JPH0986029A - 賦形版、化粧シート及び細線パターンを作成するための画像処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 木目柄や抽象柄を有する化粧シートに対し
て、照り、及び照りの移動感を所望の通りに発現させる
ことができるエンボス加工のためのエンドレス状の細線
パターンを作成する。 【構成】 エンドレス状のブロックパターンを作成し、
各ブロックに仮想基準点を設定する。一方、細線パター
ンをビットマップデータとして作成し、その細線パター
ンにも仮想基準点を設定する。そして、各ブロックに細
線パターンを割り付けるに際しては、細線パターンの仮
想基準点と各ブロックの仮想基準点を一致させて、細線
パターンを当該ブロックの形状に切り出し、エンドレス
状のブロックパターンの当該ブロック位置に貼り付け
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、木目柄や、石目柄
等のいわゆる抽象柄を有する建材化粧シート（以下、単
に化粧シートと称す）に対して、照り、即ち光沢、及び
照りの移動感を発現させるために行う細線パターンの凹
凸模様を形成するための加工に係り、特にその加工を施
すための賦形版、賦形版によって細線パターンからなる
凹凸模様を形成した化粧シート、及びその細線パターン
を作成するための画像処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】木目柄を有する化粧シートに対して、天
然木目が有する照り、及び照りの移動感を発現させるた
めに、化粧シートに図２３に示すような波状曲線群から
なるパターン（以下、細線パターンと称す）をエンボス
加工することが行われている（この点に関して、例えば
特開平５−２９４１００号公報、特開平４−５２１８１
号公報、「材料」Vol.43,No.485,pp.147-151,Feb.1994
を参照）。

【０００３】なお、本明細書において、エンボス加工
は、複数種類の波状曲線で構成される細線パターンより
なる凹凸模様を化粧シートに形成するための加工全般を
指すものとする。従って、化粧シートに対して波状曲線
で構成される細線パターンよりなる凹凸模様を形成する
ことができる版は全てエンボス版であり、そのエンボス
版がどのようにして製造されるかは問わない。また、以
下においてはエンボス版を賦形版と称することもある。

【０００４】さて、特開平４−５２１８１号公報には、
図２４に示すように、ブロック化された領域に細線パタ
ーンを配置することが示されており、この手法は木目柄
の化粧シートに対してだけではなく、石目柄や砂目柄等
の抽象柄の化粧シートに対しても行われるようになって
きている。なお、以下においてはこのようなエンボス加
工をブロック化エンボス加工と称することにする。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ブロック化エンボス加工には種々の問題があるが、その
ような問題を説明する前に、まず従来の化粧シートに対
するブロック化エンボス加工の工程について説明する。

【０００６】エンボス加工を施すには、エンボス版を作
成する必要があるが、そのためにはまず細線パターン
と、エンドレス状のブロックパターンを作成する。

【０００７】細線パターンは、Ｘ−Ｙプロッタによりフ
ィルムに細線パターンを描画し、その描画した細線パタ
ーンを光学的に所定の倍率に縮小して作成する。このよ
うに縮小を行うのは次のような理由による。即ち、特開
平４−５２１８１号公報によればエンボス加工によって
化粧シートに形成される溝の間隔は 0.1〜 100μｍ程
度、また特開平５−２９４１００号公報によれば溝、及
びその間隔は 1〜1000μｍ程度であり、更に本発明者等
の研究によれば溝、及びその間隔は数十μｍ程度である
のが望ましいのであるが、このようなエンボス加工を行
うための細線パターンをＸ−Ｙプロッタで原寸大で描画
することは非常に難しいために、まずＸ−Ｙプロッタで
大きく描画し、それを縮小するのである。従って、縮小
の倍率は描画された各波状曲線の線幅、及びその間隔が
これらの値になるように定められることになる。このよ
うにして作成されたフィルムをマスタフィルムと称す。

【０００８】一方、エンドレス状のブロックパターンを
適宜な方法により作成する。図２５にその例を示すが、
このようなブロックパターンは手作業によっても容易に
作成することができる。そして、図に示すようにブロッ
ク分けされた領域に対してＩＤ番号を付ける（以下、こ
れを領域ＩＤと称す）。

【０００９】ここでエンドレス状のブロックパターンと
は、当該ブロックパターンを縦横にリピートしたとき、
即ち縦横に隙間なく配置したときに隣接するブロックの
パターンの輪郭が段差なく連続するようになされている
ブロックパターンをいう。

【００１０】例えば、図２５に示すブロックパターンは
縦横にそれぞれ２回リピートすると図２６に示すように
なるが、隣接するブロックパターンの間で各ブロックの
輪郭が段差なく、連続しているので、このブロックパタ
ーンはエンドレスであるということができる。

【００１１】なお、図２５において、「１」という領域
ＩＤは左上、左下、右上、右下の４つのブロックに対し
て付されているが、これは、これらのブロックがそれぞ
れ単独のブロックではなく、図２６から明らかなよう
に、縦横にリピートしたときにこれらの４つのブロック
が合成されて一つの完全なブロックとなるからである。
逆にいえば、図２６の中央に位置している「１」で示さ
れている完全なブロックは４つに分割されて、図２５に
示すブロックパターンの四隅に配置されているのであ
る。図２５において「２」という領域ＩＤが付されてい
るブロック、「３」という領域ＩＤが付されているブロ
ックについても同じである。

【００１２】そこで、本明細書においては、作成された
ブロックパターンにおいて、リピートされたときに隣接
するブロックパターンのブロックと合成されて完全なブ
ロックを形成するブロックを分割ブロックと称し、図２
５の「４」、「５」、「６」で示すブロックのようにブ
ロックパターン内において単独で完全なブロックを形成
しているブロック、及びブロックパターンがリピートさ
れた結果、分割ブロックが合成されて形成された完全な
ブロックを完全ブロックと称することにする。また、完
全ブロックと分割ブロックとを区別する必要がない場合
には単にブロックと称する。従って、図２５に示すブロ
ックパターンでは、「１」、「２」、「３」で示すブロ
ックは分割ブロックであり、「４」、「５」、「６」で
示すブロックは完全ブロックである。また、図２６の中
央に位置している「１」で示されているブロックも完全
ブロックである。

【００１３】なお、このエンドレス状のブロックパター
ンのサイズは、エンボス版の版材のサイズの整数分の１
とするのがよい。このようにすれば後述するエンドレス
細線パターンを単純に縦横にリピートするだけでエンボ
ス版の版材のサイズの細線パターンを容易に作成するこ
とができるからである。例えば、エンボス版用の版材と
して幅及び円周が共に 930ｍｍのシリンダを用いるもの
とすると、ブロックパターンのサイズは 310× 310ｍｍ
とすればよい。

【００１４】次に、ブロックパターンの各ブロックに対
して細線パターンを割り付けるが、そのためにはまず図
２７に示す細線パターン割り付けテーブルを設定する。
この細線パターン割り付けテーブルは、それぞれの領域
ＩＤのブロックに対してどのような細線パターンを割り
付けるかを設定するためのものであり、デザイナ等によ
て適宜設定される。

【００１５】ところで、ブロックパターンに割り付ける
細線パターンは最小限４種類あればよい。４種類の細線
パターンがあれば隣接するブロックに対して互いに異な
る細線パターンを割り当てることができることは数学の
４色問題の類推から明らかである。

【００１６】従って、上記の細線パターンの作成の工程
において４種類の細線パターンを作成してもよいことは
勿論であるが、ブロック化エンボス加工においては、互
いに異なる細線パターンを用いるよりも、一つの細線パ
ターンを作成し、それを回転させたパターンを用いるの
がよいことが知られている。

【００１７】そこで、ここでは作成した細線パターンを
回転角度 0°の基準細線パターンとし、それを45°回転
させたパターン、−45°回転させたパターン、及び90°
回転させたパターンの４種類のパターンを用いることに
する。回転方向は反時計回りを正方向とする。これらの
４種類の細線パターンは、絵柄としては同じであるが回
転角度が異なるので、互いに異なる細線パターンである
ということにする。なお、図２７においては、領域ＩＤ
が１のブロックに対しては回転角度 0°の基準細線パタ
ーンが割り当てられ、領域ＩＤが２のブロックに対して
は基準細線パターンを90°回転した細線パターンが割り
当てられていることを示している。その他の領域につい
ても同様である。

【００１８】そして、作業者は、細線パターン割り付け
テーブルに基づいて、ピールコート等を用いて、手作業
によって各ブロックに対応するマスクを作成し、マスタ
フィルムとマスクを用いて写真技術によって、それぞれ
のブロックに対応した細線パターンのフィルムを作成し
て、それらのフィルムを合成焼き付けして合成細線パタ
ーンを有するフィルムを作成する。

【００１９】例をあげて説明すると次のようである。い
ま、例えば、図２８に示す細線パターンを作成して基準
細線パターンとし、また図２５に示すブロックパターン
を作成し、細線パターン割り付けテーブルが図２７に示
すようであるとすると、このとき、作業者は、図２９
（Ａ）に示すように、領域ＩＤが１のブロックに対応す
る箇所を切り抜いたマスクを作成し、そのマスクを用い
てマスタフィルム上の基準細線パターンをマスキングす
ることによって、図２９（Ｂ）に示すように領域ＩＤが
１のブロック内のみに基準細線パターンの絵柄が写って
いるフィルムを作成する。これが領域ＩＤが１の細線パ
ターンフィルムである。

【００２０】また、図２７の細線パターン割り付けテー
ブルにおいては、領域ＩＤが３のブロックと、領域ＩＤ
が５のブロックには同じ回転角度を有する細線パターン
が割り付けられているので、これらのブロックに対して
は図３０（Ａ）に示すように、領域ＩＤが３のブロック
及び領域ＩＤが５のブロックに対応する箇所を切り抜い
たマスクを作成し、そのマスクを用いて基準細線パター
ンを−45°回転させた細線パターンをマスキングする。
これによって、図３０（Ｂ）に示すように領域ＩＤが３
のブロックと、領域ＩＤが５のブロックとに回転角度が
−45°の細線パターンの絵柄が写っているフィルムを作
成する。

【００２１】以下同様にして、図３１（Ａ）に示すよう
に領域ＩＤが２のブロック内のみに基準細線パターンを
90°回転させた細線パターンの絵柄が写っているフィル
ム、そして図３１（Ｂ）に示すように、領域ＩＤが４の
ブロックと、領域ＩＤが６のブロックとに基準細線パタ
ーンを45°回転させた細線パターンの絵柄が写っている
フィルムを作成する。

【００２２】このようにして、それぞれの領域ＩＤのブ
ロックに対応した細線パターンの絵柄を有するフィルム
が作成される。

【００２３】そして、次に作業者はこのようにして得た
フィルムを合成焼き付けして合成された細線パターン
（以下、これを合成細線パターンと称す）を有するフィ
ルムを作成する。上述した例の場合には、例えば図３２
に示すような合成細線パターンを有するフィルムが得ら
れる。

【００２４】その後、このフィルム上の合成細線パター
ンを縦横にリピートしてエンボス版の版材のサイズの細
線パターンの絵柄を有する製版フィルムを作成し、その
製版フィルムを用いて周知の手法によってエンボス版用
の版材に凹凸を形成してエンボス版を作成し、そのエン
ボス版を用いて化粧シートにエンボス加工を施す。

【００２５】なお、例えばＸ−Ｙプロッタで描画された
各波状曲線の部分が化粧シートにおいては溝を形成する
ものとすると、波状曲線が描画されないスペースの部分
はエンボス加工された化粧シートにおいては溝でない部
分、即ち凸部を形成することになるが、以下においては
当該凸部を土手と称することにする。

【００２６】以上のようにしてエンボス版、及び化粧シ
ートが作成されるのであるが、上記の工程において重要
なことは、リピートによって形成された完全ブロック内
においては細線パターンを構成する各波状曲線が段差な
く滑らかに連続することである。

【００２７】即ち、分割ブロックはリピートされた場合
に一つの完全ブロックとなるのであるから、当該完全ブ
ロック内では細線パターンは段差なく連続している必要
があり、従って、分割ブロックに割り付けられた細線パ
ターンの各波状曲線は、リピートされた場合に隣接する
分割ブロックに割り付けられた細線パターンの波状曲線
と段差なく連続するものである必要がある。つまり、合
成細線パターンはエンドレス状である必要があるのであ
る。

【００２８】しかし、上述した手法によって得られた合
成細線パターンは一般的にはエンドレス状にはならな
い。このことは容易に理解できる事項である。なぜな
ら、細線パターンを構成する波状曲線の形状と、エンド
レス状のブロックパターンの各ブロックのサイズや形状
は、それぞれ別個に、任意に設定されるものであり、し
かも各ブロックに細線パターンのどの部分のパターンを
割り付けるかも全く任意に行われるから、合成細線パタ
ーンは一般的にはエンドレス状にはならないのである。

【００２９】例えば、図２９（Ｂ）に示す細線パター
ン、即ち図２５において領域ＩＤが１となされたブロッ
クに割り付けられた細線パターンを縦横それぞれ２回リ
ピートすると図３３（Ａ）に示すようになる。そして、
図中ａで示す部分は完全ブロックを形成している箇所で
あるので、当該箇所においては細線パターンの各波状曲
線は段差なく連続している必要がある。

【００３０】ところが、図３３（Ａ）のａで示す箇所を
拡大して示すと図３３（Ｂ）に示すようであり、各分割
ブロックに割り付けられた細線パターンの波状曲線は、
図中波線で示すリピート時の接続部において段差を生じ
ており、連続していない。

【００３１】しかし、このような合成細線パターンに基
づいてエンボス版を作成し、化粧シートにブロック化エ
ンボス加工を施すと、その化粧シートにおいては波状曲
線が不連続となっている箇所において光の反射にむらが
生じ、その結果、照り及びその移動の態様が意図したも
のと異なってしまうことがあるという問題があることが
判明した。

【００３２】これが従来のブロック化エンボス加工にお
ける一つの重要な問題である。従って、本発明の一つの
目的は、ブロック化エンボス加工を施した化粧シートに
おいて、光の反射にむらがなく、照り、及びその移動を
意図した通りに発現させることができるようにすること
にあり、そのための賦形版、そしてエンボス加工を施し
た化粧シート、及びエンボス加工を行うための合成細線
パターンを作成するための画像処理装置を提供するもの
である。

【００３３】また、基準細線パターンは上述したように
Ｘ−Ｙプロッタで描画されるので、描画される各波状曲
線の線幅は一定であり、従って一つの波状曲線と次の波
状曲線との間のスペースの間隔は場所によって異なるこ
とになる。例えば、図２３に示す細線パターンにおいて
は図中Ａで示す箇所では波状曲線は粗になっているので
スペースは広いが、Ｂで示す箇所では波状曲線は密にな
っているのでスペースは狭くなっている。

【００３４】しかし、このように細線パターンの波状曲
線間のスペースが変化している場合には、波状曲線の粗
密に基づいてモアレが発生することがあり、従ってこの
ような細線パターンを用いてブロック化エンボス加工を
施した場合には、化粧シートにおいては当該モアレによ
って光の反射にむらが生じ、その結果、照り及びその移
動の態様が意図したものと異なってしまうことがあるこ
とが判明した。

【００３５】これが従来のエンボス加工におけるもう一
つの重要な問題である。従って、本発明の一つの目的
は、合成細線パターンをリピートしたパターンに基づい
てブロック化エンボス加工を施した化粧シートにおい
て、光の反射にむらがなく、照り、及びその移動を意図
した通りに発現させることができるようにすることにあ
る。

【００３６】また、従来においてはマスクの作成、ある
いは合成細線パターンを作成する場合の合成焼き付け、
そしてエンボス版を作成するための製版フィルムを得る
場合の合成細線パターンのリピート等は全て手作業によ
って行われているので、高い寸法精度が得られないばか
りか、非常な熟練が要求されるという問題がある。

【００３７】寸法精度の問題は、Ｘ−Ｙプロッタでフィ
ルムに描画した細線パターンを光学的に縮小する際にも
生じる。即ち、細線パターンを縮小する際に当該光学系
の収差等によって細線パターンが歪んでしまい、高い寸
法精度が得られないのである。このような細線パターン
の歪みは光学系の周辺部で特に顕著である。

【００３８】従って本発明の他の目的は、高い寸法精度
の合成細線パターンを、熟練者を要さず、容易に作成で
きる画像処理装置を提供することにある。

【００３９】

【課題を解決するための手段】ブロック化エンボス加工
した化粧シートにおいて、光の反射にむらがなく、照
り、及びその移動を意図した通りに発現させることがで
きるようにするためには、まず、合成細線パターンがエ
ンドレス状である必要があることは上述したところから
明らかである。

【００４０】そこで、本発明の賦形版、即ちエンボス版
は、請求項１記載のように、化粧シートに対して照り、
及び照りの移動を発現させるための細線パターンに基づ
いて凹凸が形成されてなる賦形版であって、当該凹凸の
パターンは、エンドレス状にブロック分けされたそれぞ
れの領域に予め対応付けられている細線パターンが割り
付けられた合成細線パターンが縦横に所定の回数リピー
トされたパターンを有しており、且つ前記リピートによ
って一つの完全ブロックを形成する領域においては当該
領域に割り付けられた細線パターンが連続していること
を特徴とする。

【００４１】ここで、請求項２記載のように、各ブロッ
ク分けされた領域内において、細線パターンに基づいて
形成された凸部の幅と凹部の幅の比率は場所によらず所
定の比率になされていることが望ましい。

【００４２】これは、ブロック化エンボス加工を施した
化粧シートにおいては、溝の幅と土手の幅との比を常に
一定の比率、望ましくは１：１とするのがよいことを本
発明者等が研究の結果見い出したことに基づいている。
これによれば、細線パターンを構成する各波状曲線の線
幅は一定ではなく、図２３のＡで示すような波状曲線が
粗である部分では波状曲線の線幅は太くなり、同図のＢ
で示すような波状曲線が密である部分では波状曲線の線
幅は細いものとなる。

【００４３】同様に、本発明の化粧シートは請求項３記
載のように、波状曲線からなる細線パターンよりなる凹
凸模様が形成されてなる化粧シートであって、当該凹凸
のパターンは、エンドレス状にブロック分けされたそれ
ぞれの領域に予め対応付けられている細線パターンが割
り付けられた合成細線パターンが縦横に所定の回数リピ
ートされたパターンを有し、且つ前記リピートによって
一つの完全ブロックを形成する領域においては当該領域
に割り付けられた細線パターンが連続していることを特
徴とする。

【００４４】そして、ここで、請求項４記載のように、
各ブロック分けされた領域内において、細線パターンに
基づいて形成された溝の幅と土手の幅の比率は場所によ
らず所定の比率になされていることが望ましいものであ
り、この所定の比率は、望ましくは１対１である。

【００４５】次に、高い精度を有する合成細線パターン
を作成するための手段についてであるが、従来高い精度
が得られなかったのはフィルムに描画した細線パターン
を縮小したり、種々の工程が作業者の手作業によって行
われていたためであり、電子的な画像処理技術を用いて
合成細線パターンが作成できればこの問題を解決するこ
とができる。

【００４６】そこで、本発明の画像処理装置は、請求項
５記載のように、エンドレス状にブロック分けされたそ
れぞれの領域に予め対応付けられた細線パターンを割り
付けるに際して、細線パターンに設定されている仮想基
準位置を各完全ブロックに設定されている仮想基準位置
に一致させて当該ブロックの輪郭データによって当該ブ
ロック外部をマスクする画像処理手段を備えることを特
徴とする。

【００４７】これによれば合成細線パターンの作成は画
像処理手段によって自動的に行われるので、従来のよう
に手作業を行う必要はなく、高精度の合成細線パターン
を容易に作成することができる。

【００４８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、木目柄
や抽象柄を有する化粧シートの作成工程を説明すること
によって発明の実施の形態を説明する。

【００４９】図１は本発明に係る画像処理装置の構成例
を示す図であり、図中、１は画像処理部、２は表示部、
３は入力部、４は記憶部を示す。

【００５０】画像処理部１は以下に述べる画像処理を行
うと共に、当該画像処理装置の動作を統括して管理する
ものであり、ＣＰＵ及びその周辺回路で構成される。

【００５１】表示部２はカラーＣＲＴ等の表示装置で構
成されている。入力部３はキーボード、マウス等によっ
て構成されている。記憶部４は作成した細線パターン、
合成細線パターン等を記憶するためのものである。

【００５２】次に、化粧シートの作成工程に沿って、オ
ペレータの操作、画像処理装置の動作、エンボス版の製
造方法及び化粧シートの製造方法等について説明する。

【００５３】図２は化粧シートの作成工程を示すフロー
チャートであり、まず、エンドレス状ブロックパターン
の作成、細線パターン割り付けテーブルの作成、及び細
線パターンの作成を行う。これらはどのような順序で行
ってもよいのであるが、ここでは最初にエンドレス状ブ
ロックパターンを作成し（ステップＳ１）、次に細線パ
ターン割り付けテーブルを作成し、（ステップＳ２）、
次いで細線パターンの作成（ステップＳ３）を行うもの
とする。

【００５４】さて、作業者はエンドレス状ブロックパタ
ーンを入力する（ステップＳ１）。このエンドレス状ブ
ロックパターンの入力は、表示部２の画面上で図形の作
成と同様な手法により作成することができるが、その他
の手法を用いて作成してもよく、作成の手法はどのよう
であってもよい。

【００５５】エンドレス状ブロックパターンのサイズは
エンボス版の版材のサイズの整数分の１とし、原寸大で
作成する。即ち、エンボス版用の版材として幅及び円周
が共に 930ｍｍのシリンダを用いるものとすると、ブロ
ックパターンは例えば 310×310ｍｍの原寸大で作成す
ればよい。

【００５６】次に、各ブロックに対して領域ＩＤを付す
と共に、各完全ブロックに対して仮想基準点を設定す
る。この仮想基準点の設定は、画像処理部１が自動的に
行うようにすればよいが、作業者が手動で行ってもよ
い。

【００５７】自動で行う場合には、例えば、画像処理部
１に全ての完全ブロックを認識させ、それらの完全ブロ
ックに外接する矩形の中心を仮想基準点とする処理を行
わせればよい。

【００５８】手動で行う場合には、いま例えば、図２５
に示すエンドレス状ブロックパターンが作成され、図に
示すように領域ＩＤが付されたとすると、図３に示すよ
うに作成されたエンドレス状ブロックパターンを表示部
２の画面に表示すると共に、「領域ＩＤ１の仮想基準点
を入力して下さい」等の仮想基準点の入力を要求するメ
ッセージを表示し、その画面においてマウス等によって
画面上の位置を入力できるようにすればよい。

【００５９】以上のようにして全ての領域ＩＤに対して
それぞれ一つの仮想基準点が設定される。そして、ここ
では仮想基準点は図４に示すように設定されたとする。
図４（Ａ）によれば、領域ＩＤが１である完全ブロック
に対してはＰ₁ で示す位置に仮想基準点が設定されてい
る。例えばこの仮想基準点Ｐ₁ が手動で入力されたもの
とすると、作業者は図３に示す画面において、領域ＩＤ
が１であるブロックの中の左下の分割ブロック内に仮想
基準点を入力したことになる。

【００６０】また、図４（Ｂ）によれば、領域ＩＤが２
である完全ブロックに対してはＰ₂で示す位置に仮想基
準点が設定されている。例えばこの仮想基準点Ｐ₂ が手
動で入力されたものとすると、作業者は図３に示す画面
において、領域ＩＤが２であるブロックの中の下側の分
割ブロック内に仮想基準点を入力したことになる。

【００６１】同様に、図４（Ｃ）によれば領域ＩＤが３
である完全ブロックに対してはＰ₃で示す位置に仮想基
準点が設定され、領域ＩＤが４，５，６である完全ブロ
ックに対しては、それぞれ図４（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ）
のＰ₄ ，Ｐ₅ ，Ｐ₆ で示す位置に仮想基準点が設定され
ている。

【００６２】なお、図４においては仮想基準点は全て完
全ブロックの内部に設定されているが、この仮想基準点
は後述するように各ブロックに対して細線パターンを割
り付ける際に用いられるだけであるので、所望の任意の
位置に設定可能であり、従って完全ブロックの外部に設
定してもよい。

【００６３】そして、このように仮想基準点が設定され
ると、画像処理部１は、分割ブロックと仮想基準点の位
置関係を定める。このとき、分割ブロックと仮想基準点
との位置関係は、後述するように、完全ブロックを構成
する分割ブロックを合成した状態で決定する。

【００６４】これは次のようなことである。即ち、上述
したように仮想基準点は完全ブロックに対して一つ設定
されるのであるが、この仮想基準点は各ブロックに対し
て細線パターンを割り付ける場合に用いるものであるの
で、分割される完全ブロック、即ち分割ブロックが合成
されて形成される完全ブロックについては各分割ブロッ
クと仮想基準点の位置関係が重要になり、この分割ブロ
ックと仮想基準点の位置関係がずれると合成細線パター
ンがエンドレス状にならなくなるからである。

【００６５】そこで、画像処理部１は、仮想基準点が設
定されると、分割ブロックが合成されて形成される完全
ブロックについては、その完全ブロックの各分割ブロッ
クと設定された仮想基準点の位置関係を定めるのであ
る。

【００６６】図５はその例を示す図であり、図２５のエ
ンドレス状ブロックパターンの領域ＩＤが１の完全ブロ
ックに対して図４（Ａ）に示すように仮想基準点Ｐ₁ が
設定された場合の各分割ブロックと仮想基準点Ｐ₁ の位
置関係を示す図であり、図５（Ａ）はエンドレス状ブロ
ックパターンの左下の分割ブロックと仮想基準点Ｐ₁の
位置関係を示し、同図（Ｂ）は右下の分割ブロックと仮
想基準点Ｐ₁ の位置関係を示し、同図（Ｃ）は右上の分
割ブロックと仮想基準点Ｐ₁ の位置関係を示し、同図
（Ｄ）は左上の分割ブロックと仮想基準点Ｐ₁ の位置関
係を示している。

【００６７】同様にして、領域ＩＤが２の各分割ブロッ
クに対しても仮想基準点Ｐ₂ との位置関係が定められ、
領域ＩＤが３の各分割ブロックに対しても仮想基準点Ｐ
₃ との位置関係が定められることは当然である。

【００６８】以上のようにしてエンドレス状ブロックパ
ターンの作成の工程が終了すると、次に作業者は細線パ
ターン割り付けテーブルを作成する（ステップＳ２）。
ここでは図６に示すようなテーブルが作成されたものと
する。図６によれば、各領域ＩＤのブロックに割り付け
る細線パターンの回転角度と、その表示色が書き込まれ
ている。この表示色の設定は、後に作成する合成細線パ
ターンを表示部２の画面上に表示する際に、細線パター
ンの回転角度に応じた色で表示するために行うものであ
る。

【００６９】なお、この細線パターン割り付けテーブル
はその都度入力部３を操作して作成してもよいし、予め
固定的に作成しておいたものを用いてもよい。

【００７０】次に、作業者は細線パターンの作成の工程
を行う（ステップＳ３）。この細線パターンの作成の工
程においては、図７に示すように作業者は、細線パター
ンを作成する基準となる二つの基準波状曲線の形状、画
像寸法、画像の解像度、描画する波状曲線の本数Ｍを設
定する（ステップＳ２０）。

【００７１】ここで、二つの基準波状曲線は、細線パタ
ーンを作成する基準となる波状曲線であり、作業者はこ
の二つの基準波状曲線の形状を入力部３により設定する
のである。この二つの基準波状曲線の形状を設定する方
法としては種々の手法が考えられるが、ここでは予め関
数の形式を定義しておき、その周期、振幅を等のパラメ
ータを作業者が設定する方法を採用するものとする。

【００７２】画像寸法については、作成する細線パター
ンのサイズＷ，Ｈを入力部３により数値入力する。な
お、サイズＷ，Ｈのサイズの単位は任意に定めることが
できるが、ここではｍｍとする。

【００７３】この細線パターンの画像寸法Ｗ，Ｈは任意
に設定できることは当然であるが、エンドレス状ブロッ
クパターンのサイズと同程度でよい。従って、例えば上
述したようにエンドレス状ブロックパターンのサイズを
310× 310ｍｍとするときには、Ｗ＝Ｈ＝ 310（ｍｍ）
とすればよい。この程度のサイズであれば細線パターン
のデータ量も比較的小さく、短時間で作成できるので、
取り扱いも容易であり、細線パターンの手直し等に対し
ても速やかに対応することができる。

【００７４】また、画像の解像度（ドット／ｍｍ）、及
び描画する波状曲線の本数Ｍについても入力部３により
数値入力する。

【００７５】さて、いま作業者が画像寸法Ｗ，Ｈ、画像
の解像度ｄ、描画する波状曲線の本数Ｍを設定したとす
ると、次に作業者は二つの基準波状曲線の形状を決定す
るためのパラメータを設定する。

【００７６】ここで、二つの基準波状曲線の形状を定義
するためにどのような関数を用いるかは任意であるが、
ここでは二つの基準波状曲線はそれぞれ次の式のように
三角関数の組み合わせで定義されているものとする。

【００７７】

【数１】

【００７８】この(1) ，(2) 式において、Ａ₁₁，Ｂ₁₁，
Ｃ₁₁，Ａ₁₂，Ｂ₁₂，Ｃ₁₂，Ａ₁₃，Ｂ₁₃，Ｃ₁₃は一つの基
準波状曲線の形状を決定するためのパラメータであり、
Ａ₂₁，Ｂ₂₁，Ｃ₂₁，Ａ₂₂，Ｂ₂₂，Ｃ₂₂，Ａ₂₃，Ｂ₂₃，Ｃ
₂₃はもう一つの基準波状曲線の形状を決定するためのパ
ラメータである。

【００７９】従って、作業者はこれらのパラメータの値
を入力部３から数値入力することによって二つの基準波
状曲線の形状を定めることができる。この二つの基準波
状曲線の形状を全く同じものとすることができることは
当然であるが、一般にはこれらの二つの基準波状曲線の
形状は異ならせた方が望ましいものである。

【００８０】このようにして波状曲線を生成するために
必要な設定が終了すると、画像処理部１は細線パターン
の生成の処理を開始する（ステップＳ２１）。このステ
ップでは、画像処理部１は、まず二つの基準波状曲線の
形状を決定し、その二つの基準波状曲線を、ワークメモ
リ等の所定のメモリ上に、間隔Ｈを隔てて、原寸大のビ
ットマップパターンとして描画する。なお、このときの
基準波状曲線の線幅は１ドットでよい。

【００８１】その概念を図８を用いて説明する。図８に
おいては、二つの基準波状曲線Ｐ，Ｑが書き込まれてお
り、それらの基準線の間隔はＨ×ｄドットとなされてい
る。そして、画像の解像度がｄであるから、曲線が走る
方向のドット数はＷ×ｄとなる。例えば、いまＷ＝Ｈ＝
310ｍｍ、ｄ＝ 100ドット／ｍｍとすると、当該メモリ
上の曲線が走る方向のドット数は31000ドットとなる。
また、二つの基準波状曲線Ｐ，Ｑの基準線の間のドット
数も同様に 31000ドットとなる。

【００８２】さて、画像処理部１は二つの基準波状曲線
Ｐ，Ｑに基づいてＭ本の波状曲線を生成するのである
が、そのときの動作は次のようである。

【００８３】まず、画像処理部１は曲線が走る方向につ
いてｄドット毎に区切り、その区切り位置において基準
波状曲線Ｐ，Ｑの間を 2Ｍ等分する。そして次に、基準
波状曲線Ｐ，Ｑ間の分割した区間の奇数番目の区間また
は偶数番目の区間を、区切り位置を中心として幅ｄドッ
トの範囲を塗り潰す。

【００８４】例えばいま、理解を容易にするために二つ
の基準波状曲線Ｐ，Ｑに基づいて３本の波状曲線を作成
するものとすると、画像処理部１は、図９（Ａ）に示す
ように曲線が走る方向の各区切り位置ｉ（i=1,2,…,W）
において基準波状曲線Ｐ，Ｑの間を 6等分する。そし
て、いま分割した区間の奇数番目の区間を塗り潰すもの
とすると、画像処理部１は図９（Ｂ）の黒の矩形で示す
領域を塗り潰す。

【００８５】以上の処理を全ての区切り位置ｉについて
行うことによって、短時間で、定義された二つの基準波
状曲線Ｐ，Ｑの間に、基準波状曲線Ｐの形状からもう一
つの基準波状曲線Ｑの形状まで滑らかに形状が変化する
Ｍ本の波状曲線を生成することができる。

【００８６】しかもこの細線パターンにおいては塗り潰
しによって描画される波状曲線の線幅と、塗り潰されな
いスペースの幅の比率は、位置によらず１対１、あるい
は略１対１となる。

【００８７】このようにして、画像寸法 310× 310ｍ
ｍ、画像の解像度 100ドット／ｍｍ、波状曲線の本数25
00本の細線パターンを良好に作成することができること
が確認されている。

【００８８】なお、生成された各波状曲線は、図９Ｂに
示されるように、塗り潰された矩形領域の繋がりで構成
されるので段差を有するものではあるが、実際の波状曲
線のピッチは 120μｍ程度、従って生成される各波状曲
線の線幅は60μｍ程度であるので、この段差が目立つこ
とは全くなく、何の問題もない。

【００８９】なお、以上においては曲線が走る方向につ
いてｄドット毎に区切り、各区切り位置において基準波
状曲線間を 2Ｍ等分し、その奇数番目または偶数番目の
区間を塗り潰すようにしたが、曲線が走る方向の各ドッ
ト位置において基準波状曲線間を 2Ｍ等分し、その奇数
番目または偶数番目の区間のドットを塗り潰すようにし
てもよい。これによれば生成される波状曲線をより滑ら
かなものとすることができる。

【００９０】以上のようにして細線パターンを作成する
と、画像処理部１は作成した細線パターンを表示部２に
表示する（ステップＳ２２）。このとき、画像処理部１
は、細線パターンが表示部２の表示領域に収まるよう
に、細線パターンの波状曲線及びビットマップデータの
ドットを間引く処理を行う。

【００９１】例えば、いま、作成した細線パターンの画
像寸法が 310× 310ｍｍ、画像の解像度が 100ドット／
ｍｍ、波状曲線の本数が2500本とすると、メモリ上のド
ット数は 31000× 31000ドットとなるが、表示部２のド
ット数が1000×1000である場合には少なくともドット数
を 1／31に間引く必要がある。しかし、単純にドットの
間引きを行うと2500本の波状曲線はモアレになって判別
できなくなるので、表示に際しては画像処理部１は波状
曲線をも 1／31に間引いて表示するようにするのであ
る。その細線パターンの表示例を図１０に示す。

【００９２】作業者は表示された細線パターンを観察し
て、望ましいものでなかった場合には再度ステップＳ２
０からやり直しとなるが、望ましいものであった場合に
は当該細線パターンの格納を入力部３から指示する。こ
のとき作業者は当該細線パターンを登録するためのファ
イル名を入力する必要があることは当然である。

【００９３】これにより、画像処理部１はステップＳ２
３の処理を実行する。この処理ではまず生成した原寸大
の細線パターンのビットマップデータをメモリ上から切
り出す。このときの切り出し範囲は、曲線が走る方向に
は波状曲線が生成されたＷ×ｄドットの範囲であり、そ
れと直交する方向には生成された波状曲線の先端より大
きめの範囲とする。この余裕をどの程度もたせるかは任
意であるが 1ｃｍ相当分程度でよい。これが回転角度 0
°の基準細線パターンとなる。

【００９４】次に、画像処理部１は切り出した細線パタ
ーンのビットマップデータに仮想基準点を設定して記憶
部４に格納する。この仮想基準点は当該切り出した細線
パターンの中心に設定するようにすればよい。なお、こ
の細線パターンに対する仮想基準点の設定は作業者が手
動で行うようにしてもよいことは当然である。

【００９５】そしていま、図１１に示すように切り出さ
れた細線パターンに対して仮想基準点Ｐが設定されたも
のとする。なお、図１１に示す細線パターンにおいては
波状曲線の線幅とスペース幅との比率は１対１にはなっ
ていないが、ここでは図１１に示す細線パターンが作成
されたものとする。

【００９６】以上のようにして図２のステップＳ３まで
の工程が終了すると、次に合成細線パターンの作成の工
程に入る（ステップＳ４）。この工程では、画像処理部
１に対して合成細線パターンの処理を実行させる。

【００９７】この処理において、画像処理部１は、細線
パターンの仮想基準点と、ブロックの仮想基準点とを一
致させた状態で細線パターンを当該ブロックの形状に切
り出し、エンドレス状ブロックパターンの当該ブロック
の位置に貼り付ける処理を全てのブロックに対して行
う。

【００９８】例えば、いま領域ＩＤが４のブロックに対
して細線パターンの割り付けを行うものとすると、まず
画像処理部１は細線パターン割り付けテーブルを参照し
て細線パターンの回転角度を求めるが、図６の細線パタ
ーン割り付けテーブルでは当該ブロックには回転角度が
45°の細線パターンを割り付けるように設定されている
ので、この場合には画像処理部１は基準細線パターンを
45°回転させ、その状態において図１２（Ａ）に示すよ
うに細線パターンの仮想基準点Ｐと当該ブロックの仮想
基準点Ｐ₄ とを一致させて、当該ブロックの形状に細線
パターンを切り出す。

【００９９】これによって、この場合には図１２（Ｂ）
に示すような細線パターンが切り出されるが、画像処理
部１はその切り出した細線パターンをエンドレス状ブロ
ックパターンの当該ブロックの位置に貼り付ける。

【０１００】以上はエンドレス状ブロックパターンにお
いて、それ自体で完全ブロックとなされているブロック
に関する細線パターンの切り出しについての説明である
が、エンドレス状ブロックパターンにおいて分割ブロッ
クとなされているブロックについても同様である。

【０１０１】例えば、いまエンドレス状ブロックパター
ンにおいて右上に配置されている領域ＩＤが１の分割ブ
ロックに対して細線パターンの割り付けを行うものとす
ると、まず画像処理部１は細線パターン割り付けテーブ
ルを参照して細線パターンの回転角度を求めるが、図６
の細線パターン割り付けテーブルでは当該ブロックには
回転角度が 0°の基準細線パターンを割り付けるように
設定されているので、この場合には画像処理部１は基準
細線パターンの状態において図１３に示すように細線パ
ターンの仮想基準点Ｐと当該ブロックの仮想基準点Ｐ₁
とを一致させて、当該ブロックの形状に細線パターンを
切り出す。

【０１０２】これによって、この場合には図１４（Ａ）
に示すような細線パターンが切り出されるが、画像処理
部１はその切り出した細線パターンをエンドレス状ブロ
ックパターンの右上の位置に貼り付ける。

【０１０３】同様にして、エンドレス状ブロックパター
ンにおいて領域ＩＤが１である右下の分割ブロックの位
置には図１４（Ｂ）の細線パターンが貼り付けられ、領
域ＩＤが１である左下の分割ブロックの位置には図１４
（Ｃ）の細線パターンが貼り付けられ、領域ＩＤが１で
ある左上の分割ブロックの位置には図１４（Ｄ）の細線
パターンが貼り付けられる。

【０１０４】これらの分割ブロックに貼り付けられた細
線パターンを合成すると図１５（Ａ）に示すようにな
り、それを拡大すると同図（Ｂ）に示すようであるが、
この合成された細線パターンにおいては波状曲線が段差
なく連続していることが分かる。つまり、上述した手法
によって分割ブロックに割り付けた細線パターンはエン
ドレス状になっているのである。

【０１０５】このことは、図１４（Ａ）〜（Ｄ）に示す
細線パターンが、図１６に示すように、細線パターンの
仮想基準点Ｐと領域ＩＤが１のブロックの仮想基準点Ｐ
₁ とを一致させて、当該完全ブロックの形状に切り出し
た細線パターンを各分割ブロックの形状に分割した細線
パターンと同じであることからも容易に理解できるとこ
ろである。

【０１０６】従って、以上の処理を全てのブロックに対
して行うことによってエンドレス状の合成細線パターン
が作成されることが分かる。

【０１０７】そして、画像処理部１は合成細線パターン
を作成すると、それを表示部２の画面上に表示する（ス
テップＳ５）。このとき、画像処理部１は図６の細線パ
ターン割り付けテーブルを参照して各ブロックの細線パ
ターンの表示色を決定する。図６によれば、画像処理部
１は、領域ＩＤが１のブロックに割り付けた細線パター
ンについてはシアンＣで表示し、領域ＩＤが２のブロッ
クに割り付けた細線パターンについてはマゼンタＭで表
示し、領域ＩＤが３のブロック及び領域ＩＤが５のブロ
ックに割り付けた細線パターンについてはシアンＣで表
示し、領域ＩＤが４のブロック及び領域ＩＤが６のブロ
ックに割り付けた細線パターンについてはイエローＹで
表示する。

【０１０８】従って、作業者はこの画面を観察すること
によって、各ブロックに設定した通りの回転角度の細線
パターンが割り付けられているかどうかを容易に確認す
ることができる。

【０１０９】以上のようにして合成細線パターンを作成
すると、次に、エンボス版の版材のサイズの細線パター
ンを作成する（ステップＳ６）。この処理は、画像処理
部１のリピートの処理を起動させ、合成細線パターンを
縦横にそれぞれ所定回数リピートさせることによって行
うことができる。例えば、合成細線パターンのサイズが
310× 310ｍｍであるとすると、縦横にそれぞれ３回リ
ピートすることによって、幅及び円周が共に 930ｍｍの
版材用シリンダのサイズの細線パターンを作成すること
ができる。

【０１１０】以上の工程が完了すると、次に、エンボス
版を作成する（ステップＳ７）。この工程においては、
まずレーザビームによりエンボス版用の版材にパターン
を直接描画露光する描画装置にステップＳ６で作成した
版材サイズの細線パターンのビットマップデータをセッ
トする。なお、このとき描画装置がビットマップデータ
を直接受け付けるものである場合には、版材サイズの細
線パターンのビットマップデータをそのままセットすれ
ばよいが、ランレングス等所定の形式で圧縮されたデー
タしか受け付けないものである場合には、版材サイズの
細線パターンのビットマップデータを当該所定の形式に
よって圧縮する必要があることは当然である。

【０１１１】また、当該描画装置が、ステップＳ７の処
理、即ち合成細線パターンから版材サイズの細線パター
ンを作成する処理を行う機能を有している場合には、合
成細線パターンのデータを描画装置にセットして、上述
した処理を行ってもよい。

【０１１２】さて、図１７に示すように、エンボス版の
材料となる版材４０の表面にはレジスト膜５０を形成す
る。なお、図１７は版材の一部の断面を示している。以
下においても同様である。

【０１１３】ここでは版材４０としては銅板からなるシ
リンダを用いるものとするが、平板状のものであっても
よい。また、版材４０としては銅板を用いるのが通常で
あるが、エンボス版としての機能を果たすのに適した材
質のものであれば、どのようなものを用いてもかまわな
い。しかし、後述するように当該版材４０に対しては細
線パターンを描画露光した後にエッチング工程を行うの
で、銅や鉄等の金属が好ましい。

【０１１４】また、レジスト膜５０は、後のエッチング
工程における保護膜として機能するものであれば、どの
ようなレジスト剤を用いてもよいが、レーザビームを用
いて直接描画露光するのに適したレジスト剤を使用する
ことが望ましい。

【０１１５】一般に、レジスト剤には、露光部分が硬化
するネガ型と、露光部分が現像によって溶出するポジ型
とがあるが、いずれの型を用いてもよい。なお、ここで
はネガ型レジストを用いた場合について説明する。

【０１１６】続いて、合成細線パターンのデータを用い
てレジスト膜５０を直接露光する。ここではネガ型のレ
ジストを用いているため、細線パターンのデータにおけ
る波状曲線の部分のみが露光されるように、露光用レー
ザビームの走査を制御する。なお、ポジ型のレジストを
用いた場合には、逆に、細線パターンのデータのスペー
スの部分のみを露光する。

【０１１７】この露光工程によって、レジスト膜５０
は、図１８に示すように、露光部５１と未露光部５２と
に分かれることになる。このレジストを温湯によって現
像すると、未露光部５２は溶出して除去され、図１９に
示すように、硬化した露光部５１だけが残る。

【０１１８】次に、残存した露光部５１を保護膜とし
て、表面からエッチングを行う。ここでは、腐蝕液とし
て、塩化第二銅水溶液を用いた。これにより、版材４０
の表面露出部分が腐蝕除去され、版材４０は、図２０に
おいて４１で示すように形状が変化することになる。

【０１１９】エッチング工程完了後、残存レジスト層で
ある露光部５１を剥離除去する。これによって図２１に
示すように、波状曲線に相当する凸部が形成された版材
４１が得られる。この版材４１では、凸部の幅と凹部の
幅とは約１対１になっていることは上述したところから
当然である。

【０１２０】以上のようにしてエンボス版が得られる
が、次にこのエンボス版を用いて化粧シートに対してエ
ンボス加工を施す（ステップＳ８）。

【０１２１】エンボス加工を施すに際しては、予め木目
柄や抽象柄を印刷した化粧シートを用意する。なお、木
目印刷、あるいは抽象柄の印刷については周知であるの
で、説明は省略する。

【０１２２】ここで化粧シートの材料について付言する
と次のようである。当該化粧シートはエンボス加工に適
した基材でなければならないことは当然であるが、この
ような基材としては、通常、熱可塑性樹脂からなる板、
シートあるいはフィルムが広く知られており、例えば、
ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル
等のビニル系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、等からなるシートやフィルムが一般的に用い
られる。

【０１２３】こうして用意した化粧シートに対して、ス
テップＳ７で作成したエンボス版４１を用いたエンボス
加工を行う。即ち、化粧シートに対して、熱や圧力を加
えることにより、エンボス版上の凹凸構造を化粧シート
上に賦形する加工を行う。このような加工を行う装置と
しては、ロールエンボス機（輪転式エンボス機）等が知
られている。

【０１２４】ここではエンボス版はシリンダ状であるの
でロールエンボス機を用いてロールエンボス法によりエ
ンボス加工を行うが、この際には、シリンダ状のエンボ
ス版表面の凹凸形状を加工対象となる化粧シートに熱圧
で賦形する。化粧シートに対する加熱加圧条件は、この
化粧シートの熱圧的挙動によって異なるが、ごく一般的
な熱可塑性樹脂を材料として用いた場合、軟化点または
熱変形温度と融点または溶融温度との間の範囲で、適当
な温度に加熱し、エンボス版を化粧シートに押圧して賦
形し、冷却することにより形状を固定すればよい。

【０１２５】しかる後、エンボス版を化粧シートから離
型する。加熱方式としては、赤外線照射、温風吹き付
け、加熱ローラからの伝導熱、誘電加熱など、種々の方
法が公知である。

【０１２６】なお、当該細線パターンのエンボス加工
は、木目柄や抽象柄の印刷が施されている面に対して行
ってもよく、またその反対側の面に対して行ってもよ
い。

【０１２７】図２２に化粧シートの拡大断面図を示す。
図２２において、６０は化粧シートを示し、６１は木目
柄印刷及び／または木目エンボス加工が施された面を示
している。この合成細線パターンのエンボス加工によっ
て賦形される溝６３と土手６４の幅の比率は、曲線の並
び方向において略１対１であることは明らかである。

【０１２８】なお、当該合成細線パターンのエンボス加
工を木目柄の印刷が施された面の反対側の面に対して行
った場合には、当該合成細線パターンのエンボス加工を
行った後に、アルミニウム蒸着等によって光反射層を形
成してもよい。

【０１２９】以上によって化粧シートが作成される。な
お、化粧シート表面に耐摩耗性や耐薬品性をもたせる場
合には、上塗り塗装を施してもよいことは当然である。
このような上塗り剤としては種々のものが公知である。
例えば、イソシアネート等の硬化剤を用いた２液硬化型
のポリウレタンやポリエステル等の熱硬化性樹脂や、紫
外線硬化型あるいは電子線硬化型のウレタンアクリレー
ト等の樹脂を結合剤として用いた上塗り剤を用いること
ができる。上塗り剤の塗装工程としては、グラビアコー
ト、スプレーコート等の方法が知られている。

【０１３０】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく
種々の変形が可能である。

【０１３１】例えば、賦形版の製造方法としては、本出
願人が先に特開平４−１４４４８号で提案した方法、即
ち、電離放射線硬化樹脂を細線パターンによる凹凸を形
成したロールに流し込んで硬化させ、細線パターンによ
る凹凸を賦形する方法を用いてもよく、特にこの方法に
よれば、細線パターンによる凹凸をより高精度に賦形す
ることができる。

【０１３２】また、以上の説明ではエンボス版としてシ
リンダを用いるものとしたが、平板状のものであっても
よい。そしてその場合には平版プレス機を用いてエンボ
ス加工を行えばよい。

【０１３３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、ブロッ
ク化エンボス加工された化粧シートにおいて、細線パタ
ーンの波状曲線の溝と土手の幅の比率を位置によらず所
定の比率とすることができるので、照り、及びその移動
を良好に発現させることができる。

【０１３４】また、エンドレス状ブロックパターン及び
版材サイズの細線パターンは原寸大のビットマップデー
タとして作成し、そのビットマップデータを用いてエン
ボス版の版材に露光するようにしたので、従来のように
写真技術を用いる必要はなく、寸法精度が高いエンボス
版を作成することができ、エンボス版の品質を大幅に向
上させることが可能となる。

【０１３５】また、細線パターンの作成、合成細線パタ
ーンの作成等は誰でもが容易に行うことができるので、
作業負担を大幅に改善することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る画像処理装置の構成例を示す図
である。

【図２】 化粧シートの作成工程を示すフローチャート
である。

【図３】 エンドレス状ブロックパターンのブロックに
仮想基準点を設定するための手法の例を説明するための
図である。

【図４】 図２５に示すエンドレス状ブロックパターン
において各完全ブロックに仮想基準点を設定した例を示
す図である。

【図５】 図４（Ａ）に示す場合において、各分割ブロ
ックと仮想基準点の位置関係の例を示す図である。

【図６】 細線パターン割り付けテーブルの構造例を示
す図である。

【図７】 図２のステップＳ３の細線パターンの作成の
工程を示すフローチャートである。

【図８】 基準波状曲線の例を示す図である。

【図９】 基準波状曲線に基づいて波状曲線を生成する
ための手法を説明するための図である。

【図１０】 作成した細線パターンの表示例を示す図で
ある。

【図１１】 細線パターンに仮想基準点を設定した状態
を示す図である。

【図１２】 細線パターンの切り出しを説明するための
図である。

【図１３】 細線パターンの切り出しを説明するための
図である。

【図１４】 図２５の領域ＩＤが１の各分割ブロックに
よって細線パターンを切り出した例を示す図である。

【図１５】 図１４の各細線パターンを合成した図であ
る。

【図１６】 図１４の各細線パターンがエンドレス状に
なっていることを説明するための図である。

【図１７】 エンボス版の作成工程において、エンボス
版の版材にレジストを塗布した状態を示す断面図であ
る。

【図１８】 エンボス版の作成工程において、版材に細
線パターンを露光した状態を示す断面図である。

【図１９】 エンボス版の作成工程において、細線パタ
ーンの露光の後に現像した状態を示す断面図である。

【図２０】 エンボス版の作成工程において、版材をエ
ッチングした場合の状態を示す断面図である。

【図２１】 最終的に得られたエンボス版の状態を示す
断面図である。

【図２２】 木目柄あるいは抽象柄の印刷を施した面の
裏面に細線パターンのエンボス加工を施して作成した化
粧シートの断面を示す図である。

【図２３】 細線パターンの例を示す図である。

【図２４】 ブロック化エンボス加工を説明するための
図である。

【図２５】 ブロックパターンの例を示す図である。

【図２６】 図２５に示すブロックパターンがエンドレ
ス状になっていることを説明するための図である。

【図２７】 細線パターン割り付けテーブルを説明する
ための図である。

【図２８】 細線パターンの例を示す図である。

【図２９】 図２５のブロックパターンにおいて、領域
ＩＤが１のブロック内のみに基準細線パターンの絵柄が
写っているフィルムを作成するための手法を説明するた
めの図である。

【図３０】 図２５のブロックパターンにおいて、領域
ＩＤが３と５のブロック内に基準細線パターンを−45°
回転させた絵柄が写っているフィルムを作成するための
手法を説明するための図である。

【図３１】 図２５のブロックパターンにおいて、領域
ＩＤが２のブロック内のみに基準細線パターンを90°回
転させた絵柄が写っているフィルム、及び領域ＩＤが４
と６のブロック内に基準細線パターンを45°回転させた
絵柄が写っているフィルムを示す図である。

【図３２】 従来の合成細線パターンの例を示す図であ
る。

【図３３】 従来の合成細線パターンがエンドレス状に
なっていないことを説明するための図である。

【符号の説明】

１…画像処理部、２…表示部、３…入力部、４…記憶
部。

フロントページの続き (72)発明者 橋爪 家治 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 河合 直樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 有吉 俊雄 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 岡本 優 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 助川 佳夫 埼玉県入間郡三芳町竹間沢311 株式会社 大日本トータルプロセス建材内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】化粧シートに対して照り、及び照りの移動
   を発現させるための細線パターンに基づいて凹凸が形成
   されてなる賦形版であって、 当該凹凸のパターンは、 エンドレス状にブロック分けされたそれぞれの領域に予
   め対応付けられている細線パターンが割り付けられた合
   成細線パターンが縦横に所定の回数リピートされたパタ
   ーンを有しており、且つ前記リピートによって一つの完
   全ブロックを形成する領域においては当該領域に割り付
   けられた細線パターンが連続していることを特徴とする
   賦形版。
2. 【請求項２】各ブロック分けされた領域内において、細
   線パターンに基づいて形成された凸部の幅と凹部の幅の
   比率は場所によらず所定の比率になされていることを特
   徴とする請求項１記載の賦形版。
3. 【請求項３】波状曲線からなる細線パターンよりなる凹
   凸模様が形成されてなる化粧シートであって、 当該凹凸のパターンは、 エンドレス状にブロック分けされたそれぞれの領域に予
   め対応付けられている細線パターンが割り付けられた合
   成細線パターンが縦横に所定の回数リピートされたパタ
   ーンを有し、且つ前記リピートによって一つの完全ブロ
   ックを形成する領域においては当該領域に割り付けられ
   た細線パターンが連続していることを特徴とする化粧シ
   ート。
4. 【請求項４】各ブロック分けされた領域内において、細
   線パターンに基づいて形成された溝の幅と土手の幅の比
   率は場所によらず所定の比率になされていることを特徴
   とする請求項３記載の化粧シート。
5. 【請求項５】エンドレス状にブロック分けされたそれぞ
   れの領域に予め対応付けられた細線パターンを割り付け
   るに際して、細線パターンに設定されている仮想基準位
   置を各完全ブロックに設定されている仮想基準位置に一
   致させて当該ブロックの輪郭データによって当該ブロッ
   ク外部をマスクする画像処理手段を備えることを特徴と
   する画像処理装置。