JPH0992567A - 積層セラミックスコンデンサの製造方法 - Google Patents
積層セラミックスコンデンサの製造方法Info
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- JPH0992567A JPH0992567A JP24445995A JP24445995A JPH0992567A JP H0992567 A JPH0992567 A JP H0992567A JP 24445995 A JP24445995 A JP 24445995A JP 24445995 A JP24445995 A JP 24445995A JP H0992567 A JPH0992567 A JP H0992567A
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- Japan
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- sheet
- dielectric
- container
- ceramics
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 信頼性の優れた積層セラミックスコンデンサ
を、デラミネーションを発生させることなく、高歩留り
で製造することを可能とする積層セラミックスコンデン
サの製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 側壁を有する容器内にセラミックススラ
リーを導入し、乾燥し、第1の生セラミックススシート
を成型する工程、第1の生セラミックスシート上に内部
電極層を形成する工程、表面に内部電極層が形成された
前記第1の生セラミックスシート上にセラミックススラ
リーを導入し、乾燥し、第2の生セラミックススシート
を成型する工程、及び前記内部電極層を形成する工程及
び第2の生セラミックススシートを成型する工程を交互
に複数回繰り返す工程を具備することを特徴とする。
を、デラミネーションを発生させることなく、高歩留り
で製造することを可能とする積層セラミックスコンデン
サの製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 側壁を有する容器内にセラミックススラ
リーを導入し、乾燥し、第1の生セラミックススシート
を成型する工程、第1の生セラミックスシート上に内部
電極層を形成する工程、表面に内部電極層が形成された
前記第1の生セラミックスシート上にセラミックススラ
リーを導入し、乾燥し、第2の生セラミックススシート
を成型する工程、及び前記内部電極層を形成する工程及
び第2の生セラミックススシートを成型する工程を交互
に複数回繰り返す工程を具備することを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層セラミックス
コンデンサの製造方法に関する。
コンデンサの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】積層セラミックスコンデンサ(MLC)
は、小型、高容量であり、周波数特性及び耐熱性に優
れ、信頼性が高いことから、広範な分野に多用されてい
る。かかるMLCは、図8に示すように、セラミックス
からなる複数の誘電体層31と、これら該誘電体層31
の間に配置され、一端が対向する側面に交互に露出する
複数の内部電極32と、内部電極間に挟まれていないセ
ラミックスからなるカバーシート33と、前記対向する
側面にそれぞれ設けられた一対の外部電極34とから構
成されている。図8の積層セラミックスコンデンサは、
チップタイプであるが、その他に外部電極としてリード
線を取り付け、樹脂を塗布したディップタイプのものも
知られている。
は、小型、高容量であり、周波数特性及び耐熱性に優
れ、信頼性が高いことから、広範な分野に多用されてい
る。かかるMLCは、図8に示すように、セラミックス
からなる複数の誘電体層31と、これら該誘電体層31
の間に配置され、一端が対向する側面に交互に露出する
複数の内部電極32と、内部電極間に挟まれていないセ
ラミックスからなるカバーシート33と、前記対向する
側面にそれぞれ設けられた一対の外部電極34とから構
成されている。図8の積層セラミックスコンデンサは、
チップタイプであるが、その他に外部電極としてリード
線を取り付け、樹脂を塗布したディップタイプのものも
知られている。
【0003】近年、このようなMLCでは、小型化、大
容量化の要求から、以前は1層当たり焼結後で20μm
以上であった誘電体の厚さを低減することが必要とされ
ている。
容量化の要求から、以前は1層当たり焼結後で20μm
以上であった誘電体の厚さを低減することが必要とされ
ている。
【0004】MLCは、従来、次のような方法により製
造されている。まず、図9に示すように、支持フィルム
44上に誘電体粉末と有機バインダからなる誘電体グリ
ーンシート41を形成し、この誘電体グリーンシート4
1上に内部電極用パターン42を印刷してシート43を
作製する。
造されている。まず、図9に示すように、支持フィルム
44上に誘電体粉末と有機バインダからなる誘電体グリ
ーンシート41を形成し、この誘電体グリーンシート4
1上に内部電極用パターン42を印刷してシート43を
作製する。
【0005】次いで、シート43を支持フィルム44か
ら剥離し、図10(a)に示すように、前記シート43
を2つのカバーシート45,46の間に複数枚重ね、加
熱加圧して一体化した後、図10(b)に一点鎖線で示
すように、その厚さ方向に切断して個々のチップを切り
出す。その後、焼成し、バレル研磨し、角に丸みを付与
する。次に、一対の外部電極を焼き付けることによって
MLCを製造する。
ら剥離し、図10(a)に示すように、前記シート43
を2つのカバーシート45,46の間に複数枚重ね、加
熱加圧して一体化した後、図10(b)に一点鎖線で示
すように、その厚さ方向に切断して個々のチップを切り
出す。その後、焼成し、バレル研磨し、角に丸みを付与
する。次に、一対の外部電極を焼き付けることによって
MLCを製造する。
【0006】しかしながら、以上説明した従来の製造方
法では、以下に示すような問題点がある。第1の問題点
は、誘電体グリーンシート41における内部電極形成部
分と内部電極の形成されない部分の段差により生ずるも
のである。即ち、図10に示す工程において、シート4
3を複数枚積層する際、誘電体シートが厚いと、内部電
極42が誘電体グリーンシート41に埋没し、前記段差
が誘電体グリーンシート41に吸収されていたものが、
誘電体グリーンシート41が薄いと、特に、焼結後の厚
さが20μm以下となるような厚さでは、前記段差が誘
電体グリーンシート41に吸収できなくなり、MLCの
サイドマージン部分にデラミネーションが発生し、容量
不良、絶縁不良などの原因となり、歩留まりを低下させ
ていた。
法では、以下に示すような問題点がある。第1の問題点
は、誘電体グリーンシート41における内部電極形成部
分と内部電極の形成されない部分の段差により生ずるも
のである。即ち、図10に示す工程において、シート4
3を複数枚積層する際、誘電体シートが厚いと、内部電
極42が誘電体グリーンシート41に埋没し、前記段差
が誘電体グリーンシート41に吸収されていたものが、
誘電体グリーンシート41が薄いと、特に、焼結後の厚
さが20μm以下となるような厚さでは、前記段差が誘
電体グリーンシート41に吸収できなくなり、MLCの
サイドマージン部分にデラミネーションが発生し、容量
不良、絶縁不良などの原因となり、歩留まりを低下させ
ていた。
【0007】このような問題を解決する方法として、内
部電極部分と内部電極の形成されない部分との段差を解
消するための方法が多数提案されている。例えば、特開
昭56−105619号公報には、支持フィルム上に内
部電極を印刷し、その上に誘電体グリーンシートを形成
することにより、内部電極の形成されない部分に誘電体
が入りこみ、段差を解消し、このようにして得た複合シ
ートを積層することによりMLCを製造する方法が開示
されている。
部電極部分と内部電極の形成されない部分との段差を解
消するための方法が多数提案されている。例えば、特開
昭56−105619号公報には、支持フィルム上に内
部電極を印刷し、その上に誘電体グリーンシートを形成
することにより、内部電極の形成されない部分に誘電体
が入りこみ、段差を解消し、このようにして得た複合シ
ートを積層することによりMLCを製造する方法が開示
されている。
【0008】また、特開昭60−193318号公報に
は、支持フィルム上に形成した誘電体グリーンシート上
に内部電極を形成し、この上に、更に誘電体グリーンシ
ートを形成することにより、内部電極の形成されない部
分に誘電体が入りこみ、段差を解消し、このようにして
得た複合シートを積層することによりMLCを製造する
方法が開示されている。
は、支持フィルム上に形成した誘電体グリーンシート上
に内部電極を形成し、この上に、更に誘電体グリーンシ
ートを形成することにより、内部電極の形成されない部
分に誘電体が入りこみ、段差を解消し、このようにして
得た複合シートを積層することによりMLCを製造する
方法が開示されている。
【0009】さらに、特開平1−215095号公報に
は、グリーンシート上に電極を印刷し、印刷部分以外に
グリーンシートとほぼ同一成分のセラミックスペースト
を印刷することにより段差を解消する方法が開示されて
いる。
は、グリーンシート上に電極を印刷し、印刷部分以外に
グリーンシートとほぼ同一成分のセラミックスペースト
を印刷することにより段差を解消する方法が開示されて
いる。
【0010】しかしながら、前述したいずれの方法にあ
っても、前記段差は緩和はされるが、完全には解消され
ず、誘電体グリーンシートの積層数が増加するに従っ
て、段差は無視出来なくなり、脱脂および焼成中にデラ
ミネーション発生の原因となっていた。その結果、焼成
後のMLCにおいて容量不良や絶縁抵抗値が低下し、歩
留まりが低下するという問題があった。
っても、前記段差は緩和はされるが、完全には解消され
ず、誘電体グリーンシートの積層数が増加するに従っ
て、段差は無視出来なくなり、脱脂および焼成中にデラ
ミネーション発生の原因となっていた。その結果、焼成
後のMLCにおいて容量不良や絶縁抵抗値が低下し、歩
留まりが低下するという問題があった。
【0011】特に、焼成後の誘電体の厚さが10μm以
下となるような薄いグリーンシートでは、上記のような
段差が致命的になり、焼成後、殆どのMLCにデラミネ
ーションが発生し、ショートモードの故障になり、ML
Cを構成することが出来なくなってしまう。
下となるような薄いグリーンシートでは、上記のような
段差が致命的になり、焼成後、殆どのMLCにデラミネ
ーションが発生し、ショートモードの故障になり、ML
Cを構成することが出来なくなってしまう。
【0012】第2の問題点は、薄い誘電体グリーンシー
トを製造する際、その厚みを均一にすることが極めて困
難であることである。薄い誘電体シートを製造する方法
として、グラビア印刷やドクターブレードを用いた、い
わゆるテープキャスティングによるシート成型が広く知
られているが、いずれの方法であっても、グラビアロー
ルあるいはドクターブレードの傷を完全に無くすこと
や、ロールあるいはドクターブレードの水平度を完全に
保つことは不可能に近い。このため、製造されるシート
には、厚みむらや凹凸が必ず発生してしまう。
トを製造する際、その厚みを均一にすることが極めて困
難であることである。薄い誘電体シートを製造する方法
として、グラビア印刷やドクターブレードを用いた、い
わゆるテープキャスティングによるシート成型が広く知
られているが、いずれの方法であっても、グラビアロー
ルあるいはドクターブレードの傷を完全に無くすこと
や、ロールあるいはドクターブレードの水平度を完全に
保つことは不可能に近い。このため、製造されるシート
には、厚みむらや凹凸が必ず発生してしまう。
【0013】また、誘電体シートの厚みが10μm以下
になってくると、薄い部分に電圧が集中しやすくなり、
絶縁破壊が発生したり、誘電損失が大きくなったりし、
特性が非常に悪くなってしまう。更に、誘電体シートは
表面張力によって中央部が盛り上がった形状になるた
め、縁部は圧着されにくくなり、デラミネーションの原
因になっていた。
になってくると、薄い部分に電圧が集中しやすくなり、
絶縁破壊が発生したり、誘電損失が大きくなったりし、
特性が非常に悪くなってしまう。更に、誘電体シートは
表面張力によって中央部が盛り上がった形状になるた
め、縁部は圧着されにくくなり、デラミネーションの原
因になっていた。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
製造方法では、誘電体層が10μm以下と薄くなった場
合には、内部電極と誘電体シートの段差により、デラミ
ネーションが発生するだけでなく、各誘電体層にも厚み
のばらつきが発生し、積層セラミックスコンデンサの特
性を低下させ、歩留まりを極端に低下させていた。
製造方法では、誘電体層が10μm以下と薄くなった場
合には、内部電極と誘電体シートの段差により、デラミ
ネーションが発生するだけでなく、各誘電体層にも厚み
のばらつきが発生し、積層セラミックスコンデンサの特
性を低下させ、歩留まりを極端に低下させていた。
【0015】本発明は、かかる問題点を解決し、信頼性
の優れた積層セラミックスコンデンサを、デラミネーシ
ョンを発生させることなく、高歩留りで製造することを
可能とする積層セラミックスコンデンサの製造方法を提
供することを目的とする。
の優れた積層セラミックスコンデンサを、デラミネーシ
ョンを発生させることなく、高歩留りで製造することを
可能とする積層セラミックスコンデンサの製造方法を提
供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明(請求項1)は、側壁を有する容器内にセラ
ミックススラリーを導入し、乾燥し、第1の生セラミッ
クススシートを成型する工程、第1の生セラミックスシ
ート上に内部電極層を形成する工程、表面に内部電極層
が形成された前記第1の生セラミックスシート上にセラ
ミックススラリーを導入し、乾燥し、第2の生セラミッ
クススシートを成型する工程、及び前記内部電極層を形
成する工程及び第2の生セラミックススシートを成型す
る工程を交互に複数回繰り返す工程を具備することを特
徴とする積層セラミックスコンデンサの製造方法を提供
する。
め、本発明(請求項1)は、側壁を有する容器内にセラ
ミックススラリーを導入し、乾燥し、第1の生セラミッ
クススシートを成型する工程、第1の生セラミックスシ
ート上に内部電極層を形成する工程、表面に内部電極層
が形成された前記第1の生セラミックスシート上にセラ
ミックススラリーを導入し、乾燥し、第2の生セラミッ
クススシートを成型する工程、及び前記内部電極層を形
成する工程及び第2の生セラミックススシートを成型す
る工程を交互に複数回繰り返す工程を具備することを特
徴とする積層セラミックスコンデンサの製造方法を提供
する。
【0017】以下、本発明の積層セラミックスコンデン
サの製造方法について、より詳細に説明する。本発明の
方法では、まず、側壁を有する容器内にセラミックスス
ラリーを一定量注入し、乾燥する。その結果、表面張力
によって、図1に示すように、表面が均一で且つ縁部が
厚くなった生セラミックスシートを成型することが出来
る。このようにして得られた生セラミックスシートを用
いて積層セラミックスコンデンサを積層する際、縁部が
厚いために、剥離しやすいだけでなく、剥離後のハンド
リングの際にも変形を起こすことを防止することが出来
る。
サの製造方法について、より詳細に説明する。本発明の
方法では、まず、側壁を有する容器内にセラミックスス
ラリーを一定量注入し、乾燥する。その結果、表面張力
によって、図1に示すように、表面が均一で且つ縁部が
厚くなった生セラミックスシートを成型することが出来
る。このようにして得られた生セラミックスシートを用
いて積層セラミックスコンデンサを積層する際、縁部が
厚いために、剥離しやすいだけでなく、剥離後のハンド
リングの際にも変形を起こすことを防止することが出来
る。
【0018】また、従来の方法では使用が困難であった
粘性の低いセラミックススラリーの使用が可能であるた
め、セラミックススラリー中のバインダ−の量を減少さ
せることが出来、それによって製造コストの低減を図る
ことが可能である。
粘性の低いセラミックススラリーの使用が可能であるた
め、セラミックススラリー中のバインダ−の量を減少さ
せることが出来、それによって製造コストの低減を図る
ことが可能である。
【0019】更に、プレスで圧着する際にも、この部分
が強力に圧着されるため、製造過程においてデラミネー
ションが発生しにくい。しかも、このようなシートの厚
みはスラリーの注入量によって正確にコントロールする
ことが可能である。また、容器内面に施された離型処理
と組み合わせた時に、薄いシートをより簡単に剥離する
ことが出来る。
が強力に圧着されるため、製造過程においてデラミネー
ションが発生しにくい。しかも、このようなシートの厚
みはスラリーの注入量によって正確にコントロールする
ことが可能である。また、容器内面に施された離型処理
と組み合わせた時に、薄いシートをより簡単に剥離する
ことが出来る。
【0020】このような工程を繰り返すことにより、誘
電体層の厚みの均一な積層セラミックスコンデンサを製
造することが可能である。このように、誘電体層の表面
平滑性や膜厚の均一性が優れているため、電界が集中す
ることによる耐圧不良を生じることはない。更に、デラ
ミネーションやクラック、または所望の静電容量の不足
などといった静電容量の不良率が大幅に低減される。
電体層の厚みの均一な積層セラミックスコンデンサを製
造することが可能である。このように、誘電体層の表面
平滑性や膜厚の均一性が優れているため、電界が集中す
ることによる耐圧不良を生じることはない。更に、デラ
ミネーションやクラック、または所望の静電容量の不足
などといった静電容量の不良率が大幅に低減される。
【0021】また、製造工程が従来と比較して極端に簡
略化され、製造に要する時間が飛躍的に短縮されるばか
りでなく、高速製造のため、各工程でのごみの付着など
の欠陥を極限まで押さえることが可能である。さらに、
スラリーの経時変化によるシートの品質のばらつきを極
端に減少させることが出来る。
略化され、製造に要する時間が飛躍的に短縮されるばか
りでなく、高速製造のため、各工程でのごみの付着など
の欠陥を極限まで押さえることが可能である。さらに、
スラリーの経時変化によるシートの品質のばらつきを極
端に減少させることが出来る。
【0022】また、従来のテープキャスティングによる
方法では、誘電体シートの厚みが薄くなるほど、支持フ
ィルムの量が増し、製造コストを上昇させるだけでな
く、環境破壊の原因にもなっていたが、本発明の方法で
は、支持フィルムを全く用いないため、製造コストを低
減させ、不要となる産業廃棄物も一切生じないという利
点を有する。
方法では、誘電体シートの厚みが薄くなるほど、支持フ
ィルムの量が増し、製造コストを上昇させるだけでな
く、環境破壊の原因にもなっていたが、本発明の方法で
は、支持フィルムを全く用いないため、製造コストを低
減させ、不要となる産業廃棄物も一切生じないという利
点を有する。
【0023】
【実施の形態】以下、本発明に係る積層セラミックスコ
ンデンサの製造工程について、図面を参照しながら説明
する。図1は、本発明の方法に使用される側壁を有する
容器1を示す断面図である。容器1の材質は特に限定さ
れないが、金属や、紙、プラスチックなどの有機系材料
が例として挙げられる。この容器は円形であることが好
ましいが、形は特に限定されない。図2(a)〜(c)
に側壁を有する容器の種々の形状断面の例を示した。な
お、容器が円形である場合には、容器を低速で回転させ
ることにより、均一性を高めることが出来る。
ンデンサの製造工程について、図面を参照しながら説明
する。図1は、本発明の方法に使用される側壁を有する
容器1を示す断面図である。容器1の材質は特に限定さ
れないが、金属や、紙、プラスチックなどの有機系材料
が例として挙げられる。この容器は円形であることが好
ましいが、形は特に限定されない。図2(a)〜(c)
に側壁を有する容器の種々の形状断面の例を示した。な
お、容器が円形である場合には、容器を低速で回転させ
ることにより、均一性を高めることが出来る。
【0024】まず、図3に示すように、容器1内にセラ
ミックススラリーを注入し、乾燥することにより、生セ
ラミックスシ−ト2を成型する。使用されるスラリー
は、テープキャスティング法に用いるものより粘性の小
さいものが好ましい。なお、図3に示すように、容器1
が多少傾いても生セラミックスシ−ト2の表面は水平で
ある。このときのセラミックスシ−ト2の中央部の厚み
は100μmであった。
ミックススラリーを注入し、乾燥することにより、生セ
ラミックスシ−ト2を成型する。使用されるスラリー
は、テープキャスティング法に用いるものより粘性の小
さいものが好ましい。なお、図3に示すように、容器1
が多少傾いても生セラミックスシ−ト2の表面は水平で
ある。このときのセラミックスシ−ト2の中央部の厚み
は100μmであった。
【0025】次いで、図4に示すように、生セラミック
スシ−ト2の表面に所定のパタ−ンに電極ペ−ストを塗
布することにより、内部電極3を形成する。内部電極3
の形成方法は特に限定されないが、スクリーン印刷、グ
ラビア印刷、熱転写印刷、スタンプ式が例として挙げら
れる。本実施例では、スタンプ式を用いた。なお、電極
用ペ−ストとセラミックススラリーの溶剤は、相溶しな
いものであることが好ましい。
スシ−ト2の表面に所定のパタ−ンに電極ペ−ストを塗
布することにより、内部電極3を形成する。内部電極3
の形成方法は特に限定されないが、スクリーン印刷、グ
ラビア印刷、熱転写印刷、スタンプ式が例として挙げら
れる。本実施例では、スタンプ式を用いた。なお、電極
用ペ−ストとセラミックススラリーの溶剤は、相溶しな
いものであることが好ましい。
【0026】次に、図5に示すように、表面に内部電極
3が形成された生セラミックスシ−ト2の上に、更に生
セラミックススラリーを正確に一定量注入し、乾燥す
る。その結果、内部電極3を覆うように誘電体層4が形
成される。この誘電体層4の表面は均一で凹凸は無く、
厚みも均一であった。なお、誘電体層4の厚みは、図6
に示すように規定した。このときの誘電体層4の厚みは
5μmであった。
3が形成された生セラミックスシ−ト2の上に、更に生
セラミックススラリーを正確に一定量注入し、乾燥す
る。その結果、内部電極3を覆うように誘電体層4が形
成される。この誘電体層4の表面は均一で凹凸は無く、
厚みも均一であった。なお、誘電体層4の厚みは、図6
に示すように規定した。このときの誘電体層4の厚みは
5μmであった。
【0027】以上の工程を繰り返すことにより、図7に
示すように、積層セラミックスコンデンサが得られた。
上記、誘電体スラリーおよび電極ペーストの組成は特に
限定されないが、一般には水系と有機溶剤系のいずれか
が用いられる。
示すように、積層セラミックスコンデンサが得られた。
上記、誘電体スラリーおよび電極ペーストの組成は特に
限定されないが、一般には水系と有機溶剤系のいずれか
が用いられる。
【0028】本発明に使用可能な誘電体材料としては、
一般に高誘電率材料として使用される、チタン酸バリウ
ム系、リラクサ−と呼ばれる鉛系誘電体等の種々の材料
が挙げられる。
一般に高誘電率材料として使用される、チタン酸バリウ
ム系、リラクサ−と呼ばれる鉛系誘電体等の種々の材料
が挙げられる。
【0029】なお、側壁を有する容器を、紙やPVAの
ようなバインダ−系の材料で作製した場合には、容器内
に積層された状態でチップ状にダイシングした後、容器
ごと焼成すれば、容器は焼失してしまうため、容器から
未焼成のバ−を取り出す際に発生する欠陥を防止するこ
とが出来るとともに、製造工程を簡略化することが出来
る。
ようなバインダ−系の材料で作製した場合には、容器内
に積層された状態でチップ状にダイシングした後、容器
ごと焼成すれば、容器は焼失してしまうため、容器から
未焼成のバ−を取り出す際に発生する欠陥を防止するこ
とが出来るとともに、製造工程を簡略化することが出来
る。
【0030】また、容器を耐火物(例えばMgO)によ
り作製した場合には、容器ごと焼成しても容器は燃えず
に残り、しかもコンデンサは焼成により収縮するため、
焼成後、容易に容器から取り出すことが可能となり、容
器から未焼成のバ−を取り出すときに発生する欠陥を防
止することが出来るばかりでなく、焼成の際に用いるサ
ヤとの兼用が可能であるため、製造工程を簡略化するこ
とが出来る。
り作製した場合には、容器ごと焼成しても容器は燃えず
に残り、しかもコンデンサは焼成により収縮するため、
焼成後、容易に容器から取り出すことが可能となり、容
器から未焼成のバ−を取り出すときに発生する欠陥を防
止することが出来るばかりでなく、焼成の際に用いるサ
ヤとの兼用が可能であるため、製造工程を簡略化するこ
とが出来る。
【0031】更に、容器を濾紙等の吸湿性の材料により
作製した場合には、スラリ−内の溶剤又は水分を吸収す
ることが出来るため、スラリ−の乾燥の時間を大幅に短
縮することが出来る。また、このような容器の外側に溶
剤又は水分を吸引する仕組みを併用することにより、ス
ラリ−の乾燥を効率的に行うことが出来る。
作製した場合には、スラリ−内の溶剤又は水分を吸収す
ることが出来るため、スラリ−の乾燥の時間を大幅に短
縮することが出来る。また、このような容器の外側に溶
剤又は水分を吸引する仕組みを併用することにより、ス
ラリ−の乾燥を効率的に行うことが出来る。
【0032】また、容器の形状を円形とし、円の中心を
軸に回転させることにより、スラリ−を均一に成型する
ことが出来、平滑性に優れた誘電体グリ−ンシ−トを製
造することが出来る。
軸に回転させることにより、スラリ−を均一に成型する
ことが出来、平滑性に優れた誘電体グリ−ンシ−トを製
造することが出来る。
【0033】更にまた、図3に示すように、容器が傾い
た場合でもシ−トの表面は水平であり、2層目からは厚
みが均一な誘電体層を形成することが出来るため、大き
な問題はないが、1層目の厚みを均一にする必要がある
場合は、水等の流体上に容器を浮かべることにより、容
易に水平を得ることが出来、すべての誘電体層厚みを均
一に形成することが出来る。
た場合でもシ−トの表面は水平であり、2層目からは厚
みが均一な誘電体層を形成することが出来るため、大き
な問題はないが、1層目の厚みを均一にする必要がある
場合は、水等の流体上に容器を浮かべることにより、容
易に水平を得ることが出来、すべての誘電体層厚みを均
一に形成することが出来る。
【0034】以上のような方法により作製した積層セラ
ミックスコンデンサと、他の方法で作製したものとにつ
いて、それらの特性を求め、比較を行った。 実施例1 誘電体セラミックスとして、(Pb0.875 Ba0.125 )
[Mg1/3 Nb2/3 )0.5 (Zn1/3 Nb2/3 )0.3 T
i0.2 ]O3 の組成を有する誘電体粉末を用い、上述の
製造工程により、240層の積層セラミックスコンデン
サを作製した。得られた積層セラミックスコンデンサの
外観は、厚みむらもなく、良好であった。誘電体層の厚
みは焼成前で5μm、焼成後で4μmであった。容量は
8.6μF、誘電損失は0.7%であった。また、容量
・絶縁抵抗積は室温(20℃)で20000ΩF、高温
(125℃)で10000ΩFであった。破壊電圧は5
00Vであり、歩留は90%と良好であった。
ミックスコンデンサと、他の方法で作製したものとにつ
いて、それらの特性を求め、比較を行った。 実施例1 誘電体セラミックスとして、(Pb0.875 Ba0.125 )
[Mg1/3 Nb2/3 )0.5 (Zn1/3 Nb2/3 )0.3 T
i0.2 ]O3 の組成を有する誘電体粉末を用い、上述の
製造工程により、240層の積層セラミックスコンデン
サを作製した。得られた積層セラミックスコンデンサの
外観は、厚みむらもなく、良好であった。誘電体層の厚
みは焼成前で5μm、焼成後で4μmであった。容量は
8.6μF、誘電損失は0.7%であった。また、容量
・絶縁抵抗積は室温(20℃)で20000ΩF、高温
(125℃)で10000ΩFであった。破壊電圧は5
00Vであり、歩留は90%と良好であった。
【0035】比較例1 誘電体セラミックススとして、(Pb0.875 Ba
0.125 )[Mg1/3 Nb2/3)0.5 (Zn1/3 Nb
2/3 )0.3 Ti0.2 ]O3 の組成を有する誘電体粉末を
用い、従来のテープキャスティング法により、比較実験
を行った。
0.125 )[Mg1/3 Nb2/3)0.5 (Zn1/3 Nb
2/3 )0.3 Ti0.2 ]O3 の組成を有する誘電体粉末を
用い、従来のテープキャスティング法により、比較実験
を行った。
【0036】まず、誘電体シートをリップコータで作製
したが、厚みにむらがあり、得られたシートは5μm〜
6μmの厚みであった。この誘電体シートを240層積
層したところ、厚みむらが生じた。また、この積層体を
焼成したところ、大量のデラミネーションが発生した。
焼成後の積層体の厚みは4μm〜5μmであった。
したが、厚みにむらがあり、得られたシートは5μm〜
6μmの厚みであった。この誘電体シートを240層積
層したところ、厚みむらが生じた。また、この積層体を
焼成したところ、大量のデラミネーションが発生した。
焼成後の積層体の厚みは4μm〜5μmであった。
【0037】得られた積層セラミックスコンデンサの容
量は8.4μF、誘電損失1.5%であった。容量・絶
縁抵抗積は室温(20℃)で1000ΩF、高温(12
5℃)で100ΩFであった。破壊電圧は15Vであ
り、歩留は0%であった。
量は8.4μF、誘電損失1.5%であった。容量・絶
縁抵抗積は室温(20℃)で1000ΩF、高温(12
5℃)で100ΩFであった。破壊電圧は15Vであ
り、歩留は0%であった。
【0038】ただし、上記実施例1および比較例1とも
に容量8.0μF以上、誘電損失2.5%未満、容量・
絶縁抵抗積は室温、高温ともに2000ΩF以上を良品
として歩留まりを求めた。作製チップ数はともに100
個でった。
に容量8.0μF以上、誘電損失2.5%未満、容量・
絶縁抵抗積は室温、高温ともに2000ΩF以上を良品
として歩留まりを求めた。作製チップ数はともに100
個でった。
【0039】実施例2 誘電体セラミックスとして、BaTiO3 系誘電体粉末
を用い、上述の製造工程により、240層の積層セラミ
ックスコンデンサを作製した。得られた積層セラミック
スコンデンサの外観は、厚みむらもなく、良好であっ
た。誘電体層の厚みは焼成前で9μm、焼成後で7μm
であった。容量は3.8μF、誘電損失は2.5%であ
った。また、容量・絶縁抵抗積は室温(20℃)で60
00ΩF、高温(125℃)で1500ΩFであった。
破壊電圧は500Vであり、歩留は98%と良好であっ
た。
を用い、上述の製造工程により、240層の積層セラミ
ックスコンデンサを作製した。得られた積層セラミック
スコンデンサの外観は、厚みむらもなく、良好であっ
た。誘電体層の厚みは焼成前で9μm、焼成後で7μm
であった。容量は3.8μF、誘電損失は2.5%であ
った。また、容量・絶縁抵抗積は室温(20℃)で60
00ΩF、高温(125℃)で1500ΩFであった。
破壊電圧は500Vであり、歩留は98%と良好であっ
た。
【0040】比較例2 誘電体セラミックススとして、BaTiO3 系誘電体粉
末を用い、従来のテープキャスティング法により、比較
実験を行った。
末を用い、従来のテープキャスティング法により、比較
実験を行った。
【0041】まず、誘電体シートをリップコータで作製
したが、厚みにむらがあり、得られたシートは9μm〜
10μmの厚みであった。この誘電体シートを240層
積層したところ、厚みむらが生じた。また、この積層体
を焼成したところ、大量のデラミネーションが発生し
た。焼成後の積層体の厚みは7μm〜8μmであった。
したが、厚みにむらがあり、得られたシートは9μm〜
10μmの厚みであった。この誘電体シートを240層
積層したところ、厚みむらが生じた。また、この積層体
を焼成したところ、大量のデラミネーションが発生し
た。焼成後の積層体の厚みは7μm〜8μmであった。
【0042】得られた積層セラミックスコンデンサの容
量は3.5μF、誘電損失2.8%であった。容量・絶
縁抵抗積は室温(20℃)で1000ΩF、高温(12
5℃)で100ΩFであった。破壊電圧は15Vであ
り、歩留は0%であった。
量は3.5μF、誘電損失2.8%であった。容量・絶
縁抵抗積は室温(20℃)で1000ΩF、高温(12
5℃)で100ΩFであった。破壊電圧は15Vであ
り、歩留は0%であった。
【0043】ただし、上記実施例2および比較例2とも
に容量3.4μF以上、誘電損失2.5%未満、容量・
絶縁抵抗積は室温、高温ともに1000ΩF以上を良品
として歩留まりを求めた。作製チップ数はともに100
個でった。以上の結果より、本実施例によると、均一な
誘電体層を有する積層セラミックスコンデンサを高い歩
留りで製造することが出来ることがわかる。
に容量3.4μF以上、誘電損失2.5%未満、容量・
絶縁抵抗積は室温、高温ともに1000ΩF以上を良品
として歩留まりを求めた。作製チップ数はともに100
個でった。以上の結果より、本実施例によると、均一な
誘電体層を有する積層セラミックスコンデンサを高い歩
留りで製造することが出来ることがわかる。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
従来の方法に比べて耐圧不良率が低減し、信頼性を向上
することができる。また、デラミネーションやクラック
の低減が可能であることから、容量不良率を大幅に改善
できるという効果を有する。
従来の方法に比べて耐圧不良率が低減し、信頼性を向上
することができる。また、デラミネーションやクラック
の低減が可能であることから、容量不良率を大幅に改善
できるという効果を有する。
【図1】本発明の方法に使用される容器を示す断面図。
【図2】本発明の方法に使用される容器の種々の例を示
す断面図。
す断面図。
【図3】本発明の方法において容器内で成型された生セ
ラミックスシートの断面図。
ラミックスシートの断面図。
【図4】本発明の方法において内部電極が形成された生
セラミックスシートの断面図。
セラミックスシートの断面図。
【図5】本発明の方法において内部電極が形成された生
セラミックスシート上に更に内部電極が形成された状態
を示す断面図。
セラミックスシート上に更に内部電極が形成された状態
を示す断面図。
【図6】誘電体層の厚みを規定する図。
【図7】本発明の方法により製造された積層セラミック
スコンデンサの構成を示す断面図。
スコンデンサの構成を示す断面図。
【図8】一般的な積層セラミックスコンデンサの構成を
示す断面図。
示す断面図。
【図9】支持フィルム上に誘電体層と内部電極を形成し
た状態を示す断面図。
た状態を示す断面図。
【図10】誘電体シートを積層した状態を示す断面図。
1…容器 2…第1の生セラミックスシート 3…内部電極 4…第2の生セラミックスシート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山下 洋八 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会社 東芝柳町工場内
Claims (4)
- 【請求項1】 側壁を有する容器内にセラミックススラ
リーを導入し、乾燥し、第1の生セラミックススシート
を成型する工程、第1の生セラミックスシート上に内部
電極層を形成する工程、表面に内部電極層が形成された
前記第1の生セラミックスシート上にセラミックススラ
リーを導入し、乾燥し、第2の生セラミックススシート
を成型する工程、及び前記内部電極層を形成する工程及
び第2の生セラミックススシートを成型する工程を交互
に複数回繰り返す工程を具備することを特徴とする積層
セラミックスコンデンサの製造方法。 - 【請求項2】 前記容器は円形の底面を有し、前記セラ
ミックススラリーの導入後に、前記容器を回転させるこ
とを特徴とする請求項1に記載の積層セラミックスコン
デンサの製造方法。 - 【請求項3】 前記内部電極層を形成するための内部電
極用ペ−ストに含まれる成分と前記セラミックススラリ
ーに含まれる成分とが相溶しないことを特徴とする請求
項1に記載の積層セラミックスコンデンサの製造方法。 - 【請求項4】 前記容器の内面には離型処理が施されて
いる請求項1に記載の積層セラミックスコンデンサの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24445995A JPH0992567A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | 積層セラミックスコンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24445995A JPH0992567A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | 積層セラミックスコンデンサの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0992567A true JPH0992567A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17118970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24445995A Pending JPH0992567A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | 積層セラミックスコンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0992567A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001167971A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型セラミック電子部品およびその製造方法 |
| JP2006049653A (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサの製造方法 |
| JP2007234829A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Tdk Corp | 積層型セラミック電子部品の製造方法 |
-
1995
- 1995-09-22 JP JP24445995A patent/JPH0992567A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001167971A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-22 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型セラミック電子部品およびその製造方法 |
| JP2006049653A (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサの製造方法 |
| JP2007234829A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Tdk Corp | 積層型セラミック電子部品の製造方法 |
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