JPH0991773A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPH0991773A JPH0991773A JP26611995A JP26611995A JPH0991773A JP H0991773 A JPH0991773 A JP H0991773A JP 26611995 A JP26611995 A JP 26611995A JP 26611995 A JP26611995 A JP 26611995A JP H0991773 A JPH0991773 A JP H0991773A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- optical recording
- substrates
- pair
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C66/00—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts
- B29C66/70—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material
- B29C66/71—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts characterised by the composition, physical properties or the structure of the material of the parts to be joined; Joining with non-plastics material characterised by the composition of the plastics material of the parts to be joined
Landscapes
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 機械特性に優れ、高温雰囲気下に放置しても
特性が劣化しない信頼性の高い貼り合わせ光記録媒体を
得る。 【解決手段】 一対の基板を貼り合わせてなり、両基板
の少なくとも一方に情報記録部を設けた光記録媒体を製
造するに際し、一対の基板の間に接着剤層を設け、該一
対の基板の両側から弾性シートを介して押圧しながら一
対の基板を貼り合わせる光記録媒体の製造方法におい
て、前記弾性シートの圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ
2 以上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満であることを特徴とする
光記録媒体の製造方法。
特性が劣化しない信頼性の高い貼り合わせ光記録媒体を
得る。 【解決手段】 一対の基板を貼り合わせてなり、両基板
の少なくとも一方に情報記録部を設けた光記録媒体を製
造するに際し、一対の基板の間に接着剤層を設け、該一
対の基板の両側から弾性シートを介して押圧しながら一
対の基板を貼り合わせる光記録媒体の製造方法におい
て、前記弾性シートの圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ
2 以上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満であることを特徴とする
光記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
方法に関し、さらに詳しくはホットメルト型接着剤を用
いて一対の基板を貼り合わせてなる光記録媒体の製造方
法に関する。
方法に関し、さらに詳しくはホットメルト型接着剤を用
いて一対の基板を貼り合わせてなる光記録媒体の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、基板に光学的に記録再生
可能な情報記録部を設け、文書やデータのファイル用の
ディスクとして用いられている。これらはディスクを高
速で回転させながら１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を
照射し、焦点調整および位置検出を行いながら１μｍ程
度の記録ピットを読み出したり記録したりしている。こ
のため、光記録媒体ではわずかな基板の反りや変形、傷
および異物の付着などが信号エラーにつながる。このた
め光記録媒体では、極力厚さむらや変形の少ない基板上
に情報記録部を設けている。また、情報記録部に傷がつ
いたり異物が付着するのを防ぐため、情報記録部上に保
護層を設け、さらに一対の基板の情報記録部を内側にし
て貼り合わせることが行われている。
可能な情報記録部を設け、文書やデータのファイル用の
ディスクとして用いられている。これらはディスクを高
速で回転させながら１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を
照射し、焦点調整および位置検出を行いながら１μｍ程
度の記録ピットを読み出したり記録したりしている。こ
のため、光記録媒体ではわずかな基板の反りや変形、傷
および異物の付着などが信号エラーにつながる。このた
め光記録媒体では、極力厚さむらや変形の少ない基板上
に情報記録部を設けている。また、情報記録部に傷がつ
いたり異物が付着するのを防ぐため、情報記録部上に保
護層を設け、さらに一対の基板の情報記録部を内側にし
て貼り合わせることが行われている。
【０００３】ところで上述した製造工程において、基板
の保護層側にロールコータでホットメルト接着剤を塗布
し、これら接着層を相対向させて２枚の平板プレスの間
に挿入し押圧することによって、一対の基板を貼り合わ
せ光記録媒体を得ることが通常行われている。
の保護層側にロールコータでホットメルト接着剤を塗布
し、これら接着層を相対向させて２枚の平板プレスの間
に挿入し押圧することによって、一対の基板を貼り合わ
せ光記録媒体を得ることが通常行われている。
【０００４】この塗布工程では、接着剤は基板の記録面
の形状に応じて筋状かつ凹凸状に塗布され、その塗布厚
さは一様ではない。また、射出成形によって作成された
基板は、その厚さは必ずしも一定でなく、場所によるむ
らが存在している。このような厚さむらのある基板を貼
り合わせると、厚さむらに対応して接着剤の変形、流動
にむらが起こり内部応力を発生させる。この内部応力は
上記接着剤の変形、流動のむらに対応して発生し、接着
剤層面内に分布を生じる。そして、内部応力が生じた箇
所では接着力の低下が生じるおそれがある。
の形状に応じて筋状かつ凹凸状に塗布され、その塗布厚
さは一様ではない。また、射出成形によって作成された
基板は、その厚さは必ずしも一定でなく、場所によるむ
らが存在している。このような厚さむらのある基板を貼
り合わせると、厚さむらに対応して接着剤の変形、流動
にむらが起こり内部応力を発生させる。この内部応力は
上記接着剤の変形、流動のむらに対応して発生し、接着
剤層面内に分布を生じる。そして、内部応力が生じた箇
所では接着力の低下が生じるおそれがある。
【０００５】上記接着力の面内むらは、常温に放置して
いる間は光記録媒体を大きく変形させたりすることは少
ないと考えられる。しかし、高温下においては内部応力
の緩和が不均一に発生し、光記録媒体に反りや変形を生
じさせる。このような光記録媒体は、面振れや面振れ加
速度が大きくなり、光ピックアップの追従応答範囲を越
えると信号エラーを生じたり、さらには記録再生が不可
能となる等の問題点があった。このような問題を改善す
る手段として、特公平１−１３３２３８号公報に示され
るように、一対の基板を貼り合わせるに際し、種々の弾
性シートを介して押圧することが提案されている。
いる間は光記録媒体を大きく変形させたりすることは少
ないと考えられる。しかし、高温下においては内部応力
の緩和が不均一に発生し、光記録媒体に反りや変形を生
じさせる。このような光記録媒体は、面振れや面振れ加
速度が大きくなり、光ピックアップの追従応答範囲を越
えると信号エラーを生じたり、さらには記録再生が不可
能となる等の問題点があった。このような問題を改善す
る手段として、特公平１−１３３２３８号公報に示され
るように、一対の基板を貼り合わせるに際し、種々の弾
性シートを介して押圧することが提案されている。
【０００６】しかしながら、上記方法によっても未だ不
十分であり、上述した接着剤層の内部応力の緩和が不均
一に発生し、とくに高温雰囲気下に放置した場合面振れ
や面振れ加速度が大きくなり、ビットエラーレートが増
大するという問題点があった。さらに、特開平１−２４
１０４６号公報に示されるように、減圧下で圧着する方
法も提案されているが、装置が複雑となり実用的ではな
い。
十分であり、上述した接着剤層の内部応力の緩和が不均
一に発生し、とくに高温雰囲気下に放置した場合面振れ
や面振れ加速度が大きくなり、ビットエラーレートが増
大するという問題点があった。さらに、特開平１−２４
１０４６号公報に示されるように、減圧下で圧着する方
法も提案されているが、装置が複雑となり実用的ではな
い。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、常温
状態はもとより高温雰囲気下においても面振れや面振れ
加速度が大きくならず、ビットエラーレートが増大しな
いように、一対の基板を均一に貼り合わせることができ
る光記録媒体の製造方法を提供することにある。
状態はもとより高温雰囲気下においても面振れや面振れ
加速度が大きくならず、ビットエラーレートが増大しな
いように、一対の基板を均一に貼り合わせることができ
る光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、一対の基板を貼
り合わせてなり、両基板の少なくとも一方に情報記録部
を設けた光記録媒体を製造するに際し、一対の基板の間
に接着剤層を設け、該一対の基板の両側から弾性シート
を介して押圧しながら一対の基板を貼り合わせる光記録
媒体の製造方法において、前記弾性シートの圧縮弾性率
が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 以上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満で
あることを特徴とする方法からなる。
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、一対の基板を貼
り合わせてなり、両基板の少なくとも一方に情報記録部
を設けた光記録媒体を製造するに際し、一対の基板の間
に接着剤層を設け、該一対の基板の両側から弾性シート
を介して押圧しながら一対の基板を貼り合わせる光記録
媒体の製造方法において、前記弾性シートの圧縮弾性率
が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 以上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満で
あることを特徴とする方法からなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明方法においては、一対の基
板の貼り合わせに圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 以
上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満の弾性シートが用いられる。
さらには１．０ｋｇｆ／ｃｍ2 以上２０ｋｇｆ／ｃｍ2
未満が好ましい。上記弾性シートには、上記特定範囲の
圧縮弾性率を有する成形シートや、独立気泡を有する発
泡材を用いることができる。たとえば、ブチルゴム、イ
ソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム、エチ
レンプロピレンゴムなどの成形シートまたはこれらの発
泡シート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの発泡シ
ート、およびナイロン繊維、ポリエステル繊維、フッ素
繊維（ポリテトラフルオロエチレン等）等の不織布等を
用いることができる。但し、圧縮弾性率が上述の範囲に
あるものであればこれらに限定されるものでない。
板の貼り合わせに圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 以
上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満の弾性シートが用いられる。
さらには１．０ｋｇｆ／ｃｍ2 以上２０ｋｇｆ／ｃｍ2
未満が好ましい。上記弾性シートには、上記特定範囲の
圧縮弾性率を有する成形シートや、独立気泡を有する発
泡材を用いることができる。たとえば、ブチルゴム、イ
ソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム、エチ
レンプロピレンゴムなどの成形シートまたはこれらの発
泡シート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの発泡シ
ート、およびナイロン繊維、ポリエステル繊維、フッ素
繊維（ポリテトラフルオロエチレン等）等の不織布等を
用いることができる。但し、圧縮弾性率が上述の範囲に
あるものであればこれらに限定されるものでない。
【００１０】圧縮弾性率が４０ｋｇｆ／ｃｍ2 以上であ
ると、押圧時に基板の厚さむらや、接着剤の塗布むらを
吸収することができず、基板上に圧力分布を生じる。こ
のような圧力分布により、接着剤は不均一な流動を生
じ、部分的に内部応力を生じさせる。この内部応力は光
記録媒体が高温雰囲気に放置された場合、急激に緩和現
象を示し光記録媒体の変形を引き起こす。一方、圧縮弾
性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 未満であると、押圧時に所
定の押圧圧力を与えると、シートの弾性限界を越えて変
形が起こり、結果として弾力性を失って、基板の厚さむ
らや接着層の塗布むらを吸収することができず、基板上
に圧力分布を生じて、圧縮弾性率が４０ｋｇｆ／ｃｍ2
以上である場合と同様の結果となる。
ると、押圧時に基板の厚さむらや、接着剤の塗布むらを
吸収することができず、基板上に圧力分布を生じる。こ
のような圧力分布により、接着剤は不均一な流動を生
じ、部分的に内部応力を生じさせる。この内部応力は光
記録媒体が高温雰囲気に放置された場合、急激に緩和現
象を示し光記録媒体の変形を引き起こす。一方、圧縮弾
性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 未満であると、押圧時に所
定の押圧圧力を与えると、シートの弾性限界を越えて変
形が起こり、結果として弾力性を失って、基板の厚さむ
らや接着層の塗布むらを吸収することができず、基板上
に圧力分布を生じて、圧縮弾性率が４０ｋｇｆ／ｃｍ2
以上である場合と同様の結果となる。
【００１１】弾性シートの厚さは、０．５ｍｍ以上であ
ることが好ましい。０．５ｍｍ未満であると、シートの
圧縮弾性率が小さくかつ押圧圧力が高い場合、シートの
変形が弾性限界範囲を越えてしまい、基板の厚さむらや
接着剤層の塗布むらを吸収することができない。シート
厚さの上限値は特に限定されるものではないが、装置の
構成などを勘案すれば１００ｍｍ以下、とくに１０ｍｍ
以下が好ましい。
ることが好ましい。０．５ｍｍ未満であると、シートの
圧縮弾性率が小さくかつ押圧圧力が高い場合、シートの
変形が弾性限界範囲を越えてしまい、基板の厚さむらや
接着剤層の塗布むらを吸収することができない。シート
厚さの上限値は特に限定されるものではないが、装置の
構成などを勘案すれば１００ｍｍ以下、とくに１０ｍｍ
以下が好ましい。
【００１２】シートの厚みの公差は、本発明の圧縮弾性
率を有するものではシート自身が厚さむらを吸収するた
め厳密さは必要ないが、押圧むらを生じさせないために
は、シートの厚み公差としては±５％以内であることが
好ましい。
率を有するものではシート自身が厚さむらを吸収するた
め厳密さは必要ないが、押圧むらを生じさせないために
は、シートの厚み公差としては±５％以内であることが
好ましい。
【００１３】本発明の光記録媒体の構成としては、特に
限定されないが、例えば図５に示すように、基板１１上
に誘電体層１２ａ、記録層１３、誘電体層１２ｂ、およ
び反射冷却層１４を設け、さらにその上に有機樹脂保護
層１５および接着剤層１６を積層する構成を示すことが
できる。このように構成されたものを一対作成し、接着
剤層１６が内側になるように対向させて貼り合わせた記
録消去可能な相変化型光記録媒体を例に構成を説明す
る。
限定されないが、例えば図５に示すように、基板１１上
に誘電体層１２ａ、記録層１３、誘電体層１２ｂ、およ
び反射冷却層１４を設け、さらにその上に有機樹脂保護
層１５および接着剤層１６を積層する構成を示すことが
できる。このように構成されたものを一対作成し、接着
剤層１６が内側になるように対向させて貼り合わせた記
録消去可能な相変化型光記録媒体を例に構成を説明す
る。
【００１４】本発明に使用される基板としては、基板側
から記録再生を行うためにはレーザ光が透過する材料を
用いることが好ましく、例えばポリメチルメタアクリレ
ート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂やガラスなどを
用いることができる。
から記録再生を行うためにはレーザ光が透過する材料を
用いることが好ましく、例えばポリメチルメタアクリレ
ート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂やガラスなどを
用いることができる。
【００１５】誘電体層は、基板や記録層が記録による熱
によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりする
のを防止したり、記録層の耐湿熱性や耐酸化性をもたせ
る役割を果たす。このような誘電体層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりする
のを防止したり、記録層の耐湿熱性や耐酸化性をもたせ
る役割を果たす。このような誘電体層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
【００１６】記録層としては、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄
膜、Ｍ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、ＭはＰｄ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ｔｌ、Ｃｏなどの金属元素、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄
膜等が挙げられる。特にＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、Ｐｄ
−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−
Ｎｂ系薄膜が記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり
難く、さらに熱安定性が優れているので好ましい。
膜、Ｍ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、ＭはＰｄ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ｔｌ、Ｃｏなどの金属元素、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄
膜等が挙げられる。特にＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、Ｐｄ
−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、Ｐｄ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ−
Ｎｂ系薄膜が記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり
難く、さらに熱安定性が優れているので好ましい。
【００１７】また、これらの組成は次式で表される範囲
にあることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点
から好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。この場合ｚは０．
０００５以上であることが必要である。
にあることが熱安定性と繰り返し安定性に優れている点
から好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-x) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０ ≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚおよび数字は各元素の原子の数（各元素のモ
ル数）を表す。とくにパラジウム、ニオブについては少
なくとも一種を含むことが好ましい。この場合ｚは０．
０００５以上であることが必要である。
【００１８】反射冷却層としては金属または金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属の混合物、例え
ばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕなどの金
属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化物、Ｓｉ酸化物、
Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合したものを使用でき
る。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの合金などは膜の形
成が容易であり好ましい。
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属の混合物、例え
ばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕなどの金
属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化物、Ｓｉ酸化物、
Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合したものを使用でき
る。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの合金などは膜の形
成が容易であり好ましい。
【００１９】誘電体層、記録層、反射冷却層の厚さは誘
電体層１２ａが５０〜３００ｎｍ、誘電体層１２ｂが１
０〜３００ｎｍであり、記録層が１０〜１００ｎｍであ
り、かつ反射冷却層が２０〜１５０ｎｍであることが記
録消去再生特性上から好ましい。
電体層１２ａが５０〜３００ｎｍ、誘電体層１２ｂが１
０〜３００ｎｍであり、記録層が１０〜１００ｎｍであ
り、かつ反射冷却層が２０〜１５０ｎｍであることが記
録消去再生特性上から好ましい。
【００２０】誘電体層、記録層、反射冷却層を基板上に
形成する方法としては、真空中での薄膜形成方法、例え
ば真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリン
グ法などを用いることができる。特に組成、膜厚のコン
トロールが容易なことからスパッタリング法が好まし
い。
形成する方法としては、真空中での薄膜形成方法、例え
ば真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリン
グ法などを用いることができる。特に組成、膜厚のコン
トロールが容易なことからスパッタリング法が好まし
い。
【００２１】有機樹脂保護層としては、重合性モノマー
およびオリゴマーを主成分とする化学線硬化性樹脂組成
物や、熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。
およびオリゴマーを主成分とする化学線硬化性樹脂組成
物や、熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。
【００２２】本発明において使用される重合性モノマー
としては、例えばアクリロイルオキシ基、またはメタア
クリロイルオキシ基（以下、両方の基を総称して（メ
タ）アクリロイルオキシ基と記載する。）を有する化合
物が好ましく用いられ、その具体例としては以下に示す
（メタ）アクリル酸エステル類を挙げることができる。
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）ア
クリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、テト
ラヒドロフロフリル（メタ）アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル誘導体の（メタ）アクリレート、１Ｈ・１
Ｈ・５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレー
ト、１・６ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が
挙げられるがこれらに限定されるものではない。
としては、例えばアクリロイルオキシ基、またはメタア
クリロイルオキシ基（以下、両方の基を総称して（メ
タ）アクリロイルオキシ基と記載する。）を有する化合
物が好ましく用いられ、その具体例としては以下に示す
（メタ）アクリル酸エステル類を挙げることができる。
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレ
ート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）ア
クリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、テト
ラヒドロフロフリル（メタ）アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル誘導体の（メタ）アクリレート、１Ｈ・１
Ｈ・５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレー
ト、１・６ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が
挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００２３】また、有機樹脂保護層の硬化性の向上や弾
性率を調整する目的で前述のモノマーと共重合可能な他
のモノマーを混合して用いることができる。例えば、ジ
イソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基
を有する化合物を予め反応させて得られる末端イソシタ
ネート基含有化合物にアルコール性水酸基を含有する
（メタ）アクリレートを反応させて得られる１分子中に
２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレ
タン（メタ）アクリレート類、炭素数２〜１２のアルキ
レングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポ
リオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸シ
エステル類、多価アルコールの２個以上の（メタ）アク
リロイルオキシ基を有する（メタ）アクリル酸ポリエス
テル類、ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの
水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド
付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、分子中に２
個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸または
メタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個以上の
（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ＝（メ
タ）アクリレート類等が挙げられるがこれらに限定され
るではない。
性率を調整する目的で前述のモノマーと共重合可能な他
のモノマーを混合して用いることができる。例えば、ジ
イソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基
を有する化合物を予め反応させて得られる末端イソシタ
ネート基含有化合物にアルコール性水酸基を含有する
（メタ）アクリレートを反応させて得られる１分子中に
２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレ
タン（メタ）アクリレート類、炭素数２〜１２のアルキ
レングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポ
リオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸シ
エステル類、多価アルコールの２個以上の（メタ）アク
リロイルオキシ基を有する（メタ）アクリル酸ポリエス
テル類、ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの
水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド
付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、分子中に２
個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸または
メタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個以上の
（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ＝（メ
タ）アクリレート類等が挙げられるがこれらに限定され
るではない。
【００２４】また、有機樹脂保護層組成物中には１種ま
たは２種以上の光重合開始剤を加えることができる。光
重合開始剤としは各種のものが使用でき、例えばアセト
フェノン、ベンゾフェノンなどのベンゾイン系、テトラ
メチルモノスルフィドなどのスルフィド系、チオキサン
などのチオキサン系、ベンゾインパーオキサイドジ−ｔ
−ブチルオキサイドなどのオキサイド系等が挙げられ
る。光重合開始剤の添加量は重合性モノマー１００重量
部に対して０．０１〜１０重量部が適当である。
たは２種以上の光重合開始剤を加えることができる。光
重合開始剤としは各種のものが使用でき、例えばアセト
フェノン、ベンゾフェノンなどのベンゾイン系、テトラ
メチルモノスルフィドなどのスルフィド系、チオキサン
などのチオキサン系、ベンゾインパーオキサイドジ−ｔ
−ブチルオキサイドなどのオキサイド系等が挙げられ
る。光重合開始剤の添加量は重合性モノマー１００重量
部に対して０．０１〜１０重量部が適当である。
【００２５】有機樹脂保護層組成物の硬化は、基板上に
形成した記録層上に該組成物を塗布した後、化学線、す
なわち紫外線、電子線、あるいはガンマ線などの活性エ
ネルギー線を照射したり、加熱したりして行う。
形成した記録層上に該組成物を塗布した後、化学線、す
なわち紫外線、電子線、あるいはガンマ線などの活性エ
ネルギー線を照射したり、加熱したりして行う。
【００２６】塗布方法は各種の方法、例えばスピンコー
ト法、ロールコート法、スプレーコート法などを用いる
ことができる。有機樹脂保護層の膜厚は０．５〜３０μ
ｍの範囲が好ましい。
ト法、ロールコート法、スプレーコート法などを用いる
ことができる。有機樹脂保護層の膜厚は０．５〜３０μ
ｍの範囲が好ましい。
【００２７】本発明において、一対の基板の貼り合わせ
に用いるホットメルト接着剤としては、ベースポリマ
ー、軟化剤および粘着付与剤を主成分とするものを用い
ることができる。ベースポリマーとしては例えば下式に
示すブロック状熱可塑性エラストマーが挙げられる。 Ａ−Ｂ Ａ−Ｂ−Ａ Ｂ−Ａ−Ｂ （式中Ａは分子量２０００〜２５０００のポリスチレン
ブロック、Ｂは分子量１０００〜２５０００のポリブタ
ジエンブロック、ポリイソプレンブロック、またはエチ
レン・ブチレン共重合体ブロックを示す。）
に用いるホットメルト接着剤としては、ベースポリマ
ー、軟化剤および粘着付与剤を主成分とするものを用い
ることができる。ベースポリマーとしては例えば下式に
示すブロック状熱可塑性エラストマーが挙げられる。 Ａ−Ｂ Ａ−Ｂ−Ａ Ｂ−Ａ−Ｂ （式中Ａは分子量２０００〜２５０００のポリスチレン
ブロック、Ｂは分子量１０００〜２５０００のポリブタ
ジエンブロック、ポリイソプレンブロック、またはエチ
レン・ブチレン共重合体ブロックを示す。）
【００２８】これら１種あるいは２種以上混合して用い
てもよい。またこれらにポリイソプレン、スチレンゴ
ム、ブタジエンゴム、ブチルゴムなどの合成ゴムや、ポ
リオレフィン、エチレン−ビニルアセテート共重合体な
どのポリオレフィン系共重合体を適宜混合して用いても
よい。
てもよい。またこれらにポリイソプレン、スチレンゴ
ム、ブタジエンゴム、ブチルゴムなどの合成ゴムや、ポ
リオレフィン、エチレン−ビニルアセテート共重合体な
どのポリオレフィン系共重合体を適宜混合して用いても
よい。
【００２９】軟化剤としてはポリセスオイル、パラフィ
ンオイル、ポリブテン、ポリイソブチレンなどを用いる
ことができる。
ンオイル、ポリブテン、ポリイソブチレンなどを用いる
ことができる。
【００３０】さらに粘着付与剤としては、ロジン樹脂、
水添石油樹脂、水添テルペン樹脂、フェノール樹脂、ク
マロン樹脂などを用いることができる。水添タイプの粘
着付与剤は上記ブロック状熱可塑性エラストマーと相溶
性が良く、また熱安定性が良く、吸水性が低いので良好
な耐蝕性を示す。
水添石油樹脂、水添テルペン樹脂、フェノール樹脂、ク
マロン樹脂などを用いることができる。水添タイプの粘
着付与剤は上記ブロック状熱可塑性エラストマーと相溶
性が良く、また熱安定性が良く、吸水性が低いので良好
な耐蝕性を示す。
【００３１】ホットメルト接着剤の塗布方法としては、
図１に示すようにロールコータ１を用いることができ
る。一対のロール２ａ、２ｂ間に前述の如く記録層が設
けられた基板３（以下、記録層や誘電体層、反射冷却層
等を含めて基板と称する。）を送り込み、その記録面に
ホットメルト接着剤４を塗布する。塗布温度は通常１２
０℃から１６０℃の間で行われる。この場合ホットメル
ト接着剤の粘度は１０００ｃｐから２０００００ｃｐ程
度となり塗布膜の表面形状はすじ状となる。
図１に示すようにロールコータ１を用いることができ
る。一対のロール２ａ、２ｂ間に前述の如く記録層が設
けられた基板３（以下、記録層や誘電体層、反射冷却層
等を含めて基板と称する。）を送り込み、その記録面に
ホットメルト接着剤４を塗布する。塗布温度は通常１２
０℃から１６０℃の間で行われる。この場合ホットメル
ト接着剤の粘度は１０００ｃｐから２０００００ｃｐ程
度となり塗布膜の表面形状はすじ状となる。
【００３２】そして、図２に示すように、接着剤４の層
５が設けられた基板３を一対、接着剤層５が互いに対向
するように貼り合わせ、両側に前述の特定の圧縮弾性率
を有する弾性シート６、６が設けられ、両側から押圧さ
れる。
５が設けられた基板３を一対、接着剤層５が互いに対向
するように貼り合わせ、両側に前述の特定の圧縮弾性率
を有する弾性シート６、６が設けられ、両側から押圧さ
れる。
【００３３】貼り合わせ方法としては、図３に示すよう
な平板プレス７や、ロールプレスを用いることができ
る。またこのとき、弾性シート６は押圧板や押圧ロール
に貼り付けておくこともできる。また、図示の如く、一
対の基板３を該弾性シート６でサンドイッチ状態にした
ものを平板プレスやロールプレスすることができる。貼
り合わせ圧力は、ディスク面圧で０．０５ｋｇ／ｃｍ2
から５ｋｇ／ｃｍ2 の範囲で行うことができる。貼り合
わせ記録媒体の平坦性および高温状態放置時の記録媒体
機械特性の点から、さらに好ましくは０．２ｋｇ／ｃｍ
2 から２ｋｇ／ｃｍ2 の範囲で行うとよい。
な平板プレス７や、ロールプレスを用いることができ
る。またこのとき、弾性シート６は押圧板や押圧ロール
に貼り付けておくこともできる。また、図示の如く、一
対の基板３を該弾性シート６でサンドイッチ状態にした
ものを平板プレスやロールプレスすることができる。貼
り合わせ圧力は、ディスク面圧で０．０５ｋｇ／ｃｍ2
から５ｋｇ／ｃｍ2 の範囲で行うことができる。貼り合
わせ記録媒体の平坦性および高温状態放置時の記録媒体
機械特性の点から、さらに好ましくは０．２ｋｇ／ｃｍ
2 から２ｋｇ／ｃｍ2 の範囲で行うとよい。
【００３４】上記のような貼り合わせにより、図４に示
すような、一対の基板３、３が貼り合わされた、両面記
録の光記録媒体８が得られる。
すような、一対の基板３、３が貼り合わされた、両面記
録の光記録媒体８が得られる。
【００３５】［測定方法］ （１）圧縮弾性率 ＪＩＳ７２２０に準ずる方法で測定した圧縮初期におけ
る圧縮弾性率として求めた。
る圧縮弾性率として求めた。
【００３６】（２）面振れ加速度 静電容量型変位センサーを取り付けた光ピックアップを
用い、記録媒体を１８００ｒｐｍで回転させフォーカシ
ングおよびトラッキング状態での光ピックアップの変位
を測定し、データ処理により求めた。
用い、記録媒体を１８００ｒｐｍで回転させフォーカシ
ングおよびトラッキング状態での光ピックアップの変位
を測定し、データ処理により求めた。
【００３７】（３）ビットエラーレート ２−７変調記録方式で１．５Ｔ（３．７ＭＨｚ）の単一
信号を繰り返しオーバライトし、その後２−７ランダム
パターンを１回オーバライトしてビットエラーレートを
求めた。
信号を繰り返しオーバライトし、その後２−７ランダム
パターンを１回オーバライトしてビットエラーレートを
求めた。
【００３８】（４）加速試験 ８０℃、８０％ＲＨの雰囲気中に貼り合わせた光記録媒
体を１５００時間放置し、放置前後の面振れ加速度およ
びビットエラーレートを比較した。
体を１５００時間放置し、放置前後の面振れ加速度およ
びビットエラーレートを比較した。
【００３９】
実施例１ 厚さ１．２ｍｍ、直径１３０ｍｍ、１．６μｍピッチの
スパイラル状のグルーブ付きポリカーボネート基板を、
３０ｒｐｍで回転させながらアルゴン圧力０．５Ｐａの
雰囲気下でスパッタリング法により下記の記録層を形
成、積層した。基板上に厚さ２００ｎｍのＺｎＳ・Ｓｉ
Ｏ2 （モル比８０：２０）の誘電体層を形成し、次に厚
さ２０ｎｍのＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｐｄよりなる記録層を
形成し、さらに厚さ２０ｎｍの上記ＺｎＳ・ＳｉＯ2 の
誘電体層を形成し、その上に反射冷却層としてＡｌ合金
層を１００ｎｍの厚さに形成した。次に、有機樹脂塗液
をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して厚さ
１０μｍの有機樹脂保護層を積層した。さらにロールコ
ート法によりホットメルト接着剤を平均で３０μｍの厚
さ塗布した。かかるディスクを２枚用意し接着剤層面を
対向させて、圧縮弾性率６．８ｋｇ／ｃｍ2 、厚さ３ｍ
ｍのクロロプレン発泡シートを貼り付けた押圧板の間に
挿入し、０．５ｋｇ／ｃｍ2 の圧力で３０秒間押圧した
後取り出し、貼り合わせ光記録媒体を得た。
スパイラル状のグルーブ付きポリカーボネート基板を、
３０ｒｐｍで回転させながらアルゴン圧力０．５Ｐａの
雰囲気下でスパッタリング法により下記の記録層を形
成、積層した。基板上に厚さ２００ｎｍのＺｎＳ・Ｓｉ
Ｏ2 （モル比８０：２０）の誘電体層を形成し、次に厚
さ２０ｎｍのＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｐｄよりなる記録層を
形成し、さらに厚さ２０ｎｍの上記ＺｎＳ・ＳｉＯ2 の
誘電体層を形成し、その上に反射冷却層としてＡｌ合金
層を１００ｎｍの厚さに形成した。次に、有機樹脂塗液
をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して厚さ
１０μｍの有機樹脂保護層を積層した。さらにロールコ
ート法によりホットメルト接着剤を平均で３０μｍの厚
さ塗布した。かかるディスクを２枚用意し接着剤層面を
対向させて、圧縮弾性率６．８ｋｇ／ｃｍ2 、厚さ３ｍ
ｍのクロロプレン発泡シートを貼り付けた押圧板の間に
挿入し、０．５ｋｇ／ｃｍ2 の圧力で３０秒間押圧した
後取り出し、貼り合わせ光記録媒体を得た。
【００４０】実施例２ 押圧板に貼り付けたシートを圧縮弾性率２．５ｋｇ／ｃ
ｍ2 、厚さ３ｍｍのポリエチレン−プロピレン発泡シー
トに変更した以外は実施例１と同様にして実施例２の貼
り合わせ光記録媒体を得た。
ｍ2 、厚さ３ｍｍのポリエチレン−プロピレン発泡シー
トに変更した以外は実施例１と同様にして実施例２の貼
り合わせ光記録媒体を得た。
【００４１】比較例１ 押圧板に貼り付けたシートを圧縮弾性率４２．０ｋｇ／
ｃｍ2 、厚さ３ｍｍのシリコンゴムシートに変更した以
外は実施例１と同様にして比較例１の貼り合わせ光記録
媒体を得た。
ｃｍ2 、厚さ３ｍｍのシリコンゴムシートに変更した以
外は実施例１と同様にして比較例１の貼り合わせ光記録
媒体を得た。
【００４２】比較例２ 押圧板に貼り付けたシートを圧縮弾性率６８．０ｋｇ／
ｃｍ2 、厚さ３ｍｍのニトリルゴムシートに変更した以
外は実施例１と同様にして比較例２の貼り合わせ光記録
媒体を得た。
ｃｍ2 、厚さ３ｍｍのニトリルゴムシートに変更した以
外は実施例１と同様にして比較例２の貼り合わせ光記録
媒体を得た。
【００４３】各実施例、比較例で得た貼り合わせ光記録
媒体について加速試験を行った結果を表１に示す。
媒体について加速試験を行った結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【発明の効果】本発明の光記録媒体の製造方法によれ
ば、上述の如く、押圧板と、貼り合わせる一対の基板と
の間に圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 以上４０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 未満である弾性シートを設けることにより、
機械特性に優れ、高温雰囲気下に放置しても特性が劣化
しない信頼性の高い貼り合わせ光記録媒体を得ることが
できる。
ば、上述の如く、押圧板と、貼り合わせる一対の基板と
の間に圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 以上４０ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 未満である弾性シートを設けることにより、
機械特性に優れ、高温雰囲気下に放置しても特性が劣化
しない信頼性の高い貼り合わせ光記録媒体を得ることが
できる。
【図１】ロールコータによりホットメルト接着剤を塗布
する様子を示す概略構成図である。
する様子を示す概略構成図である。
【図２】貼り合わせ時に一対の基板の両側に弾性シート
を設けた概略斜視図である。
を設けた概略斜視図である。
【図３】平板プレスによる押圧、貼り合わせの様子を示
す概略構成図である。
す概略構成図である。
【図４】貼り合わせの完了した光記録媒体の斜視図であ
る。
る。
【図５】基板上に形成される層の構成例を示す概略断面
図である。
図である。
１ ロールコータ ２ａ、２ｂ ロール ３ 基板 ４ ホットメルト接着剤 ５ 接着剤層 ６ 弾性シート ７ 平板プレス ８ 貼り合わせ光記録媒体 １１ 基板 １２ａ、１２ｂ 誘電体層 １３ 記録層 １４ 反射冷却層 １５ 有機樹脂保護層 １６ 接着剤層
Claims (5)
- 【請求項１】 一対の基板を貼り合わせてなり、両基板
の少なくとも一方に情報記録部を設けた光記録媒体を製
造するに際し、一対の基板の間に接着剤層を設け、該一
対の基板の両側から弾性シートを介して押圧しながら一
対の基板を貼り合わせる光記録媒体の製造方法におい
て、前記弾性シートの圧縮弾性率が０．５ｋｇｆ／ｃｍ
2 以上４０ｋｇｆ／ｃｍ2 未満であることを特徴とする
光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記弾性シートが独立気泡を有する発泡
シートからなる、請求項１の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記弾性シートが、ブチルゴム、イソプ
レンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム、エチレン
プロピレンゴムの成形体または発泡シート、およびポリ
エチレン、ポリプロピレンの発泡シートから選ばれたも
のからなる、請求項１の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 前記弾性シートの厚さが０．５ｍｍ以上
である、請求項１ないし３のいずれかに記載の光記録媒
体の製造方法。 - 【請求項５】 貼り合わせ時の押圧圧力が０．０５〜５
ｋｇ／ｃｍ2 の範囲にある、請求項１ないし４のいずれ
かに記載の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26611995A JPH0991773A (ja) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26611995A JPH0991773A (ja) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0991773A true JPH0991773A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17426593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26611995A Pending JPH0991773A (ja) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0991773A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1486963A4 (en) * | 2002-03-20 | 2006-11-15 | Sony Corp | OPTICAL RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| WO2009119589A1 (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | アイカ工業株式会社 | ホットメルト組成物、シール材、及び太陽電池 |
| JP5142530B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2013-02-13 | パナソニック株式会社 | 高分子電解質形燃料電池 |
-
1995
- 1995-09-21 JP JP26611995A patent/JPH0991773A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1486963A4 (en) * | 2002-03-20 | 2006-11-15 | Sony Corp | OPTICAL RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| US7307941B2 (en) | 2002-03-20 | 2007-12-11 | Sony Corporation | Optical recording medium having substantially uniform interlayer structure |
| JP5142530B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2013-02-13 | パナソニック株式会社 | 高分子電解質形燃料電池 |
| WO2009119589A1 (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | アイカ工業株式会社 | ホットメルト組成物、シール材、及び太陽電池 |
| US20110023944A1 (en) * | 2008-03-26 | 2011-02-03 | Aica Kogyo Co., Ltd. | Hot-melt composition, sealing material, and solar battery |
| CN101981117A (zh) * | 2008-03-26 | 2011-02-23 | 爱克工业株式会社 | 热熔组合物、密封材料和太阳能电池 |
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