JPH0985470A - レーザマーキング装置 - Google Patents
レーザマーキング装置Info
- Publication number
- JPH0985470A JPH0985470A JP7244453A JP24445395A JPH0985470A JP H0985470 A JPH0985470 A JP H0985470A JP 7244453 A JP7244453 A JP 7244453A JP 24445395 A JP24445395 A JP 24445395A JP H0985470 A JPH0985470 A JP H0985470A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- rotating
- work
- laser
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】厚さまたは高さの異なる多種多様のワークに対
して、比較的簡単な構成でワーキングディスタンスを一
定に制御し正確なマーキングを行なえるレーザマーキン
グ装置を提供する。 【解決手段】回動ミラー5、7及び集光手段9を含む光
学系を、ワーク10表面と近接する方向または遠ざかる
方向に移動可能に構成すると共に、集光手段9とワーク
10表面との間隔を検出する検出手段17を設け、この
検出手段17の検出結果に応じて前記光学系をワーク1
0表面と垂直な方向に移動させるように構成する。
して、比較的簡単な構成でワーキングディスタンスを一
定に制御し正確なマーキングを行なえるレーザマーキン
グ装置を提供する。 【解決手段】回動ミラー5、7及び集光手段9を含む光
学系を、ワーク10表面と近接する方向または遠ざかる
方向に移動可能に構成すると共に、集光手段9とワーク
10表面との間隔を検出する検出手段17を設け、この
検出手段17の検出結果に応じて前記光学系をワーク1
0表面と垂直な方向に移動させるように構成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ発振器から
発生したレーザ光をXY2方向に走査しつつ、ワーク表
面に集光させて、ワークにマーキング加工を行うレーザ
マーキング装置に関するものである。
発生したレーザ光をXY2方向に走査しつつ、ワーク表
面に集光させて、ワークにマーキング加工を行うレーザ
マーキング装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ルビー結晶をレーザ媒体として用いるこ
とにより、レーザ作用が実際に起こり得ることが始めて
示されて以来、30年余り経過している。時が経つにつ
れて、レーザという用語は日常的に用いられるようにな
り、またそれのみではなく、今や、工業生産から医学に
わたる幅広い分野にとって、不可欠の道具であり、多く
の科学計測や研究の実施において、基礎をなすものとな
っている。レーザ光を用いた加工は従来から盛んに行わ
れている。例えば、レーザ溶接、レーザ切断等はCO2
レーザやYAGレーザを用いて行われている。電子機器
や薬品等の微細加工に波長の短いエキシマレーザ等のレ
ーザ光での加工も盛んに行われている。
とにより、レーザ作用が実際に起こり得ることが始めて
示されて以来、30年余り経過している。時が経つにつ
れて、レーザという用語は日常的に用いられるようにな
り、またそれのみではなく、今や、工業生産から医学に
わたる幅広い分野にとって、不可欠の道具であり、多く
の科学計測や研究の実施において、基礎をなすものとな
っている。レーザ光を用いた加工は従来から盛んに行わ
れている。例えば、レーザ溶接、レーザ切断等はCO2
レーザやYAGレーザを用いて行われている。電子機器
や薬品等の微細加工に波長の短いエキシマレーザ等のレ
ーザ光での加工も盛んに行われている。
【0003】なかでも最近は、PL法(製造物責任法)
の施行により、製品への警告表示や、製造者の表示等が
必要となり、種々の製品へのマーキングが必要となって
いる。レーザによるマーキングは、おもにYAGレーザ
を用いて行われており、製品への非接触なマーキング、
また、高速マーキングによる高い生産性、周囲の環境を
汚さない等の多くの利点を備えたマーキング法でもあ
る。
の施行により、製品への警告表示や、製造者の表示等が
必要となり、種々の製品へのマーキングが必要となって
いる。レーザによるマーキングは、おもにYAGレーザ
を用いて行われており、製品への非接触なマーキング、
また、高速マーキングによる高い生産性、周囲の環境を
汚さない等の多くの利点を備えたマーキング法でもあ
る。
【0004】以下、図面を用いて、従来のレーザマーキ
ング装置の構成について説明する。
ング装置の構成について説明する。
【0005】図4は、従来のレーザマーキング装置の構
成例図である。レーザ発振器51から発したレーザ光
は、X1方向から第1のミラー52によりY1方向に光
軸を変更され、第2のミラー53により、Y1方向と直
角なZ1方向に光軸を変更される。次に第2のミラー5
3からのレーザ光を第3のミラー54により、Y1方向
と平行な方向にレーザ光の光軸を変更し、第1の回動ミ
ラー55を第1の回動手段56によって回動させること
により、Y方向にレーザ光を走査させることができる。
また第1の回動ミラー55からのレーザ光を第2の回動
ミラー57を第2の回動手段58によって回動させるこ
とにより、X方向に走査させることができる。 第2の
回動ミラー57からのレーザ光は、集光手段59により
集光され、ワ−ク60上で焦点を結び、第1の回動ミラ
ー55、第2の回動ミラー57を回動させることによ
り、XY2方向に走査しつつワーク60上の所定の位置
にレーザ光を照射し、マーキングを行う。
成例図である。レーザ発振器51から発したレーザ光
は、X1方向から第1のミラー52によりY1方向に光
軸を変更され、第2のミラー53により、Y1方向と直
角なZ1方向に光軸を変更される。次に第2のミラー5
3からのレーザ光を第3のミラー54により、Y1方向
と平行な方向にレーザ光の光軸を変更し、第1の回動ミ
ラー55を第1の回動手段56によって回動させること
により、Y方向にレーザ光を走査させることができる。
また第1の回動ミラー55からのレーザ光を第2の回動
ミラー57を第2の回動手段58によって回動させるこ
とにより、X方向に走査させることができる。 第2の
回動ミラー57からのレーザ光は、集光手段59により
集光され、ワ−ク60上で焦点を結び、第1の回動ミラ
ー55、第2の回動ミラー57を回動させることによ
り、XY2方向に走査しつつワーク60上の所定の位置
にレーザ光を照射し、マーキングを行う。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成では、集光手段とワーク表面との距離(ワーキ
ングディスタンス)を一定に出来ない場合、たとえばワ
ークの厚みまたは高さが異なる場合など、所定のビーム
径で正確なマーキングを行うことが出来ない。
うな構成では、集光手段とワーク表面との距離(ワーキ
ングディスタンス)を一定に出来ない場合、たとえばワ
ークの厚みまたは高さが異なる場合など、所定のビーム
径で正確なマーキングを行うことが出来ない。
【0007】そのためワーク自身を上下させてワーキン
グディスタンスを一定にする方法があるが、ワークの重
さによりワークを上下させる機構が大掛かりになり、多
種多様のワークには対応しにくく、高い生産性が得られ
ないという問題点を有していた。
グディスタンスを一定にする方法があるが、ワークの重
さによりワークを上下させる機構が大掛かりになり、多
種多様のワークには対応しにくく、高い生産性が得られ
ないという問題点を有していた。
【0008】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、厚さまたは高さの異なる多種多様のワ−クに対し
て、比較的簡単な構成でワ−キングディスタンスを一定
に制御し正確なマ−キングを行なえるレーザマーキング
装置を提供することを目的とする。
ので、厚さまたは高さの異なる多種多様のワ−クに対し
て、比較的簡単な構成でワ−キングディスタンスを一定
に制御し正確なマ−キングを行なえるレーザマーキング
装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明のレーザマーキング装置は、レーザ光を集光
手段によりワーク表面に集光させるとともに、回動ミラ
ーによりワーク表面を走査してマーキングを行うレーザ
マーキング装置において、回動ミラー及び集光手段を含
む光学系を、ワーク表面と近接する方向または遠ざかる
方向に移動可能に構成すると共に、集光手段とワーク表
面との間隔を検出する検出手段を設け、この検出手段の
検出結果に応じて前記光学系をワークの表面と垂直な方
向に移動させるように構成したものである。
に、本発明のレーザマーキング装置は、レーザ光を集光
手段によりワーク表面に集光させるとともに、回動ミラ
ーによりワーク表面を走査してマーキングを行うレーザ
マーキング装置において、回動ミラー及び集光手段を含
む光学系を、ワーク表面と近接する方向または遠ざかる
方向に移動可能に構成すると共に、集光手段とワーク表
面との間隔を検出する検出手段を設け、この検出手段の
検出結果に応じて前記光学系をワークの表面と垂直な方
向に移動させるように構成したものである。
【0010】本発明は、また、レーザ発振器と、前記レ
ーザ発振器から発し第1の方向に進むレーザ光を前記第
1の方向に直角な第2の方向に光軸を変更する第1のミ
ラーと、前記第2の方向に進むレーザ光を前記第1の方
向及び前記第2の方向に直角な第3の方向に光軸を変更
する第2のミラーと、前記第3の方向に進むレーザ光を
前記第2の方向に平行な方向に光軸を変更する第3のミ
ラーと、前記第3のミラーからのレーザ光を前記第2の
方向に走査させる第1の回動ミラーと、前記第1の回動
ミラーを回動する第1の回動手段と、前記第1の回動ミ
ラーからのレーザ光を前記第1の方向に走査する第2の
回動ミラーと、前記第2の回動ミラーを回動する第2の
回動手段と、前記第2の回動ミラーからのレーザ光を集
光する集光手段と、前記第3のミラー、前記第1、第2
の回動ミラー、前記第1、第2の回動手段及び前記集光
手段を固定する保持板と、前記保持板を前記第3の方向
と平行に案内する案内手段と、前記保持板を前記第3の
方向と平行に移動させる駆動手段と、ワークを第3の方
向と垂直に固定する支持手段と、前記集光手段と前記ワ
ークとの間隔を検出する検出手段を備えたことを具体的
な構成とするものである。
ーザ発振器から発し第1の方向に進むレーザ光を前記第
1の方向に直角な第2の方向に光軸を変更する第1のミ
ラーと、前記第2の方向に進むレーザ光を前記第1の方
向及び前記第2の方向に直角な第3の方向に光軸を変更
する第2のミラーと、前記第3の方向に進むレーザ光を
前記第2の方向に平行な方向に光軸を変更する第3のミ
ラーと、前記第3のミラーからのレーザ光を前記第2の
方向に走査させる第1の回動ミラーと、前記第1の回動
ミラーを回動する第1の回動手段と、前記第1の回動ミ
ラーからのレーザ光を前記第1の方向に走査する第2の
回動ミラーと、前記第2の回動ミラーを回動する第2の
回動手段と、前記第2の回動ミラーからのレーザ光を集
光する集光手段と、前記第3のミラー、前記第1、第2
の回動ミラー、前記第1、第2の回動手段及び前記集光
手段を固定する保持板と、前記保持板を前記第3の方向
と平行に案内する案内手段と、前記保持板を前記第3の
方向と平行に移動させる駆動手段と、ワークを第3の方
向と垂直に固定する支持手段と、前記集光手段と前記ワ
ークとの間隔を検出する検出手段を備えたことを具体的
な構成とするものである。
【0011】本発明によれば、厚さまたは高さの異なる
多種多様なワークにレーザマーキングする場合に、集光
手段とワークとの距離(ワーキングディスタンス)を一
定にするために、ワークを上下させず、集光手段、回動
ミラーを上下させることにより、ワ−キングディスタン
スを一定にし、正確なマーキングが行え、高い生産性が
得られるレーザマーキング装置が提供できる。
多種多様なワークにレーザマーキングする場合に、集光
手段とワークとの距離(ワーキングディスタンス)を一
定にするために、ワークを上下させず、集光手段、回動
ミラーを上下させることにより、ワ−キングディスタン
スを一定にし、正確なマーキングが行え、高い生産性が
得られるレーザマーキング装置が提供できる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態のレー
ザマーキング装置について、図面を参照しながら説明す
る。
ザマーキング装置について、図面を参照しながら説明す
る。
【0013】図1は、本発明の一実施例のレーザマーキ
ング装置の概略構成図であり、1はレーザ発振器、2は
レ−ザ発振器1からのX1方向の入射光をY1方向に反
射し第1のXY平面内でその光軸を変更する第1のミラ
ー、3は第1のミラー2からの入射光を第1のXY平面
と垂直なZ1方向に反射する第2のミラーであり、図4
の51、52、53で示し既に説明したものと同様の構
成を有し、それぞれ所定位置に固定されている。
ング装置の概略構成図であり、1はレーザ発振器、2は
レ−ザ発振器1からのX1方向の入射光をY1方向に反
射し第1のXY平面内でその光軸を変更する第1のミラ
ー、3は第1のミラー2からの入射光を第1のXY平面
と垂直なZ1方向に反射する第2のミラーであり、図4
の51、52、53で示し既に説明したものと同様の構
成を有し、それぞれ所定位置に固定されている。
【0014】4は第1のXY平面と平行な第2のXY平
面上に配置された第3のミラーであり、第2のミラー3
からのレーザ光を反射して、その光軸を第2のXY平面
内でY1方向と平行な方向に変更する第3のミラーであ
る。5は第3のミラー4から受光したレーザ光を反射し
てその光軸を−X1方向に変更すると共に反射光の光軸
をXY平面内で−X1方向を中心として往復回動させ、
レーザ光をワーク10上でY方向に走査するための第1
の回動ミラーであり、たとえばステッピングモータ等よ
りなる第1の回動手段6に回転軸を同じくして結合され
ている。
面上に配置された第3のミラーであり、第2のミラー3
からのレーザ光を反射して、その光軸を第2のXY平面
内でY1方向と平行な方向に変更する第3のミラーであ
る。5は第3のミラー4から受光したレーザ光を反射し
てその光軸を−X1方向に変更すると共に反射光の光軸
をXY平面内で−X1方向を中心として往復回動させ、
レーザ光をワーク10上でY方向に走査するための第1
の回動ミラーであり、たとえばステッピングモータ等よ
りなる第1の回動手段6に回転軸を同じくして結合され
ている。
【0015】7はY方向の軸のまわりに往復回動可能な
第2の回動ミラーであり、第1の回動ミラー5からのレ
ーザ光を受け、XZ平面内でその光軸をZ2方向を中心
としてX軸と平行な方向に往復回動させるものである。
8は第2の回動ミラー7に結合された第2の回動手段で
あり、第1の回動手段6と同様にステツピングモータ等
を用いる。9は、第2の回動ミラー7からのレーザ光を
ワーク10の表面上に収束するための集光手段であり、
たとえば収束レンズ等から構成される。30はワーク1
0を固定する支持手段である。
第2の回動ミラーであり、第1の回動ミラー5からのレ
ーザ光を受け、XZ平面内でその光軸をZ2方向を中心
としてX軸と平行な方向に往復回動させるものである。
8は第2の回動ミラー7に結合された第2の回動手段で
あり、第1の回動手段6と同様にステツピングモータ等
を用いる。9は、第2の回動ミラー7からのレーザ光を
ワーク10の表面上に収束するための集光手段であり、
たとえば収束レンズ等から構成される。30はワーク1
0を固定する支持手段である。
【0016】以上の構成において、第3のミラー4、第
1の回動ミラー5、第1の回動手段6、第2の回動ミラ
ー7、第2の回動手段8、及び集光手段9(これらを光
学系可動部と称す)は、上下方向(Z方向)に移動可能
な保持板11に、所定の光学位置関係を保って取り付け
られており、光学系の可動部を形成している。なお第1
の回動ミラー5及び第1の回動手段6は、回動ミラー5
のZ方向の長さを十分大きくしておけば、原理的には可
動としなくてもよいが、上記の部分を一体として上下移
動できるように構成したほうが、各光学素子間の位置関
係をより正確に保つことができる。
1の回動ミラー5、第1の回動手段6、第2の回動ミラ
ー7、第2の回動手段8、及び集光手段9(これらを光
学系可動部と称す)は、上下方向(Z方向)に移動可能
な保持板11に、所定の光学位置関係を保って取り付け
られており、光学系の可動部を形成している。なお第1
の回動ミラー5及び第1の回動手段6は、回動ミラー5
のZ方向の長さを十分大きくしておけば、原理的には可
動としなくてもよいが、上記の部分を一体として上下移
動できるように構成したほうが、各光学素子間の位置関
係をより正確に保つことができる。
【0017】図2は光学系可動部4〜9の可動機構を詳
細に示す。11は上記の光学系可動部を保持した保持板
である。12は、保持板11を上下方向に可動に支持す
る案内手段であり、左右1対の案内手段12a、12b
(図1)によって構成されている。案内手段12の具体
的構成は、特に限定されるものではないが、例えば固定
部材と可動部材とより成り、その一方の部材に設けた溝
内を他方の部材が褶動する方式のもの等でよい。14
は、保持板11を上下移動させるための駆動装置であ
り、例えばステッピングモータ等により構成される。1
3は、本装置の固定部に固定された支持板であり、案内
手段12の固定部材、可動部材は、それぞれ支持板1
3、保持板11に固定されている。駆動手段15の制御
機構については後述する。15は、駆動手段14に結合
されたボールネジであり、Z方向に平行に配置されてい
る。16は、ボールネジ15と螺合するナットであり、
保持板11に固定されている。
細に示す。11は上記の光学系可動部を保持した保持板
である。12は、保持板11を上下方向に可動に支持す
る案内手段であり、左右1対の案内手段12a、12b
(図1)によって構成されている。案内手段12の具体
的構成は、特に限定されるものではないが、例えば固定
部材と可動部材とより成り、その一方の部材に設けた溝
内を他方の部材が褶動する方式のもの等でよい。14
は、保持板11を上下移動させるための駆動装置であ
り、例えばステッピングモータ等により構成される。1
3は、本装置の固定部に固定された支持板であり、案内
手段12の固定部材、可動部材は、それぞれ支持板1
3、保持板11に固定されている。駆動手段15の制御
機構については後述する。15は、駆動手段14に結合
されたボールネジであり、Z方向に平行に配置されてい
る。16は、ボールネジ15と螺合するナットであり、
保持板11に固定されている。
【0018】図1において、17は、ワーク10の表面
の高さ(Z軸方向の位置−ワーク10の厚さまたは高さ
により変化する)を検出するための検出手段であり、光
学方式、超音波方式その他種々の方式のものが使用可能
である。
の高さ(Z軸方向の位置−ワーク10の厚さまたは高さ
により変化する)を検出するための検出手段であり、光
学方式、超音波方式その他種々の方式のものが使用可能
である。
【0019】図3は、ワークの表面の高さに応じて、光
学系可動部4〜9を上下し、ワーキングディスタンスを
一定にするための制御系の1例図であり、検出手段17
に検出されるワーク10の表面高さデータが増幅器18
により増幅される。制御装置19は、内蔵したワーキン
グディスタンスの基準データと検出手段17により検出
された表面高さデータとを比較し、その誤差信号に基づ
いて駆動電源20を制御して駆動手段14を正転または
逆転させ、伝動機構15、16を介して、保持板11を
上下させ、ワーキングディスタンスを所望の値に制御す
るように構成されている。また場合によつては、検出手
段17によりワーク10の表面の高さを検出する代わり
に、またはこれと併用して、ワーク10をレーザマーキ
ング位置に送り込むワーク供給装置側に、ワーク10の
ロット毎の平均厚さまたは高さのデ−タを保持してお
き、レーザマーキング位置へのワーク送り込み動作中
に、このデ−タを制御装置に入力し、これに基づいてワ
ーキングディスタンスがほぼ所望の値になるように、ワ
ークの表面高さの観測前に、予め光学系可動部のZ方向
位置を制御しておくように構成することもできる。な
お、ワーキングディスタンスの調節が粗調整で十分な場
合には、この予備調節のみで済むが、微調整が必要な場
合には、検出手段17の検出信号を用いた制御が有効で
ある。
学系可動部4〜9を上下し、ワーキングディスタンスを
一定にするための制御系の1例図であり、検出手段17
に検出されるワーク10の表面高さデータが増幅器18
により増幅される。制御装置19は、内蔵したワーキン
グディスタンスの基準データと検出手段17により検出
された表面高さデータとを比較し、その誤差信号に基づ
いて駆動電源20を制御して駆動手段14を正転または
逆転させ、伝動機構15、16を介して、保持板11を
上下させ、ワーキングディスタンスを所望の値に制御す
るように構成されている。また場合によつては、検出手
段17によりワーク10の表面の高さを検出する代わり
に、またはこれと併用して、ワーク10をレーザマーキ
ング位置に送り込むワーク供給装置側に、ワーク10の
ロット毎の平均厚さまたは高さのデ−タを保持してお
き、レーザマーキング位置へのワーク送り込み動作中
に、このデ−タを制御装置に入力し、これに基づいてワ
ーキングディスタンスがほぼ所望の値になるように、ワ
ークの表面高さの観測前に、予め光学系可動部のZ方向
位置を制御しておくように構成することもできる。な
お、ワーキングディスタンスの調節が粗調整で十分な場
合には、この予備調節のみで済むが、微調整が必要な場
合には、検出手段17の検出信号を用いた制御が有効で
ある。
【0020】次に、本発明装置の動作について説明す
る。レーザ発振器1から出射したレーザ光は第1のミラ
ー2により、出射レーザ光と同じ第1のXY平面内で、
X1方向からY1方向に光軸を変更され、第2のミラー
3により、第1のXY平面と垂直でかつ図で上向きのZ
1方向に光軸を変更される。
る。レーザ発振器1から出射したレーザ光は第1のミラ
ー2により、出射レーザ光と同じ第1のXY平面内で、
X1方向からY1方向に光軸を変更され、第2のミラー
3により、第1のXY平面と垂直でかつ図で上向きのZ
1方向に光軸を変更される。
【0021】次に、第2のミラー3からのレーザ光を第
1のXY平面と平行な第2のXY平面上に配置された第
3のミラー4により、第2のXY平面内でY1方向と平
行な方向にレーザ光の光軸を変更し、第1の回動ミラー
5を第1の回動手段6により、回動させることにより、
Y方向にレーザ光を走査させることができる。
1のXY平面と平行な第2のXY平面上に配置された第
3のミラー4により、第2のXY平面内でY1方向と平
行な方向にレーザ光の光軸を変更し、第1の回動ミラー
5を第1の回動手段6により、回動させることにより、
Y方向にレーザ光を走査させることができる。
【0022】また第1の回動ミラー5からのレーザ光を
第2の回動ミラー7を第2の回動手段8によつて回動さ
せることにより、X方向に走査させることができる。
第2の回動ミラー7を第2の回動手段8によつて回動さ
せることにより、X方向に走査させることができる。
【0023】第2の回動ミラー5からのレーザ光は、集
光手段9により集光され、ワーク10上で焦点を結び、
第1の回動ミラー5、第2の回動ミラー7を回動させる
ことにより、ワーク10上の所定の位置に、レーザ光を
照射し、マーキングを行う。
光手段9により集光され、ワーク10上で焦点を結び、
第1の回動ミラー5、第2の回動ミラー7を回動させる
ことにより、ワーク10上の所定の位置に、レーザ光を
照射し、マーキングを行う。
【0024】第3のミラー4、第1の回動ミラー5、第
1の回動手段6、第2の回動ミラー7、第2の回動手段
8、及び集光手段9は、保持板11に固定されている。
また保持板11は、一対の案内手段12、駆動手段13
により、Z方向の移動が可能であり、その移動距離また
は、集光手段9とワーク10との距離(ワーキングディ
スタンス)は、検出手段17により検出する。
1の回動手段6、第2の回動ミラー7、第2の回動手段
8、及び集光手段9は、保持板11に固定されている。
また保持板11は、一対の案内手段12、駆動手段13
により、Z方向の移動が可能であり、その移動距離また
は、集光手段9とワーク10との距離(ワーキングディ
スタンス)は、検出手段17により検出する。
【0025】その検出信号により、駆動手段13を動か
し、保持板11を上下させ、ワーキングディスタンスを
一定にする。保持板11はZ方向に移動するので、第2
のミラー3と第3のミラー4間の距離は変化するが、そ
の間のレーザ光の光軸はZ方向を向いている結果、光学
系可動部4〜9におけるレーザ光軸は変化しない。
し、保持板11を上下させ、ワーキングディスタンスを
一定にする。保持板11はZ方向に移動するので、第2
のミラー3と第3のミラー4間の距離は変化するが、そ
の間のレーザ光の光軸はZ方向を向いている結果、光学
系可動部4〜9におけるレーザ光軸は変化しない。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、厚さまたは高さの異な
る多種多様なワークにマーキングする場合に、集光手段
とワーク表面との間の距離(ワーキングディスタンス)
を一定にするために、ワークを上下させず、集光手段、
回動ミラーを最適位置に上下動させることにより、ワー
キングディスタンスを一定にし、正確なマーキングが行
え、高い生産性が得られる装置が提供できる。
る多種多様なワークにマーキングする場合に、集光手段
とワーク表面との間の距離(ワーキングディスタンス)
を一定にするために、ワークを上下させず、集光手段、
回動ミラーを最適位置に上下動させることにより、ワー
キングディスタンスを一定にし、正確なマーキングが行
え、高い生産性が得られる装置が提供できる。
【図1】本発明の実施形態におけるレーザマーキング装
置の概略構成斜視図。
置の概略構成斜視図。
【図2】上下動機構の具体的例図。
【図3】上下動機構の制御系の構成例図。
【図4】従来のレーザマーキング装置の斜視図。
1 レーザ発振器 2 第1のミラー 3 第2のミラー 4 第3のミラー 5 第1の回動ミラー 6 第1の回動手段 7 第2の回動ミラー 8 第2の回動手段 9 集光手段 10 ワーク 11 保持板 17 検出手段 19 制御装置 30 支持手段
Claims (2)
- 【請求項1】 レーザ光を集光手段によりワーク表面に
集光させるとともに、回動ミラーによりワーク表面を走
査してマーキングを行うレーザマーキング装置におい
て、回動ミラー及び集光手段を含む光学系を、ワーク表
面と近接する方向または遠ざかる方向に移動可能に構成
すると共に、集光手段とワーク表面との間隔を検出する
検出手段を設け、この検出手段の検出結果に応じて前記
光学系をワークの表面と垂直な方向に移動させるように
構成したことを特徴とするレーザマーキング装置。 - 【請求項2】 レーザ発振器と、前記レーザ発振器から
発し第1の方向に進むレーザ光を前記第1の方向に直角
な第2の方向に光軸を変更する第1のミラーと、前記第
2の方向に進むレーザ光を、前記第1の方向及び前記第
2の方向に直角な第3の方向に光軸を変更する第2のミ
ラーと、前記第3の方向に進むレーザ光を前記第2の方
向に平行な方向に光軸を変更する第3のミラーと、前記
第3のミラーからのレーザ光を前記第2の方向に走査さ
せる第1の回動ミラーと、前記第1の回動ミラーを回動
する第1の回動手段と、前記第1の回動ミラーからのレ
ーザ光を前記第1の方向に走査する第2の回動ミラー
と、前記第2の回動ミラーを回動する第2の回動手段
と、前記第2の回動ミラーからのレーザ光を集光する集
光手段と、前記第3のミラー、前記第1、第2の回動ミ
ラー、前記第1、第2の回動手段及び、前記集光手段を
固定する保持板と、前記保持板を前記第3の方向と平行
に案内する案内手段と、前記保持板を前記第3の方向と
平行に移動させる駆動手段と、ワークを第3の方向に固
定する支持手段と、前記集光手段と前記ワ−クとの間隔
を検出する検出手段を備えたことを特徴とする請求項1
記載のレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7244453A JPH0985470A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | レーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7244453A JPH0985470A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | レーザマーキング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0985470A true JPH0985470A (ja) | 1997-03-31 |
Family
ID=17118885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7244453A Pending JPH0985470A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | レーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0985470A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004058103A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Central Glass Co Ltd | 基板へのマーキング方法及び装置 |
| KR100720372B1 (ko) * | 2006-09-06 | 2007-05-21 | 주식회사 고려반도체시스템 | 레이저 어셈블리의 업/다운 기능을 갖는 반도체 소자마킹용 레이저 마킹 장치 |
| JP2008068309A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Keyence Corp | レーザ加工データ生成装置、レーザ加工データ生成方法、コンピュータプログラム及びレーザマーキングシステム |
-
1995
- 1995-09-22 JP JP7244453A patent/JPH0985470A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004058103A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Central Glass Co Ltd | 基板へのマーキング方法及び装置 |
| KR100720372B1 (ko) * | 2006-09-06 | 2007-05-21 | 주식회사 고려반도체시스템 | 레이저 어셈블리의 업/다운 기능을 갖는 반도체 소자마킹용 레이저 마킹 장치 |
| JP2008068309A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Keyence Corp | レーザ加工データ生成装置、レーザ加工データ生成方法、コンピュータプログラム及びレーザマーキングシステム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20110127697A1 (en) | Method and apparatus for controlling the size of a laser beam focal spot | |
| US9895768B2 (en) | Laser processing apparatus | |
| CN105798455B (zh) | 激光加工系统和方法 | |
| JP2008168323A (ja) | レーザー加工装置 | |
| JP3257157B2 (ja) | Co2レーザ穴加工装置及び方法 | |
| JP3365388B2 (ja) | レーザ加工光学装置 | |
| JPS6320638B2 (ja) | ||
| JP6030747B2 (ja) | レーザビームによるガラス基板加工装置 | |
| JP2005254618A (ja) | 樹脂溶着装置 | |
| KR101120835B1 (ko) | 틸팅 및 자동포커싱 기능을 가지는 레이저 가공기 | |
| JP4615238B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH01313113A (ja) | レーザビームによる板金曲げ加工方法 | |
| JPH04187393A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP3066659B2 (ja) | レーザ加工機の加工ポイント補正方法及びその装置 | |
| JP2908607B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| KR20180094481A (ko) | 레이저 가공 장치 | |
| JPH06262383A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP3010769B2 (ja) | 光素子モジュールの組立方法および装置 | |
| JP3083912B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPS6229150B2 (ja) | ||
| JP4376221B2 (ja) | スキャン光学ユニット及びその制御方法並びにレーザ加工装置 | |
| JP2008126237A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP3006348B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH06198477A (ja) | レーザ加工装置およびその制御方法 | |
| JPH06269971A (ja) | レーザ加工装置 |