JPH1010428A - 反射光学系およびそれを用いたプロキシミティ露光装置 - Google Patents
反射光学系およびそれを用いたプロキシミティ露光装置Info
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- JPH1010428A JPH1010428A JP8158691A JP15869196A JPH1010428A JP H1010428 A JPH1010428 A JP H1010428A JP 8158691 A JP8158691 A JP 8158691A JP 15869196 A JP15869196 A JP 15869196A JP H1010428 A JPH1010428 A JP H1010428A
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】製造が容易でかつ色収差を発生させないアナモ
フィック光学系を提供すること。 【解決手段】第１の球面鏡Ｍ１と第２の球面鏡Ｍ２とか
らなり、第１の球面鏡Ｍ１は、物点Ｏからの光束のうち
のメリジオナル光束を集光して物点Ｏの共役点Ｉ１を形
成し、かつ物点Ｏからの光束のうちのサジタル光束を略
平行光束にコリメートするように位置決めされ、第２の
球面鏡Ｍ２は、共役点Ｉ１からの光束のうちのメリジオ
ナル光束を集光しかつ略コリメートされたサジタル光束
を集光するように位置決めされ、第１および第２の球面
鏡Ｍ１，Ｍ２を介したメリジオナル光束に関する像点
と、第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２を介したサジタ
ル光束に関する像点とが一致するように構成される。
フィック光学系を提供すること。 【解決手段】第１の球面鏡Ｍ１と第２の球面鏡Ｍ２とか
らなり、第１の球面鏡Ｍ１は、物点Ｏからの光束のうち
のメリジオナル光束を集光して物点Ｏの共役点Ｉ１を形
成し、かつ物点Ｏからの光束のうちのサジタル光束を略
平行光束にコリメートするように位置決めされ、第２の
球面鏡Ｍ２は、共役点Ｉ１からの光束のうちのメリジオ
ナル光束を集光しかつ略コリメートされたサジタル光束
を集光するように位置決めされ、第１および第２の球面
鏡Ｍ１，Ｍ２を介したメリジオナル光束に関する像点
と、第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２を介したサジタ
ル光束に関する像点とが一致するように構成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、互いに直交する断
面上での倍率が異なる反射光学系に関する。また、本発
明は、互いに直交する断面上での倍率が異なる反射光学
系を用いたプロキシミティ露光装置に関する。
面上での倍率が異なる反射光学系に関する。また、本発
明は、互いに直交する断面上での倍率が異なる反射光学
系を用いたプロキシミティ露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、互いに直交する断面上での倍率が
異なる光学系（以下、アナモフィック光学系と称する）
としては、シリンドリカルレンズから構成されるアナモ
フィック光学系が知られている。
異なる光学系（以下、アナモフィック光学系と称する）
としては、シリンドリカルレンズから構成されるアナモ
フィック光学系が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シリン
ドリカルレンズは、１方向にのみ曲率を持つ円筒面であ
るレンズ面を有しているため、そのレンズ面の加工が困
難であるという問題点がある。また、シリンドリカルレ
ンズは、屈折光学系であるため色収差が発生するという
問題点がある。
ドリカルレンズは、１方向にのみ曲率を持つ円筒面であ
るレンズ面を有しているため、そのレンズ面の加工が困
難であるという問題点がある。また、シリンドリカルレ
ンズは、屈折光学系であるため色収差が発生するという
問題点がある。
【０００４】そこで、本発明は、製造が容易でかつ色収
差を発生させないアナモフィック光学系を提供すること
を目的とする。
差を発生させないアナモフィック光学系を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明にかかる反射光学系は、例えば図１に示す
通り、第１の球面鏡Ｍ１と第２の球面鏡Ｍ２とからな
り、第１の球面鏡Ｍ１は、物点Ｏからの光束のうちのメ
リジオナル光束を集光して物点Ｏの共役点Ｉ１を形成
し、かつ物点Ｏからの光束のうちのサジタル光束を略平
行光束にコリメートするように位置決めされ、第２の球
面鏡Ｍ２は、共役点Ｉ１からの光束のうちのメリジオナ
ル光束を集光しかつ略コリメートされたサジタル光束を
集光するように位置決めされ、第１および第２の球面鏡
Ｍ１，Ｍ２を介したメリジオナル光束に関する像点と、
第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２を介したサジタル光
束に関する像点とが一致するように構成される。
めに、本発明にかかる反射光学系は、例えば図１に示す
通り、第１の球面鏡Ｍ１と第２の球面鏡Ｍ２とからな
り、第１の球面鏡Ｍ１は、物点Ｏからの光束のうちのメ
リジオナル光束を集光して物点Ｏの共役点Ｉ１を形成
し、かつ物点Ｏからの光束のうちのサジタル光束を略平
行光束にコリメートするように位置決めされ、第２の球
面鏡Ｍ２は、共役点Ｉ１からの光束のうちのメリジオナ
ル光束を集光しかつ略コリメートされたサジタル光束を
集光するように位置決めされ、第１および第２の球面鏡
Ｍ１，Ｍ２を介したメリジオナル光束に関する像点と、
第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２を介したサジタル光
束に関する像点とが一致するように構成される。
【０００６】本発明の好ましい態様によれば、第１の球
面鏡Ｍ１の第１の球心Ｃ１と第２の球面鏡Ｍ２の第２の
球心Ｃ２とを結ぶ直線を光軸Ａｘとするとき、第１の球
心Ｃ１を通り光軸に垂直な平面内に物点Ｏがほぼ存在す
るように位置決めされ、第１の球心Ｃ１と第２の球心Ｃ
２との距離Ｌが、第１の球面鏡Ｍ１の曲率半径をＲ１と
し、第２の球面鏡Ｍ２の曲率半径をＲ２とするとき、実
質的に｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２となるように構成されるも
のである。なお、曲率半径Ｒ１，Ｒ２の符号はＣ１側に
凸のときに正とする。
面鏡Ｍ１の第１の球心Ｃ１と第２の球面鏡Ｍ２の第２の
球心Ｃ２とを結ぶ直線を光軸Ａｘとするとき、第１の球
心Ｃ１を通り光軸に垂直な平面内に物点Ｏがほぼ存在す
るように位置決めされ、第１の球心Ｃ１と第２の球心Ｃ
２との距離Ｌが、第１の球面鏡Ｍ１の曲率半径をＲ１と
し、第２の球面鏡Ｍ２の曲率半径をＲ２とするとき、実
質的に｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２となるように構成されるも
のである。なお、曲率半径Ｒ１，Ｒ２の符号はＣ１側に
凸のときに正とする。
【０００７】なお、本発明においては、第１の球面鏡Ｍ
１の球心Ｃ１と第２の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２とを結ぶ直
線と物点Ｏとを含む面内の光束をメリジオナル光束と
し、このメリジオナル光束と直交する方向の光束をサジ
タル光束としている。
１の球心Ｃ１と第２の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２とを結ぶ直
線と物点Ｏとを含む面内の光束をメリジオナル光束と
し、このメリジオナル光束と直交する方向の光束をサジ
タル光束としている。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。図１は、本発明による反
射光学系のメリジオナル面内における光路図であり、図
２は、このメリジオナル面とは直交するサジタル面内を
進行する光線を示す光路図である。図１において、第１
の球面鏡Ｍ１は、第１の球心Ｃ１を有し曲率半径Ｒ１
（負）である球面の一部からなる反射面を有しており、
第２の球面鏡Ｍ２は、第２の球心Ｃ２を有し曲率半径Ｒ
２（正）である球面の一部からなる反射面を有してい
る。ここで、第１の球面鏡Ｍ１の第１の球心Ｃ１と第２
の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２とを結ぶ直線を光軸Ａｘとする
とき、第１および第２の球心Ｃ１，Ｃ２間の距離Ｌが、
実施の形態について説明する。図１は、本発明による反
射光学系のメリジオナル面内における光路図であり、図
２は、このメリジオナル面とは直交するサジタル面内を
進行する光線を示す光路図である。図１において、第１
の球面鏡Ｍ１は、第１の球心Ｃ１を有し曲率半径Ｒ１
（負）である球面の一部からなる反射面を有しており、
第２の球面鏡Ｍ２は、第２の球心Ｃ２を有し曲率半径Ｒ
２（正）である球面の一部からなる反射面を有してい
る。ここで、第１の球面鏡Ｍ１の第１の球心Ｃ１と第２
の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２とを結ぶ直線を光軸Ａｘとする
とき、第１および第２の球心Ｃ１，Ｃ２間の距離Ｌが、
【０００９】
【数１】 （１） ０．８Ｌ＜｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２＜１．２Ｌ の関係を実質的に満足するように、第１および第２の球
面鏡Ｍ１，Ｍ２は配置されている。そして、上述のよう
に配置された第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２の組み
合わせからなる反射光学系は、第１の球心Ｃ１を含み光
軸Ａｘに垂直な面内に物点Ｏ（物体面）が位置するよう
に配置される。
面鏡Ｍ１，Ｍ２は配置されている。そして、上述のよう
に配置された第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２の組み
合わせからなる反射光学系は、第１の球心Ｃ１を含み光
軸Ａｘに垂直な面内に物点Ｏ（物体面）が位置するよう
に配置される。
【００１０】上記式（１）は、第１および第２の球面鏡
Ｍ１，Ｍ２の好適な配置について規定したものであり、
この式（１）を満足しない場合には、収差発生量が大き
くなり良好な結像関係が得られないため好ましくない。
次に、光軸Ａｘと物点Ｏとを含む面（以下においてはメ
リジオナル面と称する）内における光路を図１を参照し
て、そのメリジオナル面とは直交する面（以下において
はサジタル面と称する）における光路を図２を参照して
説明する。
Ｍ１，Ｍ２の好適な配置について規定したものであり、
この式（１）を満足しない場合には、収差発生量が大き
くなり良好な結像関係が得られないため好ましくない。
次に、光軸Ａｘと物点Ｏとを含む面（以下においてはメ
リジオナル面と称する）内における光路を図１を参照し
て、そのメリジオナル面とは直交する面（以下において
はサジタル面と称する）における光路を図２を参照して
説明する。
【００１１】図１において、物点Ｏからの光束のうちメ
リジオナル面内の光束は、所定の開口数で第１の球面鏡
Ｍ１に入射し、この第１の球面鏡Ｍ１によって反射され
ることで、その光路を略９０°偏向させ、かつ光軸Ａｘ
上で集光する収斂光束となる。このように、第１の球面
鏡Ｍ１は、メリジオナル面内において物点Ｏの像Ｉ１を
形成する。
リジオナル面内の光束は、所定の開口数で第１の球面鏡
Ｍ１に入射し、この第１の球面鏡Ｍ１によって反射され
ることで、その光路を略９０°偏向させ、かつ光軸Ａｘ
上で集光する収斂光束となる。このように、第１の球面
鏡Ｍ１は、メリジオナル面内において物点Ｏの像Ｉ１を
形成する。
【００１２】ここで、物点Ｏの位置が第１の球心Ｃ１を
含み光軸Ａｘに垂直な面内に位置しており、かつ物点Ｏ
と光軸Ａｘとの距離が略｜Ｒ１｜／√２であるため、メ
リジオナル面内においては、物点Ｏの像Ｉ１はほぼ光軸
Ａｘ上に形成され、その結像倍率が等倍となる。図２に
おいて、物点Ｏからの光束のうちサジタル面内の光束
は、所定の開口数で第１の球面鏡Ｍ１に入射し、この第
１の球面鏡Ｍ１によって光路が略９０°偏向される。こ
のとき、第１の球面鏡Ｍ１に対して物点Ｏの位置が第１
の球心Ｃ１を含み光軸Ａｘに垂直な面内に位置し、かつ
物点Ｏと光軸Ａｘとの距離が略｜Ｒ１｜／√２であるた
め、サジタル面内における物点Ｏからの発散光束は、サ
ジタル面内において略平行光束となる。
含み光軸Ａｘに垂直な面内に位置しており、かつ物点Ｏ
と光軸Ａｘとの距離が略｜Ｒ１｜／√２であるため、メ
リジオナル面内においては、物点Ｏの像Ｉ１はほぼ光軸
Ａｘ上に形成され、その結像倍率が等倍となる。図２に
おいて、物点Ｏからの光束のうちサジタル面内の光束
は、所定の開口数で第１の球面鏡Ｍ１に入射し、この第
１の球面鏡Ｍ１によって光路が略９０°偏向される。こ
のとき、第１の球面鏡Ｍ１に対して物点Ｏの位置が第１
の球心Ｃ１を含み光軸Ａｘに垂直な面内に位置し、かつ
物点Ｏと光軸Ａｘとの距離が略｜Ｒ１｜／√２であるた
め、サジタル面内における物点Ｏからの発散光束は、サ
ジタル面内において略平行光束となる。
【００１３】従って、物点Ｏと第１の球心Ｃ１とを結ぶ
直線に垂直で光軸Ａｘを含む面内において、物点Ｏの像
Ｉ１は球心Ｃ１側に凹の円弧形状に引き延ばされる。さ
て、図１に戻って、第１の球面鏡Ｍ１が形成する像Ｉ１
からの光束のうち、メリジオナル面内に沿って進行する
光束は、物点Ｏから第１の球面鏡Ｍ１へ向かう光束と同
じ開口数で、第２の球面鏡Ｍ２へ入射する。この光束
は、第２の球面鏡Ｍ２によって反射されてその光路が略
９０°偏向され、かつ光軸Ａｘに垂直な面上で集光する
収斂光束となる。このように、第２の球面鏡Ｍ２は、メ
リジオナル面内における物点Ｏの２次像Ｉ２を形成す
る。
直線に垂直で光軸Ａｘを含む面内において、物点Ｏの像
Ｉ１は球心Ｃ１側に凹の円弧形状に引き延ばされる。さ
て、図１に戻って、第１の球面鏡Ｍ１が形成する像Ｉ１
からの光束のうち、メリジオナル面内に沿って進行する
光束は、物点Ｏから第１の球面鏡Ｍ１へ向かう光束と同
じ開口数で、第２の球面鏡Ｍ２へ入射する。この光束
は、第２の球面鏡Ｍ２によって反射されてその光路が略
９０°偏向され、かつ光軸Ａｘに垂直な面上で集光する
収斂光束となる。このように、第２の球面鏡Ｍ２は、メ
リジオナル面内における物点Ｏの２次像Ｉ２を形成す
る。
【００１４】ここで、メリジオナル面において、第２の
球面鏡Ｍ２における物点は像Ｉ１であり、この像Ｉ１の
位置を第２の球心を含み第２の球心Ｃ２と２次像Ｉ２と
を結ぶ直線に垂直な平面内に概略位置させており、かつ
像Ｉ１と第２の球心Ｃ２との距離を略｜Ｒ２｜／√２と
しているため、メリジオナル面内においては、像Ｉ１の
像である２次像Ｉ２は等倍となり、第２の球面鏡Ｍ２か
ら２次像Ｉ２へ向かう光束の開口数は、物点Ｏから第１
の球面鏡Ｍ１へ向かう光束の開口数と等しくなる。
球面鏡Ｍ２における物点は像Ｉ１であり、この像Ｉ１の
位置を第２の球心を含み第２の球心Ｃ２と２次像Ｉ２と
を結ぶ直線に垂直な平面内に概略位置させており、かつ
像Ｉ１と第２の球心Ｃ２との距離を略｜Ｒ２｜／√２と
しているため、メリジオナル面内においては、像Ｉ１の
像である２次像Ｉ２は等倍となり、第２の球面鏡Ｍ２か
ら２次像Ｉ２へ向かう光束の開口数は、物点Ｏから第１
の球面鏡Ｍ１へ向かう光束の開口数と等しくなる。
【００１５】次に、図２において、像Ｉ１からの光は、
サジタル面内において平行光束の状態で第２の球面鏡Ｍ
２へ向かう。この光束は、第２の球面鏡Ｍ２によって光
路が略９０°偏向されて、第２の球心Ｃ２を含み光軸Ａ
ｘに垂直な面内に集光する。それゆえ、サジタル面内で
の光路の結像倍率は曲率半径Ｒ１とＲ２との比｜Ｒ２／
Ｒ１｜に一致する。
サジタル面内において平行光束の状態で第２の球面鏡Ｍ
２へ向かう。この光束は、第２の球面鏡Ｍ２によって光
路が略９０°偏向されて、第２の球心Ｃ２を含み光軸Ａ
ｘに垂直な面内に集光する。それゆえ、サジタル面内で
の光路の結像倍率は曲率半径Ｒ１とＲ２との比｜Ｒ２／
Ｒ１｜に一致する。
【００１６】このように、第１および第２の球面鏡Ｍ
１，Ｍ２からなる反射光学系は、メリジオナル面内にお
いては等倍結像を行い、かつサジタル面内においては、
第１の球面鏡Ｍ１の曲率半径Ｒ１と第２の球面鏡Ｍ２の
曲率半径との比に応じた倍率関係になる。従って、第１
および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２の曲率半径Ｒ１，Ｒ２の
比を変更することにより、互いに直交する断面上（メリ
ジオナル面・サジタル面）において所望の倍率比を得る
ことが可能である。そして、この実施の形態による反射
光学系では、色収差の発生要因となる屈折光学部材を要
しないため色収差の発生は原理的に生じない。さらに、
この実施の形態による反射光学系では、反射光学部材が
球面系であるため、その加工が困難にならない利点があ
る。
１，Ｍ２からなる反射光学系は、メリジオナル面内にお
いては等倍結像を行い、かつサジタル面内においては、
第１の球面鏡Ｍ１の曲率半径Ｒ１と第２の球面鏡Ｍ２の
曲率半径との比に応じた倍率関係になる。従って、第１
および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２の曲率半径Ｒ１，Ｒ２の
比を変更することにより、互いに直交する断面上（メリ
ジオナル面・サジタル面）において所望の倍率比を得る
ことが可能である。そして、この実施の形態による反射
光学系では、色収差の発生要因となる屈折光学部材を要
しないため色収差の発生は原理的に生じない。さらに、
この実施の形態による反射光学系では、反射光学部材が
球面系であるため、その加工が困難にならない利点があ
る。
【００１７】次に、図３乃至図６を参照して、本発明に
よる反射光学系をプロキシミティ露光装置の照明光学系
に適用した例である第２の実施の形態を説明する。ここ
で、図３は、全体構成を説明するためのＸＹＺ斜視図、
図４（ａ），（ｃ）はＸＹ平面図、図４（ｂ）はＸＺ平
面図、図５はＹＺ平面図である。図３乃至図６に示す第
２の実施の形態は、本発明にかかる反射光学系を、マス
クとワークとを相対的に移動させつつ露光を行う走査型
プロキシミティ露光装置の照明光学系に適用したもので
ある。
よる反射光学系をプロキシミティ露光装置の照明光学系
に適用した例である第２の実施の形態を説明する。ここ
で、図３は、全体構成を説明するためのＸＹＺ斜視図、
図４（ａ），（ｃ）はＸＹ平面図、図４（ｂ）はＸＺ平
面図、図５はＹＺ平面図である。図３乃至図６に示す第
２の実施の形態は、本発明にかかる反射光学系を、マス
クとワークとを相対的に移動させつつ露光を行う走査型
プロキシミティ露光装置の照明光学系に適用したもので
ある。
【００１８】図３において、照明光学系１０はマスクＭ
ａに対して照明光を照射し、このマスクＭａには、図中
Ｚ方向に延びたパターンが形成されている。また、ワー
クＷは、レジストなどの感光性樹脂が塗布されたフィル
ムであって、図中Ｚ方向に沿って所定の速度で搬送され
る。これにより、フィルム上の感光性樹脂には、図中Ｚ
方向に延びた形状のパターンが転写される。ここで、転
写されるパターンはＺ方向に延びたパターンであるため
ＹＺ面内でのマスク上の照明光のＮＡが大きくてもパタ
ーン転写精度を悪化させない。
ａに対して照明光を照射し、このマスクＭａには、図中
Ｚ方向に延びたパターンが形成されている。また、ワー
クＷは、レジストなどの感光性樹脂が塗布されたフィル
ムであって、図中Ｚ方向に沿って所定の速度で搬送され
る。これにより、フィルム上の感光性樹脂には、図中Ｚ
方向に延びた形状のパターンが転写される。ここで、転
写されるパターンはＺ方向に延びたパターンであるため
ＹＺ面内でのマスク上の照明光のＮＡが大きくてもパタ
ーン転写精度を悪化させない。
【００１９】以下、照明光学系の構成について詳述す
る。図４及び図５において、例えば高圧水銀ランプから
なる光源１１からの光は、光源１１の位置に第１焦点が
配置される楕円鏡１２によって集光されて、その第２焦
点位置に光源像を形成する。この光源像からの光は、Ｙ
Ｚ平面内のみに屈折力（パワー）を持つコリメータレン
ズ１３ａ及びＸＹ平面内のみに屈折力（パワー）を持つ
コリメータレンズ１３ｂから構成されるコリメータ光学
系により略コリメートされてフライアイレンズ１４に入
射する。ここで、コリメータレンズ１３ａ及びコリメー
タレンズ１３ｂは共に、楕円鏡１２による光源像位置に
その前側焦点位置が位置するように設けられている。こ
のとき、フライアイレンズ１４に入射する光束は、その
（ＸＺ平面内の）断面形状が略楕円形状の略平行光束と
なる。
る。図４及び図５において、例えば高圧水銀ランプから
なる光源１１からの光は、光源１１の位置に第１焦点が
配置される楕円鏡１２によって集光されて、その第２焦
点位置に光源像を形成する。この光源像からの光は、Ｙ
Ｚ平面内のみに屈折力（パワー）を持つコリメータレン
ズ１３ａ及びＸＹ平面内のみに屈折力（パワー）を持つ
コリメータレンズ１３ｂから構成されるコリメータ光学
系により略コリメートされてフライアイレンズ１４に入
射する。ここで、コリメータレンズ１３ａ及びコリメー
タレンズ１３ｂは共に、楕円鏡１２による光源像位置に
その前側焦点位置が位置するように設けられている。こ
のとき、フライアイレンズ１４に入射する光束は、その
（ＸＺ平面内の）断面形状が略楕円形状の略平行光束と
なる。
【００２０】このフライアイレンズ１４は、図６に示す
ように、矩形状の断面を有する複数のレンズ素子の集積
体で構成されており、本実施の形態では、Ｘ方向の長さ
Ｌ１４ｘ、Ｚ方向の高さＬ１４ｚ（Ｌ１４ｘ≠Ｌ１４
ｚ）のレンズ素子１４ａを積み重ねており、全体として
Ｘ方向の長さＤ１４ｘ、Ｚ方向の高さＤ１４ｚ（Ｄ１４
ｘ≠Ｄ１４ｚ）の矩形状断面を有している。
ように、矩形状の断面を有する複数のレンズ素子の集積
体で構成されており、本実施の形態では、Ｘ方向の長さ
Ｌ１４ｘ、Ｚ方向の高さＬ１４ｚ（Ｌ１４ｘ≠Ｌ１４
ｚ）のレンズ素子１４ａを積み重ねており、全体として
Ｘ方向の長さＤ１４ｘ、Ｚ方向の高さＤ１４ｚ（Ｄ１４
ｘ≠Ｄ１４ｚ）の矩形状断面を有している。
【００２１】図４及び図５に戻って、フライアイレンズ
１４の射出側には、略楕円形状の開口部を持つ絞りＳが
配置されており、この絞りＳの開口部には、フライアイ
レンズ１４の各々のレンズ素子１４ａによって形成され
る複数の光源像が位置する。これら複数の光源像からの
光は、コンデンサレンズ１５に入射する。ここで、コン
デンサレンズ１５は、その前側焦点位置が複数の光源像
の位置になるように設けられている。従って、視野絞り
ＦＳは、これら複数の光源像からの光によって重畳的に
照明される。この視野絞りＦＳは、Ｚ方向に長手方向を
持つ略矩形状の開口部を有している。
１４の射出側には、略楕円形状の開口部を持つ絞りＳが
配置されており、この絞りＳの開口部には、フライアイ
レンズ１４の各々のレンズ素子１４ａによって形成され
る複数の光源像が位置する。これら複数の光源像からの
光は、コンデンサレンズ１５に入射する。ここで、コン
デンサレンズ１５は、その前側焦点位置が複数の光源像
の位置になるように設けられている。従って、視野絞り
ＦＳは、これら複数の光源像からの光によって重畳的に
照明される。この視野絞りＦＳは、Ｚ方向に長手方向を
持つ略矩形状の開口部を有している。
【００２２】図５において、この視野絞りＦＳからの光
は、第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２からなるリレー
光学系を経てマスクＭａ上に達する。このリレー光学系
の作用を以下に説明する。まず、図５を参照して、メリ
ジオナル面内におけるリレー光学系の構成及び光路を説
明する。
は、第１および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２からなるリレー
光学系を経てマスクＭａ上に達する。このリレー光学系
の作用を以下に説明する。まず、図５を参照して、メリ
ジオナル面内におけるリレー光学系の構成及び光路を説
明する。
【００２３】図５において、第１の球面鏡Ｍ１は、第１
の球心Ｃ１を有し曲率半径Ｒ１（負）である球面の一部
からなる反射面を有しており、第２の球面鏡Ｍ２は、第
２の球心Ｃ２を有し曲率半径Ｒ２（正）である球面の一
部からなる反射面を有している。ここで、第１の球面鏡
Ｍ１の第１の球心Ｃ１と第２の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２と
を結ぶ直線を光軸Ａｘとするとき、第１および第２の球
心Ｃ１，Ｃ２間の距離Ｌが概略｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２で
あるように配置されている。このとき、視野絞りＦＳが
球心Ｃ１を含み光軸Ａｘに垂直な面内に位置するように
各球面鏡Ｍ１，Ｍ２は位置決めされている。
の球心Ｃ１を有し曲率半径Ｒ１（負）である球面の一部
からなる反射面を有しており、第２の球面鏡Ｍ２は、第
２の球心Ｃ２を有し曲率半径Ｒ２（正）である球面の一
部からなる反射面を有している。ここで、第１の球面鏡
Ｍ１の第１の球心Ｃ１と第２の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２と
を結ぶ直線を光軸Ａｘとするとき、第１および第２の球
心Ｃ１，Ｃ２間の距離Ｌが概略｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２で
あるように配置されている。このとき、視野絞りＦＳが
球心Ｃ１を含み光軸Ａｘに垂直な面内に位置するように
各球面鏡Ｍ１，Ｍ２は位置決めされている。
【００２４】この構成により、視野絞りＦＳからの光束
のうち、メリジオナル面内の光束は、第１の球面鏡によ
り集光されて、光軸Ａｘ上で視野絞りＦＳと共役な第１
の共役点を形成し、この第１の共役点からの光は第２の
球面鏡Ｍ２により集光されて第１の共役点と共役な第２
の共役点をマスクＭａ上に形成する。このとき、視野絞
りＦＳと第１の共役点とは、メリジオナル面内の光束に
関して等倍結像の関係にあり、第１の共役点と第２の共
役点とは、メリジオナル面内の光束に関して等倍結像の
関係にある。すなわち、この光束に関して視野絞りＦＳ
はマスクＭａ上で等倍結像している。
のうち、メリジオナル面内の光束は、第１の球面鏡によ
り集光されて、光軸Ａｘ上で視野絞りＦＳと共役な第１
の共役点を形成し、この第１の共役点からの光は第２の
球面鏡Ｍ２により集光されて第１の共役点と共役な第２
の共役点をマスクＭａ上に形成する。このとき、視野絞
りＦＳと第１の共役点とは、メリジオナル面内の光束に
関して等倍結像の関係にあり、第１の共役点と第２の共
役点とは、メリジオナル面内の光束に関して等倍結像の
関係にある。すなわち、この光束に関して視野絞りＦＳ
はマスクＭａ上で等倍結像している。
【００２５】図４（ａ）〜（ｃ）に戻って、サジタル面
内におけるリレー光学系の構成及び光路を説明する。サ
ジタル面内において、第１の球面鏡Ｍ１の球心Ｃ１と第
２の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２とを結ぶ直線である光軸Ａｘ
は、光源１１〜コンデンサレンズ１５で構成される照明
系の光軸と重なるように配置される。ここで、視野絞り
ＦＳ上の一点からの光束のうちサジタル面内に射出した
光束は、サジタル面内において発散するように−Ｙ方向
に向けて進行して第１の球面鏡Ｍ１に達する。
内におけるリレー光学系の構成及び光路を説明する。サ
ジタル面内において、第１の球面鏡Ｍ１の球心Ｃ１と第
２の球面鏡Ｍ２の球心Ｃ２とを結ぶ直線である光軸Ａｘ
は、光源１１〜コンデンサレンズ１５で構成される照明
系の光軸と重なるように配置される。ここで、視野絞り
ＦＳ上の一点からの光束のうちサジタル面内に射出した
光束は、サジタル面内において発散するように−Ｙ方向
に向けて進行して第１の球面鏡Ｍ１に達する。
【００２６】この光束は、第１の球面鏡Ｍ１によって−
Ｚ方向へ向けて偏向され、略コリメートされる。この略
コリメートされた光束は、−Ｚ方向へ向けて進行して第
２の球面鏡Ｍ２へ達する。この光束は、第２の球面鏡Ｍ
２によって−Ｙ方向に偏向され、かつマスクＭａ上に集
光する。このため、サジタル面内の光束による結像倍率
は｜Ｒ２／Ｒ１｜となる。
Ｚ方向へ向けて偏向され、略コリメートされる。この略
コリメートされた光束は、−Ｚ方向へ向けて進行して第
２の球面鏡Ｍ２へ達する。この光束は、第２の球面鏡Ｍ
２によって−Ｙ方向に偏向され、かつマスクＭａ上に集
光する。このため、サジタル面内の光束による結像倍率
は｜Ｒ２／Ｒ１｜となる。
【００２７】さて、本実施の形態では、複数の光源像を
形成するフライアイレンズ１４の全体形状をＺ方向に長
手方向を持つ矩形状に構成して、視野絞りＦＳを重畳的
に照明する光束のうちサジタル光束の開口数よりもメリ
ジオナル光束の開口数を大きくしている。そして、第１
および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２からなるリレー光学系
は、メリジオナル面内においては等倍結像を行うため、
メリジオナル光束の開口数は保存される。また、サジタ
ル光束の開口数は第１の球面鏡Ｍ１の曲率半径Ｒ１と第
２の球面鏡Ｍ２の曲率半径との比に応じて決定され、本
実施の形態では｜Ｒ１｜＜｜Ｒ２｜となるように構成し
て、マスクＭａ上において、サジタル光束の開口数ＮＡ
２をさらに小さくしている。ここで、メリジオナル光束
の開口数をＮＡ１をし、サジタル光束の開口数をＮＡ２
とするとき、
形成するフライアイレンズ１４の全体形状をＺ方向に長
手方向を持つ矩形状に構成して、視野絞りＦＳを重畳的
に照明する光束のうちサジタル光束の開口数よりもメリ
ジオナル光束の開口数を大きくしている。そして、第１
および第２の球面鏡Ｍ１，Ｍ２からなるリレー光学系
は、メリジオナル面内においては等倍結像を行うため、
メリジオナル光束の開口数は保存される。また、サジタ
ル光束の開口数は第１の球面鏡Ｍ１の曲率半径Ｒ１と第
２の球面鏡Ｍ２の曲率半径との比に応じて決定され、本
実施の形態では｜Ｒ１｜＜｜Ｒ２｜となるように構成し
て、マスクＭａ上において、サジタル光束の開口数ＮＡ
２をさらに小さくしている。ここで、メリジオナル光束
の開口数をＮＡ１をし、サジタル光束の開口数をＮＡ２
とするとき、
【００２８】
【数２】（２） ＮＡ１＞ＮＡ２ を満足させている。ここで、開口数ＮＡ２はパターンの
ピッチ方向の解像度により定まる開口数であり、従来の
プロキシミティ露光装置と同程度となるように設定して
いる。一方、開口数ＮＡ１は大きくしてあるので、ワー
クＷ上での照度Ｅは、光源１１の輝度をＢとするとき、
ピッチ方向の解像度により定まる開口数であり、従来の
プロキシミティ露光装置と同程度となるように設定して
いる。一方、開口数ＮＡ１は大きくしてあるので、ワー
クＷ上での照度Ｅは、光源１１の輝度をＢとするとき、
【００２９】
【数３】（３） Ｅ＝π・Ｂ・ＮＡ１・ＮＡ２ で表され、ＮＡ１／ＮＡ２だけ高くなる。このように、
本実施の形態においては、所定の方向に延びたパターン
に対して、該所定の方向の開口数ＮＡ１を、所定の方向
と直交する方向の開口数ＮＡ２よりも大きくなるように
構成しているため、パターンを転写する際の解像力を低
下させることなく、ワーク上での照度を高めることがで
き、スループットの向上を図ることができる。
本実施の形態においては、所定の方向に延びたパターン
に対して、該所定の方向の開口数ＮＡ１を、所定の方向
と直交する方向の開口数ＮＡ２よりも大きくなるように
構成しているため、パターンを転写する際の解像力を低
下させることなく、ワーク上での照度を高めることがで
き、スループットの向上を図ることができる。
【００３０】さて、図１および図２の第１の実施の形態
のような構成の場合には、物点Ｏからの光は、第１の球
面鏡Ｍ１によって像Ｉ１を含むサジタル面内で円弧状と
なる。図２の構成では、第２の球面鏡Ｍ２によって円弧
形状がさらに拡大されるため、２次像Ｉ２へ達する光束
は収差を持つことになる。しかしながら、図７に示すよ
うに、第１の球面鏡Ｍ１と第２の球面鏡Ｍ２とを結ぶ線
分を挟んで第１の球面鏡Ｍ１の球心Ｃ１と第２の球面鏡
Ｍ２の球心Ｃ２とを同じ側に位置させれば（曲率半径Ｒ
１と曲率半径Ｒ２との符号を等しくすれば）、第１の球
面鏡Ｍ１による光束の変形と第２の球面鏡Ｍ２による光
束の変形とが互いに打ち消し合うことになり、像点Ｉ２
に集まる光束の収差を低減させることが可能になる。
のような構成の場合には、物点Ｏからの光は、第１の球
面鏡Ｍ１によって像Ｉ１を含むサジタル面内で円弧状と
なる。図２の構成では、第２の球面鏡Ｍ２によって円弧
形状がさらに拡大されるため、２次像Ｉ２へ達する光束
は収差を持つことになる。しかしながら、図７に示すよ
うに、第１の球面鏡Ｍ１と第２の球面鏡Ｍ２とを結ぶ線
分を挟んで第１の球面鏡Ｍ１の球心Ｃ１と第２の球面鏡
Ｍ２の球心Ｃ２とを同じ側に位置させれば（曲率半径Ｒ
１と曲率半径Ｒ２との符号を等しくすれば）、第１の球
面鏡Ｍ１による光束の変形と第２の球面鏡Ｍ２による光
束の変形とが互いに打ち消し合うことになり、像点Ｉ２
に集まる光束の収差を低減させることが可能になる。
【００３１】なお、第１の実施の形態では、照明光学系
を構成する光学部材は全て光軸に関して回転対称な光学
素子で構成することができるため、製造が簡易になる利
点がある。また、第２の実施の形態においても、フライ
アイレンズ１４よりもマスクＭａ側の光学部材は、回転
対称であり製造が容易である。本実施の形態では、走査
しつつ露光を行う構成であるため、マスクＭａ上に形成
される照明領域が円弧形状であっても問題はないが、マ
スクＭａ上において矩形照明が必要な場合には視野絞り
ＦＳの形状を変更すればよい。
を構成する光学部材は全て光軸に関して回転対称な光学
素子で構成することができるため、製造が簡易になる利
点がある。また、第２の実施の形態においても、フライ
アイレンズ１４よりもマスクＭａ側の光学部材は、回転
対称であり製造が容易である。本実施の形態では、走査
しつつ露光を行う構成であるため、マスクＭａ上に形成
される照明領域が円弧形状であっても問題はないが、マ
スクＭａ上において矩形照明が必要な場合には視野絞り
ＦＳの形状を変更すればよい。
【００３２】さて、第２の実施の形態では、マスクＭａ
と共役な位置に視野絞りＦＳを設ける構成としている
が、この視野絞りＦＳとしては、図８に示すように、露
光量調整をするために、開口部のＺ方向の幅を可変に構
成してもよい。図８において、視野絞りＦＳは枠部材Ｆ
Ｓａと可動部材ＦＳｂとから構成されている。この可動
部材ＦＳｂは、Ｚ方向に可動の複数の部材から構成され
ており、視野絞りＦＳの開口部のＺ方向の幅をＸ座標に
よって変えるように、その形状を可変にする。
と共役な位置に視野絞りＦＳを設ける構成としている
が、この視野絞りＦＳとしては、図８に示すように、露
光量調整をするために、開口部のＺ方向の幅を可変に構
成してもよい。図８において、視野絞りＦＳは枠部材Ｆ
Ｓａと可動部材ＦＳｂとから構成されている。この可動
部材ＦＳｂは、Ｚ方向に可動の複数の部材から構成され
ており、視野絞りＦＳの開口部のＺ方向の幅をＸ座標に
よって変えるように、その形状を可変にする。
【００３３】ここで、マスクＭａ上で走査直交方向にお
いて照度ムラがある場合には、走査方向における照明領
域の幅を変化させて、ワークＷ上での積算露光量を一定
にすれば良い。なお、この構成において、互いに開口部
の形状が異なる複数の視野絞りを用意しておき、そのう
ちの一つを選択する構成であっても良い。上述の第２の
実施の形態において、走査方向（パターン長手方向）に
沿った方向の開口数ＮＡ１と、走査直交方向（パターン
短手方向）に沿った開口数ＮＡ２とは、以下の式（４）
を満足するように構成されることが好ましい。
いて照度ムラがある場合には、走査方向における照明領
域の幅を変化させて、ワークＷ上での積算露光量を一定
にすれば良い。なお、この構成において、互いに開口部
の形状が異なる複数の視野絞りを用意しておき、そのう
ちの一つを選択する構成であっても良い。上述の第２の
実施の形態において、走査方向（パターン長手方向）に
沿った方向の開口数ＮＡ１と、走査直交方向（パターン
短手方向）に沿った開口数ＮＡ２とは、以下の式（４）
を満足するように構成されることが好ましい。
【００３４】
【数４】 （４） ０．０１＜ＮＡ２／ＮＡ１＜１．０ この式（４）は、マスクＭａ上における開口数の適切な
比を規定するものであり、この上限を越える場合には、
マスクＭａ上における照度を十分に高めることができ
ず、スループットが低下するため好ましくない。
比を規定するものであり、この上限を越える場合には、
マスクＭａ上における照度を十分に高めることができ
ず、スループットが低下するため好ましくない。
【００３５】一方、式（４）の下限を下回る場合には、
マスクＭａ上における照度は十分に高めることができる
が、直交する方向において開口数の差を大きくつけるた
めに、照明光学系を構成する要素間で大きな焦点距離の
差をつけるように構成することが必要となり、照明光学
系の構成の複雑化を招くため好ましくない。
マスクＭａ上における照度は十分に高めることができる
が、直交する方向において開口数の差を大きくつけるた
めに、照明光学系を構成する要素間で大きな焦点距離の
差をつけるように構成することが必要となり、照明光学
系の構成の複雑化を招くため好ましくない。
【００３６】
【発明の効果】上述のように、本発明によれば、製造が
容易でかつ色収差を発生させないアナモフィック光学系
を提供することができる。また、本発明による反射光学
系をプロキシミティ露光装置に適用すれば、その簡易な
構成のもとで高スループットを実現できる。
容易でかつ色収差を発生させないアナモフィック光学系
を提供することができる。また、本発明による反射光学
系をプロキシミティ露光装置に適用すれば、その簡易な
構成のもとで高スループットを実現できる。
【図１】本発明による反射屈折光学系の第１の実施の形
態のメリジオナル面内の光路図である。
態のメリジオナル面内の光路図である。
【図２】本発明による反射屈折光学系の第１の実施の形
態のサジタル面内を進行する光線の光路を示す図であ
る。
態のサジタル面内を進行する光線の光路を示す図であ
る。
【図３】本発明の第２の実施の形態によるプロキシミテ
ィ露光装置の全体構成を示す図である。
ィ露光装置の全体構成を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態によるプロキシミテ
ィ露光装置の照明光学系のサジタル面内の光路を示す図
である。
ィ露光装置の照明光学系のサジタル面内の光路を示す図
である。
【図５】本発明の第２の実施の形態によるプロキシミテ
ィ露光装置の照明光学系のメリジオナル面内の光路を示
す図である。
ィ露光装置の照明光学系のメリジオナル面内の光路を示
す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態によるプロキシミテ
ィ露光装置におけるオプティカルインテグレータの断面
を示す平面図である。
ィ露光装置におけるオプティカルインテグレータの断面
を示す平面図である。
【図７】本発明による反射屈折光学系の変形例である。
【図８】本発明の第２の実施の形態によるプロキシミテ
ィ露光装置における視野絞りの変形例を示す平面図であ
る。
ィ露光装置における視野絞りの変形例を示す平面図であ
る。
Ｍ１：第１の球面鏡、 Ｍ２：第２の球面鏡、 Ｃ１：第１の球心、 Ｃ２：第２の球心、 Ｏ ：物点、
Claims (5)
- 【請求項１】第１の球面鏡と第２の球面鏡とからなり、 前記第１の球面鏡は、物点からの光束のうちのメリジオ
ナル光束を集光して前記物点の共役点を形成し、かつ物
点からの光束のうちのサジタル光束を実質的にコリメー
トするように位置決めされ、 前記第２の球面鏡は、前記共役点からの光束のうちの前
記メリジオナル光束を集光しかつ前記実質的にコリメー
トされた前記サジタル光束を集光するように位置決めさ
れ、 前記第１および第２の球面鏡を介した前記メリジオナル
光束に関する像点と、前記第１および第２の球面鏡を介
した前記サジタル光束に関する像点とが一致することを
特徴とする反射光学系。 - 【請求項２】前記第１の球面鏡の第１の球心と前記第２
の球面鏡の第２の球心とを結ぶ直線を光軸とするとき、
前記第１の球心を通り前記光軸に垂直な平面内に物点が
概略存在するように位置決めされ、 前記第１の球心と前記第２の球心との距離が、前記第１
の球面鏡の曲率半径をＲ１とし、前記第２の球面鏡の曲
率半径をＲ２とし、前記第１および第２の曲率半径の正
負をその球心が曲面より物体側にあるときを負と定義す
るとき、｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２を実質的に満足すること
を特徴とする請求項１記載の反射光学系。 - 【請求項３】前記第１の球心と前記第２の球心との距離
をＬとするとき、 ０．８Ｌ＜｜Ｒ１−Ｒ２｜／√２＜１．２Ｌ を満足することを特徴とする請求項２記載の反射光学
系。 - 【請求項４】所定のパターンを有するマスクを照明し、
前記マスクと所定の間隙をもって位置するワークに前記
所定のパターンを転写するプロキシミティ露光装置にお
いて、 前記マスクと共役な面内を照明するための照明光学系
と、該照明光学系によって照明された領域を前記マスク
上に再結像させるリレー光学系とを備え、 該リレー光学系は、第１の球心と曲率半径Ｒ１とを有す
る第１の球面鏡と、第２の球心と曲率半径Ｒ２とを有す
る第２の球面鏡とを備え、 前記第１の球心と前記第２の球心とを結ぶ直線を光軸と
するとき、前記第１の球心を通り前記光軸に垂直な平面
内に前記照明された領域が存在するように位置決めさ
れ、 前記第１の球心と前記第２の球心との距離が、｜Ｒ１−
Ｒ２｜／√２を満足することを特徴とするプロキシミテ
ィ露光装置。 - 【請求項５】前記マスクと前記ワークとは走査方向に沿
って相対的に移動可能に支持され、 前記リレー光学系は、走査方向におけるワーク側開口数
と、走査直交方向におけるワーク側開口数とが異なるよ
うに構成されることを特徴とする請求項４記載のプロキ
シミティ露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15869196A JP3975492B2 (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 反射光学系およびそれを用いたプロキシミティ露光装置 |
| US08/842,897 US5891806A (en) | 1996-04-22 | 1997-04-17 | Proximity-type microlithography apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15869196A JP3975492B2 (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | 反射光学系およびそれを用いたプロキシミティ露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1010428A true JPH1010428A (ja) | 1998-01-16 |
| JP3975492B2 JP3975492B2 (ja) | 2007-09-12 |
Family
ID=15677255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15869196A Expired - Lifetime JP3975492B2 (ja) | 1996-04-22 | 1996-06-19 | 反射光学系およびそれを用いたプロキシミティ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3975492B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6985268B1 (en) | 2000-05-30 | 2006-01-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Image capturing apparatus |
| WO2007137666A3 (de) * | 2006-05-29 | 2008-02-21 | Burkhard Koch | Abschattungsfreies spiegelteleskop |
| EP2439574A1 (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-11 | Raytheon Company | An anamorphic reflecting optical system |
| JP2013541729A (ja) * | 2010-09-15 | 2013-11-14 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 結像光学系 |
| US12269642B2 (en) | 2008-12-09 | 2025-04-08 | Kyung Hwa Kim | Bottle for containing liquid |
-
1996
- 1996-06-19 JP JP15869196A patent/JP3975492B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6985268B1 (en) | 2000-05-30 | 2006-01-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Image capturing apparatus |
| WO2007137666A3 (de) * | 2006-05-29 | 2008-02-21 | Burkhard Koch | Abschattungsfreies spiegelteleskop |
| US12269642B2 (en) | 2008-12-09 | 2025-04-08 | Kyung Hwa Kim | Bottle for containing liquid |
| JP2013541729A (ja) * | 2010-09-15 | 2013-11-14 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 結像光学系 |
| US9366968B2 (en) | 2010-09-15 | 2016-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods |
| US9568832B2 (en) | 2010-09-15 | 2017-02-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods |
| US10007187B2 (en) | 2010-09-15 | 2018-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| EP2439574A1 (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-11 | Raytheon Company | An anamorphic reflecting optical system |
| US8274734B2 (en) | 2010-10-08 | 2012-09-25 | Raytheon Company | Anamorphic relayed imager having multiple rotationally symmetric powered mirrors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3975492B2 (ja) | 2007-09-12 |
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