JPH10104748A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

露光装置及び露光方法

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JPH10104748A
JPH10104748A JP8255681A JP25568196A JPH10104748A JP H10104748 A JPH10104748 A JP H10104748A JP 8255681 A JP8255681 A JP 8255681A JP 25568196 A JP25568196 A JP 25568196A JP H10104748 A JPH10104748 A JP H10104748A
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JP
Japan
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original
exposure
unit
aligning
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JP8255681A
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Inventor
Terufumi Watanabe
照文 渡辺
Kenji Ito
賢治 伊藤
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Ono Sokki Co Ltd
Original Assignee
Ono Sokki Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光精度が高く、かつ、生産効率の高い露光
装置を提供する。 【解決手段】 感光性のある基板の位置情報を取得する
位置情報取得手段(56)と、前記位置情報取得手段が
取得した情報に基づいて、前記基板に対し、原版(4
0)の位置を整合する整合手段(75)と、前記整合手
段により位置を整合された前記原版と前記基板とを密着
させる密着手段(75)と、前記密着手段により前記原
版と密着した前記基板を露光する露光手段(50)とを
備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性のある基板
に原版を位置決め、密着させ、露光を行う露光装置及び
露光方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来の露光装置に関する第1の
例を示す模式図である。従来の露光装置では、露光され
るべき基板10は、はじめに搬送キャリア(不図示)に
より、キャリアーテーブル15の上に搬送される。搬送
された基板10は、不図示のプッシャーとストッパーに
より粗位置決めされる。基板10の粗位置決めが終了す
ると、キャリアーテーブル15は、上面に設けられた複
数の貫通孔を介して基板10を真空吸着する。
【0003】次に、CCDカメラ25が基板10に設け
られているマークを検出する。さらに、その検出結果に
基づき、整合テーブル20は、キャリアーテーブル15
を移動させることにより、基板10のX軸、Y軸及びθ
軸回りの精密位置決め(整合)を行う。なお、X軸、Y
軸は、基板10の露光面に平行な面を構成する2軸をい
い、θ軸は、露光面に垂直な軸をいう。
【0004】整合された基板は、不図示の搬送キャリア
ーに吸引保持され、露光部30まで搬送されて所定位置
に配置される。露光部30では、原版フィルム40を保
持した透明保持枠35が、駆動機構45により駆動され
て降下し、基板10と原版フィルム40を真空密着させ
る。原版フィルム40の基板10への密着が完了する
と、光源50が所定時間だけ発光し、基板10が露光さ
れる。
【0005】図5は、従来の露光装置に関する第2の例
を示す模式図である。第2の従来例は、基板10が不図
示の搬送キャリアによりキャリアーテーブル15まで搬
送され、そこで粗位置決めされる点までは、第1の従来
例と同様である。次に基板10は、整合作業を行われる
ことなく、キャリアーテーブル15とともに露光部30
へ搬送される。
【0006】露光部30に基板10が搬入されると、露
光部30に設置されたCCDカメラ55が基板10の位
置を検出する。また、露光部30に設置された整合テー
ブル22は、上記検出結果に基づき基板10を移動、位
置決めする(整合作業)。整合作業が完了すると、第1
の従来例と同様に、原版フィルム40が基板10へ密着
され、露光が行われる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】図6は、第1の従来例
として上記に説明した露光装置の作業行程を示すタイム
チャートである。また、図7は、第2の従来例の露光装
置における作業工程を示すタイムチャートである。第1
の従来例では、基板位置の整合は、露光部と異なる部位
において、他の基板が露光されている間に行われる。し
たがって、効率よく露光部を利用することができ、いわ
ゆるタクトが速いという特徴がある。
【0008】しかし、この第1の従来例では、基板10
と原版フィルム40の位置の整合は、基板10の位置を
確認することのみで行われ、原版フィルム40の位置が
確認されることはない。したがって、次々と基板10の
露光を行っている間に、原版フィルム40の取り付け位
置がずれてしまったり、原版フィルム40が経時的な形
状変化を起こした場合には、原版フィルム40と基板1
0との間で重ね合わせ誤差が生じる。このために、第1
の従来例では、不良品が生産されるおそれがあるという
問題があった。
【0009】これに対し、第2の従来例は、露光を行う
位置において、原版フィルム40の位置を確認しながら
基板10と原版フィルム40の位置を整合させる。よっ
て、原版フィルム40の位置ずれ等があっても、それを
検知し、対処することが可能であるので、精度の高い露
光が行える。
【0010】しかし、図6のタイムチャートに示される
ように、第2の従来例では、整合を露光部において行う
必然的な結果として、1の基板が露光部を占有する時間
が第1の従来例と比較して長くなる。このために、第2
の従来例では、タクトが長くなり、生産効率が悪いとい
う問題があった。
【0011】そこで、本発明の課題は、露光精度が高
く、かつ、生産効率の高い露光装置を提供することであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、感光性のある基板の位置情
報を取得する位置情報取得手段と、前記位置情報取得手
段が取得した情報に基づいて、前記基板に対し、原版の
位置を整合する整合手段と、前記整合手段により位置を
整合された前記原版と前記基板とを密着させる密着手段
と、前記密着手段により前記原版と密着した前記基板を
露光する露光手段とを備えることを特徴とする。
【0013】請求項2に係る発明は、第1の位置におい
て感光性のある基板の位置情報を取得する位置情報取得
手段と、前記位置情報取得手段が取得した情報に基づい
て、前記基板に対し、原版の位置を整合する整合手段
と、前記整合手段により位置を整合された前記原版と前
記基板とを密着させる密着手段と、前記密着手段により
前記原版と密着した前記基板を第2の位置において露光
する露光手段とを備え、前記整合手段は、前記基板が前
記第2の位置に搬入される前に、前記基板に対し、原版
の位置を整合することを特徴とする。
【0014】請求項3に係る発明は、請求項1又は請求
項2に記載の露光装置において、前記密着手段により前
記基板に前記原版が密着された状態において、前記原版
と前記基板の位置を検出し、整合しているか否かを確認
する確認手段を有し、前記整合手段は、前記確認手段が
整合を確認できなかった場合には、露光前に、前記確認
手段の検出結果に基づいて、前記基板に対し、前記原版
の位置を整合することを特徴とする。
【0015】請求項4に係る発明は、第1の位置におい
て感光性のある基板の位置情報を取得し、前記取得した
情報に基づいて、前記基板に対し原版の位置を整合し、
位置を整合された前記原版と前記基板とを密着させ、前
記原版と密着した前記基板を第2の位置において露光す
る露光方法であって、前記基板が前記第2の位置に搬入
される前に、前記基板に対し、原版の位置を整合するこ
とを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、本発明
に係る実施形態について、さらに詳しく説明する。な
お、以下の説明において、従来例において既に説明した
のと同様の機能・役割を果たす部位については、同一の
符号を付し、適宜説明を省略する。
【0017】(第1実施形態)図1は、本発明の第1実
施形態である露光装置を示す模式図である。本実施形態
の露光装置は、粗位置決め部100、露光部200及び
制御部300とから主に構成される。
【0018】粗位置決め部100は、前行程から送られ
てきた基板10を予めおおよその位置に位置決めする部
分である。粗位置決め部100は、上面に複数のピン8
5を設置したテーブル84を有する。粗位置決め部10
0に搬入された基板10は、テーブル84におかれ、ピ
ン85に押しつけられることによりコーナー位置決めさ
れる。
【0019】上記のように位置決めがなされた基板10
は、不図示の搬送機構により、テーブル84よりキャリ
アーテーブル15に移される。キャリアーテーブル15
は、前述のように、その上面に複数の貫通孔を有し、こ
の貫通孔を介して基板20を真空吸着する。なお、キャ
リアーテーブル15の構造の詳細については、本願出願
人は、例えば特開平6−148752に既に開示してい
るので、ここでは、その詳細については省略する。
【0020】キャリアーテーブル15の上方には、CC
Dカメラ56が備えられている。CCDカメラ56は、
キャリアーテーブル15に配置された基板10の少なく
とも一部の画像を取得するためのものである。基板10
の少なくとも一部とは、基板10の所定位置に設けられ
たマーク(以下、「整合用マーク」という)を含む基板
の一部を意味する。
【0021】レール90は、基板10を搬送するための
手段である。基板10は、レール90に沿って粗位置決
め部100から露光部200まで搬送される。露光部2
00は、主に透明保持枠35、支持機構75、露光用ラ
ンプ50及びCCDカメラ80を備えている。透明保持
枠35は、既に説明したように原版フィルム40を保持
し、これを搬入された基板10に密着させるためのアク
リル製の枠体である。また、露光用ランプ50は、基板
10を露光させるための光源である。
【0022】支持機構75は、透明保持枠35を支持
し、その位置決めを行うための機構である。支持機構7
5は、4つのモータMx、My、Mθ及びMzを有して
いる。モータMx、Myは、基板10の露光面に平行な
面内で透明保持枠35を移動、位置決めするためのもの
である。また、モータMθは、透明保持枠35を上記面
内で回転させるためのものである。さらに、モータMz
は、透明保持枠35を前述の露光面に対し垂直な方向に
上下移動させることにより、原版フィルム40を基板1
0に密着させるためのものである。CCDカメラ80
は、露光部に搬入された基板10と、それに密着された
原版フィルム40の画像を取得するためのものであり、
透明保持枠35の上方に配置されている。
【0023】制御部300は、コンピュータ60と、支
持機構75の動作を制御する制御装置70とから主に構
成されている。コンピュータ60は、CCDカメラ56
及び80のそれぞれが取得した画像データに基づき、支
持機構75を位置決め制御をするためのものである。コ
ンピュータ60は、CCDカメラ56及び80のそれぞ
れが取得した画像データを記憶するためのメモリ62及
び64を有し、これらメモリに記憶されているデータに
基づき基板10又は原版フィルム40の位置を分析し
(66)、透明保持枠35を移動させるべき移動量を求
める(68)。ここで、透明保持枠35の移動量とは、
露光部にある基板10と原版フィルム40の位置を整合
させるために必要とされる透明保持枠35の移動量を意
味する。また、コンピュータ60は、求められた移動量
に基づき、制御装置70に所定の信号を出力する。この
結果、制御装置70は、支持機構75が備える各モータ
を駆動、制御し、透明保持枠35の移動、位置決めを行
う。
【0024】図2は、本実施形態に係る露光装置の動作
を示す流れ図である。また、図3は、その作業行程のタ
イムチャートである。本実施形態の露光装置では、基板
10は、はじめに粗位置決め部100に搬入され、そこ
でおおよその位置に位置決めされた後、キャリアーテー
ブル15によって保持される(S202)。基板10が
キャリアーテーブル15によって保持されると、CCD
カメラ56により基板10の撮影が行われ、得られた画
像がコンピュータ60に送信される。コンピュータ60
は、その画像データをメモリ62に記憶する(S20
4)。
【0025】基板10に関する画像の記憶が終了する
と、基板10は、レール90上を露光部200まで搬送
される(S206)。一方、基板10が搬送されている
間に、コンピュータ60は、メモリ62に記憶された画
像データを解析し、整合マークの位置を特定する(S2
08)。次に、コンピュータ60は、特定された整合マ
ークの位置と、メモリ64に記憶されている、原版フィ
ルム40の初期位置に関するデータとから、原版フィル
ム40の位置を整合させるために必要な透明保持枠35
の移動量を求める(S210)。さらにコンピュータ6
0は、求められた移動量に従い、制御装置70に信号を
出力し、透明保持枠35をX軸、Y軸及びθ軸に関し移
動させ、位置決めを行う(S212)。S208〜S2
12までの動作は、S206の動作と平行して行われ
る。つまり、本実施形態では、基板10が露光部200
へ搬送されている間に原版フィルム40の位置の整合が
実行される(図3参照)。
【0026】基板10が露光部200に搬入されると、
支持機構75のモータMzが駆動され、透明保持枠35
は、基板10まで降下する。この結果、透明保持枠35
の底面に保持されている原版フィルム40が基板10に
密着する(S214)。この状態において、CCDカメ
ラ80は、原版フィルム40及び基板10の画像を取得
する。取得された画像は、コンピュータ60において直
ちに分析され(S216)、基板10の位置と原版フィ
ルム40の位置との整合が所定の許容範囲内でとれてい
るか否かが判断される(S218)。
【0027】S218の判断の結果、原版フィルム40
の基板10に対する位置ずれが許容範囲内でない場合
は、透明保持枠35の再度の位置決めが行われる(S2
20)。具体的には、透明保持枠35を基板10より上
方へ持ち上げることにより、原版フィルム40が一旦基
板10より剥離される。また、コンピュータ60は、S
216において取得された原版フィルム40と基板10
の位置情報から、透明保持枠35を移動させるべき移動
量を求め、この結果に基づき所定の出力信号を制御装置
70に送信する。この結果、透明保持枠35の再度の位
置決めが行われる。その後、透明保持枠35は、再び基
板10の上面まで下降し、原版フィルム40と基板10
とが密着される。
【0028】S220の処理が終了したとき、又は、S
218において原版フィルム40と基板10の整合が許
容範囲内でとれていると判断されたときは、次に基板1
0の露光が行われる(S222)。露光は、露光ランプ
50を所定時間発光させることにより行われる。露光が
終了すると、基板10は、露光装置の外部へ搬出され、
本実施形態の露光装置における一連の動作が終了する
(S224)。
【0029】以上説明したように、本実施形態では、従
来、露光すべき基板を位置決めして行われていた基板と
原版フィルムの位置を整合させる作業を、原版フィルム
を位置決めすることにより行うこととしている。したが
って、本実施形態では、基板が搬送中であるか否かを問
わず、上記整合作業を行うことができる。そこで、本実
施形態では、露光装置において本質的に欠くことができ
ない2つの行程、すなわち、基板の露光部への搬入と、
基板と原版フィルムの位置を整合させることとを平行し
て行い、これをもって装置の効率を向上さているのであ
る。
【0030】また、本実施形態では、露光部200にC
CDカメラ80を備え、露光直前に基板と原版フィルム
との間で位置の整合がとれているか否かを確認する。し
たがって、粗位置決め部から露光部への搬送中に、基板
の位置がずれてしまった場合、繰り返し露光を行ってい
る間に透明保持枠において原版フィルムの位置が変化し
てしまった場合などには、その事実が露光前に確実に検
出され、再度透明保持枠の位置決めが行われる。このた
めに、本実施形態では、不適切な露光による不良品の発
生が効果的に防止される。また、透明保持枠の再度の位
置決めは、必要な場合に限り行われるので、装置の作業
効率の低下は、実質的に問題のない範囲に止められる。
【0031】なお、上記の基板の位置ずれや、原版フィ
ルムの位置ずれは、生じるとしても比較的稀であるの
で、CCDカメラ80による基板と原版フィルムの位置
確認は、露光ごとに毎回行う必要は必ずしもない。例え
ば、10回の露光ごとに1回確認する、あるいは、1時
間ごとに1回確認するなど、一定の間隔で定期的に確認
することであってもよい。
【0032】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、請求項1か
ら請求項4までのそれぞれに係る発明によれば、基板の
搬送中に原版の位置を調整することが可能となるので、
装置の生産効率を低下させることなく、基板と原版の位
置を整合させることが可能である。また、請求項3に係
る発明によれば、露光前に原版と基板の位置が整合して
いるか否かが確認し、基板に対し、原版の位置を確実に
整合させるので、不良品が発生することを効果的に防止
することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る露光装置を示す模式図である。
【図2】本発明に係る露光装置の動作を示す流れ図であ
る。
【図3】本発明に係る露光装置における作業行程のタイ
ムチャートである。
【図4】従来の露光装置に関する第1の例を示す模式図
である。
【図5】従来の露光装置に関する第2の例を示す模式図
である。
【図6】図5に示した露光装置における作業行程のタイ
ムチャートである。
【図7】図6に示した露光装置における作業行程のタイ
ムチャートである。
【符号の説明】
10 基板 15 キャリアーテーブル 70 制御装
置 35 透明保持枠 75 支持機
構 40 原版フィルム 80 CCD
カメラ 50 露光用ランプ 90 レール 56 CCDカメラ 100 粗位
置決め部 60 コンピュータ 200 露光
部 62、64 メモリ 300 制御

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 感光性のある基板の位置情報を取得する
    位置情報取得手段と、 前記位置情報取得手段が取得した情報に基づいて、前記
    基板に対し、原版の位置を整合する整合手段と、 前記整合手段により位置を整合された前記原版と前記基
    板とを密着させる密着手段と、 前記密着手段により前記原版と密着した前記基板を露光
    する露光手段とを備えることを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 第1の位置において感光性のある基板の
    位置情報を取得する位置情報取得手段と、 前記位置情報取得手段が取得した情報に基づいて、前記
    基板に対し、原版の位置を整合する整合手段と、 前記整合手段により位置を整合された前記原版と前記基
    板とを密着させる密着手段と、 前記密着手段により前記原版と密着した前記基板を第2
    の位置において露光する露光手段とを備え、 前記整合手段は、前記基板が前記第2の位置に搬入され
    る前に、前記基板に対し、原版の位置を整合することを
    特徴とする露光装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の露光装置
    において、 前記密着手段により前記基板に前記原版が密着された状
    態において、前記原版と前記基板の位置を検出し、整合
    しているか否かを確認する確認手段を有し、 前記整合手段は、前記確認手段が整合を確認できなかっ
    た場合には、露光前に、前記確認手段の検出結果に基づ
    いて、前記基板に対し、前記原版の位置を整合すること
    を特徴とする露光装置。
  4. 【請求項4】 第1の位置において感光性のある基板の
    位置情報を取得し、 前記取得した情報に基づいて、前記基板に対し原版の位
    置を整合し、 位置を整合された前記原版と前記基板とを密着させ、 前記原版と密着した前記基板を第2の位置において露光
    する露光方法であって、 前記基板が前記第2の位置に搬入される前に、前記基板
    に対し、原版の位置を整合することを特徴とする露光方
    法。
JP8255681A 1996-09-27 1996-09-27 露光装置及び露光方法 Pending JPH10104748A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002251016A (ja) * 2001-02-23 2002-09-06 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP2007148224A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Howa Mach Ltd 露光装置

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