）−４−クロロ−１，３−ブタ
ンジオール３５ｇ（０．２８モル) に０．５Ｎ塩酸７０
ｍｌを加え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％荷性
ソーダ液で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結
晶と油状物の混合物にメタノール６０ｍｌを加え攪拌し
た後、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を
減圧蒸留して無色の表記化合物を１６．６ｇ得た。（純
度９９．１％、収率６７％） 旋光度：〔α〕D 23＝−15.91 °(C=2.45,メタノール)
【００２９】実施例６．（Ｓ）−３−ヒドロキシテトラ
ヒドロフランの製造 下記参考例１で得た（Ｓ）−４−クロロ−１，３−ブタ
ンジオール２５ｇ（０．２モル）に０．５Ｎ硫酸５０ｍ
ｌを加え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソ
ーダ液で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶
と油状物の混合物にメタノール５０ｍｌを加え攪拌した
後、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減
圧蒸留して無色の表記化合物を１１．６ｇ得た。（収率
６６％）
ヒドロフランの製造 下記参考例１で得た（Ｓ）−４−クロロ−１，３−ブタ
ンジオール２５ｇ（０．２モル）に０．５Ｎ硫酸５０ｍ
ｌを加え、２時間加熱還流した。冷却後、５０％苛性ソ
ーダ液で中和した。減圧下、水を留去し、残留する結晶
と油状物の混合物にメタノール５０ｍｌを加え攪拌した
後、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残留物を減
圧蒸留して無色の表記化合物を１１．６ｇ得た。（収率
６６％）
【００３０】参考例１．（Ｓ）−４−クロロ−１，３−
ブタンジオールの製造 テトラヒドロフラン２Ｌに水素化ホウ素ナトリウム１１
４ｇ（３モル）を加えて加熱還流し、これに、テトラヒ
ドロフラン８００ｍｌに（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒド
ロキシ酪酸エチル（高砂香料工業株式会社製、純度９８
％、光学純度９３％ee）５００ｇ（３モル）を溶解した
液を２時間かけて滴下した。そのまま１時間加熱還流し
たのち、冷却した。減圧下溶剤を回収し、残留物に冷却
下、攪拌しながら４Ｎ塩酸１Ｌを加えた。酢酸エチル１
Ｌで抽出し、１０％炭酸ナトリウム水溶液で中和、１０
％食塩水にて２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、減圧下溶剤を回収すると、油状物とし
て表記化合物を３２０ｇ得た。（収率８６％）
ブタンジオールの製造 テトラヒドロフラン２Ｌに水素化ホウ素ナトリウム１１
４ｇ（３モル）を加えて加熱還流し、これに、テトラヒ
ドロフラン８００ｍｌに（Ｓ）−４−クロロ−３−ヒド
ロキシ酪酸エチル（高砂香料工業株式会社製、純度９８
％、光学純度９３％ee）５００ｇ（３モル）を溶解した
液を２時間かけて滴下した。そのまま１時間加熱還流し
たのち、冷却した。減圧下溶剤を回収し、残留物に冷却
下、攪拌しながら４Ｎ塩酸１Ｌを加えた。酢酸エチル１
Ｌで抽出し、１０％炭酸ナトリウム水溶液で中和、１０
％食塩水にて２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥後、減圧下溶剤を回収すると、油状物とし
て表記化合物を３２０ｇ得た。（収率８６％）
【００３１】この化合物の物性値は下記のとおりであっ
た。 旋光度：〔α〕D 24＝−23.31 °(C=1.1, メタノール)1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm;1.72−1.88 (2H, m), 2.8
7 (2H, brs, OH) 3.54 (1H, dd, J=6.7, 11.2Hz),3.62 (1H, dd, J=4.4,
11.2Hz),3.79−3.92 (2H, m), 4.02−4.11(1H, m) ＩＲνmax (neat): 3350 cm -1
た。 旋光度：〔α〕D 24＝−23.31 °(C=1.1, メタノール)1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δppm;1.72−1.88 (2H, m), 2.8
7 (2H, brs, OH) 3.54 (1H, dd, J=6.7, 11.2Hz),3.62 (1H, dd, J=4.4,
11.2Hz),3.79−3.92 (2H, m), 4.02−4.11(1H, m) ＩＲνmax (neat): 3350 cm -1
【００３２】参考例２．（Ｒ）−４−クロロ−１，３−
ブタンジオールの製造 テトラヒドロフラン４００ｍｌに水素化ホウ素ナトリウ
ム２３ｇ（０．６モル）を加えて加熱還流し、これに、
テトラヒドロフラン４００ｍｌに（Ｒ）−４−クロロ−
３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂香料工業株式会社製、
純度９８％、光学純度９３％ee）１００ｇ（０．６モ
ル）を溶解した液を２時間かけて滴下した。そのまま１
時間加熱還流したのち、冷却した。減圧下溶剤を回収
し、残留物に冷却下、攪拌しながら４Ｎ塩酸２００ｍｌ
を加えた。酢酸エチル３００ｍｌで抽出し、１０％炭酸
ナトリウム水溶液で中和、１０％食塩水にて２回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下
溶剤を回収すると、油状物として表記化合物を６５ｇ得
た。（収率８７％） 旋光度：〔α〕D 24＝＋23.54 °(C=1.2, メタノール)
ブタンジオールの製造 テトラヒドロフラン４００ｍｌに水素化ホウ素ナトリウ
ム２３ｇ（０．６モル）を加えて加熱還流し、これに、
テトラヒドロフラン４００ｍｌに（Ｒ）−４−クロロ−
３−ヒドロキシ酪酸エチル（高砂香料工業株式会社製、
純度９８％、光学純度９３％ee）１００ｇ（０．６モ
ル）を溶解した液を２時間かけて滴下した。そのまま１
時間加熱還流したのち、冷却した。減圧下溶剤を回収
し、残留物に冷却下、攪拌しながら４Ｎ塩酸２００ｍｌ
を加えた。酢酸エチル３００ｍｌで抽出し、１０％炭酸
ナトリウム水溶液で中和、１０％食塩水にて２回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下
溶剤を回収すると、油状物として表記化合物を６５ｇ得
た。（収率８７％） 旋光度：〔α〕D 24＝＋23.54 °(C=1.2, メタノール)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（II） 【化１】 〔式中、Ｑは低級アルコキシカルボニル基又はヒドロキ
シメチル基を、Ｘはハロゲン原子を示し、＊印は不斉炭
素原子を意味する。〕で表される光学活性化合物を酸性
条件下で環化させることを特徴とする、一般式（Ｉ） 【化２】 〔式中、Ｗは、一般式（II）の置換基Ｑが低級アルコキ
シカルボニル基の場合にはケト基（Ｃ＝Ｏ）を、一般式
（II）の置換基Ｑがヒドロキシメチル基の場合にはメチ
レン基（−ＣＨ2 −）をそれぞれ示し、＊印は不斉炭素
原子を意味する。〕で表される光学活性環状化合物の製
造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25584095A JP3855033B2 (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンの製造方法 |
| US08/706,282 US5780649A (en) | 1995-09-08 | 1996-09-04 | Process for preparing optically active cyclic compounds |
| DE69622804T DE69622804T2 (de) | 1995-09-08 | 1996-09-05 | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver 3-Hydroxy-Furanverbindungen |
| EP96306436A EP0761663B1 (en) | 1995-09-08 | 1996-09-05 | Process for preparing optically active 3-hydroxy furan compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25584095A JP3855033B2 (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0977759A true JPH0977759A (ja) | 1997-03-25 |
| JP3855033B2 JP3855033B2 (ja) | 2006-12-06 |
Family
ID=17284328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25584095A Expired - Fee Related JP3855033B2 (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | 光学活性３−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5780649A (ja) |
| EP (1) | EP0761663B1 (ja) |
| JP (1) | JP3855033B2 (ja) |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000355587A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-12-26 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ３−ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法 |
| KR100324476B1 (ko) * | 1998-07-24 | 2002-02-27 | 박영구 | 광학적으로 순수한 (ｓ)-3,4-디히드록시-부티르산 유도체의 제조방법 |
| JP2009522350A (ja) * | 2006-01-10 | 2009-06-11 | エスケー ホルディングス カンパニー リミテッド | 脱水環化を使用して３−ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法 |
| JP2010100651A (ja) * | 1999-04-15 | 2010-05-06 | Kaneka Corp | ３−ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法 |
| JP2022154459A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | 三菱ケミカル株式会社 | ３－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトンの製造方法 |
| JP2022154460A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | 三菱ケミカル株式会社 | ３－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトンの精製方法及び製造方法 |
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| JP2023139391A (ja) * | 2022-03-22 | 2023-10-04 | 三菱ケミカル株式会社 | ３－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトン、（メタ）アクリル酸エステル、重合体、レジスト組成物、及びパターンが形成された基板の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IN183408B (ja) * | 1996-11-20 | 1999-12-25 | Kuraray Co | |
| IT1297120B1 (it) * | 1997-12-16 | 1999-08-03 | Sigma Tau Ind Farmaceuti | Procedimento per la produzione di (r)-3-idrossi-4-butirrolattone utile nella preparazione della (r)-carnitina |
| JPH11187869A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Daicel Chem Ind Ltd | 新規な４−ハロアセト酢酸エステル還元酵素、該酵素の製造方法、及び該酵素を利用したアルコールの製造方法 |
| JP4824874B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2011-11-30 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性γ−ブチロラクトンの製造方法 |
| KR20040090062A (ko) * | 2003-04-16 | 2004-10-22 | 주식회사 엘지생명과학 | 4-클로로-3-히드록시부탄산 에스테르의 제조방법 |
| KR100877849B1 (ko) * | 2007-02-01 | 2009-01-15 | 주식회사 알에스텍 | 3-히드록시테트라히드로퓨란의 효율적 제조방법 |
| JP2009256316A (ja) | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Daicel Chem Ind Ltd | β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンの製造方法 |
| US20100328646A1 (en) * | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Emitech, Inc. | Optical nanoporous sensors for detection of water based vapors and their leakage from sealed containers |
| CN102477019A (zh) * | 2010-11-26 | 2012-05-30 | 苏州凯达生物医药技术有限公司 | 制备s-3-羟基四氢呋喃的新方法 |
| US20140154675A1 (en) * | 2011-05-03 | 2014-06-05 | Life Technologies Corporation | Flash and Glow 1,2-Dioxetanes |
| WO2016021192A1 (en) * | 2014-08-08 | 2016-02-11 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Process for production of (s)-(tetrahydrofuran-3-yl)hydrazine |
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|---|---|---|---|---|
| JP3351563B2 (ja) * | 1992-12-03 | 2002-11-25 | 鐘淵化学工業株式会社 | ３−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造法 |
-
1995
- 1995-09-08 JP JP25584095A patent/JP3855033B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-09-04 US US08/706,282 patent/US5780649A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-09-05 DE DE69622804T patent/DE69622804T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-09-05 EP EP96306436A patent/EP0761663B1/en not_active Revoked
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|---|---|---|---|---|
| KR100324476B1 (ko) * | 1998-07-24 | 2002-02-27 | 박영구 | 광학적으로 순수한 (ｓ)-3,4-디히드록시-부티르산 유도체의 제조방법 |
| JP2000355587A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-12-26 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ３−ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法 |
| JP2010100651A (ja) * | 1999-04-15 | 2010-05-06 | Kaneka Corp | ３−ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法 |
| JP2009522350A (ja) * | 2006-01-10 | 2009-06-11 | エスケー ホルディングス カンパニー リミテッド | 脱水環化を使用して３−ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法 |
| JP2022154459A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | 三菱ケミカル株式会社 | ３－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトンの製造方法 |
| JP2022154460A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | 三菱ケミカル株式会社 | ３－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトンの精製方法及び製造方法 |
| JP2022154458A (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-13 | 三菱ケミカル株式会社 | ３－ヒドロキシ－γ－ブチロラクトンの製造方法 |
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| EP0761663A1 (en) | 1997-03-12 |
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