JPH0997679A

JPH0997679A - 電界発光素子の製造方法

Info

Publication number: JPH0997679A
Application number: JP7273676A
Authority: JP
Inventors: Norihiko Kaneko; 紀彦金子; Tetsuya Aisaka; 哲彌逢坂
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 1995-09-28
Filing date: 1995-09-28
Publication date: 1997-04-08

Abstract

(57)【要約】【課題】電荷の注入、輸送性能に優れ、熱的にも安定
性の高い共役系高分子を、電界発光素子の電荷輸送層と
して用いることを可能にする電界発光素子の製造方法を
提供する。【解決手段】ＩＴＯでなる透明電極１２の表面に、電
解重合により共役系高分子でなるホール輸送層１３を形
成する。その後、順次発光層１４、電子輸送層１５、金
属電極１６を形成する。このように電解重合によりホー
ル輸送層１３を形成することにより、電荷の注入、輸送
性能に優れ、熱的にも安定性の高い共役系高分子を、電
界発光素子の電荷輸送層として用いることが可能とな
り、特性の良好な電界発光素子を製造することが可能と
なる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、電界発光素子の
製造方法に関し、さらに詳しくは、有機電界発光素子の
製造に係る。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の電界発光素子としては、
図１１に示すような構造のものが知られている。この電
界発光素子は、同図に示すように、例えばガラスでなる
透明基板１上に、例えばＩＴＯ（インジウム酸化物）で
なる透明電極（ホール注入電極）２が形成され、この透
明電極２の上に順次、ホール（正孔）輸送層３、発光層
４、電子輸送層５、金属電極６が積層された構成になっ
ている。この電界発光素子におけるホール輸送層３、発
光層４および電子輸送層５は、有機材料を真空蒸着して
薄膜状に形成されたものであり、このような有機材料を
用いることにより良好な素子特性が得られている。特
に、低分子有機材料として、ジアミン系材料であるＴＰ
Ｄは高いホール輸送性を示し、現在の高輝度発光素子の
ほとんどにホール輸送層材料として用いられている。ま
た、全く異なる材料系として、有機高分子材料を用いた
発光素子も検討されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たＴＰＤは、熱的な安定性は低く、連続発光に伴う薄膜
の再結晶化などにより、欠陥の発生や高抵抗化が起こ
り、製品レベルの寿命や安定性を得ることが困難であっ
た。これについては、電荷注入界面をプラズマ処理など
により改質したり、より熱的安定性の高いスターバース
トアミン系の材料の開発などがなされているが、現状で
は十分な成果が得られていない。

【０００４】また、有機高分子材料を用いた発光素子は
高分子ＬＥＤと称されており、多くのものはホール輸送
層や電子輸送層のような電荷輸送層と発光層とを単層で
兼ねているものが多い。現時点での輝度、効率などの初
期性能としては、低分子材料を用いた発光素子のほう
が、有機高分子材料を用いた発光素子よりも良い。しか
し、安定性などの点では有機高分子材料を用いた発光素
子のほうが、低分子材料を用いた発光素子に対して優位
性があると考えられている。

【０００５】しかし、このような有機高分子材料は、導
電性高分子として研究されてきたπ共役高分子と言われ
る範疇のものであり、これらは剛直な主鎖を有し、一般
に不溶、不融であることが多い。そこで、これらの材料
を薄膜の塗布形成に用いるには、長い側鎖を付加して溶
媒に可溶化を図る必要があるなどの問題点があった。ま
た、このように長い側鎖を付加した場合、電荷の輸送性
や熱的安定性が低下するといった問題があった。さら
に、アノード電極に正孔輸送層を、或いはカソード電極
に電子輸送層を形成する際、膜厚が厚すぎると発光強度
が極端に小さくなってしまうため、できるかぎり薄く形
成したいが、塗布法では、均一の膜厚にすることが困難
であり、薄い膜厚で形成しようとすると電極上に電荷輸
送層が島状になってしまうため、この電荷輸送層に発光
材料を設けて発光層とした場合や電荷輸送層上に発光層
を設ける場合、発光効率が低かったり、表示ムラを生じ
てししまっていた。また、これらの発光素子では電界に
応じた発光強度で発光するため多階調表示が可能である
が、マトリクス状に高精細な複数の画素に設定する場
合、電荷輸送層を直接複数の電極上に連続して形成する
と、画素ピッチが短いので隣合う電極の電界の影響を受
けてしまい良好な多階調表示を行なうことが困難になる
という問題があった。このため画素に応じて電荷輸送層
をパターニングしていたが、フォトレジスト工程等によ
り電荷輸送層が劣化してしまい、発光効率が低く、発光
寿命が短いという問題を生じていた。この発明の課題
は、電荷の注入、輸送性能に優れ、熱的にも安定性の高
い共役系高分子を電荷輸送層として用いることを可能に
する電界発光素子の製造方法を得るにはどのような手段
を講じればよいかという点にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
相対向するアノード電極とカソード電極との間に正孔輸
送層と電子輸送層とを備えた電界発光素子の製造方法に
おいて、前記正孔輸送層と電子輸送層の少なくとも一方
は、電気化学法により前記アノード電極とカソード電極
の少なくとも一方を覆うように形成することを特徴とし
ている。請求項２記載の発明は、前記正孔輸送層と電子
輸送層の少なくとも一方が、ポリオクチルチオフェンで
あることを特徴としている。請求項３記載の発明は、前
記正孔輸送層と前記電子輸送層との間に発光層を形成す
ることを特徴としている。請求項４記載の発明は、前記
アノード電極とカソード電極の少なくとも一方は複数で
あり、前記正孔輸送層と電子輸送層との少なくとも一方
は前記アノード電極とカソード電極の少なくとも一方に
対応するように複数であり互いに離間していることを特
徴としている。請求項５記載の発明は、前記正孔輸送層
と電子輸送層の少なくとも一方は、層厚が１〜５０ｎｍ
であることを特徴としている。請求項６記載の発明は、
前記正孔輸送層と電子輸送層との少なくとも一方は形成
後、窒素乾燥処理と減圧加熱乾燥処理の少なくとも一方
を行なうことを特徴としている。請求項７記載の発明
は、前記電気化学法は、前記アノード電極あるいはカソ
ード電極を正孔輸送層形成材料或いは電子輸送層形成材
料を含む重合液に浸漬させた後、前記電極に電圧を印加
し、前記電極上に正孔輸送層或いは電子輸送層を覆うよ
うに形成する電解重合法であることを特徴としている。

【０００７】この発明においては、電界重合反応法を用
いて正孔輸送層または電子輸送層を形成するため、正孔
または電子の注入や、電荷輸送性能に優れ、かつ熱的に
も安定性の高い共役系高分子材料の使用が可能となる。
このため、この発明においては、電界発光素子の発光開
始電圧を低下させることが可能となり、また、発光効率
や輝度を向上させることができる。さらに、熱的に安定
性が高いため、素子の寿命を長くすることが可能とな
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、この発明に係る電界発光素
子の製造方法の詳細を図面に示す実施形態に基づいて説
明する。（実施形態１）図１（Ａ）〜（Ｅ）は、この発明の実施
形態１を示す工程断面図である。まず、本実施形態で
は、図１（Ａ）に示すように、例えばガラスや合成樹脂
などでなる透明基板１１（寸法；１５ｍｍ×７５ｍｍ、
厚さ０．７ｍｍ）上に、アノード電極としての、シート
抵抗が約６０Ω／ｃｍ²のＩＴＯ或いは酸化亜鉛アルミ
ニウムでなる透明電極１２をパターン形成する。次に、
このように透明基板１１上の透明電極１２表面に、図２
に示すような電解重合装置２０を用いて、図１（Ｂ）に
示すようなホール（正孔）輸送層１３を形成する。

【０００９】電解重合装置２０は、図２に示すように、
重合液２１を入れた重合槽２２を備え、この重合液２１
中に、それぞれ電源２５に接続された、対極２３、参照
極２４および透明基板１１を入れるようになっている。
ここで、透明基板１１上の透明電極１２は、作用極とな
る。重合液２１は、溶媒、支持電解質、および重合によ
りホール輸送層となるモノマーもしくはオリゴマー等を
含んでいる。このような電解重合装置２０を用いて、電
解重合反応を行わせることにより、透明電極１２の表面
にのみ共役系高分子からなるホール輸送層１３を形成す
ることができる。なお、電解重合により形成されたホー
ル輸送層１３は、この後必要に応じて、脱ドープ、洗
浄、乾燥、アニールなどの処理を施す。

【００１０】モノマーとしては、チオフェン、３−ｎ−
ヘキシルチオフェン等のアルキルチオフェン、ベンゼ
ン、フェニレンビニレン、チェニレンビニレン、ピロー
ル、フラン、アニリン、フルオレン、カルバゾールなど
の導電性有機材料、およびこれらの誘導体、そしてスチ
レン、アリルベンゼンなどのアレーン、およびその誘導
体、さらにこれらの金属錯体などの少なくとも一種以上
を用いることができる。

【００１１】また、支持電解質としては、ナトリウムパ
ークロレート（過塩素酸ナトリウム）、リチウムパーク
ロレート、テトラブチルアンモニウムパークロレート、
テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレートなど
の塩、その他の塩基、酸などを用いることができる。

【００１２】さらに、溶媒としては、上記したモノマー
と支持電解質とを溶解する適当な溶媒として、水、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、ニトロメタン、テトラヒドロフラン・プロピレン
カーボネイトなどのうちの１種類、または複数種類を混
合したものを用いることができる。

【００１３】次に、図１（Ｃ）に示すように、ホール輸
送層１３を形成した透明基板１１の上に全面に発光層１
４を、例えば真空蒸着法や塗布法などの方法を用いて形
成する。この発光層１４としては、Ａｌｑ₃（トリス
（８−キノリール）アルミニウム錯体）や、低分子また
は高分子の分散型発光層を用いることができる。次に、
図１（Ｄ）に示すように、発光層１４の上に、電子輸送
層１５を真空蒸着法や塗布法を用いて形成する。この電
子輸送層１５は、例えばＡｌｑ3、この他オキサジアゾ
ール系化合物を用いることができる。その後、電子輸送
層１５の上にカソード電極としての金属電極１６を真空
蒸着法にて形成する。この金属電極１６としては、例え
ばインジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミ
ニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、リチウム（Ｌ
ｉ）、金（Ａｇ）などや、これらからなる合金を用いる
ことができる。また、これらにアルカリ金属元素を含ま
せても良い。

【００１４】この発明の実施形態１における電解重合法
を図６に示すとともに以下に説明する。本実施形態で
は、同図に示すように、アノード電極としての、ＩＴＯ
でなる透明電極４１上に、ホール輸送層４２をポリオク
チルチオフェン（以下、ＰＡＴ８と称する）で形成した
ことを特徴とする。このＰＡＴ８でホール輸送層４２を
形成するために、図２に示した電解重合装置２０を用い
る。なお、重合液２１はモノマーとして、オクチルチオ
フェンを０．１Ｍ〜１Ｍ、溶媒としては、アセトニトリ
ル、支持電解質としてナトリウムパークロレート０．１
〜１Ｍを用いる。表面にパターニングされた複数の透明
電極１２が設けられた透明基板１１は、電源２５の配線
２６に接続された支持部材２７で保持されている。透明
基板１１の下方には、重合液２１が満たされた重合槽２
２が配置され、重合液２１中にはそれぞれ電源２５に接
続された白金からなる対極２３と塩橋を介してＡｇ／Ａ
ｇＣ１からなる参照極２４とが配されている。なお、電
源２５は、ポテンショスタット（コントロール電源）と
クーロンメータ（電気量測定機）とから構成されてい
る。

【００１５】ここで、透明基板１１は、支持部材２７と
ともに下降し、透明電極１２を重合槽２２中の重合液２
１に浸漬させる。次いで電源２５から所定の値の電圧を
それぞれ対極２３及び配線２６、支持部材２７を介して
透明電極１２に印加すると、重合液２１中のモノマーが
透明電極１２上で電解重合により重合し、ホール輸送層
１３Ａが透明電極１２表面に均一な膜厚で形成される。
ホール輸送層１３Ａ形成後、支持部材２６の上昇ととも
に透明基板１１を上昇させ重合槽２２から引き出した
後、窒素フロー及び１５０℃で真空加熱し乾燥処理を行
なった。そして、発光層４３としては、ポリビニルカル
バゾール（ＰＶＣｚ）にビスナフチルオキサジアゾール
（ＢＮＤ）およびクマリン６を分散し、これをディップ
コート法にて形成する。また、金属電極４４は、アルミ
ニウムを蒸着して形成する。本実施形態では、電解重合
反応で形成したＰＡＴ８でなるホール輸送層１３の厚さ
は、約１０〜５００Åであり、発光層１４の厚さは約５
００〜６００Åに設定した。なお、発光部の直径を４ｍ
ｍとした。

【００１６】次に、このようにして製造された図６
（Ａ）に示す電界発光素子と、図６（Ｂ）に示すように
ＰＡＴ８でなるホール輸送層４２を備えない構造の電界
発光素子と、に示すように順方向バイアスを印加するこ
とで、どちらの素子からも明るいグリーンの発光が得ら
れた。このグリーンの発光スペクトルは、メタノール溶
媒に溶解したクマリン６の蛍光スペクトルと実質的に一
致しており、この発光は、ホールと電子の再結合による
クマリン６からの発光と考えられる。

【００１７】図７は、ＰＡＴ８でなる層がない素子とあ
る素子（本実施形態）の電圧−輝度特性を示している。
図７中の（ａ）＊は窒素フロー及び１５０℃で真空加熱
し乾燥処理を行なった素子で、（ａ）は上記乾燥工程を
行なわなかった素子で、（ｂ）は電解重合層（ＰＡＴ
８）を設けなかった素子の特性曲線である。ＰＡＴ８層
がない素子では、発光開始電圧が約１３Ｖで最大輝度は
約１０ｃｄ／ｍ²であった。これに対し、本実施形態で
は８Ｖでより明るい発光を確認でき、発光強度は約１０
０ｃｄ／ｍ²であった。このように、ＩＴＯ層（透明電
極４１）とＰＶＣｚ層（発光層４３）との間に、ＰＡＴ
８層（ホール輸送層４２）を介在させることにより、発
光開始電圧は５Ｖ低下し、発光強度は約十倍になった。
特に図７（ａ）＊に示すように、このＰＡＴ８の乾燥工
程はＥＬ特性を著しく向上させた。発光は、図７の
（ｂ）の素子より低い８Ｖで開始し、その発光強度は７
０倍である７００ｃｄ／ｍ²に達した。

【００１８】図８は、ＰＡＴ８の電荷量（膜厚）に対す
るＶ−Ｌ特性の依存性を示している。定電流８０μＡ／
ｃｍ²で時間を振って形成したＰＡＴ８層を用いた場
合、それぞれ異なった特性が得られた。最も良い特性が
得られたのは重合時間が１分のもの（膜厚２０ｎｍ）で
あった。実用的な発光強度は、ＰＡＴ８の膜厚が１ｎｍ
〜５０ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜４０ｎｍ、より好ま
しくは１５〜２５ｎｍのとき得られた。重合時間が１分
よりも大きくなると発光開始電圧は徐々に上昇し、発光
強度は低くなった。これは、ＩＴＯ層とＡｌ層との間の
抵抗が増加したためと考えられる。しかしながら、重合
時間が３０秒と短く、ＰＡＴ８の抵抗が低い場合には、
重合が十分でなく電極上に島状に輸送層が形成され、発
光効率が低下してしまい、特性はＰＡＴ８がない場合と
ほぼ同様な高い発光開始電圧と低い輝度であった。

【００１９】図９は、ＩＴＯ層上にＰＡＴ８層を形成し
たものの透過スペクトルを示している。また、図１０は
ＰＡＴ８を用いた素子（本実施形態）の発光スペクトル
を示している。このＥＬスペクトルは、クマリン６のＰ
Ｌスペクトルとよく似ており、そしてＰＡＴ８フィルム
の吸収による発光スペクトルの変化は起こされていな
い。よって、ＰＡＴ８層は、透明なホール輸送層として
機能することが判る。

【００２０】上記したように本実施形態は、電解重合に
よる最適化された膜厚に制御されたＰＡＴ８を乾燥処理
を行いホール輸送層として採用したため、高輝度、低発
光開始電圧を実現できる。この素子特性は、電解重合で
の電荷量に依存する。このため、電解重合に伴う各種パ
ラメータを制御することにより、ＥＬ特性の向上が可能
となる。

【００２１】以上の実施形態１の製造工程について説明
したが、本実施形態によれば、ホール輸送層１３に、ホ
ールの注入や、輸送性能に優れ、かつ熱的にも安定性の
高い共役系高分子材料の使用が可能となる。このため、
本実施形態においては、発光開始電圧を低下させること
が可能となり、また、発光効率や輝度を向上させること
ができる。さらに、本実施形態においては、熱的に安定
性が高いため、素子の寿命を長くすることができる。な
お、本実施形態においては、ホール輸送層１３を１層と
したが、図３に示すように、電解重合反応により形成さ
れたホール輸送層１３Ａと、低分子有機物でなるホール
輸送層１３Ｂと、を積層する構成としてもよい。

【００２２】（実施形態２）図４（Ａ）〜（Ｅ）は、こ
の発明の実施形態２を示す工程断面図である。まず、本
実施形態においては、図４（Ａ）に示すように、例えば
エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、セラミック、ガラス繊
維、またはそれらの複合物からなる絶縁基板３１の上
に、例えば蒸着法やスパッタ法を用いて形成した金属膜
をパターン形成して、カソード電極としての金属電極３
２とする。この金属電極３２の材料としては、例えばイ
ンジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウ
ム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、リチウム（Ｌｉ）、
金（Ａｇ）などや、これらからなる合金を用いるが、こ
の他の材料として、仕事関数の低い金属酸化物などによ
る透明材料を用いてもよい。

【００２３】この金属電極３２の表面に、図２に示した
電解重合装置２０を用いて、電子輸送層３３を形成す
る。本実施形態においても、モノマーとしては、チオフ
ェン、アルキルチオフェンをはじめとし、ベンゼン、ピ
ロール、フラン、アニリン、フルオレン、カルバゾール
などの導電性高分子材料、およびこれらの誘導体、そし
てスチレン、アリルベンゼンなどのアレーン、およびそ
の誘導体、さらにこれらの金属錯体などを用いることが
できる。また、支持電解質としては、ナトリウムパーク
ロレート、リチウムパークロレート、テトラブチルアン
モニウムパークロレート、テトラブチルアンモニウムテ
トラフルオロボレートなどの塩、その他の塩基、酸など
を用いることができる。さらに、溶媒としては、上記し
たモノマーと支持電解質とを溶解する適当な溶媒とし
て、水、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ニトロメタン、テトラヒドロフラン
などのうちの１種類、または複数種類を混合したものを
用いることができる。

【００２４】次に、全面に発光層３４を、例えば真空蒸
着法や塗布法などの方法を用いて形成する。この発光層
３４としては、Ａｌｑ₃（トリス（８−キノリール）ア
ルミニウム錯体）や、低分子または高分子の分散型発光
層を用いることができる。

【００２５】その後、この発光層３４の上に、ホール輸
送層３５を例えば真空蒸着法や塗布法などの手法を用い
て形成する。このホール輸送層３５の材料は、ＴＰＤや
ジアミン系化合物、スターバーストアミン系化合物など
を用いることができる。次に、これら有機層の上にアノ
ード電極としての透明電極３６をＩＴＯを用いて形成す
る。このようにして本実施形態の電界発光素子の製造が
完了する。

【００２６】上記したように、本実施形態にでは、電子
輸送層３３を電解重合反応により形成したことにより、
従来用いることができなかった、電子の注入、輸送性能
に優れ、熱的にも安定性の高い、共役系高分子の使用が
可能になる。このため、電界発光素子の発光開始電圧の
低下、発光効率や輝度の向上、および安定性の改善を実
現することができる。なお、図５に示すように、電子輸
送層３３を、電解重合でなる電子輸送層３３Ａと、低分
子有機物でなる電子輸送層３３Ｂと、を積層して構成し
てもよい。

【００２７】以上、各実施形態を説明したが、この発明
はこれらに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の設計変更が可能である。上記各実施形態で
は、電気化学法として電解重合法を用いたが、本発明は
これに限ることなく、電解合成法、電着塗装法、電気泳
動法等の手法を採用してもよい。また、上記各実施形態
では、発光層と正孔輸送層と電子輸送層とをそれぞれ別
の層として設けたいわゆるダブルヘテロ構造の発光素子
について説明したが、正孔輸送層或いは電子輸送層のい
ずれか一方を発光層とする、いわゆるシングルヘテロ構
造の発光素子にも同様に適用できる。また、透明電極と
正孔輸送層との密着性を向上させるために、電解重合前
に透明電極をシラン系、チタネート系カップリング剤で
処理してもよい。また電子輸送層は発光効率を向上させ
るため低仕事関数の金属を用いているが、この上に電解
重合法により電子輸送層を形成する場合は、電子輸送層
が酸化により電極として劣化しすぎない程度の電圧を印
加する必要がある。なお、アノード電極及びカソード電
極はストライプ形状にしてもよく、また、電解重合によ
り形成された電荷輸送層に接触する電極をマトリクス状
に形成しそれぞれにＴＦＴ等のスイッチング素子を接続
させ他方の電極を一枚形成してアクティブ駆動させても
よい。上記各実施形態では、発光層に含有される色素と
してはクマリン系の蛍光色素を適用し緑色を発光させる
電界発光素子であったが、これに限らず異なる色或いは
複数の色を発光させるため、ペリレン系、オキサゾール
系、オキサジン系、ナフタレン系、キノロン系等及びそ
の誘導体の蛍光色素、さらにはカチオン系、アニオン系
の一種または複数種が用いられてもよい。

【００２８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明によれば、電荷の注入、輸送性能に優れ、熱的にも安
定性の高い共役系高分子を、電界発光素子の電荷輸送層
として用いることを可能にするという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）〜（Ｅ）は本発明の実施形態１を示す工
程断面図。

【図２】電解重合装置の説明図。

【図３】実施形態１の変形例を示す斜視図。

【図４】実施形態２の工程断面図。

【図５】実施形態２の変形例を示す斜視図。

【図６】（Ａ）は実施形態１を示す説明図、（Ｂ）は比
較例を示す説明図。

【図７】ＰＡＴ８層を有する実施形態１と、ＰＡＴ８を
有しない比較例の発光強度と電圧との関係を示すグラ
フ。

【図８】ホール輸送層の電解重合時間の違いによる発光
強度と電圧との関係を示すグラフ。

【図９】実施形態１の透過率と波長との関係を示すグラ
フ。

【図１０】実施形態１の発光強度と波長との関係を示す
グラフ。

【図１１】従来の電界発光素子の構造を示す斜視図。

【符号の説明】

１２透明電極１３ホール輸送層１４発光層１５電子輸送層１６金属電極２０電解重合装置３２金属電極３３電子輸送層３４発光層３５ホール輸送層３６透明電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】相対向するアノード電極とカソード電極
との間に、正孔輸送層と電子輸送層とを備えた電界発光
素子の製造方法において、前記正孔輸送層と前記電子輸送層の少なくとも一方は、
電気化学法により前記アノード電極とカソード電極の少
なくとも一方を覆うように形成することを特徴とする電
界発光素子の製造方法。
【請求項２】前記正孔輸送層と前記電子輸送層の少な
くとも一方は、ポリオクチルチオフェンであることを特
徴とする請求項１記載の電界発光素子の製造方法。
【請求項３】前記正孔輸送層と前記電子輸送層との間
に発光層を形成することを特徴とする請求項１記載の電
界発光素子の製造方法。
【請求項４】前記アノード電極と前記カソード電極の
少なくとも一方は複数であり、前記正孔輸送層と前記電
子輸送層との少なくとも一方は前記アノード電極と前記
カソード電極の少なくとも一方に対応するように複数で
あり互いに離間していることを特徴とする請求項１記載
の電界発光素子の製造方法。
【請求項５】前記正孔輸送層と前記電子輸送層の少な
くとも一方は、層厚が１〜５０ｎｍであることを特徴と
する請求項１〜４のいずれかに記載の電界発光素子の製
造方法。
【請求項６】前記正孔輸送層と前記電子輸送層との少
なくとも一方は形成後、窒素乾燥処理と減圧加熱乾燥処
理の少なくとも一方を行なうことを特徴とする請求項１
〜５のいずれかに記載の電界発光素子の製造方法。
【請求項７】前記電気化学法は、前記アノード電極あ
るいはカソード電極を正孔輸送層形成材料或いは電子輸
送層形成材料を含む重合液に浸漬させた後、前記電極に
電圧を印加し、前記電極上に正孔輸送層或いは電子輸送
層を覆うように形成する電解重合法であることを特徴と
する請求項１〜６のいずれかに記載の電界発光素子の製
造方法。