JPH0986948A - 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法Info
- Publication number
- JPH0986948A JPH0986948A JP26901995A JP26901995A JPH0986948A JP H0986948 A JPH0986948 A JP H0986948A JP 26901995 A JP26901995 A JP 26901995A JP 26901995 A JP26901995 A JP 26901995A JP H0986948 A JPH0986948 A JP H0986948A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- burner
- clad
- core
- glass
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/36—Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＶＡＤ法で大型のコア／クラッド型の光ファ
イバ用多孔質母材をクラッド層の割れを生じさせること
なく製造する方法を提供する。 【解決手段】 ＶＡＤ法に用いるバーナとしてコア用バ
ーナＢ１と３本のクラッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４を
用意する。コア用バーナＢ１にはＧｅＣｌ4 とＳｉＣｌ
4 のガラス原料ガスをＨ2 とＯ2 とともに供給して、出
発部材の先端にコアとなるＧｅＯ2 −ＳｉＯ2 ガラス微
粒子をロッド状に堆積させる。３本のクラッド用バーナ
Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４には、ＳｉＣｌ4 をＨ2 とＯ2 と共に
供給して、コア用ロッドの周りにＳｉＯ2 ガラス微粒子
を層状に積層させてクラッド層とする。その際、各クラ
ッド用バーナＢ２，Ｂ３，Ｂ４に供給するＨ2 ／ＳｉＣ
ｌ4を内側のＢ２から外側のＢ４に向かって大きくなる
ようにする。
イバ用多孔質母材をクラッド層の割れを生じさせること
なく製造する方法を提供する。 【解決手段】 ＶＡＤ法に用いるバーナとしてコア用バ
ーナＢ１と３本のクラッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４を
用意する。コア用バーナＢ１にはＧｅＣｌ4 とＳｉＣｌ
4 のガラス原料ガスをＨ2 とＯ2 とともに供給して、出
発部材の先端にコアとなるＧｅＯ2 −ＳｉＯ2 ガラス微
粒子をロッド状に堆積させる。３本のクラッド用バーナ
Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４には、ＳｉＣｌ4 をＨ2 とＯ2 と共に
供給して、コア用ロッドの周りにＳｉＯ2 ガラス微粒子
を層状に積層させてクラッド層とする。その際、各クラ
ッド用バーナＢ２，Ｂ３，Ｂ４に供給するＨ2 ／ＳｉＣ
ｌ4を内側のＢ２から外側のＢ４に向かって大きくなる
ようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、いわゆるＶＡＤ
法による光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法に関
するもので、大型母材の作製および新規にＶＡＤ装置を
導入した場合の早期立ちあげに好適な方法を提供する。
法による光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法に関
するもので、大型母材の作製および新規にＶＡＤ装置を
導入した場合の早期立ちあげに好適な方法を提供する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバ用の多孔質ガラス母材の作製
方法としてＶＡＤ法は良く知られている。この方法は、
例えば、図１に示すようにコア用バーナＢ１と複数のク
ラッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４を用いて、その軸の周
りに回転、かつ軸方向に移動可能な出発部材Ｓの先端に
円柱状のコア１とクラッド層（２、３、４）とからなる
２層構造の多孔質の光ファイバ母材１０を形成する方法
である。なお、コア用バーナＢ１には、例えばＳｉＣｌ
4 とＧｅＣｌ4 とＯ2 、Ｈ2 が供給されて、火炎加水分
解および熱酸化反応によって生成されたＧｅＯ2 −Ｓｉ
Ｏ2 ガラス微粒子が出発部材Ｓの先端に堆積されてコア
１を形成する。また、クラッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ
４には、例えばＳｉＣｌ4 とＯ2 、Ｈ2 が供給されて同
様に生成されたＳｉＯ2 ガラス微粒子がコア１の周りに
順次クラッド層２、３、４として堆積されるが、各クラ
ッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４に供給される各ガス量は
等しくなされている。
方法としてＶＡＤ法は良く知られている。この方法は、
例えば、図１に示すようにコア用バーナＢ１と複数のク
ラッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４を用いて、その軸の周
りに回転、かつ軸方向に移動可能な出発部材Ｓの先端に
円柱状のコア１とクラッド層（２、３、４）とからなる
２層構造の多孔質の光ファイバ母材１０を形成する方法
である。なお、コア用バーナＢ１には、例えばＳｉＣｌ
4 とＧｅＣｌ4 とＯ2 、Ｈ2 が供給されて、火炎加水分
解および熱酸化反応によって生成されたＧｅＯ2 −Ｓｉ
Ｏ2 ガラス微粒子が出発部材Ｓの先端に堆積されてコア
１を形成する。また、クラッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ
４には、例えばＳｉＣｌ4 とＯ2 、Ｈ2 が供給されて同
様に生成されたＳｉＯ2 ガラス微粒子がコア１の周りに
順次クラッド層２、３、４として堆積されるが、各クラ
ッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４に供給される各ガス量は
等しくなされている。
【０００３】得られた多孔質の光ファイバ母材１０は、
塩素系ガスとＨｅ雰囲気で脱水、透明ガラス化されて光
ファイバ母材とされる。このとき、得られた光ファイバ
母材のコアとクラッド径比が所定の値の場合には、その
まま線引きされてファイバ化されるが、コアとクラッド
径比が所定の値に達していない場合、この母材を延伸
し、その外側にＳｉＯ2 ガラス微粒子層を堆積させて透
明ガラス化し、この工程をコアとクラッド径比が所定の
値に達するまで繰返して光ファイバ母材とし、線引きし
てファイバとする。
塩素系ガスとＨｅ雰囲気で脱水、透明ガラス化されて光
ファイバ母材とされる。このとき、得られた光ファイバ
母材のコアとクラッド径比が所定の値の場合には、その
まま線引きされてファイバ化されるが、コアとクラッド
径比が所定の値に達していない場合、この母材を延伸
し、その外側にＳｉＯ2 ガラス微粒子層を堆積させて透
明ガラス化し、この工程をコアとクラッド径比が所定の
値に達するまで繰返して光ファイバ母材とし、線引きし
てファイバとする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
光通信、マルチメディアの普及に向けた光ファイバの需
要はめざましく、その導入にあたってはさらに一層光フ
ァイバの低コスト化が要求され、それに伴なって光ファ
イバの製造には光ファイバ母材の大型化、高速化が計ら
れ、また、その際、新装置が導入される場合にはその早
期立ちあげが望まれている。上記従来の光ファイバ母材
の作製方法では、複数のバーナを用いており、従来の条
件で大型の多孔質の光ファイバ母材を作製しようとする
と、ときとして母材が割れることがあった。特に、この
現象はクラッド層に生じることが多く、これはバーナ本
数が多いほど各ガラス微粒子層の硬さのバランスをとる
のが難しく割れやすい。多孔質の光ファイバ母材の作製
には長時間かかることから、これが途中で破損したので
は装置の稼働率が著しく低下する。また、ＶＡＤ装置を
新たに立ちあげるときには、このガラス微粒子層の割れ
が生じないような条件を決定するまでに多大の時間を要
するというのが実状であった。
光通信、マルチメディアの普及に向けた光ファイバの需
要はめざましく、その導入にあたってはさらに一層光フ
ァイバの低コスト化が要求され、それに伴なって光ファ
イバの製造には光ファイバ母材の大型化、高速化が計ら
れ、また、その際、新装置が導入される場合にはその早
期立ちあげが望まれている。上記従来の光ファイバ母材
の作製方法では、複数のバーナを用いており、従来の条
件で大型の多孔質の光ファイバ母材を作製しようとする
と、ときとして母材が割れることがあった。特に、この
現象はクラッド層に生じることが多く、これはバーナ本
数が多いほど各ガラス微粒子層の硬さのバランスをとる
のが難しく割れやすい。多孔質の光ファイバ母材の作製
には長時間かかることから、これが途中で破損したので
は装置の稼働率が著しく低下する。また、ＶＡＤ装置を
新たに立ちあげるときには、このガラス微粒子層の割れ
が生じないような条件を決定するまでに多大の時間を要
するというのが実状であった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の問題
の解決を図ったもので、その特徴とする請求項１記載の
発明は、コア用と複数のクラッド用バーナを用いて、出
発部材の先端にガラス微粒子を積層させてコアとクラッ
ドとからなる多孔質の光ファイバ母材を作製するに際し
て、前記クラッド用バーナに供給する水素とガラス原料
ガスとの比を、クラッドの最内層を形成するバーナから
外側バーナに向かって順次大きくする光ファイバ用多孔
質ガラス母材の製造方法にある。また、その特徴とする
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、
外側クラッドバーナに供給される水素とガラス原料ガス
との比／内側クラッドバーナに供給される水素とガラス
原料との比＝１．２〜２．０であることにある。さら
に、その特徴とする請求項３記載の発明は、請求項２記
載の発明において、各クラッド用バーナによって積層さ
れる各ガラス微粒子層の表面最高温度が６５０〜９００
℃であることにある。
の解決を図ったもので、その特徴とする請求項１記載の
発明は、コア用と複数のクラッド用バーナを用いて、出
発部材の先端にガラス微粒子を積層させてコアとクラッ
ドとからなる多孔質の光ファイバ母材を作製するに際し
て、前記クラッド用バーナに供給する水素とガラス原料
ガスとの比を、クラッドの最内層を形成するバーナから
外側バーナに向かって順次大きくする光ファイバ用多孔
質ガラス母材の製造方法にある。また、その特徴とする
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、
外側クラッドバーナに供給される水素とガラス原料ガス
との比／内側クラッドバーナに供給される水素とガラス
原料との比＝１．２〜２．０であることにある。さら
に、その特徴とする請求項３記載の発明は、請求項２記
載の発明において、各クラッド用バーナによって積層さ
れる各ガラス微粒子層の表面最高温度が６５０〜９００
℃であることにある。
【０００６】
【発明の実施の形態】この発明においては、装置の構成
は典型的なＶＡＤ装置である図１と同じであるが、クラ
ッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４に供給されるガス量に調
整がなされている。すなわち、まずクラッド層２を形成
するバーナＢ２には、Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 を例えば、８〜
１０に設定し、形成されるクラッド層２の表面最高温度
が６５０〜９００℃になるようにバーナの位置、角度等
を調整する。温度が上記範囲に入らないときはＳｉＣｌ
4 の供給量を増減させて再調整する。ＳｉＣｌ4 の供給
量を変えずに温度の調整を図るときはＨ2 とともにＯ2
の増減を行う。次に、クラッド層３を形成するバーナＢ
３には、Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 を例えば、クラッドバーナＢ
２のＨ2 ／ＳｉＣｌ4 の１．２〜２．０に設定し、同様
に形成されるクラッド層３の表面最高温度が６５０〜９
００℃になるようにする。そして、クラッド層４を形成
するバーナＢ４も同様にする。なお、クラッドバーナの
本数は２本以上であり、特に本数は限定されない。
は典型的なＶＡＤ装置である図１と同じであるが、クラ
ッド用バーナＢ２、Ｂ３、Ｂ４に供給されるガス量に調
整がなされている。すなわち、まずクラッド層２を形成
するバーナＢ２には、Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 を例えば、８〜
１０に設定し、形成されるクラッド層２の表面最高温度
が６５０〜９００℃になるようにバーナの位置、角度等
を調整する。温度が上記範囲に入らないときはＳｉＣｌ
4 の供給量を増減させて再調整する。ＳｉＣｌ4 の供給
量を変えずに温度の調整を図るときはＨ2 とともにＯ2
の増減を行う。次に、クラッド層３を形成するバーナＢ
３には、Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 を例えば、クラッドバーナＢ
２のＨ2 ／ＳｉＣｌ4 の１．２〜２．０に設定し、同様
に形成されるクラッド層３の表面最高温度が６５０〜９
００℃になるようにする。そして、クラッド層４を形成
するバーナＢ４も同様にする。なお、クラッドバーナの
本数は２本以上であり、特に本数は限定されない。
【０００７】このように調整して光ファイバ用多孔質ガ
ラス母材を作製したところ、クラッド層に割れが生じる
ことがなかった。また、Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 を指定するよ
うにしたので製造条件の絞り込み、例えば、バーナ位
置、バーナ角度などの調整を容易に行うことができた。
Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 をクラッド層の外側にゆくほど大きく
とるのは、外側ほど母材径が太く表面積が大になるため
多くの熱量を必要とするからであり、さらに、その外側
と内側との比を１．２〜２．０の範囲とすることで、各
クラッドガラス微粒子層の硬さのバランスを図ることが
でき割れをほとんどなくすことができる。なお、各クラ
ッド層の表面最高温度を６５０〜９００℃の範囲から外
すと、各層の硬さのバランスや隣の層との硬さのバラン
スが悪いため、ときとして割れが生じることがあり上記
温度範囲での作製が好ましい。
ラス母材を作製したところ、クラッド層に割れが生じる
ことがなかった。また、Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 を指定するよ
うにしたので製造条件の絞り込み、例えば、バーナ位
置、バーナ角度などの調整を容易に行うことができた。
Ｈ2 ／ＳｉＣｌ4 をクラッド層の外側にゆくほど大きく
とるのは、外側ほど母材径が太く表面積が大になるため
多くの熱量を必要とするからであり、さらに、その外側
と内側との比を１．２〜２．０の範囲とすることで、各
クラッドガラス微粒子層の硬さのバランスを図ることが
でき割れをほとんどなくすことができる。なお、各クラ
ッド層の表面最高温度を６５０〜９００℃の範囲から外
すと、各層の硬さのバランスや隣の層との硬さのバラン
スが悪いため、ときとして割れが生じることがあり上記
温度範囲での作製が好ましい。
【０００８】
実施例１ 図１に示す構成でバーナへのガス供給条件を表１のよう
に設定して母材を作製した。得られた光ファイバ用多孔
質ガラス母材は、コア径３０ｍｍφ、クラッド径１５０
ｍｍφ、長さ８００ｍｍでクラッド層はどこにも割れは
生じなかった。なお、各クラッド層の表面最高温度は放
射温度計で測定したところ、内側から７００、７５０、
８００℃であった。
に設定して母材を作製した。得られた光ファイバ用多孔
質ガラス母材は、コア径３０ｍｍφ、クラッド径１５０
ｍｍφ、長さ８００ｍｍでクラッド層はどこにも割れは
生じなかった。なお、各クラッド層の表面最高温度は放
射温度計で測定したところ、内側から７００、７５０、
８００℃であった。
【０００９】
【表１】
【００１０】実施例２ 表２の条件で母材を作製した。得られた光ファイバ用多
孔質ガラス母材は、コア径３０ｍｍφ、クラッド径１７
０ｍｍφ、長さ９００ｍｍでクラッド層に割れは生じな
かった。なお、各クラッド層の表面最高温度は放射温度
計で測定したところ、内側から６５０、６９０、７４０
℃であった。
孔質ガラス母材は、コア径３０ｍｍφ、クラッド径１７
０ｍｍφ、長さ９００ｍｍでクラッド層に割れは生じな
かった。なお、各クラッド層の表面最高温度は放射温度
計で測定したところ、内側から６５０、６９０、７４０
℃であった。
【００１１】
【表２】
【００１２】実施例３ 表３の条件で母材を作製した。得られた光ファイバ用多
孔質ガラス母材は、コア径３０ｍｍφ、クラッド径１４
０ｍｍφ、長さ８００ｍｍでクラッド層に割れは生じな
かった。なお、各クラッド層の表面最高温度は放射温度
計で測定したところ、内側から８００、８４０、８８０
℃であった。
孔質ガラス母材は、コア径３０ｍｍφ、クラッド径１４
０ｍｍφ、長さ８００ｍｍでクラッド層に割れは生じな
かった。なお、各クラッド層の表面最高温度は放射温度
計で測定したところ、内側から８００、８４０、８８０
℃であった。
【００１３】
【表３】
【００１４】比較例１ 表４の条件で母材を作製した。母材を長さ４００ｍｍま
で作製したところでクラッド３に割れが生じた。各クラ
ッド層の表面最高温度は内側から７００、７２０、６２
０℃であった。
で作製したところでクラッド３に割れが生じた。各クラ
ッド層の表面最高温度は内側から７００、７２０、６２
０℃であった。
【００１５】
【表４】
【００１６】比較例２ 表５の条件で母材を作製した。母材を長さ２００ｍｍま
で作製したところでクラッド３と４との間で割れが生じ
た。各クラッド層の表面最高温度は内側から７００、７
２０、６２０℃であった。
で作製したところでクラッド３と４との間で割れが生じ
た。各クラッド層の表面最高温度は内側から７００、７
２０、６２０℃であった。
【００１７】
【表５】
【００１８】
【発明の効果】この発明の方法は、ＶＡＤ法で大型のコ
ア／クラッド型の光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造
するに際して、クラッド層を複数のバーナを用い、かつ
クラッド用バーナに供給する水素とガラス原料ガスとの
比を、クラッドの最内層を形成するバーナから外側バー
ナに向かって順次大きくするようにしたので、クラッド
層が割れることなく製造できるという効果を奏する。ま
た、この方法によれば、クラッド層の割れが抑制できる
ので新規にＶＡＤ装置を立ちあげる場合に、短時間で安
定した製造条件を見つけることができるという派生した
効果を奏する。
ア／クラッド型の光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造
するに際して、クラッド層を複数のバーナを用い、かつ
クラッド用バーナに供給する水素とガラス原料ガスとの
比を、クラッドの最内層を形成するバーナから外側バー
ナに向かって順次大きくするようにしたので、クラッド
層が割れることなく製造できるという効果を奏する。ま
た、この方法によれば、クラッド層の割れが抑制できる
ので新規にＶＡＤ装置を立ちあげる場合に、短時間で安
定した製造条件を見つけることができるという派生した
効果を奏する。
【図１】図１は典型的なＶＡＤ法概略説明図。
Ｂ１ コア用バーナ Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４ クラッド用バーナ １ コア ２、３、４ クラッド層 １０ 光ファイバ用多孔質ガラス母材
Claims (3)
- 【請求項１】 コア用と複数のクラッド用バーナを用い
て、出発部材の先端にガラス微粒子を積層させてコアと
クラッドとからなる多孔質の光ファイバ母材を作製する
に際して、前記クラッド用バーナに供給する水素とガラ
ス原料ガスとの比を、クラッドの最内層を形成するバー
ナから外側バーナに向かって順次大きくすることを特徴
とする光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。 - 【請求項２】 外側クラッドバーナに供給される水素と
ガラス原料ガスとの比／内側クラッドバーナに供給され
る水素とガラス原料ガスとの比＝１．２〜２．０である
ことを特徴とする請求項１記載の光ファイバ用多孔質ガ
ラス母材の製造方法。 - 【請求項３】 各クラッド用バーナによって積層される
各ガラス微粒子層の表面最高温度が６５０〜９００℃で
あることを特徴とする請求項２記載の光ファイバ用多孔
質ガラス母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26901995A JPH0986948A (ja) | 1995-09-25 | 1995-09-25 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26901995A JPH0986948A (ja) | 1995-09-25 | 1995-09-25 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0986948A true JPH0986948A (ja) | 1997-03-31 |
Family
ID=17466552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26901995A Pending JPH0986948A (ja) | 1995-09-25 | 1995-09-25 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0986948A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005118496A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-15 | Corning Incorporated | Method of depositing glass soot for making an optical fiber |
| US20140090426A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of manufacturing porous glass deposition body for optical fiber |
| JP2020083675A (ja) * | 2018-11-20 | 2020-06-04 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
-
1995
- 1995-09-25 JP JP26901995A patent/JPH0986948A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005118496A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-15 | Corning Incorporated | Method of depositing glass soot for making an optical fiber |
| US7404302B2 (en) | 2004-05-27 | 2008-07-29 | Corning Incorporated | Method of depositing glass soot |
| US20140090426A1 (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of manufacturing porous glass deposition body for optical fiber |
| US11091384B2 (en) * | 2012-09-28 | 2021-08-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of manufacturing porous glass deposition body for optical fiber |
| JP2020083675A (ja) * | 2018-11-20 | 2020-06-04 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
| US11230488B2 (en) | 2018-11-20 | 2022-01-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for manufacturing porous glass soot body |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4243298A (en) | High-strength optical preforms and fibers with thin, high-compression outer layers | |
| JP2959877B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JP2612949B2 (ja) | 光ファイバプリフォーム母材の製造方法 | |
| WO2013021759A1 (ja) | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 | |
| CN110794509A (zh) | 一种单模光纤及其制备方法 | |
| WO1999040037A1 (fr) | Procede de fabrication de materiau de base pour fibres optiques | |
| JPH06157058A (ja) | ガラス母材の火炎研磨方法 | |
| WO2019142878A1 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバ母材並びに光ファイバの製造方法及び光ファイバ | |
| US20030101772A1 (en) | Manufacturing method for optical fiber preform | |
| JPH0986948A (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| US20100024486A1 (en) | Method of producing optical fiber preform | |
| JPH0463018B2 (ja) | ||
| KR20070094656A (ko) | 광섬유 모재 및 그 제조 방법 | |
| JP4348341B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JP3212331B2 (ja) | 光ファイバ用プリフォーム母材の製造方法 | |
| JP3137849B2 (ja) | 分散シフト光ファイバ用母材の製法 | |
| JP2003171136A (ja) | 光ファイバ用多孔質材およびその製造方法、光ファイバ母材およびその製造方法 | |
| JP2770103B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JP3953855B2 (ja) | 多孔質母材の製造方法 | |
| JPH04119940A (ja) | ガラス体の製造方法 | |
| JPH03115136A (ja) | 光ファイバープリフォームおよびその製造方法 | |
| JP2006117496A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法、並びに光ファイバの製造方法 | |
| JPS61291431A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH02102145A (ja) | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 | |
| JPH02124736A (ja) | 光ファイバー母材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041110 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060104 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060509 |