JPH10100363A - Thermal mode recording material and production of driographic printing plate - Google Patents

Thermal mode recording material and production of driographic printing plate

Info

Publication number
JPH10100363A
JPH10100363A JP9269171A JP26917197A JPH10100363A JP H10100363 A JPH10100363 A JP H10100363A JP 9269171 A JP9269171 A JP 9269171A JP 26917197 A JP26917197 A JP 26917197A JP H10100363 A JPH10100363 A JP H10100363A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
recording material
mode recording
thermal mode
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9269171A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eric Verschueren
エリク・ベルシユエレン
Joan Vermeersch
ジヨアン・ベルメールシユ
Trier Jean Van
ジーン・バン・トリエ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JPH10100363A publication Critical patent/JPH10100363A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal mode recording material for producing a DRIOGRAPHIC printing plate of high quality not too much generating blocking. SOLUTION: A recording layer containing a light-heat conversion substance capable of converting radiant light to heat and an oleophobic surface layer are provided on one surface of a support having an oleophilic surface and, herein, the oleophobic surface layer and the recording layer can be the same layer. A lining layer is provided on the other surface of the support and the max. roughness depth R1 of the surface layer is at lest 0.65×m and/or the max. roughness depth of an outer rear layer is at least 1.20×m.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【1.発明の分野】本発明は、湿し液を用いない平版印
刷で用いるための平版印刷版の作製のための熱モード記
録材料に関する。本発明はさらに、レーザーを用いて該
熱モード記録材料に画像形成するための方法に関する。
[1. FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a thermal mode recording material for preparing a lithographic printing plate for use in fountainless lithographic printing. The invention further relates to a method for imaging the thermal mode recording material with a laser.

【0002】[0002]

【2.発明の背景】平版印刷は、その表面のいくらかの
領域がインキを受容することができるが(親油性領
域)、他の領域はインキを受容しない(疎油性領域)特
別に作られた表面からの印刷方法である。親油性領域は
印刷領域を形成するが、疎油性領域は背景領域を形成す
る。
[2. BACKGROUND OF THE INVENTION Lithographic printing involves the use of a specially prepared surface from a specially prepared surface where some areas of the surface can accept ink (oleophilic areas) while others do not. The printing method. The oleophilic area forms the printing area, while the oleophobic area forms the background area.

【0003】2つの基本的な型の平版印刷版が既知であ
る。第1の型、いわゆる湿式印刷版に従うと、水又は水
性湿し液及びインキの両方が親水性及び疎水性領域を含
有する印刷版表面に適用される。親水性領域は水又は湿
し液で湿され、それにより疎油性とされるが、疎水性領
域はインキを受容する。第2の型の平版印刷版は湿し液
を用いずに操作され、ドリオグラフィック(driog
raphic)印刷版と呼ばれる。この型の印刷版は高
インキ反発性領域と親油性領域を含む。一般に高インキ
反発性領域はシリコン層により形成される。
[0003] Two basic types of lithographic printing plates are known. According to a first type, the so-called wet printing plate, both water or an aqueous dampening solution and ink are applied to the printing plate surface containing hydrophilic and hydrophobic areas. The hydrophilic areas are moistened with water or dampening liquid, thereby rendering them oleophobic, whereas the hydrophobic areas receive ink. A second type of lithographic printing plate is operated without the use of a dampening solution and is driographic.
called a printing plate. This type of printing plate contains areas of high ink repellency and lipophilic areas. Generally, the high ink repellent area is formed by a silicon layer.

【0004】ドリオグラフィック印刷版は、写真材料を
露光すると画像通りにインキに対して受容性又は反発性
とされる写真材料を用いて作製することができる。しか
し、画像通りに熱に暴露すると及び/又は続いて現像す
ると、その表面をインキに対して画像通りに受容性又は
反発性とすることができる熱モード記録材料も、ドリオ
グラフィック印刷版の作製に関して既知である。
[0004] Drographic printing plates can be made using photographic materials that are made image-receptive or repellent to the ink upon exposure of the material. However, thermal mode recording materials whose surface can be made image-wise receptive or repellent to the ink upon image-wise exposure to heat and / or subsequent development, also have implications for making driographic printing plates. Is known.

【0005】例えばDE−A−2512038には、親
油性表面を担持しているか又は有している支持体上に、
(i)自己酸化性結合剤、例いえばニトロセルロース及
び輻射線を熱に変換することができる物質、例えばカー
ボンブラックを含有する熱モード記録層、ならびに(i
i)表面層としての非−硬膜シリコン層を含む熱モード
記録材料が開示されている。開示されている熱モード記
録材料は、レーザーを用いて画像通りに露光され、続い
て露光された領域のシリコン層を溶解することができる
現像液を用いて現像される。この現像に続き、シリコン
表面層が硬膜される。現像液としてナフサが用いられる
ので、この方法は生態学的に不利である。さらに、表面
層が硬膜されていないので、熱モード記録材料が取り扱
いの間に容易に損傷を受け得る。
[0005] For example, DE-A-2512038 discloses that on a support bearing or having a lipophilic surface,
(I) a thermal mode recording layer containing a self-oxidizing binder such as nitrocellulose and a substance capable of converting radiation into heat, for example, carbon black;
i) A thermal mode recording material comprising a non-hardened silicon layer as a surface layer is disclosed. The disclosed thermal mode recording material is image-wise exposed using a laser and subsequently developed using a developer capable of dissolving the silicon layer in the exposed areas. Following this development, the silicon surface layer is hardened. This method is ecologically disadvantageous because naphtha is used as developer. Furthermore, since the surface layer is not hardened, the thermal mode recording material can be easily damaged during handling.

【0006】FR−A−1.473.751は、親油性
表面を有する基質、ニトロセルロースとカーボンブラッ
クを含有する層及びシリコン層を含む熱モード記録材料
を開示している。レーザーを用いる画像通りの露光の
後、画像形成された領域は親油性とされると言われてい
る。分解されたシリコン層は除去されない。得られる印
刷版のインキ受容性は低く、印刷耐久性及びコピーの解
像度などの印刷性は幾分劣っている。
[0006] FR-A-1.473.751 discloses a thermal mode recording material comprising a substrate having a lipophilic surface, a layer containing nitrocellulose and carbon black and a silicon layer. After image-wise exposure with a laser, the imaged area is said to be lipophilic. The decomposed silicon layer is not removed. The printing plate obtained has a low ink acceptability and has somewhat poor printability such as print durability and copy resolution.

【0007】1980年4月のResearch Di
sclosure 19201は、熱モード記録層とし
てのビスマス層及びその上にシリコン層が設けられたポ
リエステルフィルム支持体を含む熱モード記録材料を開
示している。開示されている熱モード記録材料は、アル
ゴンレーザーを用いて画像形成され、ヘキサンを用いて
現像される。
Research Di of April 1980
Closure 19201 discloses a thermal mode recording material including a polyester film support having a bismuth layer as a thermal mode recording layer and a silicon layer provided thereon. The disclosed thermal mode recording material is imaged with an argon laser and developed with hexane.

【0008】EP−A−573091は、親油性表面を
有する支持体上に(i)厚さが3μm以下であり且つレ
ーザービーム輻射線を熱に変換することができる物質を
含有する記録層、及び(ii)硬膜された疎油性表面層
を含み、ここで該記録層及び疎油性表面層が同じ層であ
ることができる熱モード記録材料を必要とする平版印刷
版の作製法を開示している。
EP-A-573091 discloses a recording layer on a support having a lipophilic surface, (i) a recording layer containing a substance having a thickness of 3 μm or less and capable of converting laser beam radiation into heat; (Ii) Disclosed is a method of making a lithographic printing plate that includes a hardened oleophobic surface layer, wherein the recording layer and the oleophobic surface layer require a thermal mode recording material that can be the same layer. I have.

【0009】以上のとおり、熱モード記録材料を用いて
ドリオグラフィック印刷版を作製するための複数の提案
が成されてきたことがわかる。これらの印刷版はすべ
て、それらがブロッキングを起こすという欠点を有す
る。これは、二次加工の間の巻き上げ、フォーマットカ
ッティング及び包装、印刷機上の自動装填、照射ステー
ションを通る輸送などの該材料が輸送されるすべての段
階で困難を生ずる。
As described above, it can be seen that a plurality of proposals for producing a driographic printing plate using a thermal mode recording material have been made. All these printing plates have the disadvantage that they cause blocking. This creates difficulties at all stages in which the material is transported, such as winding up during secondary processing, format cutting and packaging, automatic loading on the press, transport through irradiation stations, and the like.

【0010】[0010]

【3.発明の概略】本発明の目的は、ブロッキングをあ
まり起こさない高品質のドリオグラフィック印刷版を作
製するための、代換え的熱モード記録材料を提供するこ
とである。
[3. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an alternative thermal mode recording material for making high quality driographic printing plates that cause less blocking.

【0011】本発明のさらなる目的は、ブロッキングを
あまり起こさない熱モード記録材料を用いて高品質のド
リオグラフィック印刷版を得るための方法を提供するこ
とである。
It is a further object of the present invention to provide a method for obtaining a high quality driographic printing plate using a thermal mode recording material which does not cause much blocking.

【0012】本発明のさらに別の目的は、下記の記述か
ら明らかになるであろう。
Further objects of the present invention will become clear from the description hereinafter.

【0013】本発明に従えば、親油性表面を有する支持
体の1つの側上に、(i)輻射線を熱に変換することが
できる光から熱への変換物質を含有する記録層及び(i
i)疎油性表面層を含み、ここで該疎油性表面層及び該
記録層は同じ層であることができ、そして支持体の他の
側上に裏引き層を含む熱モード記録材料であって、表面
層の最大粗さ深度(maximum rougness
depth)Rtが少なくとも0.65μmであり、
及び/又は外裏層(outer back laye
r)の最大粗さ深度が少なくとも1.20μmであるこ
とを特徴とする熱モード記録材料が提供される。
According to the present invention, on one side of a support having a lipophilic surface, (i) a recording layer containing a light-to-heat conversion material capable of converting radiation to heat; and i
i) a thermal mode recording material comprising an oleophobic surface layer, wherein the oleophobic surface layer and the recording layer can be the same layer and comprise a backing layer on the other side of the support; , The maximum roughness depth of the surface layer (maximum roughness)
depth) R t is at least 0.65 μm,
And / or outer back layer
A thermal mode recording material is provided, characterized in that the maximum roughness depth of r) is at least 1.20 μm.

【0014】本発明に従えば、また、 −上記の熱モード記録材料をレーザービームを用いて画
像通りに露光し; −露光された熱モード記録材料を現像し、それにより露
光された領域の該疎油性表面層を除去して下にある親油
性層を露出させる段階を含む、湿し液を必要としない平
版印刷版の作製法も提供される。
According to the invention, it is also provided that:-the thermal mode recording material described above is image-wise exposed using a laser beam;-the exposed thermal mode recording material is developed, whereby the exposed area of the material is exposed. Also provided is a method of making a lithographic printing plate that does not require a dampening solution, comprising removing the oleophobic surface layer to expose the underlying lipophilic layer.

【0015】[0015]

【4.発明の詳細な記述】上記の熱モード記録材料は、
表面層の最大粗さ深度Rtが少なくとも0.65μmで
あり、及び/又は外裏層の最大粗さ深度が少なくとも
1.20μmである場合にブロッキングの低下を示し、
それは該材料のより容易な製造及び使用ならびにその物
理的性質(より少ないしわ)に関して改良された印刷版
に導くことが見いだされた。
[4. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The above thermal mode recording material comprises:
Maximum roughness depth R t of the surface layer is at least 0.65 .mu.m, and / or the maximum roughness depth of the outer backing layer showed a decrease in blocking when at least 1.20 .mu.m,
It has been found that it leads to easier production and use of the material and an improved printing plate with regard to its physical properties (less wrinkles).

【0016】外層の輪郭は、測定ヘッドとしてRTK
50(Feinpruef Perthen Gmb
H,Goettingen,Germanyの商品名)
を含有し、5μmの直径を有するダシヤモンド針が設け
られたパーソメーター(perthometer)Ma
hr Perthen S6Pを用い、当該技術分野に
おいて周知の方法に従って1.0mNの圧力下で測定さ
れる。
[0016] The contour of the outer layer is the RTK as the measuring head.
50 (Feinpreff Perthen GmbH)
H, Gottingen, Germany)
And a persometer Ma equipped with a dashmear needle having a diameter of 5 μm.
Measured under a pressure of 1.0 mN using hr Perthen S6P according to methods well known in the art.

【0017】粗さの評価のための参照長であるサンプリ
ング長Lsは0.25mmの長さである。粗さ輪郭Rを
得るために評価される横断長Ltの部分である評価長
m’は、標準的な5つの連続サンプリング長を含有す
る。横断長Ltは、粗さ輪郭を得る場合に追跡系が移動
する全体的長さである。最大粗さ深度Rtは、粗さ輪郭
Rの最高点及び最低点の間の垂直の距離である。
The sampling length L s which is the reference length for roughness evaluation of the length of 0.25 mm. The evaluation length L m ′, which is part of the traversal length L t evaluated to obtain the roughness profile R, contains five standard consecutive sampling lengths. The traversing length Lt is the overall length that the tracking system moves to obtain a roughness profile. The maximum roughness depth Rt is the vertical distance between the highest and lowest points of the roughness contour R.

【0018】該材料の裏側は、支持体に関して疎油性表
面層を載せていない材料の側を意味し、前側は、支持体
に関して疎油性表面層を載せている材料の側を意味す
る。
The back side of the material refers to the side of the material not bearing the oleophobic surface layer with respect to the support, and the front side refers to the side of the material bearing the oleophobic surface layer with respect to the support.

【0019】表面層の最大粗さ深度Rtは、少なくとも
0.7μmであるのが好ましい。
The maximum roughness depth R t of the surface layer is preferably at least 0.7 [mu] m.

【0020】外裏側層の最大粗さ深度Rtを得るため
に、熱モード記録材料の支持体は裏側コーティングで処
理される。外前側層の最大粗さ深度Rtを向上させるた
めに、疎油性表面層に艶消し剤が加えられる。
In order to obtain a maximum roughness depth R t of the outer backside layer, the support of the heat mode recording material is processed in the back coating. In order to improve the maximum roughness depth R t of the outer front layer, matting agent is added to the oleophobic surface layer.

【0021】本発明に従う好ましい裏側コーティング
は、175〜750mg/m2のゼラチン、50〜10
00mg/m2の少なくとも100m2/グラム、より好
ましくは少なくとも300m2/グラムの表面積を有す
るコロイドシリカ、及び1〜100mg/m2の好まし
くは1〜10μmの直径を有する非晶質シリカを含有す
る。
A preferred backside coating according to the present invention is 175-750 mg / m 2 gelatin, 50-10
At least 100 m 2 / g 200 mg / m 2, more preferably colloidal silica with a surface area of at least 300 meters 2 / gram, and preferably 1 to 100 mg / m 2 containing amorphous silica having a 1~10μm diameter .

【0022】本発明に従う他の好ましい裏側コーティン
グは、100〜500mg/m2のポリメチル−メタク
リレートラテックス(粒径が好ましくは25〜300n
m)、5〜50mg/m2の少なくとも100m2/グラ
ムの表面積を有するコロイドシリカ、3〜30mg/m
2のポリエチレンワックス、3.1〜12mg/m2のポ
リスチレンスルホン酸、0.9〜4mg/m2のポリ
(3,4−エチレンジオキシ−チオフェン)及び10〜
100mg/m2のポリメチル−メタクリレート艶消し
剤(好ましくは2〜10μmの直径を有する)を含む。
Another preferred backside coating according to the present invention is a 100-500 mg / m 2 polymethyl-methacrylate latex (preferably 25-300 n
m), colloidal silica having a surface area of at least 100 m 2 / gram 5~50mg / m 2, 3~30mg / m
2 , polyethylene wax of 3.1 to 12 mg / m 2 of polystyrene sulfonic acid, 0.9 to 4 mg / m 2 of poly (3,4-ethylenedioxy-thiophene) and
It contains 100 mg / m 2 of a polymethyl-methacrylate matting agent (preferably having a diameter of 2 to 10 μm).

【0023】本発明に従うさらに別の好ましい裏側コー
ティングは、PVA、TiO2及び加水分解テトラアル
キルオルトシリケートを含み、ここでSiO2は該マト
リックスの合計重量の7〜30重量%を構成し、TiO
2は該マトリックスの合計重量の63〜83重量%を構
成し、PVAは該マトリックスの合計重量の7〜30重
量%を構成する。該マトリックスの合計重量は5〜10
g/m2に含まれる。該マトリックスに3〜500mg
/m2の量で艶消し剤、例えば澱粉、酸化ケイ素、ケイ
酸塩、ガラス粒子、トナー粒子を加えることができる。
Yet another preferred backside coating according to the present invention comprises PVA, TiO 2 and hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate, wherein SiO 2 comprises 7-30% by weight of the total weight of the matrix,
2 comprises 63-83% by weight of the total weight of the matrix, and PVA makes up 7-30% by weight of the total weight of the matrix. The total weight of the matrix is 5-10
g / m 2 . 3 to 500 mg in the matrix
Matting agents such as starch, silicon oxide, silicates, glass particles, toner particles can be added in an amount of / m 2 .

【0024】必要な最大粗さ深度Rtを得るために疎油
性表面層に加えられる艶消し剤は、有機ポリマー又はコ
ポリマー、例えばアクリル酸及びメチルアクリレートの
コポリマー又はスチレン、メチル−メタクリレート及び
マレイン酸のコポリマーであることができる。該艶消し
剤は無機化合物、例えばシリカ又はケイ酸塩であるのが
より好ましい。
The maximum roughness depth R t matting agent added to the oleophobic surface layer in order to obtain the necessary, organic polymers or copolymers, such as copolymers or styrene acrylic acid and methyl acrylate, methyl - methacrylate and maleic acid It can be a copolymer. More preferably, the matting agent is an inorganic compound, such as silica or silicate.

【0025】該艶消し剤は少なくとも2μm、より好ま
しくは少なくとも3μm、最も好ましくは少なくとも4
μmの重量平均直径を有する。最大重量平均はあまり重
要ではないが、実施上の理由から100μm未満、より
好ましくは60μm未満である。
The matting agent is at least 2 μm, more preferably at least 3 μm, most preferably at least 4 μm.
It has a weight average diameter of μm. The maximum weight average is not critical, but for practical reasons is less than 100 μm, more preferably less than 60 μm.

【0026】本発明に従うと、該疎油性表面層は好まし
くは少なくとも2μmの重量平均直径を有する少なくと
も30mg/m2の艶消し剤、より好ましくは50〜1
000mg/m2の該艶消し剤、最も好ましくは75〜
500mg/m2の該艶消し剤を含む。
According to the invention, the oleophobic surface layer preferably has a weight-average diameter of at least 2 μm, at least 30 mg / m 2 of matting agent, more preferably 50 to 1
000 mg / m 2 of the matting agent, most preferably 75 to
Contains 500 mg / m 2 of the matting agent.

【0027】本発明と関連して用いられる熱モード記録
材料に適した支持体は、親油性表面を有する非−金属性
柔軟性支持体、例えばポリ(エチレンテレフタレート)
フィルム又はポリ(エチレンナフタレンジカルボキシレ
ート)フィルムを例とするポリエチレンフィルム支持
体、ポリエチレンなどのポリオレフィンがコーティング
された紙、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフ
ィルムなどであるのが好ましい。しかし金属性支持体、
例えばアルミニウムも本発明と関連して用いることがで
きる。支持体の表面が親油性でないか、又はそれが不十
分な場合、それに親油性層を設けることができる。
Suitable supports for the thermal mode recording material used in connection with the present invention are non-metallic flexible supports having an oleophilic surface, such as poly (ethylene terephthalate)
It is preferably a polyethylene film support such as a film or a poly (ethylene naphthalenedicarboxylate) film, a paper coated with a polyolefin such as polyethylene, a polycarbonate film, a polystyrene film, or the like. But metallic supports,
For example, aluminum can also be used in connection with the present invention. If the surface of the support is not or is not lipophilic, it can be provided with a lipophilic layer.

【0028】本発明の好ましい実施態様に従うと、熱モ
ード記録材料は、熱変換物質を含有する分離された熱モ
ード記録層を、支持体及び疎油性表面層の間に含有する
ことができる。輻射線を熱に変換することができる物質
の例は、例えばカーボンブラック、赤外又は近赤外吸収
色素もしくは顔料、Bi、Sn、Teなどの金属、又は
それらの組み合わせである。適した赤外色素は、例えば
US−4833124、EP−321923、US−4
772583、US−4942141、US−4948
776、US−4948777、US−494877
8、US−4950639、US−4950640、U
S−4912083、US−4952552、US−5
024990、US−5023229などに開示されて
いる。適した赤外顔料は、例えばHeubach La
ngelsheimから入手可能なHEUCODOR酸
化金属顔料である。ビスマスなどの金属を熱変換物質と
して用いる場合、記録層は真空蒸着金属層であるのが好
ましい。
According to a preferred embodiment of the present invention, the thermal mode recording material may contain a separate thermal mode recording layer containing a heat converting substance between the support and the oleophobic surface layer. Examples of substances capable of converting radiation into heat are, for example, carbon black, infrared or near infrared absorbing dyes or pigments, metals such as Bi, Sn, Te, or combinations thereof. Suitable infrared dyes are, for example, US-4833124, EP-321923, US-4.
775883, US-4942141, US-4948
776, US-4948777, US-494877
8, U.S. Pat. No. 4,950,639, U.S. Pat. No. 4,950,640, U
S-4912083, US-495552, US-5
024990, US Pat. No. 5,023,229. Suitable infrared pigments are, for example, Heubach La
HEUCODER metal oxide pigment available from Ngelsheim. When a metal such as bismuth is used as the heat conversion material, the recording layer is preferably a vacuum-deposited metal layer.

【0029】本発明に従うと、記録層の厚さは、許容さ
れ得る品質の印刷版を得るために3μm以下であるのが
好ましく、厚さは2.5μm未満であるのがより好まし
い。典型的に記録層は15nm〜1.5μmの厚さを有
するのが好ましい。記録層の好ましい最大3μmという
厚さは、支持体を介して露光が行われる場合に特に重要
である。
According to the present invention, the thickness of the recording layer is preferably 3 μm or less, more preferably less than 2.5 μm, to obtain a printing plate of acceptable quality. Typically, the recording layer preferably has a thickness of 15 nm to 1.5 μm. The preferred maximum thickness of the recording layer of 3 μm is particularly important when the exposure is performed through a support.

【0030】本発明の特定の実施態様に従うと、記録層
は真空蒸着されたアルミニウム層であることができる。
しかしそのようなアルミニウム層の厚さは25nm未満
でなければならず、10nm〜22.5nmがより好ま
しい。アルミニウム記録層の厚さが厚くなりすぎると、
本発明と関連する熱モード記録材料は画像形成されるこ
とができない。
According to a particular embodiment of the present invention, the recording layer can be a vacuum-deposited aluminum layer.
However, the thickness of such an aluminum layer must be less than 25 nm, more preferably between 10 nm and 22.5 nm. If the thickness of the aluminum recording layer becomes too thick,
The thermal mode recording material associated with the present invention cannot be imaged.

【0031】本発明と関連して用いられる熱モード記録
層は、結合剤、例えばゼラチン、セルロース、セルロー
スエステル類、例えば酢酸セルロース、ニトロセルロー
ス、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルのコポリマー、ポリ
(メタ)アクリレート、ポリ塩化ビニル、シリコン樹脂
などを含有することができる。記録層はさらに他の成
分、例えば湿潤剤、艶消し剤、酸化防止剤などを含有す
ることができる。熱モード記録層は、共有結合した塩素
を含有するポリマーを含有するのが好ましい。別の場
合、このポリマーの一部又は全部を熱モード記録層に隣
接して、最も好ましくは支持体と熱モード記録層の間に
置かれる分離された層中に含有することができる。
The thermal mode recording layer used in connection with the present invention may comprise a binder such as gelatin, cellulose, cellulose esters such as cellulose acetate, nitrocellulose, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, a copolymer of vinylidene chloride and acrylonitrile, It may contain (meth) acrylate, polyvinyl chloride, silicone resin, and the like. The recording layer can further contain other components such as wetting agents, matting agents, antioxidants and the like. The thermal mode recording layer preferably contains a polymer containing covalently bonded chlorine. Alternatively, some or all of the polymer may be contained adjacent to the thermal mode recording layer, most preferably in a separate layer located between the support and the thermal mode recording layer.

【0032】本発明と関連する熱モード記録層は硬膜さ
れることができる。例えばイソシアナート又はメラミン
を用いて硬膜されたニトロセルロース層を用いることが
できる。
The thermal mode recording layer associated with the present invention can be hardened. For example, a nitrocellulose layer hardened with isocyanate or melamine can be used.

【0033】共有結合塩素を含有するポリマーが記録材
料の熱モード記録層又は隣接層に含有される場合、記録
材料の速度を増すことができることが見いだされた。
It has been found that the speed of the recording material can be increased if the polymer containing covalent chlorine is contained in the thermal mode recording layer or an adjacent layer of the recording material.

【0034】本発明に従って用いるのに適した塩素含有
ポリマーは、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン、アクリルエステル及びイタコン酸
のコポリマー、塩化ビニル及び塩化ビニリデンのコポリ
マー、塩化ビニル及び酢酸ビニルのコポリマー、ブチル
アクリレート、酢酸ビニル及び塩化ビニルもしくは塩化
ビニリデンのコポリマー、塩化ビニル、塩化ビニリデン
及びイタコン酸のコポリマー、塩化ビニル、酢酸ビニル
及びビニルアルコールのコポリマー、塩素化ポリエチレ
ン、ポリクロロプレン及びそれらのコポリマー、クロロ
スルホン化ポリエチレン、ポリクロロトリフルオロエチ
レン、ポリメチル−アルファ−クロロアクリレートなど
である。
Chlorine-containing polymers suitable for use in accordance with the present invention include, for example, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride, copolymers of acrylic esters and itaconic acid, copolymers of vinyl chloride and vinylidene chloride, vinyl chloride and vinyl acetate. Copolymers, butyl acrylate, vinyl acetate and vinyl chloride or vinylidene chloride copolymers, vinyl chloride, vinylidene chloride and itaconic acid copolymers, vinyl chloride, vinyl acetate and vinyl alcohol copolymers, chlorinated polyethylene, polychloroprene and their copolymers, chloro Sulfonated polyethylene, polychlorotrifluoroethylene, polymethyl-alpha-chloroacrylate and the like.

【0035】本発明と関連して用いられる塩素含有ポリ
マーは、構成モノマーの種々の重合法により製造するこ
とができる。例えば触媒及び活性化剤、例えば過硫酸ナ
トリウム及びメタ亜硫酸水素ナトリウム、ならびに乳化
剤及び/又は分散剤を含有する水性分散液中で重合を行
うことができる。別の場合、希釈剤を添加せずに塊状で
モノマー成分を重合させることにより、本発明と共に用
いられるホモポリマー又はコポリマーを製造することが
でき、あるいはモノマーを適した有機溶媒反応媒体中で
反応させることができる。合計触媒−活性化剤濃度は一
般にモノマー装填量の約0.01%〜約2.0重量%の
範囲内に保たれねばならず、0.1%〜1.0%の範囲
内の濃度が好ましい。コポリマーの架橋を低下させるの
に有効であるエチルメルカプタン、ラウリルメルカプタ
ン、第3ドデシルメルカプタンなどのメルカプタン類の
存在下で重合を行うことにより、改善された溶解度及び
粘度の値を得ることができる。一般にメルカプタン類
は、装填物中に存在する重合可能なモノマーの重量に基
づいて0.1%〜5.0重量%の濃度で用いられるべき
である。
The chlorine-containing polymer used in connection with the present invention can be produced by various polymerization methods of the constituent monomers. For example, the polymerization can be carried out in an aqueous dispersion containing a catalyst and an activator, such as sodium persulfate and sodium metabisulfite, and an emulsifier and / or dispersant. In other cases, homopolymers or copolymers for use with the present invention can be prepared by polymerizing the monomer components in bulk without the addition of diluents, or the monomers are reacted in a suitable organic solvent reaction medium. be able to. The total catalyst-activator concentration should generally be kept in the range of about 0.01% to about 2.0% by weight of the monomer charge, with a concentration in the range of 0.1% to 1.0%. preferable. Improved solubility and viscosity values can be obtained by conducting the polymerization in the presence of mercaptans, such as ethyl mercaptan, lauryl mercaptan, tertiary dodecyl mercaptan, which are effective in reducing cross-linking of the copolymer. In general, the mercaptans should be used at a concentration of 0.1% to 5.0% by weight, based on the weight of polymerizable monomers present in the charge.

【0036】別の場合、ホモポリマー又はコポリマーを
塩素化することにより塩素含有ポリマーを製造すること
ができる。例えばゴムを塩素ガスと反応させることによ
り、ポリクロロプレンなどの塩素化ゴムを製造すること
ができる。類似の方法で塩素化ポリエチレンを製造する
ことができる。
In another case, a chlorine-containing polymer can be produced by chlorinating a homopolymer or copolymer. For example, chlorinated rubber such as polychloroprene can be produced by reacting rubber with chlorine gas. Chlorinated polyethylene can be produced in a similar manner.

【0037】別の実施態様に従うと、熱変換物質が疎油
性表面層に含有されることができ、但し該物質はそこに
均一に分布する。
According to another embodiment, a heat conversion substance can be included in the oleophobic surface layer, provided that the substance is uniformly distributed there.

【0038】本発明に従う疎油性表面層は、好ましくは
少なくとも1.0μm、より好ましくは少なくとも1.
5μmの厚さを有する。表面層の最大の厚さは重要では
ないが、5μm以下が好ましく、4μm以下がより好ま
しい。疎油性表面層の厚さは、印刷版の印刷耐久性、鮮
鋭度及び解像度に影響することが見いだされた。
The oleophobic surface layer according to the present invention is preferably at least 1.0 μm, more preferably at least 1.
It has a thickness of 5 μm. The maximum thickness of the surface layer is not critical, but is preferably 5 μm or less, more preferably 4 μm or less. It has been found that the thickness of the oleophobic surface layer affects the printing durability, sharpness and resolution of the printing plate.

【0039】本発明に従うと、疎油性表面層は硬膜され
るのが好ましく、硬膜されたシリコンコーティングを含
有するのがより好ましい。シリコンコーティングは、そ
の1種が一般に、両末端において化学的に反応性の基で
停止されている直鎖状シリコンポリマーである1種又は
それ以上の成分、ならびに硬膜剤としての多官能基成分
を含有するのが好ましい。シリコンコーティングは、縮
合硬膜、付加硬膜又は放射線硬膜により硬膜させること
ができる。
In accordance with the present invention, the oleophobic surface layer is preferably hardened, and more preferably contains a hardened silicon coating. Silicon coatings comprise one or more components, one of which is generally a linear silicone polymer terminated at both ends with chemically reactive groups, as well as a multifunctional component as a hardener. Is preferable. The silicon coating can be hardened by condensation hardening, additional hardening or radiation hardening.

【0040】縮合硬膜は、多官能基シランを用いて硬膜
することができるヒドロキシ末端ポリシロキサンを用い
ることにより行うことができる。適したシラン類は、例
えばアセトキシシラン類、アルコキシシラン類及びオキ
シム官能基を含有するシラン類である。一般に縮合硬膜
は、1種又はそれ以上の触媒、例えば錫塩又はチタン塩
の存在下で行われる。別の場合、ヒドロキシ末端ポリシ
ロキサンを、例えばジブチル錫二酢酸塩を例とする触媒
の存在下でポリヒドロシロキサンポリマーを用いて硬膜
することができる。
The condensation hardening can be carried out by using a hydroxy-terminated polysiloxane that can be hardened with a polyfunctional silane. Suitable silanes are, for example, acetoxysilanes, alkoxysilanes and silanes containing oxime functionality. In general, condensation hardening is carried out in the presence of one or more catalysts, for example tin salts or titanium salts. Alternatively, the hydroxy-terminated polysiloxane can be hardened with a polyhydrosiloxane polymer in the presence of a catalyst, for example, dibutyltin diacetate.

【0041】付加硬膜は、例えば白金などの触媒の存在
下における二重結合へのSi−Hの付加に基づく。かく
して付加硬膜に従って硬膜することができるシリコンコ
ーティングは、ビニル基含有ポリマー、例えばクロロ白
金酸錯体などの触媒及びポリメチルヒドロシロキサンな
どのポリヒドロシロキサンを含む。適したビニル基含有
ポリマーは、例えばビニルジメチル末端ポリジメチルシ
ロキサン及びジメチルシロキサン/ビニルメチルシロキ
サンコポリマーである。
Addition hardening is based on the addition of Si-H to double bonds in the presence of a catalyst such as, for example, platinum. Silicone coatings which can thus be hardened according to the addition hardening include vinyl group-containing polymers, for example catalysts such as chloroplatinic acid complexes and polyhydrosiloxanes such as polymethylhydrosiloxane. Suitable vinyl-containing polymers are, for example, vinyldimethyl-terminated polydimethylsiloxane and dimethylsiloxane / vinylmethylsiloxane copolymer.

【0042】本発明に従って用いることができる放射線
硬膜コーティングは、例えばエポキシ基を含有するポリ
シロキサンポリマーを含有するU.V.硬膜可能なコー
ティングあるいは(メタ)アクリレート基を含有するポ
リシロキサンポリマーを含有する電子ビーム硬膜可能な
コーティングである。後者のコーティングは多官能基
(メタ)アクリレートモノマーも含有するのが好まし
い。
Radiation-hardening coatings which can be used according to the invention include, for example, U.S. Pat. V. A hardenable coating or an electron beam hardenable coating containing a polysiloxane polymer containing (meth) acrylate groups. The latter coating preferably also contains a multifunctional (meth) acrylate monomer.

【0043】本発明に従うと、インキ反発性層は追加の
物質、例えば可塑剤、顔料、色素などを含むことができ
る。
According to the present invention, the ink repellent layer can include additional substances, such as plasticizers, pigments, dyes, and the like.

【0044】本発明の方法に従うと、熱モード記録材料
はレーザーを用いて画像通りに露光される。用いられる
のが好ましいレーザーは、例えば半導体レーザー、YA
Gレーザー、例えばNd−YAGレーザー、アルゴンレ
ーザーなどである。後者は35〜40,000mWの出
力を有することができ、スペクトルの赤外部分で働くの
が好ましい。熱モード記録材料の支持体は透明であり、
支持体を介して画像通りの露光が行われるのが好まし
い。
According to the method of the present invention, the thermal mode recording material is image-wise exposed using a laser. Lasers preferably used are, for example, semiconductor lasers, YA
G laser, for example, Nd-YAG laser, argon laser and the like. The latter can have a power of 35 to 40,000 mW and preferably work in the infrared part of the spectrum. The support of the thermal mode recording material is transparent,
Preferably, image-wise exposure is carried out via the support.

【0045】画像通りの露光に続き、熱モード記録要素
は、照射された領域において疎油性表面層を除去するた
めに現像される。該現像は該疎油性表面層をこすること
により行われるのが好ましい。例えばブラシ又は綿パッ
ドを用いてこすることができる。表面層がポリシロキサ
ンを含有する場合、例えばイソプロパノール、n−ヘプ
タン又は他の炭化水素液体などの溶媒の存在下で熱モー
ド記録材料をこすることができ、あるいは液の不在下で
こするのがより好ましい。好ましい実施態様に従ってこ
することは、生態学的利点の他に、高い解像度及び鮮鋭
度の印刷版を与える。
[0045] Following image-wise exposure, the thermal mode recording element is developed to remove the oleophobic surface layer in the illuminated areas. Preferably, the development is performed by rubbing the oleophobic surface layer. For example, it can be rubbed using a brush or a cotton pad. If the surface layer contains a polysiloxane, the thermal mode recording material can be rubbed in the presence of a solvent such as, for example, isopropanol, n-heptane or other hydrocarbon liquid, or rubbed in the absence of a liquid. More preferred. Scoring according to a preferred embodiment provides, besides ecological advantages, a printing plate of high resolution and sharpness.

【0046】ここで本発明を以下の実施例を用いて示す
が、本発明は実施例に制限されない。すべての部は、他
に特定されなければ重量による。
The present invention will now be described with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the examples. All parts are by weight unless otherwise specified.

【0047】[0047]

【実施例】【Example】

実施例1 インキ反発性層のための以下のコーティング溶液を調製
した: イソ−オクタン 1000mlまで ジビニル末端ジメチルポリシロキサン 59.5g ジメチルポリシロキサンゴム 28.2g 白金のジビニルテトラメチルジシロキサン錯体 0.37g ハイドライド末端ジメチルポリシロキサン(Dowからの 1.79g DC 7048架橋剤) 安定剤(Air productsからの 0.18g Surfinol 61) 記録層のための以下のコーティング溶液を調製した: 酢酸エチル/酢酸ブチル(60:40)混合物 1000mlまで Spezial Schwarts(Degussaからの 24.6g カーボンブラック) Solsperse 28000(ICIからの湿潤剤) 2.64g Solsperse 5000(ICIからの湿潤剤) 0.52g ニトロセルロース 11.87g Cymel 301(Dyno Cytecからの 2.14g メラミン硬膜剤) p−トルエンスルホン酸 0.42g ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体(175μ
m)に記録層のための上記のコーティング溶液を、2.
2μmの乾燥層厚さとなる22μmの湿潤コーティング
厚さでコーティングすることにより、比較熱モード記録
材料A0を製造した。
Example 1 The following coating solution for the ink repellent layer was prepared: iso-octane up to 1000 ml divinyl-terminated dimethylpolysiloxane 59.5 g dimethylpolysiloxane rubber 28.2 g platinum divinyltetramethyldisiloxane complex 0.37 g hydride Terminated dimethylpolysiloxane (1.79 g DC 7048 crosslinker from Dow) Stabilizer (0.18 g Surfinol 61 from Air products) The following coating solution for the recording layer was prepared: ethyl acetate / butyl acetate (60: 40) Mix up to 1000 ml Spesial Schwarts (24.6 g carbon black from Degussa) Solsperse 28000 (wetting agent from ICI) 2.64 g Solsperse 500 (Wetting agent from ICI) 0.52 g (2.14 g melamine hardener from Dyno Cytec) Nitrocellulose 11.87 g Cymel 301 p-toluenesulfonic acid 0.42g polyethylene terephthalate film support (175Myu
m) the above coating solution for the recording layer;
Comparative thermal mode recording material A0 was prepared by coating with a wet coating thickness of 22 μm resulting in a dry layer thickness of 2 μm.

【0048】この層にインキ反発性層を上記のコーティ
ング溶液から、3.42μmの乾燥厚さまでコーティン
グした。続いてインキ反発性層を130℃で3分間硬膜
させた。
This layer was coated with the ink repellent layer from the above coating solution to a dry thickness of 3.42 μm. Subsequently, the ink repellent layer was hardened at 130 ° C. for 3 minutes.

【0049】本発明の熱モード記録材料を、支持体の裏
側に裏側溶液Bをコーティングして要素B0を得、裏側
溶液Cをコーティングして要素C0を得、裏側溶液Dを
コーティングして要素D0を得るか、あるいはインキ反
発性層のためのコーティング溶液がさらに100mg/
2の艶消し剤1を含有して要素A1を得るか、又はそ
れぞれ100mg/m2もしくは300mg/m2の艶消
し剤2を含有してそれぞれ要素A2もしくはA2bis
を得るか、又はそれぞれ100mg/m2もしくは30
0mg/m2の艶消し剤3を含有してそれぞれ要素A3
もしくはA3ビスを得る以外は、比較試料と同様に製造
し、Aは上記の意味を有する。
The thermal mode recording material of the present invention is coated on the backside of the support with backside solution B to obtain element B0, coated with backside solution C to obtain element C0, and coated with backside solution D to obtain element D0. Or an additional 100 mg / coating solution for the ink repellent layer
containing m 2 matting agent 1 to obtain element A1, or containing 100 mg / m 2 or 300 mg / m 2 matting agent 2, respectively, element A2 or A2bis
Or 100 mg / m 2 or 30 respectively
Element A3 containing 0 mg / m 2 of matting agent 3
Or, it is manufactured in the same manner as the comparative sample except that A3 bis is obtained, and A has the above-mentioned meaning.

【0050】裏コーティングBは233mg/m2のゼ
ラチン、520mg/m2の表面積が300m2/グラム
のコロイドシリカ及び10mg/m2の直径が4μmの
非晶質シリカを含有する。
The back coating B gelatin of 233 mg / m 2, the surface area of the 520 mg / m 2 is the diameter of the colloidal silica and 10 mg / m 2 of 300 meters 2 / gram containing amorphous silica 4 [mu] m.

【0051】裏コーティングCはPVA、TiO2及び
加水分解テトラアルキルオルトシリケートを含み、ここ
でSiO2は該マトリックスの合計重量の7.5重量%
を構成し、TiO2は該マトリックスの合計重量の75
重量%を構成し、PVAは該マトリックスの合計重量の
17.5重量%を構成する。該マトリックスの合計重量
は6.8g/m2の量である。
Back coating C comprises PVA, TiO 2 and hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate, where SiO 2 is 7.5% by weight of the total weight of the matrix
Configure, TiO 2 is the total weight of the matrix 75
Wt%, and PVA makes up 17.5% by weight of the total weight of the matrix. The total weight of the matrix is in an amount of 6.8 g / m 2 .

【0052】裏コーティングDは200mg/m2のポ
リメチル−メタクリレートラテックス(粒径は25〜3
00nm)、20mg/m2の表面積が100m2/グラ
ムのコロイドシリカ、10mg/m2のポリエチレンワ
ックス、7mg/m2のポリスチレンスルホン酸、3m
g/m2のポリ(3,4−エチレンジオキシ−チオフェ
ン)及び30mg/m2の直径が6μmのポリメチル−
メタクリレート艶消し剤を含む。
The back coating D was 200 mg / m 2 of polymethyl-methacrylate latex (particle size: 25 to 3).
00 nm), 20 mg / m 2 colloidal silica with a surface area of 100 m 2 / gram, 10 mg / m 2 polyethylene wax, 7 mg / m 2 polystyrene sulfonic acid, 3 m
g / m 2 of poly (3,4-ethylenedioxy-thiophene) and 30 mg / m 2 of 6 μm diameter polymethyl-
Contains methacrylate matting agents.

【0053】艶消し剤1は4.3〜5.3μmの重量平
均直径を有し、脂肪酸のアミドで処理された非晶質シリ
カである(SYLOBLOC 250)。艶消し剤2
は、4.3〜4.9μmの重量平均直径を有するワック
ス−処理非晶質シリカである(SYLOID 700
0)。艶消し剤3は、最大で40μmの重量平均直径を
有する非晶質アルミノシリケートである(SYLOSI
V A3)。SYLOBLOC 250、SYLOID
7000及びSYLOSIV A3はGraceDe
vison,Belgiumからの商品名である。
Matting agent 1 is amorphous silica having a weight average diameter of 4.3 to 5.3 μm and treated with an amide of a fatty acid (SYLOBLOC 250). Matting agent 2
Is a wax-treated amorphous silica having a weight average diameter of 4.3 to 4.9 μm (SYLOID 700
0). Matting agent 3 is an amorphous aluminosilicate having a weight average diameter of at most 40 μm (SYLOSI
VA3). SYLOLOC 250, SYLOID
GraceDe for 7000 and SYLOSIV A3
This is a trade name from Vison, Belgium.

【0054】各外層の最大粗さ深度Rt及び得られる熱
モード記録材料のブロッキングを測定した。Rtは上記
で説明した通りに測定した。ブロッキングは、フィルム
の巻き上げの間に視覚試験により測定した。従って24
cmの幅を有するフィルムを7m/分の速度で巻き上げ
る。フィルムの巻き上げを操作する機構を2cmにわた
って除去する。巻き上げられたフィルムへのこの除去の
影響を定性的に評価する。
The maximum roughness depth R t of each outer layer and the blocking of the resulting thermal mode recording material were measured. R t was measured as described above. Blocking was measured by visual inspection during film winding. Therefore 24
A film having a width of 7 cm is wound up at a speed of 7 m / min. The mechanism for manipulating the film winding is removed over 2 cm. The effect of this removal on the wound film is qualitatively evaluated.

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】保証は2の評価まで許容され得る;3又は
それ以上の評価を有する保証はもう許容され得ない。種
々の熱モード記録材料に関する結果を表1に示す。
Guarantees can be accepted up to a rating of 2; guarantees with a rating of 3 or more can no longer be accepted. The results for various thermal mode recording materials are shown in Table 1.

【0057】[0057]

【表2】 [Table 2]

【0058】これらの結果から、その外前層又は外裏層
のいずれも少なくとも0.65の最大粗さ深度を有して
いない熱モード記録材料A0、A1及びA2(比較材
料)は非常に強い、又は強いブロッキングを示したが、
他の熱モード記録材料(本発明の材料)は非常に低いブ
ロッキングからブロッキングなしを示したことが明らか
である。外前層が少なくとも0.65の最大粗さ深度を
有する場合に最高の結果が得られる。
From these results it can be seen that the thermal mode recording materials A0, A1 and A2 (comparative materials), whose outer front layer or outer back layer neither have a maximum roughness depth of at least 0.65, are very strong. , Or showed strong blocking,
It is evident that other thermal mode recording materials (materials of the invention) showed no blocking to very low blocking. Best results are obtained when the outer front layer has a maximum roughness depth of at least 0.65.

【0059】本発明の主たる特徴及び態様は以下の通り
である。
The main features and aspects of the present invention are as follows.

【0060】1.親油性表面を有する支持体の1つの側
上に、(i)輻射線を熱に変換することができる光から
熱への変換物質を含有する記録層及び(ii)疎油性表
面層を含み、ここで該疎油性表面層及び該記録層は同じ
層であることができ、そして支持体の他の側上に裏引き
層を含む熱モード記録材料であって、表面層の最大粗さ
深度Rtが少なくとも0.65μmであり、及び/又は
外裏層の最大粗さ深度が少なくとも1.20μmである
ことを特徴とする熱モード記録材料。
1. On one side of a support having a lipophilic surface, comprising: (i) a recording layer containing a light-to-heat conversion material capable of converting radiation to heat; and (ii) an oleophobic surface layer; Wherein the oleophobic surface layer and the recording layer can be the same layer and are a thermal mode recording material comprising a backing layer on the other side of the support, wherein the surface layer has a maximum roughness depth R Thermal mode recording material characterized in that t is at least 0.65 μm and / or the maximum roughness depth of the outer backing layer is at least 1.20 μm.

【0061】2.該裏側コーティングが175〜750
mg/m2のゼラチン、50〜1000mg/m2の少な
くとも100m2/グラムの表面積を有するコロイドシ
リカ及び1〜100mg/m2の非晶質シリカを含有す
る上記1項に記載の熱モード記録材料。
[0061] 2. The backside coating is 175-750
mg / m 2 of gelatin, heat mode recording material according to claim 1 wherein that contains amorphous silica colloidal silica and 1 to 100 mg / m 2 having a surface area of at least 100 m 2 / g 50 to 1000 mg / m 2 .

【0062】3.該裏側コーティングが100〜500
mg/m2のポリメチル−メタクリレートラテックス、
5〜50mg/m2の少なくとも100m2/グラムの表
面積を有するコロイドシリカ、3〜30mg/m2のポ
リエチレンワックス、3.1〜12mg/m2のポリス
チレンスルホン酸、0.9〜4mg/m2のポリ(3,
4−エチレンジオキシ−チオフェン)及び10〜100
mg/m2のポリメチル−メタクリレート艶消し剤を含
む上記1項に記載の熱モード記録材料。
3. The backside coating is 100-500
mg / m 2 of polymethyl-methacrylate latex,
5 to 50 mg / m 2 of colloidal silica with a surface area of at least 100 m 2 / g, a polyethylene wax 3 to 30 mg / m 2, polystyrenesulfonic acid 3.1~12mg / m 2, 0.9~4mg / m 2 The poly (3
4-ethylenedioxy-thiophene) and 10-100
2. The thermal mode recording material according to claim 1, which contains mg / m 2 of a polymethyl-methacrylate matting agent.

【0063】4.該裏側コーティングがPVA、TiO
2及び加水分解テトラアルキルオルトシリケートを含
み、ここでSiO2が該マトリックスの合計重量の7〜
30重量%を構成し、TiO2が該マトリックスの合計
重量の63〜83重量%を構成し、PVAが該マトリッ
クスの合計重量の7〜30重量%を構成し、該マトリッ
クスの合計重量が5〜10g/m2に含まれる上記1項
に記載の熱モード記録材料。
4. The backside coating is PVA, TiO
2 and a hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate, wherein SiO 2 is from 7 to 7% of the total weight of the matrix.
Constitute 30 wt%, TiO 2 constitutes a 63-83 wt% of the total weight of said matrix, PVA constitutes 7 to 30 wt% of the total weight of said matrix, the total weight of said matrix 5 2. The thermal mode recording material according to item 1, which is contained in an amount of 10 g / m 2 .

【0064】5.艶消し剤が疎油性表面層中に存在する
上記1〜4項のいずれかに記載の熱モード記録材料。
5. 5. The heat mode recording material according to any one of the above items 1 to 4, wherein the matting agent is present in the oleophobic surface layer.

【0065】6.−上記1〜5項のいずれかに記載の熱
モード記録材料をレーザービームを用いて画像通りに露
光し; −露光された熱モード記録材料を現像し、それにより露
光された領域の該疎油性表面層を除去して下にある親油
性層を露出させる段階を含む、湿し液を必要としない平
版印刷版の作製法。
6. -Imagewise exposing the thermal mode recording material according to any of the above items 1 to 5 using a laser beam;-developing the exposed thermal mode recording material and thereby the oleophobicity of the exposed areas. A method of making a lithographic printing plate that does not require a dampening solution, comprising the step of removing a surface layer to expose an underlying lipophilic layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジヨアン・ベルメールシユ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ジーン・バン・トリエ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Giyoan Vermeersch Belgium 2640 Malt Cell Septes Trat 27 Agfa-Gevuert na Mrose Fennoutjaps (72) Inventor Gene van Trier Belgium Bee 2640 Malt Cell Septest Trat 27Agfa-Gevert Na Mrose Rose

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親油性表面を有する支持体の1つの側上
に、(i)輻射線を熱に変換することができる光から熱
への変換物質を含有する記録層及び(ii)疎油性表面
層を含み、ここで該疎油性表面層及び該記録層は同じ層
であることができ、そして支持体の他の側上に裏引き層
を含む熱モード記録材料であって、表面層の最大粗さ深
度(maximum rougness depth)
tが少なくとも0.65μmであり、及び/又は外裏
層の最大粗さ深度が少なくとも1.20μmであること
を特徴とする熱モード記録材料。
1. A recording layer containing, on one side of a support having an oleophilic surface, a light-to-heat conversion substance capable of converting radiation to heat and (ii) an oleophobic A thermal mode recording material comprising a backing layer on the other side of the support, wherein the oleophobic surface layer and the recording layer can be the same layer, Maximum roughness depth
Heat mode recording material, wherein R t is at least 0.65 .mu.m, and / or the maximum roughness depth of the outer back layer is at least 1.20 .mu.m.
【請求項2】 −請求項1に記載の熱モード記録材料を
レーザービームを用いて画像通りに露光し; −露光された熱モード記録材料を現像し、それにより露
光された領域の該疎油性表面層を除去して下にある親油
性層を露出させる段階を含む、湿し液を必要としない平
版印刷版の作製法。
2. Exposing the thermal mode recording material according to claim 1 imagewise with a laser beam; developing the exposed thermal mode recording material, whereby the oleophobicity of the exposed areas A method of making a lithographic printing plate that does not require a dampening solution, comprising the step of removing a surface layer to expose an underlying lipophilic layer.
JP9269171A 1996-09-18 1997-09-17 Thermal mode recording material and production of driographic printing plate Pending JPH10100363A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP96202602 1996-09-18
DE96202602.7 1996-09-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10100363A true JPH10100363A (en) 1998-04-21

Family

ID=8224392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9269171A Pending JPH10100363A (en) 1996-09-18 1997-09-17 Thermal mode recording material and production of driographic printing plate

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH10100363A (en)
DE (1) DE69714164T2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005179633A (en) * 2003-11-25 2005-07-07 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film
JP2005263919A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film
JP2005263932A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film with fine polymer
JP2005263931A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film with inorganic filler
JP2023032895A (en) * 2021-08-27 2023-03-09 株式会社タムラ製作所 Photosensitive resin composition, photocured product of photosensitive resin composition, and printed wiring board coated with photosensitive resin composition

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005179633A (en) * 2003-11-25 2005-07-07 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film
JP2005263919A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film
JP2005263932A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film with fine polymer
JP2005263931A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Asahi Kasei Life & Living Corp Matte film with inorganic filler
JP2023032895A (en) * 2021-08-27 2023-03-09 株式会社タムラ製作所 Photosensitive resin composition, photocured product of photosensitive resin composition, and printed wiring board coated with photosensitive resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
DE69714164T2 (en) 2003-02-13
DE69714164D1 (en) 2002-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5378580A (en) Heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
EP0573091B1 (en) A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
US6558740B1 (en) Printing medium, production process thereof and image-forming process using the medium
JP2592225B2 (en) Heat mode recording material and method for producing lithographic printing plate using the same
US5985515A (en) Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US5536619A (en) Heat mode recording material
EP0573092A1 (en) A method for obtaining an image using a heat mode recording material
US5968709A (en) Heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
US5721087A (en) Formation of lithographic printing plate requiring no fountain solution
JPH0692050A (en) Heat mode recording material and method of obtaining colored image
US5888696A (en) Planographic original plate requiring no fountain solution
JP2003118258A (en) Original plate for lithographic printing
EP0830941B1 (en) A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
US6077646A (en) Heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
EP0830940B1 (en) A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
JPH10100362A (en) Thermal mode recording material and production of driographic printing plate
US6613496B1 (en) Method for forming a dampening-waterless lithographic plate and method for forming an image using a dampening-waterless lithographic plate
JPH09150589A (en) Direct drawing type waterless planographic printing plate
JP3789839B2 (en) Flat plate original and flat plate
EP0882583B1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
DE69714164T2 (en) Thermal recording material and process for the production of printing plates that do not require dampening water
US6124073A (en) Heat-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
EP0862998B1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
EP0922572A1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP3691613B2 (en) Waterless lithographic printing plate and waterless lithographic printing plate forming method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040825

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070918

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20071204

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20071207

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080117

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080122

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080215

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080220

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080321

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080507