JPH10104427A - 波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置 - Google Patents

波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置

Info

Publication number
JPH10104427A
JPH10104427A JP8262907A JP26290796A JPH10104427A JP H10104427 A JPH10104427 A JP H10104427A JP 8262907 A JP8262907 A JP 8262907A JP 26290796 A JP26290796 A JP 26290796A JP H10104427 A JPH10104427 A JP H10104427A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
phase difference
region
wave plate
amount
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8262907A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Hayashi
賢一 林
Kazuo Higashiura
一雄 東浦
Tamotsu Nose
保 能勢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidec Instruments Corp
Original Assignee
Sankyo Seiki Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sankyo Seiki Manufacturing Co Ltd filed Critical Sankyo Seiki Manufacturing Co Ltd
Priority to JP8262907A priority Critical patent/JPH10104427A/ja
Publication of JPH10104427A publication Critical patent/JPH10104427A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光検出器による戻り光の受光量の変動を抑制
するとともに、受光量を所定のレベルに維持することに
よりジッター特性に優れた光ピックアップ装置を実現す
るための波長板を提案すること。 【解決手段】 波長板1においては、基板2の光通過面
201に2種類の位相差領域AおよびBが所定のパター
ンに形成されている。このパターンは、光が波長板1を
往復したときに、同じ位相差領域を通過する光と異なる
位相差領域を通過する光の光量が等しくなるように形成
されている。したがって、波長板1を光ピックアップ装
置に用いた場合には、位相差領域AおよびBの位相差を
制御することによって光検出器による戻り光の受光量の
レベルおよび受光量の変動する範囲を設定することがで
きる。このため、光記録媒体の複屈折性に影響を受けな
いジッター特性に優れた光ピックアップ装置に適した波
長板1を提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の再生
・記録あるいはそれら一方の動作を行うための光ピック
アップ装置において、光源からの出射光と光記録媒体か
らの戻り光を分離するために用いる1/4波長板などの
波長板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】コンパクトディスク(CD)等の光記録
媒体の再生を行うための光ピックアップ装置としては、
レーザ光源から光検出器に至る光路上に偏光ビームスプ
リッタ(PBS)および1/4波長板が配置された偏光
系の光ピックアップ装置が知られている。このような光
ピックアップ装置は、レーザ光源からの出射光がPBS
および1/4波長板を通過したのち、光記録媒体の記録
面上に光スポットとして照射され、この記録面からの戻
り光が再び1/4波長板およびPBSを通過するように
構成されている。記録面からの戻り光は、1/4波長板
を通るとレーザ光源からの出射光の偏光方位と90度異
なる偏光方位のレーザ光に変えられ、レーザ光源の方向
とは異なる方向に設けられた光検出器に導かれるように
なっている。このような偏光系の光ピックアップ装置
は、光の利用効率の面で優れており、光記録媒体へ情報
を記録するための光ピックアップ装置に多く用いられて
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ここで、光記録媒体の
反射面も複屈折性を備えている。このため、光記録媒体
からの戻り光には、1/4波長板による位相差だけでは
なく、光記録媒体の複屈折性による位相差も生じる。よ
って、1/4波長板を通った戻り光は直線偏光とならず
楕円偏光となり、レーザ光源からの出射光の偏光方位に
対して垂直な直線偏光成分のみとはならず、平行な直線
偏光成分が含まれてしまう。光記録媒体による複屈折量
が無視できない場合には、以下に説明するような不具合
が生ずる。
【0004】図6(A)には1/4波長板を用いた場合
の光記録媒体の複屈折性により生じる位相差と光検出器
による戻り光の受光量との関係を示してある。なお、縦
軸は光検出器による戻り光の受光量Prと、レーザ光源
からの出射光の光量Poの比率Pr/Poで示してあ
る。この図に示すように、1/4波長板を用いた光ピッ
クアップ装置では、光記録媒体の複屈折性による位相差
が戻り光に含まれていると、その位相差に応じて光検出
器による戻り光の受光量Prが低下してしまう。特に、
光記録媒体の複屈折性によって生じる位相差がπラジア
ンのときには光検出器に導かれる戻り光がゼロになり、
光記録媒体からの情報信号が得られなくなってしまう。
【0005】また、光記録媒体がもつ複屈折性は場所に
よって異なるので、光記録媒体の回転にともなって、戻
り光に与えられる位相差が変化する。このため、光記録
媒体の複屈折性によって生じる位相差が0〜πラジアン
の範囲でばらついたとすれば、光検出器による戻り光の
受光量Prが0〜1の範囲で変動する。この戻り光の受
光量Prの変動は、光検出器からの出力信号の変動(ジ
ッター)特性を悪化させてしまう。
【0006】ここで、光記録媒体の複屈折性によって生
じる位相差が0〜πラジアンの範囲内であれば、1/4
波長板の代わりに1/8波長板を使用することで、図6
(B)に示すように、光検出器に導かれる戻り光がゼロ
になるのを防ぐことができる。さらに、光検出器による
戻り光の受光量Prの変動をほぼ0.5〜1の範囲に収
めることができる。しかし、受光量Prの変動幅が大き
く、光検出器に導かれる戻り光がゼロになる可能性は残
されたままである。
【0007】本発明の課題は、光検出器による戻り光の
受光量を一定のレベルに維持でき、受光量がゼロになる
可能性をなくし、さらに、受光量の変動を抑制すると共
に、受光量を一定のレベルに維持することによりジッタ
ー特性に優れた光ピックアップ装置を実現するための波
長板を提案することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、基板と、この基板の光通過面に形成さ
れ、当該光通過面を通過する光に対して異なる位相差を
与える2種類以上の位相差領域とを備えた波長板におい
て次の構成を採用するようにしている。すなわち、第1
の構成として、これらの位相差領域の大きさは、同一種
類の位相差領域を通って往復する通過光の光量と、異な
る種類の位相差領域を通って往復する通過光の光量とが
ほぼ等しくなるように形成された構成を採用している。
【0009】本発明の波長板では、光が位相差領域を通
過すると所定の位相差を受け、この時に受ける位相差が
通過する位相差領域毎に異なるので、波長板を通過した
光には数種類の異なった位相差が生じている光が含まれ
ることになる。このため、光源からの出射光の偏光方位
に対して垂直な偏光方位の光だけを所定の方向に透過ま
たは反射させる偏光系の光ピックアップ装置において、
光記録媒体からの戻り光に光記録媒体の複屈折性による
位相差が含まれていたとしても、本発明の波長板を通過
した戻り光には出射光の偏光方位に対して垂直な偏光方
位の成分をもった光が常に存在する。したがって、光検
出器が読み取る戻り光の光量がゼロになることがないの
で、光記録媒体からの情報信号を確実に得ることができ
る。
【0010】また、本発明の波長板では、各位相差領域
の位相差を制御することによって光検出器による戻り光
の受光量を一定レベル以上にすることができ、さらに、
受光量の変動も少なくすることができる。したがって、
ジッター特性に優れた光ピックアップ装置に適した波長
板を提供できる。
【0011】第1および第2の位相差領域を備えた波長
板とした場合には、第1の位相差領域による位相差と第
2の位相差領域による位相差との差異がπの倍数となる
ように設定することが望ましい。このように設定すれ
ば、戻り光に光記録媒体の複屈折性による位相差が生じ
ていても、光検出器による戻り光の受光量を一定のレベ
ルに維持することができる。このため、本発明の波長板
を用いることにより、光記録媒体の複屈折性に影響され
ない偏光系の光ピックアップ装置を実現できる。
【0012】また、本発明の波長板の第2の構成とし
て、各々の位相差領域の大きさが、同一種類の位相差領
域を通って往復する通過光の光量が異なる位相差領域を
通って往復する通過光の光量の2倍となるように形成さ
れた構成を採用できる。このような構成において、第1
および第2の位相差領域を備えた波長板とした場合に
は、第1の位相差領域による位相差と第2の位相差領域
による位相差との差異が2π/3の倍数となるように設
定することが好ましい。
【0013】本発明の波長板の各々の位相差領域は、結
晶光軸の方向は揃っているが膜厚の異なる複屈折膜から
形成することができる。また、各々の位相差領域は、複
屈折膜、誘電体膜、および空気層のうちの少なくともい
ずれか1つで形成することができる。さらに、位相差領
域に反射防止膜を形成しておけば、光の反射を防ぐこと
ができるので、光の利用効率に優れた波長板を提供でき
る。
【0014】本発明の波長板の基板としては、長方形の
ものを使用して、この基板の各辺の方向が前記第1の位
相差領域あるいは前記第2の位相差領域の結晶光軸の方
向に対して所定の角度となるように設定することが好ま
しい。このようにすれば、波長板を光ピックアップに実
装する際に、各辺が結晶光軸の方向に対する目印とな
る。このため、波長板を光ピックアップに実装し易い。
【0015】本発明の波長板を用いた光ピックアップ装
置としては、波長板を通る光を出射する光源と、前記波
長板を通った光を光記録媒体上に光スポットとして集光
させる対物レンズと、前記記録媒体からの戻り光を光検
出器に導くビームスプリッターとを有している。このよ
うな光ピックアップ装置において、光記録媒体の結晶光
軸の方向が既知の場合には、本発明の波長板の結晶光軸
の方向を光記録媒体の結晶光軸の方向に合わせることが
望ましい。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
【0017】[実施の形態1]図1(A)は本発明を適
用した波長板の斜視図である。この図に示すように、本
例の波長板1は、長方形の基板2と、この基板2の表面
(光通過面)201に形成された2種類の位相差領域A
およびBを備えている。基板2の各辺の方向は、位相差
領域A或いは位相差領域Bの結晶光軸の方向に対して所
定の角度となるように設定されている。基板2は、たと
えば、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等
から形成されており、波長板1に入射する光の波長に対
して透明なものとされている。また、基板2は、平坦と
された表面201および裏面202を備えており、これ
らの面201および202が光源からの出射光や光記録
媒体からの戻り光が通過する光通過面201および20
2となっている。図1(A)において、破線で示す円形
の領域Rはレーザ光が照射される領域である。なお、以
下の本明細書の記載および図面においては、波長板のう
ち光が照射される円形領域Rのみを取り出して説明およ
び図示するものとする。
【0018】図1(B)に示すように、基板2の光通過
面201のうちレーザ光が照射される円形領域Rには、
2種類の位相差領域AおよびBが同じ面積(大きさ)で
所定のパターンに形成されている。本例の波長板1で
は、光通過面201の中心Oに対して135度の範囲に
位相差領域Aが形成され、この位相差領域Aから図面に
向かって時計回りに、45度の範囲に位相差領域B、4
5度の範囲に位相差領域A、および135度の範囲に位
相差領域Bがこの順序で形成されている。
【0019】位相差領域Aは所定の膜厚の複屈折膜3か
ら形成されている。複屈折膜3は、たとえば、基板2の
光通過面201に対して、その法線方向に対して所定の
角度をなす方向から五酸化タンタル、酸化タングステ
ン、三酸化ビスマス、酸化チタン等の無機物を蒸着した
ものである。また、この複屈折膜3は、膜厚を調整する
ことで1/4波長板や1/8波長板等の光学作用を有す
るように形成することができる。このため、位相差領域
Aを通過した光は、所定の波長A’分だけの位相差を受
けるようになっている。
【0020】位相差領域Bも所定の膜厚の複屈折膜4か
ら形成されており、位相差領域Aと同様な無機物を蒸着
したものである。このため、複屈折膜4の膜厚を調整す
ることによって位相差領域Bを通過した光も所定の波長
B’分だけの位相差を受けるようになっている。
【0021】なお、位相差領域AおよびBの複屈折膜3
および4は同じ無機物から形成しなくても良く、水晶や
高分子フィルム等の複屈折性を備えた材料から形成する
こともできる。また、位相差領域AおよびBの両方に複
屈折性をもたせる代わりに、一方の位相差領域を空気層
や光に対して透明な材料から形成することも可能であ
る。さらに、位相差領域AおよびBの一方を誘電体膜か
ら形成してもよい。さらにまた、光の反射を防止して光
の利用効率を高めるために位相差領域AおよびBに反射
防止膜を形成してもよい。
【0022】複屈折膜3および4の製造方法としては、
蒸着の代わりにスパッタ法を用いることもできる。蒸着
やスパッタ法によって複屈折膜3および4を作製する場
合には、金属マスクを用いることで位相差領域Aおよび
Bを所定のパターンに形成しやすくなる。また、高分子
フィルムを1方向に伸ばすことで複屈折膜3および4を
作製し、この後、この伸ばした高分子フィルムを基板に
対して張りつけるように製造してもよい。さらに、結晶
成長により複屈折性を有する水晶やニオブ酸リチウム
(LiNbO3)等を所定の形状にカットして、このカットし
た水晶等を基板に対して張りつけるようにすることも可
能である。
【0023】図2に示すように、インコヒーレント光L
が波長板1に入射すると、位相差領域Aを通過してA’
波長分の位相差を受けた光Laと、位相差領域Bを通過
してB’波長分の位相差を受けた光Lbとを備えたイン
コヒーレント光Lが波長板1から出射される。その後、
インコヒーレント光Lが光記録媒体などで反射されて再
び波長板1に入射する際には、図3に示すように、波長
板1から出射された光LaおよびLbと点対称になった
位置から光LaおよびLbが入射する。
【0024】この結果、インコヒーレント光Lが再び波
長板1を通過すると、位相差領域Aを2回通過して2
A’波長分の位相差を受けた光Laa、位相差領域Aを
通過したのち位相差領域Bを通過して(A’+B’)波
長分の位相差を受けた光Lab、位相差領域Bを通過し
たのち位相差領域Aを通過して(A’+B’)波長分の
位相差を受けた光Lba、および位相差領域Bを2回通
過して2B’波長分の位相差を受けた光Lbbが存在す
ることになる。さらに、これら4通りの光Laa、La
b、Lba、およびLbbはインコヒーレント光L中に
占める割合が等しいので、それぞれの光量がすべて等し
くなっている。なお、コヒーレント光の場合には、波長
板1から出射された光が1点に集光して、その点を光源
として放射されるものとみなすことができるので、コヒ
ーレント光が波長板1を往復する場合にも、4通りの光
Laa、Lab、Lba、およびLbbが存在し、これ
らの光Laa、Lab、Lba、およびLbbの光量も
すべて等しくなる。
【0025】なお、波長板1の光通過面201のうち光
が照射される部分に形成する位相差領域AおよびBのパ
ターンとしては、上記のパターンに限らずインコヒーレ
ント光が波長板を往復しても、4通りの光Laa、La
b、Lba、およびLbbの光量がすべて等しくなるよ
うなパターンを採用すればよい。たとえば、図4(A)
〜(D)に示すようなパターンを採用することができ
る。図4(A)〜(D)に示すパターンは、いずれのパ
ターンも位相差領域AおよびBに照射される光の光量が
等しく、さらに、4通りの光Laa、Lab、Lba、
およびLbbの光量が等しくなる。また、コヒーレント
光のみを扱う場合には、図4(E)に示すような概ね等
しい面積を持つ同心円で径の周期がレンズ効果が生じな
いようになっているパターンでもよい。さらに、2種類
の位相差領域AおよびBを形成する代わりに、3種類以
上の位相差領域を形成することも可能である。この場合
には、これらの位相差領域の大きさを、同一種類の位相
差領域を通って往復する通過光の光量と、異なる位相差
領域を通って往復する通過光の光量がほぼ等しくなるよ
う形成すればよい。
【0026】このように構成した波長板1は、光記録媒
体に対する偏光系の光ピックアップ装置において、それ
を構成する光学部品の1つとして用いることができる。
図5に基づき、本発明を適用した波長板1を用いた偏光
系の光ピックアップ装置について説明する。図5に光ピ
ックアップ装置20の概略構成を示すように、光ピック
アップ装置20の光学系は、レーザ光源であるレーザダ
イオード(LD)21から出射されたレーザ光Loを光
記録媒体25に集光させるための往路と、光記録媒体2
5からの戻り光Lrを光検出器29に導くための復路と
を備えている。往路には、LD21から光記録媒体25
に向かってグレーディングレンズ22、偏光ビームスプ
リッター(PBS)23、波長板1、および対物レンズ
24がこの順序に配置されている。グレーディングレン
ズ22はLD21からのレーザ光Loを5つのレーザ光
に分割するように構成されている。
【0027】光ピックアップ装置20において、LD2
1から出射されたレーザ光Loはグレーディングレンズ
22によって5つのレーザ光に分割される。この5つの
分割光は、PBS23によってほぼ90度進行方向を変
えられ、波長板1に導かれる。
【0028】波長板1は、位相差領域AおよびBを構成
する複屈折膜3および4の結晶光軸の方向と光記録媒体
25の結晶光軸の方向が合わされている。前述したよう
に、波長板1は、基板2の各辺の方向と位相差領域A或
いは位相差領域Bの結晶光軸の方向とが所定の角度に設
定されている。したがって、基板2の各辺を目印として
波長板1を配置することにより、位相差領域AおよびB
を構成する複屈折膜3および4の結晶光軸の方向と光記
録媒体25の結晶光軸の方向を容易に合わせることがで
きる。
【0029】また、波長板1は、位相差領域Aが3/8
波長板、位相差領域Bが1/8波長板としての光学作用
を有するように、それぞれの複屈折膜3および4の膜厚
が決定されている。膜厚は、例えば1/8波長板の膜厚
d1は、 λ/8=d1(ne −no ) 但し、ne :異常光に対する屈折率 no :常光に対する屈折率 λ :レーザ光Loの波長 であり、3/8波長板の膜厚d3は、 3λ/8=d3(ne −no ) となる。また、位相差領域AおよびBの複屈折膜3およ
び4の膜厚については、位相差領域Aと位相差領域Bと
による位相差を満たせば、位相差領域AおよびBを構成
する複屈折膜3および4の材料を異ならせて、位相差領
域AおよびBのそれぞれの膜厚を同じにすることも可能
である。複屈折膜3および4の材料の選択については、
波面収差が少なくなるような材料を選ぶことが好まし
い。
【0030】波長板1を通過した分割光には、前述した
ように位相差領域Aを通過して3/8波長分の位相差を
受けた光Laと、位相差領域Bを通過して1/8波長分
の位相差を受けた光Lbが生じる。これらの光Laおよ
びLbを含んだ分割光は対物レンズ24を介して光記録
媒体25の記録面251にそれぞれ光スポットとしてそ
れぞれ集光される。集光された分割光は、記録面251
に記録されたデータに基づいて強度変調を受けながら反
射されてそれぞれ戻り光Lrとして復路に導かれる。
【0031】復路には、光記録媒体25から光検出器2
9に向かって対物レンズ24、波長板1、PBS23が
この順序で配置されている。光記録媒体25からの戻り
光Lrは対物レンズ25を介して波長板1に導かれる。
戻り光Lrが波長板1を通過すると、前述したように、
位相差領域AおよびBによって、3/4波長分の位相差
を受けた光Laa、1/2波長分の位相差を受けた光L
ab、同じく1/2波長分の位相差を受けた光Lba、
および1/4波長分の位相差を受けた光Lbbが生じ
る。これらの光Laa、Lab、Lba、およびLbb
の光量はすべて等しい。これら4通りの光Laa、La
b、Lba、およびLbbを含んだ戻り光LrはPBS
23に導かれ、LD21からの出射光Loの偏光方位と
垂直な偏光方向成分のみがPBS23を透過して光検出
器29に導かれる。光検出器29は、5個の受光素子を
備えており、これらの受光素子に戻り光Lrがそれぞれ
集光する。これらの5個の受光素子で受光した光スポッ
トに基づきフォーカシングエラー信号(FE信号)、ト
ラッキングエラー信号(TE信号)、およびピット信号
(RF信号)を検出できるようになっている。
【0032】このように3/8波長板および1/8波長
板としての光学作用を有する位相差領域AおよびBが形
成された波長板1を備えた光ピックアップ装置20にお
いては、戻り光Lrに光記録媒体25の複屈折性による
位相差が含まれていても、位相差が異なり光量の等しい
4種類の光Laa、Lab、Lba、およびLbbがP
BS23に入射する。このため、PBS23によってL
D21からのレーザ光Loの偏光方位に対して垂直な偏
光方位の光だけを光検出器29に導く場合でも、光検出
器29による戻り光Lrの受光量Prは、式(1)に基
づき得られる図6(C)のように、ほぼ一定のレベルに
なる。したがって、光記録媒体25からの情報信号が得
られなくなるといった不具合を解消できる。さらに、図
6(A)、(B)に示すような1/4波長板または1/
8波長板を光ピックアップ装置に採用した場合に比べ
て、光検出器29による戻り光Lrの受光量Prの変動
する範囲が狭くなる。したがって、波長板1を用いるこ
とにより、ジッター特性に優れた光ピックアップ装置2
0を実現できる。
【0033】なお、式(1)は、LD21からのレーザ
光Loの光量Poと光記録媒体25からの戻り光Lrに
おけるレーザ光Loに対する垂直方向成分の光量Prの
比(Pr/Po)を求める計算式である。式(1)にお
いて、aは光記録媒体25がもつ複屈折性による位相
差、delta1は位相差領域Aを通過したときに受け
る位相差A’、delta2は位相差領域Bを通過した
ときに受ける位相差B’である。上記光ピックアップ装
置20に配置された波長板1では、delta1が3λ
/8、delta2がλ/8に相当する。
【0034】
【数1】
【0035】波長板1において、3/8波長板および1
/8波長板としての光学作用を有するように位相差領域
AおよびBを形成する代わりに、位相差領域Bを空気層
として位相差が生じないようにし、さらに、位相差領域
Aを1/4波長板としての光学作用を有するような膜厚
の複屈折膜3を形成してもよい。この場合には、式
(1)に基づき得られる図6(D)のように、光記録媒
体25の複屈折性による生じる位相差が0〜πラジアン
の範囲にある時には、LD21からのレーザ光Loの半
分以上の光量が光検出器29に導かれる。しかも、この
場合の光検出器29による戻り光Lrの受光量Prの変
動は約0.5〜0.75の範囲に収まる。また、光記録
媒体25の複屈折性により生ずる位相差の変動幅が拡大
しても、光検出器29による戻り光Lrの受光量Prが
ゼロになることはない。このため、光の利用効率および
ジッター特性がいっそう優れた光ピックアップ装置20
を実現できる。なお、位相差領域Bを空気層とするため
波長板1の製造も容易になるという利点もある。
【0036】また、位相差領域Aを通過することによっ
て受ける位相差A’(delta1)と、位相差領域B
を通過することによって受ける位相差B’(delta
2)との差がπの倍数となるような膜厚の複屈折膜3お
よび4を形成してもよい。この場合には、式(1)に基
づき得られる図6(E)のように、光記録媒体25の複
屈折性による位相差に影響されず、常にLD21からの
レーザ光Loのほぼ半分の光量Poが光検出器29に導
かれる。したがって、光記録媒25の複屈折性による位
相差に影響されない光ピックアップ装置20を実現でき
る。
【0037】このように波長板1を備えた光ピックアッ
プ装置20においては、波長板1の位相差領域Aおよび
Bを構成する複屈折膜3および4の膜厚を制御すること
により、光検出器29による戻り光Lrの受光量Pr
や、受光量Prの変動する範囲を設定して光記録媒体2
5の複屈折性による影響が少ない光ピックアップ装置2
0を実現できる。たとえば、光記録媒体25による位相
差が大きい場合には、光検出器29による戻り光Lrの
受光量Prのレベルを低くして、受光量Prの変動が少
なくなるように設計することができる。また、光記録媒
体25の位相差が小さい場合には、光検出器29による
戻り光Lrの受光量Prを高レベルに設計できる。
【0038】また、波長板1を備えた偏光系の光ピック
アップ装置20は、LD21からのレーザ光Loを光記
録媒体25の記録面251にほぼ100パーセントのエ
ネルギー効率で集光できる能力を維持しながら、検出器
29による戻り光Lrの受光量Prを高レベルに設計で
きる。このため、光記録媒体25への記録用の光ピック
アップ装置に最適な構成である。
【0039】[実施の形態2]実施の形態2の波長板
は、(光Laaの光量)=(光Lbbの光量)={(光
Labの光量)+(光Lbaの光量)}となるように位
相差領域AおよびBが所定のパターン、かつ、大きさに
形成されている。なお、本例の波長板1aにおいて、実
施の形態1の波長板1と共通する機能を有する部分につ
いては同じ符号を付して説明を省略する。また、実施の
形態2においても、波長板1aのうち光が照射される部
分を取り出して説明する。図7に示すように、本例の波
長板1aでは、光通過面201の中心Oに対して120
度の範囲に位相差領域Aが形成され、この位相差領域A
から図面に向かって時計回りに、60度の範囲に位相差
領域B、60度の範囲に位相差領域A、および120度
の範囲に位相差領域Bがこの順序で形成されている。
【0040】図8に示すように、インコヒーレント光L
が波長板1aに入射すると、位相差領域Aを通過して
A’波長分の位相差を受けた光Laと、位相差領域Bを
通過してB’波長分の位相差を受けた光Lbとを備えた
インコヒーレント光Lが波長板1aから出射される。そ
の後、インコヒーレント光Lが光記録媒体などで反射さ
れて再び波長板1aに入射する際には、図9に示すよう
に、波長板1aから出射された光LaおよびLbと点対
象になった位置から光LaおよびLbが入射する。
【0041】この結果、インコヒーレント光Lが再び波
長板1を通過すると、位相差領域Aを2回通過して2
A’波長分の位相差を受けた光Laa、位相差領域Aを
通過したのち位相差領域Bを通過して(A’+B’)波
長分の位相差を受けた光Lab、位相差領域Bを通過し
たのち位相差領域Aを通過して(A’+B’)波長分の
位相差を受けた光Lba、および位相差領域Bを2回通
過して2B’波長分の位相差を受けた光Lbbが存在す
ることになる。これら4通りの光Laa、Lab、Lb
a、およびLbbの光量の関係は、それぞれの光La
a、Lab、Lba、およびLbbがインコヒーレント
光Lに占める割合により(光Laaの光量)=(光Lb
bの光量)={(光Labの光量)+(光Lbaの光
量)}となる。
【0042】また、波長板1aの光通過面201のうち
光が照射される部分に形成する位相差領域AおよびBの
パターンとしては、インコヒーレント光が波長板を往復
しても、4通りの光Laa、Lab、Lba、およびL
bbの光量の関係が(光Laaの光量)=(光Lbbの
光量)={(光Labの光量)+(光Lbaの光量)}
を満たすようなパターンとすればよい。たとえば、図1
0(A)〜(D)に示すようなパターンを採用すれば、
4通りの光Laa、Lab、Lba、およびLbbが存
在し、かつ、これらの光の光量の関係が(光Laaの光
量)=(光Lbbの光量)={(光Labの光量)+
(光Lbaの光量)}となる。また、波長板1aにおい
ても、2種類の位相差領域AおよびBを形成する代わり
に、3種類以上の位相差領域を形成することも可能であ
る。この場合には、同一種類の位相差領域を通って往復
する通過光の光量が異なる位相差領域を通って往復する
通過光の光量の2倍となるような大きさの位相差領域を
形成すればよい。
【0043】このように構成した波長板1aも、実施の
形態1の波長板1と同様に光記録媒体25に対する光ピ
ックアップ装置20において、それを構成する光学部品
の一つとして用いることができる。
【0044】光ピックアップ装置20に使用した波長板
1aにおいては、位相差領域AおよびBを構成する複屈
折膜3および4の結晶光軸の方向と光記録媒体25の結
晶光軸の方向が一致させてある。なお、波長板1aにお
いても、基板2の各辺を目印として配置することにより
位相差領域AおよびBを構成する複屈折膜3および4の
結晶光軸の方向と光記録媒体25の結晶光軸の方向を容
易に合わせることができる。さらに、位相差領域Aが1
/4波長板、位相差領域Bが1/8波長板としての光学
作用を有するように、それぞれの複屈折膜3および4の
膜厚を決定し形成してある。
【0045】このような波長板1aを備えた偏光系の光
ピックアップ装置20では、波長板1aを通過した分割
光には、位相差領域Aを通過して1/4波長分の位相差
を受けた光Laと、位相差領域Bを通過して1/8波長
分の位相差を受けた光Lbが生じ、この分割光は対物レ
ンズ24を介して光記録媒体25の記録面251に光ス
ポットとして集光される。
【0046】光記録媒体25の記録面251からの戻り
光Lrが波長板1aを通過すると、前述したように、位
相差領域AおよびBによって、1/2波長分の位相差を
受けた光Laa、3/8波長分の位相差を受けた光La
b、同じく3/8波長分の位相差を受けた光Lba、お
よび1/4波長分の位相差を受けた光Lbbが生じる。
これらの光Laa、Lab、Lba、およびLbbの光
量の関係は、(光Laaの光量)=(光Lbbの光量)
={(光Labの光量)+(光Lbaの光量)}にな
る。
【0047】このため、光記録媒体25の複屈折性によ
る位相差が戻り光Lrに与えられても、位相差が異な
り、(光Laaの光量)=(光Lbbの光量)={(光
Labの光量)+(光Lbaの光量)}の関係を満たし
た4通りの光Laa、Lab、Lba、およびLbbが
PBS23に入射することになる。したがって、PBS
23によってLD21からのレーザ光Loの偏光方位に
対して垂直な偏光方位の光だけを光検出器29に導く場
合でも、光検出器29による戻り光Lrの受光量Pr
は、式(2)に基づき得られる図11(A)のように、
ほぼ一定のレベルになる。特に、光記録媒体25の複屈
折性による位相差が0〜π/2ラジアンである場合に
は、ほぼ0.79〜0.90という非常に多い光量の戻
り光Lrが光検出器29に導かれる。さらに、図6
(A)、(B)のように1/4波長板または1/8波長
板を用いた光ピックアップ装置20に比べて、光検出器
29による戻り光Lrの受光量Prの変動が少なくな
る。したがって、波長板1aを用いることによってもジ
ッター特性に優れた光ピックアップ装置20を実現でき
る。
【0048】なお、式(2)は、波長板1aを用いた光
ピックアップ装置20においてLD21からのレーザ光
Loの光量Poと、光記録媒体25からの戻り光Lrに
おけるレーザ光Loに対する垂直方向成分の光量Prの
比(Pr/Po)を求める計算式である。式(2)にお
いて、aは光記録媒体25がもつ複屈折性による位相
差、delta1は位相差領域Aを通過したときに受け
る位相差A’、delta2は位相差領域Bを通過した
ときに受ける位相差B’である。光ピックアップ装置2
0に配置された波長板1aでは、delta1がλ/
4、delta2がλ/8に相当する。
【0049】
【数2】
【0050】また、波長板1aにおいても、光記録媒体
25の複屈折性による位相差に応じて位相差領域Aおよ
びBを構成する複屈折膜3および4の膜厚を制御するこ
とにより、光ピックアップ装置20の光検出器29によ
る戻り光Lrの受光量Prや、さらに、受光量Prが変
動する範囲を設定できる。たとえば、光記録媒体25の
複屈折性による位相差が0〜πラジアンの範囲でばらつ
く場合には、位相差領域Bを空気層として位相差が生じ
ないようにし、さらに、位相差領域Aを1/4波長板と
しての光学作用を有するような膜厚の複屈折膜3を形成
すればよい。この結果、式(2)に基づき得られる図1
1(B)のように、LD21からのレーザ光Loのほぼ
0.50〜0.67の光量を持つ戻り光Lrが光検出器
29に導かれる。
【0051】さらに、光記録媒体25の複屈折性による
位相差に影響されずに、光検出器29による戻り光Lr
の受光量Prを常に一定のレベルに維持したい場合に
は、位相差領域Aを1/3波長板、位相差領域Bを2/
3波長板のように位相差領域Aを通過することによって
受ける位相差A’(delta1)と、位相差領域Bを
通過することによって受ける位相差B’(delta
2)との差が2π/3の倍数となるような膜厚の複屈折
膜3および4を形成すればよい。この結果、式(2)に
基づき得られる図11(C)のように、光検出器29に
よる戻り光Lrの受光量Prは、光記録媒体25の複屈
折性による位相差に影響されず、常にLD21からのレ
ーザ光Loのほぼ半分の光量となる。
【0052】このように波長板1aを備えた光ピックア
ップ装置20においても、波長板1aの位相差領域Aお
よびBを構成する複屈折膜3および4の膜厚を制御する
ことにより、光検出器29による戻り光Lrの受光量P
rや、受光量Prの変動する範囲を設定して光記録媒体
25の複屈折性による影響が少ない光ピックアップ装置
20を実現できる。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の波長板
は、光が位相差領域を通過すると所定の位相差を与え、
この時に受ける位相差を通過する位相差領域毎に異なる
ように形成されている。したがって、波長板を通過した
光には数種類の異なった位相差が生じている光が含まれ
ることになる。このため、光源からの出射光の偏光方位
に対して垂直な偏光方位の光だけを所定の方向に透過、
反射、または回折させる光ピックアップ装置において、
戻り光に光記録媒体の複屈折性による位相差が含まれて
いたとしても、光記録媒体からの情報信号が確実に得る
ことができる。
【0054】また、本発明の波長板は、各位相差領域の
位相差を制御することによって光検出器による戻り光の
受光量のレベルおよびその受光量の変動する範囲を設定
することができる。このため、光記録媒体による複屈折
性に影響を受けないジッター特性に優れた光ピックアッ
プ装置の実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は本発明を適用した波長板の斜視図、
(B)は波長板のうちレーザ光が照射される円形領域の
みを取り出して示す斜視図である。
【図2】図1に示す波長板を通過したインコヒーレント
光の様子を示す説明図である。
【図3】図2に示すインコヒーレント光が再び図1に示
す波長板を通過する様子を示す説明図である。
【図4】図1に示す波長板とは異なるパターンに形成さ
れた波長板を示す平面図である。
【図5】図1に示す波長板を備えた光ピックアップ装置
の概略構成図である。
【図6】各種の波長板を光ピックアップ装置に採用した
時の光検出器による戻り光の受光量を示す図である。
【図7】本発明を適用した波長板を示す斜視図である。
【図8】図7に示す波長板を通過したインコヒーレント
光の様子を示す説明図である。
【図9】図8に示すインコヒーレント光が再び図7に示
す波長板を通過する様子を示す説明図である。
【図10】図7に示す波長板とは異なるパターンに形成
された波長板を示す平面図である。
【図11】各種の波長板を光ピックアップ装置に採用し
た時の光検出器による戻り光の受光量を示す図である。
【符号の説明】
1、1a 波長板 2 基板 201、202 光通過面 3、4 複屈折膜 20 光ピックアップ装置 21 レーザダイオード(LD) 23 偏光ビームスピリッター(PBS) 24 対物レンズ 25 光記録媒体 29 光検出器 A、B 位相差領域

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、この基板の光通過面に形成さ
    れ、当該光通過面を通過する光に対して異なる位相差を
    与える2種類以上の位相差領域とを備え、これらの位相
    差領域の大きさは、同一種類の前記位相差領域を通って
    往復する通過光の光量と、異なる種類の前記位相差領域
    を通って往復する通過光の光量とがほぼ等しくなるよう
    に形成されていることを特徴とする波長板。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記位相差領域とし
    て第1および第2の位相差領域を備え、これら第1の位
    相差領域による位相差と第2の位相差領域による位相差
    との差異がπの倍数となるように設定されていることを
    特徴とする波長板。
  3. 【請求項3】 基板と、この基板の光通過面に形成さ
    れ、当該光通過面を通過する光に対して異なる位相差を
    与える2種類以上の位相差領域とを備え、これらの位相
    差領域の大きさは、同一種類の前記位相差領域を通って
    往復する通過光の光量が異なる種類の前記位相差領域を
    通って往復する通過光の光量の2倍となるように形成さ
    れていることを特徴とする波長板。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記位相差領域とし
    て第1および第2の位相差領域を備え、これら第1の位
    相差領域による位相差と第2の位相差領域による位相差
    との差異が2π/3の倍数となるように設定されている
    ことを特徴とする波長板。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかにおいて、
    前記位相差領域のそれぞれは、結晶光軸の方向は揃って
    いるが、膜厚の異なる複屈折膜から形成されていること
    を特徴とする波長板。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかにおいて、
    前記位相差領域は、複屈折膜、誘電体膜、および空気層
    のうちの少なくともいずれか1つで形成されていること
    を特徴とする波長板。
  7. 【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかにおいて、
    前記位相差領域は反射防止膜を備えていることを特徴と
    する波長板。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかにおいて、
    前記基板は長方形であり、この基板の各辺の方向が前記
    第1の位相差領域あるいは前記第2の位相差領域の結晶
    光軸の方向に対して所定の角度に設定されていることを
    特徴とする波長板。
  9. 【請求項9】 請求項1ないし8のいずれかの項に規定
    する波長板と、この波長板を通過する光を出射する光源
    と、前記波長板を通過した前記光源からの出射光を光記
    録媒体上に光スポットとして集光させる対物レンズと、
    前記光記録媒体からの戻り光を光検出器に導くビームス
    プリッターとを有することを特徴とする光ピックアップ
    装置。
  10. 【請求項10】 請求項9において、前記波長板の結晶
    光軸の方向と前記光記録媒体の結晶光軸の方向とが一致
    していることを特徴とする光ピックアップ装置。
JP8262907A 1996-10-03 1996-10-03 波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置 Pending JPH10104427A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8262907A JPH10104427A (ja) 1996-10-03 1996-10-03 波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8262907A JPH10104427A (ja) 1996-10-03 1996-10-03 波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10104427A true JPH10104427A (ja) 1998-04-24

Family

ID=17382271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8262907A Pending JPH10104427A (ja) 1996-10-03 1996-10-03 波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10104427A (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005076045A1 (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Nikon Corporation 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP2005339766A (ja) * 2004-04-23 2005-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ディスク装置
JP2006127735A (ja) * 2004-09-29 2006-05-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 波長板、光学素子および光ピックアップ
JP2006345005A (ja) * 2004-02-06 2006-12-21 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2007053390A (ja) * 2004-02-06 2007-03-01 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置、露光方法、およびマイクロデバイスの製造方法
CN100409045C (zh) * 2004-02-06 2008-08-06 株式会社尼康 偏光变换元件、光学照明装置、曝光装置以及曝光方法
US7796491B2 (en) 2004-09-29 2010-09-14 Panasonic Corporation Wavelength plate, optical element, and optical pickup
US8861084B2 (en) 2004-01-16 2014-10-14 Carl Zeiss Smt Ag Polarization-modulating optical element
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9581911B2 (en) 2004-01-16 2017-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarization-modulating optical element
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US8861084B2 (en) 2004-01-16 2014-10-14 Carl Zeiss Smt Ag Polarization-modulating optical element
US9581911B2 (en) 2004-01-16 2017-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarization-modulating optical element
US9316772B2 (en) 2004-01-16 2016-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Producing polarization-modulating optical element for microlithography system
JP2011100150A (ja) * 2004-02-06 2011-05-19 Nikon Corp 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JPWO2005076045A1 (ja) * 2004-02-06 2008-04-24 株式会社ニコン 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
JP4747844B2 (ja) * 2004-02-06 2011-08-17 株式会社ニコン 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
TWI494972B (zh) * 2004-02-06 2015-08-01 尼康股份有限公司 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
TWI511182B (zh) * 2004-02-06 2015-12-01 尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
WO2005076045A1 (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Nikon Corporation 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
CN100409045C (zh) * 2004-02-06 2008-08-06 株式会社尼康 偏光变换元件、光学照明装置、曝光装置以及曝光方法
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
KR101244282B1 (ko) * 2004-02-06 2013-03-18 가부시키가이샤 니콘 조명 광학 장치, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
JP2017142517A (ja) * 2004-02-06 2017-08-17 株式会社ニコン 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP2007053390A (ja) * 2004-02-06 2007-03-01 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置、露光方法、およびマイクロデバイスの製造方法
JP2006345005A (ja) * 2004-02-06 2006-12-21 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2005339766A (ja) * 2004-04-23 2005-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ディスク装置
JP2006127735A (ja) * 2004-09-29 2006-05-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 波長板、光学素子および光ピックアップ
US7796491B2 (en) 2004-09-29 2010-09-14 Panasonic Corporation Wavelength plate, optical element, and optical pickup
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6195315B1 (en) Optical disk apparatus compatible with different types of mediums
EP1109164B1 (en) Optical head apparatus for different types of disks
US7035192B2 (en) Optical pickup, optical information recording/reproducing apparatus using the same, and phase variable wave plate used in the pickup and the apparatus
JPH10104427A (ja) 波長板およびそれを備えた光ピックアップ装置
US6643245B2 (en) Optical element, light source apparatus, optical head apparatus, and optical information processing apparatus
US7403453B2 (en) Optical disk apparatus compatible with different types of mediums adapted for different wavelengths
JPH10124906A (ja) 波長板およびそれを用いた光ピックアップ装置
JP4300784B2 (ja) 光ヘッド装置
US6327237B2 (en) Optical pickup for recording or reproducing system
JPH1139705A (ja) 光ピックアップ装置
US7564504B2 (en) Phase plate and an optical data recording/reproducing device
JP3635516B2 (ja) 光ディスク装置
US5036504A (en) Optical head using a reflection grating
JPH07294739A (ja) 偏光分離素子
US6552317B1 (en) Optical pickup device
JP2000021001A (ja) 光ピックアップ装置
JP2002357715A (ja) 回折格子一体型旋光子および光ヘッド装置
EP1052628A2 (en) Optical information storage apparatus and optical device
JP3833876B2 (ja) 光ピックアップ装置
JP2888280B2 (ja) 光ヘッド装置
JP4432255B2 (ja) 光ヘッド装置
JP4273606B2 (ja) 2波長光源装置および光ヘッド装置
JP3545015B2 (ja) 光ピックアップ
JPS60154337A (ja) 光ピツクアツプ装置
KR0135859B1 (ko) 광헤드