JPH0982505A - Chip type thermistor and manufacturing method thereof - Google Patents

Chip type thermistor and manufacturing method thereof

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JPH0982505A
JPH0982505A JP7239868A JP23986895A JPH0982505A JP H0982505 A JPH0982505 A JP H0982505A JP 7239868 A JP7239868 A JP 7239868A JP 23986895 A JP23986895 A JP 23986895A JP H0982505 A JPH0982505 A JP H0982505A
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JP
Japan
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thermistor
chip
thermistor element
glass layer
side surfaces
Prior art date
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Pending
Application number
JP7239868A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Yotsumoto
孝二 四元
Yoshihiro Higuchi
由浩 樋口
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Publication of JPH0982505A publication Critical patent/JPH0982505A/en
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  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 サーミスタ特性の範囲が広いチップ型サーミ
スタを、切断工程におけるマイクロクラック等の欠陥を
防止して、容易かつ安価に製造する。 【解決手段】 4側面に表面電極2を有するチップ型サ
ーミスタ10。薄板状サーミスタ素体の両板面に表面電
極を形成した後、短冊状に切断し、次いで残る2側面に
も表面電極を形成し、その後、4側面にガラス層を形成
する。これをチップ状に切断し、チップ状サーミスタ素
体の両端面に外部電極を形成する。 【効果】 4側面に表面電極を有し、抵抗値の減少効果
が大きいため、サーミスタ特性(抵抗値及びB定数)の
範囲が拡大する。短冊状に切断した後、ガラス層を形成
するため、切断時の欠陥が防止される。機械的強度が高
く、信頼性の高い製品を製造できる。
(57) Abstract: A chip type thermistor having a wide range of thermistor characteristics is manufactured easily and at low cost by preventing defects such as microcracks in a cutting process. A chip type thermistor 10 having surface electrodes 2 on four side surfaces. After forming the surface electrodes on both plate surfaces of the thin plate thermistor body, it is cut into strips, and then the surface electrodes are formed on the remaining two side surfaces, and then the glass layers are formed on the four side surfaces. This is cut into chips, and external electrodes are formed on both end surfaces of the chip thermistor element body. [Effect] Since the surface electrodes are provided on the four side surfaces and the effect of reducing the resistance value is great, the range of thermistor characteristics (resistance value and B constant) is expanded. Since the glass layer is formed after cutting into strips, defects during cutting are prevented. A product with high mechanical strength and high reliability can be manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント回路基板
等に表面実装されるチップ型サーミスタ及びその製造方
法に係り、特に、温度の上昇により抵抗値が減少する負
特性サーミスタであって、サーミスタ特性の範囲が広い
チップ型サーミスタ及びこのようなチップ型サーミスタ
を、機械的強度や信頼性を損なうことなく、容易に製造
する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip type thermistor surface-mounted on a printed circuit board or the like and a method for manufacturing the same, and more particularly to a negative characteristic thermistor whose resistance value decreases as temperature rises. The present invention relates to a chip thermistor having a wide range and a method for easily manufacturing such a chip thermistor without impairing mechanical strength and reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路基板等に表面実装されるチ
ップ型サーミスタの代表的な製品として、図9に示す如
く、チップ状サーミスタ素体1の1対の側面に抵抗値調
整用の表面電極2(2A,2B),2(2A,2B)を
形成すると共に、両端面に外部電極3として、はんだ耐
熱性、はんだ付着性を向上させるために焼き付け端子電
極3Aとその表面を被覆するめっき層3Bを形成し、こ
の外部電極3形成面以外をガラス層4で被覆した構造の
ものが提供されている。
2. Description of the Related Art As a typical product of a chip type thermistor surface-mounted on a printed circuit board or the like, as shown in FIG. 9, a pair of side surfaces of a chip-shaped thermistor element body 1 are provided with surface electrodes 2 for resistance value adjustment. (2A, 2B), 2 (2A, 2B) are formed, and the external terminals 3 are formed on both end surfaces as the external electrodes 3 and the baking terminal electrodes 3A for improving solder heat resistance and solder adhesion and a plating layer 3B covering the surfaces thereof. Is provided, and the structure other than the surface on which the external electrode 3 is formed is covered with the glass layer 4.

【0003】従来、このようなチップ型サーミスタ5
は、次のようにして製造されている。即ち、まず、セラ
ミックス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体(以下
「サーミスタウェハ」と称する場合がある。)の両板面
に抵抗値調整用の導電性の表面電極を形成した後、該両
板面にガラスペーストを印刷して焼成することにより絶
縁性のガラス層を形成する。次に、両板面がガラス層で
被覆されたサーミスタウェハを短冊状に切り出し、その
後、切断面にも前記と同様にガラスペーストを印刷して
焼成することによりガラス層を形成する。このようにし
て得られた、4側面にガラス層を有する角柱状サーミス
タ素体をその長手方向に直交する方向(前記切断面と垂
直な方向)に切断してチップ状サーミスタ素体を得る。
このチップ状サーミスタ素体の切断面(両端面)に導電
性ペーストを塗布・焼成して焼き付け端子電極を形成す
る。更に、この端子電極の表面にめっき層を形成してチ
ップ型サーミスタを得る。
Conventionally, such a chip type thermistor 5 has been used.
Is manufactured as follows. That is, first, conductive surface electrodes for resistance value adjustment are formed on both plate surfaces of a thin plate thermistor element body (hereinafter also referred to as “thermistor wafer”) made of a ceramics sintered body, An insulating glass layer is formed by printing a glass paste on the plate surface and baking it. Next, a thermistor wafer whose both surfaces are covered with a glass layer is cut into strips, and thereafter, a glass paste is printed on the cut surface and baked in the same manner as described above to form a glass layer. The thus obtained prismatic thermistor body having glass layers on four sides is cut in a direction perpendicular to the longitudinal direction (a direction perpendicular to the cut surface) to obtain a chip-like thermistor body.
A conductive paste is applied to the cut surfaces (both end surfaces) of the chip-shaped thermistor body and baked to form baked terminal electrodes. Further, a plating layer is formed on the surface of this terminal electrode to obtain a chip type thermistor.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の製造方法で
は、抵抗値調整用の表面電極がサーミスタウェハの両板
面に形成した表面電極由来のもの、即ち、表面電極がチ
ップ状サーミスタ素体の2側面にのみ形成された構造で
あるため、表面電極により抵抗値を減少する効果にも限
界があり、得られるサーミスタ特性(抵抗値とB定数の
組み合わせ)の範囲が比較的狭く、一般に得ることが困
難な低抵抗、高B定数のサーミスタを実現する上で問題
となっていた。
In the conventional manufacturing method described above, the surface electrodes for adjusting the resistance value are derived from the surface electrodes formed on both plate surfaces of the thermistor wafer, that is, the surface electrodes are chip-shaped thermistor bodies. Since the structure is formed on only two side faces, there is a limit to the effect of reducing the resistance value by the surface electrode, and the range of thermistor characteristics (combination of the resistance value and B constant) that can be obtained is relatively narrow, and it is generally obtained. Has been a problem in realizing a thermistor having a low resistance and a high B constant, which is difficult to achieve.

【0005】また、従来法では、サーミスタウェハにガ
ラス層を形成した後、サーミスタ素体とガラス層を接合
した状態で短冊状に切断するために、この切断時に両者
の熱膨張係数の違いに起因する焼成時の熱応力の内部残
留応力と切断時に素体に生じる応力との相互作用でサー
ミスタ素体又はガラス層にマイクロクラック等の欠陥が
発生する。これにより、製品の機械的強度が十分得られ
ない、耐基板曲げ性や温度サイクル等の製品強度に関係
する信頼性試験についても十分な性能が得られないとい
う問題があった。
Further, according to the conventional method, after the glass layer is formed on the thermistor wafer, the thermistor element body and the glass layer are cut into strips in a bonded state. Due to the interaction between the internal residual stress of thermal stress during firing and the stress generated in the element body during cutting, defects such as microcracks occur in the thermistor element body or the glass layer. As a result, there is a problem that the mechanical strength of the product cannot be sufficiently obtained and sufficient performance cannot be obtained even in a reliability test relating to the product strength such as substrate bending resistance and temperature cycle.

【0006】この問題を解決するために、従来、サーミ
スタ素体とガラス層の熱膨張係数を適切化する試みがな
されてきているが、問題の完全解決には至っていない。
In order to solve this problem, attempts have conventionally been made to optimize the thermal expansion coefficients of the thermistor element body and the glass layer, but the problem has not been completely solved.

【0007】本発明は上記従来の問題点を解決し、サー
ミスタ特性の範囲が広いチップ型サーミスタ、及び、こ
のようなチップ型サーミスタを製造するに当り、切断工
程におけるマイクロクラック等の欠陥を防止して、機械
的強度や温度サイクル性能の特性に優れ、信頼性の高い
チップ型サーミスタを比較的容易にかつ安価に製造する
方法を提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and prevents chip defects such as microcracks in the cutting process when manufacturing a chip thermistor having a wide range of thermistor characteristics and such a chip thermistor. Then, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a highly reliable chip type thermistor having excellent mechanical strength and temperature cycle performance characteristics relatively easily and at low cost.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のチップ型サーミ
スタは、セラミックス焼結体よりなる直方体形状のチッ
プ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素体の両
端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4側面に
形成された抵抗値調整用の表面電極と、該表面電極を被
覆するガラス層とを有することを特徴とする。
A chip type thermistor of the present invention comprises a rectangular parallelepiped chip thermistor body made of a ceramics sintered body, and external electrodes formed on both end faces of the chip thermistor body. It is characterized by having a surface electrode for resistance value adjustment formed on four side surfaces other than the both end surfaces and a glass layer covering the surface electrode.

【0009】このような本発明のチップ型サーミスタで
あれば、チップ状サーミスタ素体の4側面に抵抗値調整
用の表面電極を有する構造であるため、抵抗値を調整す
る、即ち抵抗値を減少させる効果に優れ、得られるサー
ミスタ特性(抵抗値とB定数)の範囲が拡大し、従来一
般に得ることが困難であった低抵抗、高B定数を持つチ
ップ型サーミスタを容易に実現することができる。
According to the chip type thermistor of the present invention as described above, the resistance value is adjusted, that is, the resistance value is reduced, because the chip thermistor body has the surface electrodes for adjusting the resistance value on the four side surfaces. It is possible to easily realize a chip-type thermistor having a low resistance and a high B constant, which has been difficult to obtain in the past, because the thermistor characteristics (resistance value and B constant) that are obtained are expanded. .

【0010】本発明のチップ型サーミスタの製造方法
は、セラミックス焼結体よりなる直方体形状のチップ状
サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素体の両端面
に形成された外部電極と、該両端面以外の4側面に形成
された抵抗値調整用の表面電極と、該表面電極を被覆す
るガラス層とを有するチップ型サーミスタを製造する方
法において、セラミックス焼結体よりなる薄板状サーミ
スタ素体の両板面に表面電極を形成する工程、表面電極
を形成した薄板状サーミスタ素体を短冊状に切断して角
柱状サーミスタ素体を形成する工程、この角柱状サーミ
スタ素体の長手方向に延在する4側面のうち、表面電極
が形成されていない2側面に表面電極を形成する工程、
4側面に表面電極が形成された角柱状サーミスタ素体の
該4側面にガラス層を形成する工程、ガラス層を形成し
た角柱状サーミスタ素体を長手方向と直交する方向に切
断してチップ状サーミスタ素体を形成する工程、及び、
このチップ状サーミスタ素体のガラス層未被覆の両端面
に外部電極を形成する工程を有することを特徴とする。
A method for manufacturing a chip-type thermistor according to the present invention comprises a rectangular parallelepiped chip-like thermistor body made of a ceramics sintered body, external electrodes formed on both end surfaces of the chip-like thermistor body, and both end surfaces thereof. In the method for producing a chip-type thermistor having a resistance-value-adjusting surface electrode formed on four side surfaces other than the above, and a glass layer covering the surface electrode, a thin plate thermistor element body made of a ceramic sintered body is used. A step of forming a surface electrode on the plate surface, a step of cutting the thin plate thermistor element body on which the surface electrode is formed into a rectangular shape to form a prismatic thermistor element, which extends in the longitudinal direction of the prismatic thermistor element A step of forming a surface electrode on two of the four side surfaces where the surface electrode is not formed,
A step of forming a glass layer on the four side surfaces of a prismatic thermistor element body having surface electrodes formed on the four side surfaces, and cutting the prismatic thermistor element body on which the glass layer is formed in a direction orthogonal to the longitudinal direction to form a chip thermistor. A step of forming a body, and
The chip-like thermistor element is characterized in that it has a step of forming external electrodes on both end surfaces which are not covered with the glass layer.

【0011】本発明の方法では、サーミスタウェハを短
冊状に切断した後、角柱状サーミスタ素体の4側面にガ
ラス層を形成する方法を採用しているため、従来の製造
法に見られた短冊状に切断する際に発生するマイクロク
ラック等の欠陥を無くすことができる。この結果、製品
の機械的強度の向上が図れ、耐基板曲げ性、温度サイク
ル等の製品強度に関係する信頼性試験に対しても性能向
上が図れる。また、本発明では、ガラス層の形成を1回
で行うことも可能である。
In the method of the present invention, the thermistor wafer is cut into strips, and then the glass layers are formed on the four side surfaces of the prismatic thermistor body. It is possible to eliminate defects such as microcracks that occur when cutting into a strip shape. As a result, the mechanical strength of the product can be improved, and the performance can be improved even in reliability tests related to the product strength such as substrate bending resistance and temperature cycle. Further, in the present invention, the glass layer can be formed once.

【0012】また、チップ型サーミスタの抵抗値は表面
電極間の距離により主に決定されるが、本発明の方法
は、サーミスタ焼結体に表面電極を形成する方法である
ため、焼成収縮による寸法精度のばらつきは回避され、
高精度での抵抗値調整が可能となり、抵抗値分布の小さ
なチップ型サーミスタを得ることができる。
Further, the resistance value of the chip type thermistor is mainly determined by the distance between the surface electrodes, but since the method of the present invention is a method of forming the surface electrode on the thermistor sintered body, the dimension due to firing shrinkage is obtained. Precision variations are avoided,
The resistance value can be adjusted with high accuracy, and a chip type thermistor with a small resistance value distribution can be obtained.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明のチ
ップ型サーミスタ及びその製造方法を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A chip type thermistor and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0014】図8は本発明のチップ型サーミスタの一実
施例を示す断面図である。図示の如く、本発明のチップ
型サーミスタ10は、セラミックス焼結体よりなる直方
体状のチップ状サーミスタ素体1と、このチップ状サー
ミスタ素体1の両端面に形成された外部電極3(端子電
極3A及びめっき層3B)と、この両端面以外の4側面
に形成された抵抗値調整用の表面電極2(2A,2B)
と、この表面電極2を被覆するように設けられたガラス
層4とを有する。
FIG. 8 is a sectional view showing an embodiment of the chip type thermistor of the present invention. As shown in the figure, the chip type thermistor 10 of the present invention comprises a rectangular parallelepiped chip thermistor body 1 made of a ceramics sintered body, and external electrodes 3 (terminal electrodes) formed on both end surfaces of the chip thermistor body 1. 3A and plating layer 3B), and surface electrodes 2 (2A, 2B) for resistance value adjustment formed on four side surfaces other than the both end surfaces.
And a glass layer 4 provided so as to cover the surface electrode 2.

【0015】以下に、このような本発明のチップ型サー
ミスタ10を、本発明の方法に従って製造する方法につ
いて、図1〜7を参照して説明する。
A method for manufacturing such a chip type thermistor 10 of the present invention according to the method of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0016】図1は、サーミスタウェハの斜視図、図2
は両板面に表面電極を形成したサーミスタウェハの斜視
図、図3は角柱状サーミスタ素体の斜視図、図4は4側
面に表面電極を形成した角柱状サーミスタ素体の斜視
図、図5はガラス層の形成方法を示す斜視図、図6はガ
ラス層を形成した角柱状サーミスタ素体を示し、図6
(a)は斜視図、図6(b)は図6(a)のB−B線に
沿う断面の拡大図、図6(c)は図6(a)のC−C線
に沿う断面の拡大図である。図7は角柱状サーミスタ素
体をチップ状に切断した状態を示す内部透視斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view of the thermistor wafer, and FIG.
5 is a perspective view of a thermistor wafer having surface electrodes formed on both plate surfaces, FIG. 3 is a perspective view of a prismatic thermistor element body, FIG. 4 is a perspective view of a prismatic thermistor element body having surface electrodes formed on four side surfaces, and FIG. 6 is a perspective view showing a method for forming a glass layer, FIG. 6 shows a prismatic thermistor body on which a glass layer is formed, and FIG.
6A is a perspective view, FIG. 6B is an enlarged view of a cross section taken along line BB of FIG. 6A, and FIG. 6C is a cross section taken along line CC of FIG. 6A. FIG. FIG. 7 is an internal perspective view showing a state where the prismatic thermistor body is cut into chips.

【0017】本実施例の方法においては、まず、図1に
示すセラミックス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体
(サーミスタウェハ)11の両板面11A,11Bに、
図2に示す如く、導電性ペーストを用いてスクリーン印
刷法等により、適当な間隔2aを設けて帯状のパターン
を印刷し、乾燥後焼き付けて表面電極2を形成する。そ
して、表面電極2を形成したサーミスタウェハ11を、
短冊状に切断して図3に示す角柱状サーミスタ素体13
とする。次に、この角柱状サーミスタ素体13の長手方
向に延在する4側面13A,13B,13C,13Dの
うち、表面電極2が形成されていない2側面13B,1
3Dにも、図4に示す如く、側面13A,13Cに形成
されている表面電極2と連続するように、間隔をあけて
表面電極2を形成する。
In the method of this embodiment, first, on both plate surfaces 11A and 11B of a thin plate thermistor element body (thermistor wafer) 11 made of a ceramics sintered body shown in FIG.
As shown in FIG. 2, a band-shaped pattern is printed with an appropriate interval 2a by a screen printing method using a conductive paste, and then dried and baked to form the surface electrode 2. Then, the thermistor wafer 11 on which the surface electrode 2 is formed is
A prismatic thermistor element body 13 shown in FIG. 3 after being cut into strips.
And Next, of the four side surfaces 13A, 13B, 13C, 13D extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body 13, the two side surfaces 13B, 1 on which the surface electrode 2 is not formed are formed.
Also in 3D, as shown in FIG. 4, the surface electrodes 2 are formed at intervals so as to be continuous with the surface electrodes 2 formed on the side surfaces 13A and 13C.

【0018】次に、このようにして4側面に表面電極2
を形成した角柱状サーミスタ素体14の該4側面(又は
全面)にガラス層を形成する。
Next, in this way, the surface electrodes 2 are formed on the four side surfaces.
A glass layer is formed on the four side surfaces (or the entire surface) of the prismatic thermistor element body 14 having the above-mentioned structure.

【0019】このガラス層の形成には、スパッタリング
等の薄膜形成技術を採用することができ、例えば、図5
に示す如く、所定配合のガラスをターゲット15とする
スパッタリング装置内に、複数本の角柱状サーミスタ素
体14を入れたステンレススチール製の籠16を設置
し、この籠16を軸17で揺動させて、角柱状サーミス
タ素体14を回転させながらスパッタリングを行うこと
により、図6(a)〜(c)に示す如く、表面電極付き
角柱状サーミスタ素体14の4側面ないし全面にガラス
層4を形成することができる。
For forming the glass layer, a thin film forming technique such as sputtering can be adopted. For example, as shown in FIG.
As shown in, a stainless steel basket 16 containing a plurality of prismatic thermistor bodies 14 is installed in a sputtering device having a target 15 of glass having a predetermined composition, and the basket 16 is swung by a shaft 17. Then, by performing the sputtering while rotating the prismatic thermistor element body 14, as shown in FIGS. 6A to 6C, the glass layer 4 is formed on the four side surfaces or the entire surface of the prismatic thermistor element body 14 with surface electrodes. Can be formed.

【0020】次いで、ガラス層4を形成した表面電極付
き角柱状サーミスタ素体14をその長手方向と直交する
方向に切断して、図7に示す如く、チップ状サーミスタ
素体1を形成し、このチップ状サーミスタ素体1のガラ
ス層4未被覆の両端面に常法に従って、外部電極3を形
成する。
Next, the prismatic thermistor element body 14 with a surface electrode on which the glass layer 4 is formed is cut in a direction orthogonal to the longitudinal direction to form a chip-like thermistor element body 1 as shown in FIG. External electrodes 3 are formed on both end surfaces of the chip-like thermistor body 1 which are not covered with the glass layer 4 by a conventional method.

【0021】このような本発明の方法によれば、4側面
に抵抗値調整用の表面電極を有するチップ型サーミスタ
を製造することができる。しかも、ガラス層の形成前
に、サーミスタウェハを短冊状に切断するため、切断時
のマイクロクラック等の欠陥が防止され、高強度かつ高
信頼性のチップ型サーミスタを製造することができる。
According to such a method of the present invention, it is possible to manufacture a chip type thermistor having surface electrodes for resistance value adjustment on four side surfaces. Moreover, since the thermistor wafer is cut into strips before forming the glass layer, defects such as microcracks at the time of cutting are prevented, and a high-strength and highly reliable chip-type thermistor can be manufactured.

【0022】なお、上記説明では、ガラス層をスパッタ
リング法により形成する方法を示したが、ガラス層は通
常の印刷法により形成しても良い。
In the above description, the glass layer is formed by the sputtering method, but the glass layer may be formed by a usual printing method.

【0023】[0023]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0024】実施例1 図1〜7に示す本発明の方法に従って、図8に示す本発
明のチップ型サーミスタを製造した。
Example 1 A chip type thermistor of the present invention shown in FIG. 8 was manufactured according to the method of the present invention shown in FIGS.

【0025】市販の炭酸マンガン、炭酸コバルト、炭酸
銅を出発原料とし、これらを金属原子比が所定の割合に
なるようにそれぞれ秤量し、ボールミルで16時間均一
に混合した後脱水乾燥した。次にこの混合物を大気圧
下、900℃で2時間仮焼し、この仮焼物を再びボール
ミルで粉砕して脱水乾燥した。粉砕物に有機系結合剤等
を加え、スプレードライヤーにより粒径が60μm程度
になるように造粒し、油圧プレスにより直方体に圧縮成
形した。この成形物を大気圧下、1100℃で4時間焼
成し、縦35mm、横50mm、厚さ10mmのサーミ
スタ焼結ブロックを作製した。次に、このブロックをバ
ンドソーで薄板状に切断し、縦35mm、横50mm、
厚さ0.40mmのサーミスタウェハを得た(図1)。
Commercially available manganese carbonate, cobalt carbonate, and copper carbonate were used as starting materials, and these were weighed so that the metal atomic ratio was a predetermined ratio, uniformly mixed in a ball mill for 16 hours, and then dehydrated and dried. Next, this mixture was calcined at 900 ° C. under atmospheric pressure for 2 hours, and the calcined product was again pulverized by a ball mill and dehydrated and dried. An organic binder and the like were added to the pulverized product, granulated to have a particle size of about 60 μm by a spray drier, and compression-molded into a rectangular parallelepiped by a hydraulic press. This molded product was fired at 1100 ° C. for 4 hours under atmospheric pressure to produce a thermistor sintered block having a length of 35 mm, a width of 50 mm and a thickness of 10 mm. Next, this block is cut into a thin plate with a band saw, and the length is 35 mm, the width is 50 mm,
A thermistor wafer having a thickness of 0.40 mm was obtained (FIG. 1).

【0026】このサーミスタウェハの両板面に、市販の
導電性ペースト(Ag)を図2に示すような電極間距離
が200μmの帯状のパターンとなるようにスクリーン
印刷法により印刷し、乾燥後、820℃で焼き付けた。
Commercially available conductive paste (Ag) was printed on both plate surfaces of the thermistor wafer by screen printing so as to form a belt-like pattern with an interelectrode distance of 200 μm as shown in FIG. 2, and after drying, It was baked at 820 ° C.

【0027】次に、このサーミスタウェハをダイシング
マシンにより、表面電極のパターンに合わせて、幅0.
42mmの短冊状に切断した(図3)。
Next, the thermistor wafer was adjusted to a width of 0.
It was cut into 42 mm strips (Fig. 3).

【0028】更に、得られた角柱状サーミスタ素体の表
面電極が形成されていない2側面に前記と同様の電極間
距離が200μmの表面電極をスクリーン印刷法により
印刷し、乾燥後、820℃で焼き付けた(図4)。
Further, similar surface electrodes with an interelectrode distance of 200 μm were printed on the two side surfaces of the obtained prismatic thermistor element body on which the surface electrodes were not formed by a screen printing method, and after drying, at 820 ° C. It was baked (Fig. 4).

【0029】この角柱状サーミスタ素体の表面電極を形
成した4側面に下記又はの方法で絶縁性のガラス層
を形成した。
An insulating glass layer was formed on the four side surfaces of the prismatic thermistor element on which the surface electrodes were formed by the following method.

【0030】 スクリーン印刷法によるガラス層の形
成 表面電極を形成した角柱状サーミスタ素体の1側面に、
スクリーン印刷法により絶縁性のガラスを印刷して乾燥
させた。これを側面4面について繰り返した。その後、
850℃で焼き付け、角柱状サーミスタ素体の4側面に
厚さ15μmの絶縁性ガラス層を形成した(図6)。
Formation of Glass Layer by Screen Printing Method On one side surface of the prismatic thermistor element on which the surface electrode is formed,
Insulating glass was printed by a screen printing method and dried. This was repeated for the four side surfaces. afterwards,
By baking at 850 ° C., an insulating glass layer having a thickness of 15 μm was formed on the four side faces of the prismatic thermistor element body (FIG. 6).

【0031】 スパッタリング法によるガラス層の形
成 図5に示すスパッタリング装置を用いて行った。即ち、
SiO2 ,Al23,MgO,ZrO2 等の酸化物か
らなる絶縁性のガラスをターゲットとするスパッタリン
グ装置の中に、多数の表面電極付き角柱状サーミスタ素
体を入れたステンレススチール製の籠を設置し、この籠
を揺動させながら約10時間スパッタリングを行い、角
柱状サーミスタ素体の表面全体にガラス層を2μm程度
の厚さで形成した。
Formation of Glass Layer by Sputtering Method It was carried out using the sputtering apparatus shown in FIG. That is,
A stainless steel basket in which a large number of prismatic thermistor bodies with surface electrodes are placed in a sputtering device targeting insulating glass made of oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO and ZrO 2. Was installed, and sputtering was performed for about 10 hours while rocking the cage to form a glass layer with a thickness of about 2 μm on the entire surface of the prismatic thermistor body.

【0032】そして、このガラス層を被覆形成した表面
電極付き角柱状サーミスタ素体を、各々、表面電極のパ
ターンに合わせて長さ0.92mmのチップ形状にダイ
シングマシンにより切り出した(図7)。
Then, each prismatic thermistor element body with a surface electrode coated with the glass layer was cut out into a chip shape having a length of 0.92 mm by a dicing machine according to the pattern of the surface electrode (FIG. 7).

【0033】更に、以下の方法により各チップ状サーミ
スタ素体の両端面に外部電極を形成した。まず、チップ
状サーミスタ素体の両端面にディッピング法により導電
性ペースト(市販のAgペースト)を付着させ、大気圧
下、820℃で焼き付けた(その際、表面電極と端子電
極の電気的接合が得られる。)。次いで、電解バレル法
でこの電極層の表面に厚さ2〜5μmのNiめっき層を
形成し、その上に厚さ3〜7μmのはんだめっき層を形
成した(図8)。
Further, external electrodes were formed on both end faces of each chip-shaped thermistor element by the following method. First, a conductive paste (commercial Ag paste) was attached to both end surfaces of the chip-like thermistor body by a dipping method, and baked at 820 ° C. under atmospheric pressure (at that time, the surface electrode and the terminal electrode were electrically connected to each other. can get.). Next, a Ni plating layer having a thickness of 2 to 5 μm was formed on the surface of this electrode layer by the electrolytic barrel method, and a solder plating layer having a thickness of 3 to 7 μm was formed thereon (FIG. 8).

【0034】このように作製されたチップ型サーミスタ
について、電気特性(抵抗値)を測定し、結果を表1に
示した。なお、印刷法によりガラス層を形成したもので
あっても、スパッタリング法によりガラス層を形成した
ものであっても結果は同等であったが、スパッタリング
法によれば、一回の処理で良く、しかも、ガラス層を薄
く形成することができるという利点がある。また、表1
には、図9に示す従来の2側面に表面電極を有するチッ
プ型サーミスタ及び表面電極のないチップ型サーミスタ
についての抵抗値測定結果も併記した。
The electrical characteristics (resistance value) of the chip type thermistor thus manufactured were measured, and the results are shown in Table 1. Incidentally, even if the glass layer was formed by the printing method, the results were the same whether the glass layer was formed by the sputtering method, but according to the sputtering method, one treatment is sufficient, Moreover, there is an advantage that the glass layer can be formed thin. Table 1
9 also shows the resistance measurement results of the conventional chip type thermistor having two surface electrodes and the chip type thermistor having no surface electrode shown in FIG.

【0035】表1より、本発明のチップ型サーミスタ
は、従来のチップ型サーミスタに比べて、抵抗値を大幅
に減少させることができることがわかる。
From Table 1, it can be seen that the chip type thermistor of the present invention can significantly reduce the resistance value as compared with the conventional chip type thermistor.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のチップ型サ
ーミスタによれば、4側面に表面電極を有し、抵抗値の
減少効果が大きいため、サーミスタ特性(抵抗値及びB
定数)の範囲が拡大し、従来では実現困難であった低抵
抗、高B定数のチップ型サーミスタを実現することがで
きる。
As described in detail above, according to the chip type thermistor of the present invention, the surface electrodes are provided on the four side surfaces and the effect of reducing the resistance value is great, so that the thermistor characteristics (resistance value and B
The range of (constant) is expanded, and it is possible to realize a chip type thermistor having a low resistance and a high B constant, which has been difficult to realize in the past.

【0038】また、本発明のチップ型サーミスタの製造
方法によれば、このような本発明のチップ型サーミスタ
を比較的容易かつ安価に、歩留り良く製造して、機械的
強度が高く、信頼性の高いチップ型サーミスタを提供す
ることができる。
Further, according to the method of manufacturing the chip type thermistor of the present invention, such a chip type thermistor of the present invention can be manufactured relatively easily and inexpensively with a good yield, and has high mechanical strength and reliability. It is possible to provide a high chip type thermistor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】サーミスタウェハの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a thermistor wafer.

【図2】表面電極を形成したサーミスタウェハの斜視図
である。
FIG. 2 is a perspective view of a thermistor wafer having surface electrodes formed thereon.

【図3】角柱状サーミスタ素体の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a prismatic thermistor body.

【図4】4側面に表面電極を形成した角柱状サーミスタ
素体の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a prismatic thermistor element body having surface electrodes formed on four side surfaces.

【図5】ガラス層形成方法を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a glass layer forming method.

【図6】図6(a)はガラス層を形成した表面電極付き
角柱状サーミスタ素体の斜視図、図6(b)は図6
(a)のB−B線に沿う断面の拡大図、図6(c)は図
6(a)のC−C線に沿う断面の拡大図である。
6 (a) is a perspective view of a prismatic thermistor element body with a surface electrode on which a glass layer is formed, and FIG. 6 (b) is FIG.
6A is an enlarged view of a cross section taken along line BB of FIG. 6A, and FIG. 6C is an enlarged view of a cross section taken along line CC of FIG. 6A.

【図7】角柱状サーミスタ素体をチップ状に切断した状
態を示す内部透視斜視図である。
FIG. 7 is an internal perspective view showing a state in which a prismatic thermistor body is cut into chips.

【図8】本発明のチップ型サーミスタの一実施例を示す
断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing an embodiment of the chip type thermistor of the present invention.

【図9】従来のチップ型サーミスタの断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a conventional chip type thermistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ状サーミスタ素体 2 表面電極 3 外部電極 3A 端子電極 3B めっき層 4 ガラス層 10 チップ型サーミスタ 11 サーミスタウェハ 13 角柱状サーミスタ素体 14 表面電極付き角柱状サーミスタ素体 15 ターゲット 16 ステンレススチール製籠 1 Chip Thermistor Element 2 Surface Electrode 3 External Electrode 3A Terminal Electrode 3B Plating Layer 4 Glass Layer 10 Chip Thermistor 11 Thermistor Wafer 13 Prism Thermistor Element 14 Target Prism Thermistor Element 15 Target 16 Stainless Steel Basket

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミックス焼結体よりなる直方体形状
のチップ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素
体の両端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4
側面に形成された抵抗値調整用の表面電極と、該表面電
極を被覆するガラス層とを有するチップ型サーミスタ。
1. A rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body, external electrodes formed on both end faces of the chip-shaped thermistor element, and four electrodes other than the both end faces.
A chip type thermistor having a surface electrode for adjusting a resistance value formed on a side surface and a glass layer covering the surface electrode.
【請求項2】 セラミックス焼結体よりなる直方体形状
のチップ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素
体の両端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4
側面に形成された抵抗値調整用の表面電極と、該表面電
極を被覆するガラス層とを有するチップ型サーミスタを
製造する方法において、 セラミックス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体の両
板面に表面電極を形成する工程、表面電極を形成した薄
板状サーミスタ素体を短冊状に切断して角柱状サーミス
タ素体を形成する工程、この角柱状サーミスタ素体の長
手方向に延在する4側面のうち、表面電極が形成されて
いない2側面に表面電極を形成する工程、4側面に表面
電極が形成された角柱状サーミスタ素体の該4側面にガ
ラス層を形成する工程、ガラス層を形成した角柱状サー
ミスタ素体を長手方向と直交する方向に切断してチップ
状サーミスタ素体を形成する工程、及び、このチップ状
サーミスタ素体のガラス層未被覆の両端面に外部電極を
形成する工程を有するチップ型サーミスタの製造方法。
2. A rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body, external electrodes formed on both end faces of the chip-shaped thermistor element, and four electrodes other than the both end faces.
In a method for manufacturing a chip type thermistor having a surface electrode for resistance value adjustment formed on a side surface and a glass layer covering the surface electrode, a thin plate thermistor element body made of a ceramic sintered body is formed on both plate surfaces. The step of forming the surface electrode, the step of cutting the thin plate thermistor element body on which the surface electrode is formed into a rectangular shape to form a prismatic thermistor element, and the four side surfaces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor element body. Among them, a step of forming a surface electrode on two side surfaces where a surface electrode is not formed, a step of forming a glass layer on the four side surfaces of a prismatic thermistor element body having a surface electrode formed on four side surfaces, and a glass layer were formed. A step of cutting the prismatic thermistor element body in a direction orthogonal to the longitudinal direction to form a chip-like thermistor element, and an outer surface of the tip-like thermistor element body not covered with a glass layer. A method for manufacturing a chip type thermistor, which has a step of forming electrodes.
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