JPH10106466A - 磁界形対物電子レンズ - Google Patents
磁界形対物電子レンズInfo
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- JPH10106466A JPH10106466A JP8278974A JP27897496A JPH10106466A JP H10106466 A JPH10106466 A JP H10106466A JP 8278974 A JP8278974 A JP 8278974A JP 27897496 A JP27897496 A JP 27897496A JP H10106466 A JPH10106466 A JP H10106466A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スピンSEMにおいて、試料の観察面での漏
洩磁界の強さを抑え、具体的には地磁気以下の漏洩磁界
以下とし、磁性体試料への漏洩磁界の影響を無くす。 【解決手段】 磁界形対物電子レンズは、電子銃側の上
部磁極片27と試料s側の下部磁極片28とからなる磁
極片22と、この磁極片22の上部磁極片27と下部磁
極片28の端部にあって、電子銃側と試料s側とに離れ
て対極する電子光学軸21を囲む一対の磁極23、24
と、前記磁極片22を励磁し、前記磁極23、24の間
に磁界を形成するコイル25とを備える。さらに、前記
磁極片22の下部磁極片28の試料sに面する側に、電
子光学軸21上に電子線通過孔30を有する磁性体から
なる磁気シールド29が配置されている。この磁気シー
ルド29はスペーサ26を介して下部磁極片28の固定
されており、スペーサ26は非磁性体でも磁性体でもよ
い。磁気シールド29の電子線通過孔30の径dは、下
部磁極片28の磁極24の径Dより小さいことが望まし
い。
洩磁界の強さを抑え、具体的には地磁気以下の漏洩磁界
以下とし、磁性体試料への漏洩磁界の影響を無くす。 【解決手段】 磁界形対物電子レンズは、電子銃側の上
部磁極片27と試料s側の下部磁極片28とからなる磁
極片22と、この磁極片22の上部磁極片27と下部磁
極片28の端部にあって、電子銃側と試料s側とに離れ
て対極する電子光学軸21を囲む一対の磁極23、24
と、前記磁極片22を励磁し、前記磁極23、24の間
に磁界を形成するコイル25とを備える。さらに、前記
磁極片22の下部磁極片28の試料sに面する側に、電
子光学軸21上に電子線通過孔30を有する磁性体から
なる磁気シールド29が配置されている。この磁気シー
ルド29はスペーサ26を介して下部磁極片28の固定
されており、スペーサ26は非磁性体でも磁性体でもよ
い。磁気シールド29の電子線通過孔30の径dは、下
部磁極片28の磁極24の径Dより小さいことが望まし
い。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子顕微鏡等に使
用され、磁界により電子線を試料の表面上に集束する磁
界形対物電子レンズに関し、特に試料側の漏洩磁界が少
なく、そのためスピン偏極走査形電子顕微鏡、いわゆる
スピンSEMに使用し、磁性体試料の磁化ベクトル等を
観察するのに好適な磁界形対物電子レンズに関する。
用され、磁界により電子線を試料の表面上に集束する磁
界形対物電子レンズに関し、特に試料側の漏洩磁界が少
なく、そのためスピン偏極走査形電子顕微鏡、いわゆる
スピンSEMに使用し、磁性体試料の磁化ベクトル等を
観察するのに好適な磁界形対物電子レンズに関する。
【0002】走査形電子顕微鏡(SEM)は、電子銃と
試料との間に加速電圧を印加し、電子銃から試料の観察
面に一次電子を入射させる。このとき、この電子銃から
試料までの電子光学軸の途中に、幾つかの集束レンズを
配置し、さらに試料近くに対物レンズを配置し、試料の
観察表面に一次電子を集束させる。この集束させた一次
電子のスポットを偏向コイルにより走査しながら、その
試料表面から生じる二次電子を二次電子検出器で検出
し、これをCRTのグリッドに与えてCRTの画面に投
影する。このとき、試料上の一次電子の走査とCRTの
画像面の走査とを同期させることにより、CRTの画像
面には、二次電子または反射電子の像が得られる。試料
の観察面から発生する二次電子または反射電子の電荷量
は、試料の観察面の凹凸や材質或いは試料の観察面の電
位の変化等により決定されるので、CRTの画像面に現
れる画像にでこれらの状態を観察することができる。
試料との間に加速電圧を印加し、電子銃から試料の観察
面に一次電子を入射させる。このとき、この電子銃から
試料までの電子光学軸の途中に、幾つかの集束レンズを
配置し、さらに試料近くに対物レンズを配置し、試料の
観察表面に一次電子を集束させる。この集束させた一次
電子のスポットを偏向コイルにより走査しながら、その
試料表面から生じる二次電子を二次電子検出器で検出
し、これをCRTのグリッドに与えてCRTの画面に投
影する。このとき、試料上の一次電子の走査とCRTの
画像面の走査とを同期させることにより、CRTの画像
面には、二次電子または反射電子の像が得られる。試料
の観察面から発生する二次電子または反射電子の電荷量
は、試料の観察面の凹凸や材質或いは試料の観察面の電
位の変化等により決定されるので、CRTの画像面に現
れる画像にでこれらの状態を観察することができる。
【0003】図5は、SEMの主として電子光学系の構
成を示す。電子銃1が試料台2に保持した試料sに向け
て設置され、図示してない高圧電源により、電子銃1と
試料台2との間に加速電圧が印加される。試料台2は試
料微動機構3によって三次元方向に微動調整される。電
子銃1と試料sまでの電子光学軸を囲んで集束レンズ
4、スチグマコイル6、偏向コイル7、対物レンズ5等
からなる電子光学系が構成されている。これにより電子
銃1から発射された電子は、前記加速電圧で加速される
と共に、集束コイル4で集束され、スチグマコイル6で
非点補正され、偏向コイル7で偏向され、対物レンズ5
により、試料sの観察面上に集束される。この試料sの
観察面上に集束された電子線のスポットは、前記偏向コ
イル4による偏向によって二次元平面上を走査される。
また、前記対物レンズ5による焦点距離は、対物レンズ
可動絞り8により調整される。
成を示す。電子銃1が試料台2に保持した試料sに向け
て設置され、図示してない高圧電源により、電子銃1と
試料台2との間に加速電圧が印加される。試料台2は試
料微動機構3によって三次元方向に微動調整される。電
子銃1と試料sまでの電子光学軸を囲んで集束レンズ
4、スチグマコイル6、偏向コイル7、対物レンズ5等
からなる電子光学系が構成されている。これにより電子
銃1から発射された電子は、前記加速電圧で加速される
と共に、集束コイル4で集束され、スチグマコイル6で
非点補正され、偏向コイル7で偏向され、対物レンズ5
により、試料sの観察面上に集束される。この試料sの
観察面上に集束された電子線のスポットは、前記偏向コ
イル4による偏向によって二次元平面上を走査される。
また、前記対物レンズ5による焦点距離は、対物レンズ
可動絞り8により調整される。
【0004】このようにして試料sの観察面上に電子線
のスポットが照射されると、試料sの観察面からは二次
電子が発生する。この二次電子は試料sに向けて設けら
れた二次電子検出器9により検出される。この検出され
た二次電子を、図示されてない増幅器で増幅し、やはり
図示されてないCRTに投影する。これにより、前記の
ようにして試料sの観察面の走査二次元座標と二次電子
の検出電荷量とにより、その凹凸、材質及びその各位置
の電位の変化をCRTの画像面に映し出し、その画像に
より観察する。
のスポットが照射されると、試料sの観察面からは二次
電子が発生する。この二次電子は試料sに向けて設けら
れた二次電子検出器9により検出される。この検出され
た二次電子を、図示されてない増幅器で増幅し、やはり
図示されてないCRTに投影する。これにより、前記の
ようにして試料sの観察面の走査二次元座標と二次電子
の検出電荷量とにより、その凹凸、材質及びその各位置
の電位の変化をCRTの画像面に映し出し、その画像に
より観察する。
【0005】最近、スピン偏極走査形電子顕微鏡、いわ
ゆるスピンSEMを使用し、磁性体試料の各磁区の磁化
ベクトルを観察する手法が研究、開発されている。SE
Mにより、磁性体試料に一次電子のスポットを照射する
ことにより、試料面から二次電子が発生するが、この二
次電子の電荷は負であるため、二次電子のスピン偏極ベ
クトルは試料内部の各磁区の磁化ベクトルと平行にな
る。そこで、この二次電子の偏極度をCRTの輝度変調
信号として使い、SEMの画像表示を行うことにより、
試料表面の磁化ベクトル等を観察することができる。
ゆるスピンSEMを使用し、磁性体試料の各磁区の磁化
ベクトルを観察する手法が研究、開発されている。SE
Mにより、磁性体試料に一次電子のスポットを照射する
ことにより、試料面から二次電子が発生するが、この二
次電子の電荷は負であるため、二次電子のスピン偏極ベ
クトルは試料内部の各磁区の磁化ベクトルと平行にな
る。そこで、この二次電子の偏極度をCRTの輝度変調
信号として使い、SEMの画像表示を行うことにより、
試料表面の磁化ベクトル等を観察することができる。
【0006】
【発明が解決しようとしている課題】前記のようなスピ
ンSEMを使用して磁性体試料の磁化ベクトルを観察す
る場合に、高分解能を得るためには、対物レンズとして
磁界による電子線を集束する、磁界形電子レンズを使用
する必要がある。ところが、対物レンズとして磁界形電
子レンズを使用した場合、電子光学系から試料側に漏洩
する磁界が問題となる。特に、磁性体試料の磁区観察す
るのに供せられる対象物の多くは、磁気的に情報を記
録、再生する磁気記録媒体であるため、対物レンズの磁
極片から試料に漏れる磁界の影響が磁気記録媒体の記録
情報を変えてしまうおそれがある。また磁区観察結果に
影響を与えることもある。そのため、対物レンズとして
磁界形電子レンズを使用する場合、試料面付近の漏洩磁
界を所要の大きさに抑える必要がある。具体的には、地
磁気(約0.5ガウス)以下とする必要がある。
ンSEMを使用して磁性体試料の磁化ベクトルを観察す
る場合に、高分解能を得るためには、対物レンズとして
磁界による電子線を集束する、磁界形電子レンズを使用
する必要がある。ところが、対物レンズとして磁界形電
子レンズを使用した場合、電子光学系から試料側に漏洩
する磁界が問題となる。特に、磁性体試料の磁区観察す
るのに供せられる対象物の多くは、磁気的に情報を記
録、再生する磁気記録媒体であるため、対物レンズの磁
極片から試料に漏れる磁界の影響が磁気記録媒体の記録
情報を変えてしまうおそれがある。また磁区観察結果に
影響を与えることもある。そのため、対物レンズとして
磁界形電子レンズを使用する場合、試料面付近の漏洩磁
界を所要の大きさに抑える必要がある。具体的には、地
磁気(約0.5ガウス)以下とする必要がある。
【0007】本件発明者は、従来形SEMの対物レンズ
から試料面付近の漏洩磁界の強さを実測した結果、有限
要素法によってシュミレートした値に対し、実測値は大
幅に大きな値であることが確認された。この実測とシュ
ミレーションの結果の数値を具体的にあげると、試料面
でのシュミションによる漏洩磁界の計算値は、0.02
1ガウスであったのに対し、実測値は1.6ガウスであ
った。での本発明は、従来の磁界形対物電子レンズにお
ける前記のような課題に鑑み、試料の観察面での漏洩磁
界の強さを抑え、具体的には地磁気以下の漏洩磁界以下
とすることを目的とするものである。
から試料面付近の漏洩磁界の強さを実測した結果、有限
要素法によってシュミレートした値に対し、実測値は大
幅に大きな値であることが確認された。この実測とシュ
ミレーションの結果の数値を具体的にあげると、試料面
でのシュミションによる漏洩磁界の計算値は、0.02
1ガウスであったのに対し、実測値は1.6ガウスであ
った。での本発明は、従来の磁界形対物電子レンズにお
ける前記のような課題に鑑み、試料の観察面での漏洩磁
界の強さを抑え、具体的には地磁気以下の漏洩磁界以下
とすることを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明では、前記の目的
を達成するため、電子線を所定の試料sの面上に集束す
る磁界形対物電子レンズの試料sに対面する磁極片22
の下部磁極片28を、磁気シールド29で覆い、磁極片
22の磁極23、24から試料側に磁界が漏洩しないよ
うにした。
を達成するため、電子線を所定の試料sの面上に集束す
る磁界形対物電子レンズの試料sに対面する磁極片22
の下部磁極片28を、磁気シールド29で覆い、磁極片
22の磁極23、24から試料側に磁界が漏洩しないよ
うにした。
【0009】すなわち、本発明による磁界形対物電子レ
ンズは、電子銃側の上部磁極片27と試料s側の下部磁
極片28とからなる磁極片22と、この磁極片22の上
部磁極片27と下部磁極片28の端部にあって、電子銃
側と試料s側とに離れて対極する電子光学軸21を囲む
一対の磁極23、24と、前記磁極片22を励磁し、前
記磁極23、24の間に磁界を形成するコイル25と、
前記磁極片22の下部磁極片28の試料sに面する側に
配置され、電子光学軸21上に電子線通過孔30を有す
る磁性体からなる磁気シールド29とを備えることを特
徴とするものである。
ンズは、電子銃側の上部磁極片27と試料s側の下部磁
極片28とからなる磁極片22と、この磁極片22の上
部磁極片27と下部磁極片28の端部にあって、電子銃
側と試料s側とに離れて対極する電子光学軸21を囲む
一対の磁極23、24と、前記磁極片22を励磁し、前
記磁極23、24の間に磁界を形成するコイル25と、
前記磁極片22の下部磁極片28の試料sに面する側に
配置され、電子光学軸21上に電子線通過孔30を有す
る磁性体からなる磁気シールド29とを備えることを特
徴とするものである。
【0010】この磁気シールド29はスペーサ26を介
して下部磁極片28の固定されており、スペーサ26は
非磁性体でも磁性体でもよい。磁気シールド29の電子
線通過孔30の径dは、下部磁極片28の磁極24の径
Dより小さいことが望ましい。このような磁界形対物電
子レンズでは、後述するように、前記磁気シールド29
により、それから試料側のワークディスタンスWD側に
磁界が漏洩するのが防止できる。これにより、試料面で
の漏洩磁界の強度を、地磁気以下に抑えることが可能と
なる。
して下部磁極片28の固定されており、スペーサ26は
非磁性体でも磁性体でもよい。磁気シールド29の電子
線通過孔30の径dは、下部磁極片28の磁極24の径
Dより小さいことが望ましい。このような磁界形対物電
子レンズでは、後述するように、前記磁気シールド29
により、それから試料側のワークディスタンスWD側に
磁界が漏洩するのが防止できる。これにより、試料面で
の漏洩磁界の強度を、地磁気以下に抑えることが可能と
なる。
【0011】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態について、具体的且つ詳細に説明する。
図1に本発明による磁界形対物電子レンズが使用される
スピンSEMの各要素の配置が示されている。この図1
に示すように、真空チェンバ52の中に試料室が形成さ
れ、この真空チェンバ52内は、ノーブルポンプ55に
より排気され、所定の真空状態に維持される。この真空
チェンバ52内の真空室には、試料台53が配置され、
この傾斜した先端部の試料裁置面に試料sが保持され
る。この試料台53の前記試料裁置面は、試料台微動機
構54により三次元方向に微動調整される。
明の実施の形態について、具体的且つ詳細に説明する。
図1に本発明による磁界形対物電子レンズが使用される
スピンSEMの各要素の配置が示されている。この図1
に示すように、真空チェンバ52の中に試料室が形成さ
れ、この真空チェンバ52内は、ノーブルポンプ55に
より排気され、所定の真空状態に維持される。この真空
チェンバ52内の真空室には、試料台53が配置され、
この傾斜した先端部の試料裁置面に試料sが保持され
る。この試料台53の前記試料裁置面は、試料台微動機
構54により三次元方向に微動調整される。
【0012】真空チェンバ52の前記試料台53と対向
する側に設けたポートにフランジを介してロードロック
室56が接続されており、このロードロック室56内に
試料ホルダ60が挿入できる。この試料ホルダ60は、
ロードロック室56が真空チェンバ52側の空間と遮断
されているとき、ロードロック室56内に出し入れされ
る。そして、ロードロック室56が真空チェンバ52内
の試料室側の空間と遮断され、この状態でロードロック
室56内に前記試料ホルダ60が導入され、ロードロッ
ク室56内が大気に対して密閉されたとき、その内部空
間がターボ分子ポンプ57とロータリーポンプ58とに
より排気され、所定の真空状態に維持される。さらにこ
のロードロック室56には、同室が真空状態のとき、試
料ホルダ60内の試料を前記試料台53の試料裁置面に
移動して搭載するマニュピレータ形式の試料移動機構5
9が設けられている。
する側に設けたポートにフランジを介してロードロック
室56が接続されており、このロードロック室56内に
試料ホルダ60が挿入できる。この試料ホルダ60は、
ロードロック室56が真空チェンバ52側の空間と遮断
されているとき、ロードロック室56内に出し入れされ
る。そして、ロードロック室56が真空チェンバ52内
の試料室側の空間と遮断され、この状態でロードロック
室56内に前記試料ホルダ60が導入され、ロードロッ
ク室56内が大気に対して密閉されたとき、その内部空
間がターボ分子ポンプ57とロータリーポンプ58とに
より排気され、所定の真空状態に維持される。さらにこ
のロードロック室56には、同室が真空状態のとき、試
料ホルダ60内の試料を前記試料台53の試料裁置面に
移動して搭載するマニュピレータ形式の試料移動機構5
9が設けられている。
【0013】前記試料台53の先端部分に搭載された試
料sに向けて、一次電子線ユニット51が設置されてい
る。この一次電子線ユニット51は、前述のような一次
電子線を発射する電子銃と、集束レンズ、非点補正コイ
ル、偏向コイル、対物レンズ等の一次電子線を試料sの
観察面上に集束すると共に走査する電子光学系を構成し
ている。この電子光学系では、図示してない加速電源に
より、電子銃と試料台との間に加速電圧が印加される。
料sに向けて、一次電子線ユニット51が設置されてい
る。この一次電子線ユニット51は、前述のような一次
電子線を発射する電子銃と、集束レンズ、非点補正コイ
ル、偏向コイル、対物レンズ等の一次電子線を試料sの
観察面上に集束すると共に走査する電子光学系を構成し
ている。この電子光学系では、図示してない加速電源に
より、電子銃と試料台との間に加速電圧が印加される。
【0014】他方、前記試料台53の先端部分に搭載さ
れた試料sに向けて、スピン検出器61が設置されてい
る。このスピン検出器61は、試料sから発生した二次
電子を検出すると共に、その所定の電位、具体的には1
0eV以下の成分のみを取り込み、そのスピン偏極度分
析を行うもので、電子光学系を備える。図1において、
符号64は、スピン検出器61の高圧電源、符号65
は、その電子光学系用の光学系用電源、符号68は、前
記電子光学系内を所定の真空空間とするイオンポンプで
ある。
れた試料sに向けて、スピン検出器61が設置されてい
る。このスピン検出器61は、試料sから発生した二次
電子を検出すると共に、その所定の電位、具体的には1
0eV以下の成分のみを取り込み、そのスピン偏極度分
析を行うもので、電子光学系を備える。図1において、
符号64は、スピン検出器61の高圧電源、符号65
は、その電子光学系用の光学系用電源、符号68は、前
記電子光学系内を所定の真空空間とするイオンポンプで
ある。
【0015】真空チェンバ52の真空系の外部には、C
RTを含むSEMディスプレイシステム63が備えられ
ている。このSEMディスプレイシステム63では、前
記スピン検出器61で分析された二次電子のスピン偏極
度を信号処理してCRTの輝度変調信号として使用す
る。このとき、一次電子線ユニット51における試料s
の観察面上の一次電子の走査と、CRTの画像面の走査
とを同期させることにより、CRTの画像面に二次電子
の各磁区の偏極状態を反映した画像が投影される。
RTを含むSEMディスプレイシステム63が備えられ
ている。このSEMディスプレイシステム63では、前
記スピン検出器61で分析された二次電子のスピン偏極
度を信号処理してCRTの輝度変調信号として使用す
る。このとき、一次電子線ユニット51における試料s
の観察面上の一次電子の走査と、CRTの画像面の走査
とを同期させることにより、CRTの画像面に二次電子
の各磁区の偏極状態を反映した画像が投影される。
【0016】図1は、このようなスピンSEMに適用さ
れる本発明による磁界形対物レンズの例を示す。 符号
21は一次電子の電子光学軸であり、磁界形対物レンズ
は、この電子光学軸21に対して円対照となる回転体形
状を有している。磁極片22は鉄系等の高透磁率を有す
る磁性体材料により形成され、上部磁極片27と下部磁
極片28とからなる。上部磁極片27の電子光学軸21
と面した部分は、下がやや細くなるテーパ状の円筒体か
らなる。また、下部磁極片28の下部は、下が細いテー
パ状であり、その底面は平坦となっている。これら上部
磁極片27と下部磁極片28の前記電子光学軸21を囲
む円形の端縁は、電子銃に側と試料s側との離れて上下
に対向しており、それらが対極する一対の磁極23、2
4となっている。このうち、図1において下部磁極片2
8の磁極24の径は、Dで表されている。上部磁極片2
7と下部磁極片28とは、ヨーク部31で連結されてお
り、そのヨーク部31の内部空間に磁極片22を例示す
るコイル25が収納されている。図1では、上部磁極片
27、下部磁極片28及びヨーク部31が一体に示され
ているが、コイル25を巻装する関係から、通常それら
はヨーク部31で分離して形成され、コイル25を巻装
した後、組み立てられる。
れる本発明による磁界形対物レンズの例を示す。 符号
21は一次電子の電子光学軸であり、磁界形対物レンズ
は、この電子光学軸21に対して円対照となる回転体形
状を有している。磁極片22は鉄系等の高透磁率を有す
る磁性体材料により形成され、上部磁極片27と下部磁
極片28とからなる。上部磁極片27の電子光学軸21
と面した部分は、下がやや細くなるテーパ状の円筒体か
らなる。また、下部磁極片28の下部は、下が細いテー
パ状であり、その底面は平坦となっている。これら上部
磁極片27と下部磁極片28の前記電子光学軸21を囲
む円形の端縁は、電子銃に側と試料s側との離れて上下
に対向しており、それらが対極する一対の磁極23、2
4となっている。このうち、図1において下部磁極片2
8の磁極24の径は、Dで表されている。上部磁極片2
7と下部磁極片28とは、ヨーク部31で連結されてお
り、そのヨーク部31の内部空間に磁極片22を例示す
るコイル25が収納されている。図1では、上部磁極片
27、下部磁極片28及びヨーク部31が一体に示され
ているが、コイル25を巻装する関係から、通常それら
はヨーク部31で分離して形成され、コイル25を巻装
した後、組み立てられる。
【0017】さらに、前記磁極片22の下部磁極片28
の下面の全面を覆うように、スペーサを介して磁気シー
ルド29が取り付けられている。この磁気シールド29
は、鉄系等の高透磁率を有する磁性体からなり、前記下
部磁極片28と同様に、下が細いテーパ状となってい
る。この磁気シールド29の底面は平坦となっており、
底壁の中心は電子光学軸21を囲む電子線通過孔30と
なっている。この電子線通過孔30の径はdで表されて
おり、この径dは前記下部磁極片28の磁極24の径よ
り小さく設定されている。前記スペーサ26は、所定の
角度毎に間隔をおいて下部磁極片28と磁気シールド2
9とを所定の間隔をおいて連結するよう取り付けられて
いる。このスペーサ26は、通常非磁性体のより作ら
れ、磁極片22と磁気シールド29とは、磁気的に絶縁
される。しかし場合によってスペーサ26を磁性体で作
り、磁極片22と磁気シールド29とを磁気的に連結す
ることもある。
の下面の全面を覆うように、スペーサを介して磁気シー
ルド29が取り付けられている。この磁気シールド29
は、鉄系等の高透磁率を有する磁性体からなり、前記下
部磁極片28と同様に、下が細いテーパ状となってい
る。この磁気シールド29の底面は平坦となっており、
底壁の中心は電子光学軸21を囲む電子線通過孔30と
なっている。この電子線通過孔30の径はdで表されて
おり、この径dは前記下部磁極片28の磁極24の径よ
り小さく設定されている。前記スペーサ26は、所定の
角度毎に間隔をおいて下部磁極片28と磁気シールド2
9とを所定の間隔をおいて連結するよう取り付けられて
いる。このスペーサ26は、通常非磁性体のより作ら
れ、磁極片22と磁気シールド29とは、磁気的に絶縁
される。しかし場合によってスペーサ26を磁性体で作
り、磁極片22と磁気シールド29とを磁気的に連結す
ることもある。
【0018】磁界形対物レンズの下部の試料までの距
離、すなわち図1の例では、磁気シールド29の底面と
試料sの観察面までの距離を、一般にワークディスタン
スWDと呼ぶ。スピンSEMにおいて、このワークディ
スタンスWDは、通常40mm程度である。このような
磁界形対物電子レンズの具体的寸法をあげると、磁気シ
ールド29の底壁の厚さtは1mm、この磁気シールド
29の底壁と下部磁極片29の底壁とのギャップgは1
mm、下部磁極片29の磁極24の直径Dは4mmφ、
磁気シールド29の電子線通過孔30の直径dは8mm
φである。
離、すなわち図1の例では、磁気シールド29の底面と
試料sの観察面までの距離を、一般にワークディスタン
スWDと呼ぶ。スピンSEMにおいて、このワークディ
スタンスWDは、通常40mm程度である。このような
磁界形対物電子レンズの具体的寸法をあげると、磁気シ
ールド29の底壁の厚さtは1mm、この磁気シールド
29の底壁と下部磁極片29の底壁とのギャップgは1
mm、下部磁極片29の磁極24の直径Dは4mmφ、
磁気シールド29の電子線通過孔30の直径dは8mm
φである。
【0019】図3は、前記スペーサ26として非磁性体
である窒化珪素製のものを使用して前記のような磁気シ
ールド29を設けた磁界形対物レンズと、磁気シールド
29を設けない磁界形対物レンズとの試料s側のへの漏
洩磁界の強度を比較したグラフである。横軸は磁界形対
物レンズの下部からの距離をとってあり、縦軸はその距
離における電子光学軸21上の磁束密度である。実測値
と共に、有限要素法によるシュミレーションの計算値と
が示されている。
である窒化珪素製のものを使用して前記のような磁気シ
ールド29を設けた磁界形対物レンズと、磁気シールド
29を設けない磁界形対物レンズとの試料s側のへの漏
洩磁界の強度を比較したグラフである。横軸は磁界形対
物レンズの下部からの距離をとってあり、縦軸はその距
離における電子光学軸21上の磁束密度である。実測値
と共に、有限要素法によるシュミレーションの計算値と
が示されている。
【0020】このグラフから明らかな通り、実測値と計
算値とでは、相当の大きな開きがあることが分かる。そ
して、磁気シールド29を設けない対物レンズを使用し
た場合、WD=40mmとしたときの磁束密度の実測値
が1.6ガウスであるのに対し、磁気シールド29を設
けた本発明による対物レンズの例を使用した場合、WD
=40mmにおける磁束密度の実測値は0.1ガウスで
あった。前者は地磁気の目安とされる0.5ガウスの約
3倍の磁束密度であるが、後者は地磁気の目安とされる
0.5ガウスの1/5の磁束密度である。
算値とでは、相当の大きな開きがあることが分かる。そ
して、磁気シールド29を設けない対物レンズを使用し
た場合、WD=40mmとしたときの磁束密度の実測値
が1.6ガウスであるのに対し、磁気シールド29を設
けた本発明による対物レンズの例を使用した場合、WD
=40mmにおける磁束密度の実測値は0.1ガウスで
あった。前者は地磁気の目安とされる0.5ガウスの約
3倍の磁束密度であるが、後者は地磁気の目安とされる
0.5ガウスの1/5の磁束密度である。
【0021】図4は、前記スペーサ26として磁性体で
ある鉄製のものを使用して前記のような磁気シールド2
9を設けた磁界形対物レンズと、磁気シールド29を設
けない磁界形対物レンズとの試料s側のへの漏洩磁界の
強度を比較したグラフである。図3のグラフと同様に、
横軸は磁界形対物レンズの下部からの距離をとってあ
り、縦軸はその距離における電子光学軸21上の磁束密
度である。実測値と共に、有限要素法によるシュミレー
ションの計算値とが示されている。
ある鉄製のものを使用して前記のような磁気シールド2
9を設けた磁界形対物レンズと、磁気シールド29を設
けない磁界形対物レンズとの試料s側のへの漏洩磁界の
強度を比較したグラフである。図3のグラフと同様に、
横軸は磁界形対物レンズの下部からの距離をとってあ
り、縦軸はその距離における電子光学軸21上の磁束密
度である。実測値と共に、有限要素法によるシュミレー
ションの計算値とが示されている。
【0022】このグラフから明らかな通り、前記の例と
同様に、実測値と計算値とでは、相当の大きな開きがあ
る。そして、磁気シールド29を設けた本発明による対
物レンズの例を使用した場合、WD=40mmにおける
磁束密度の実測値は0.4ガウスであった。これはは地
磁気の目安とされる0.5ガウスの80%の磁束密度で
ある。但し、非磁性体のスペーサ26を用いた前記の例
の4倍の磁束密度があった。従って、スペーサ26は、
磁性体のものを使用するより、非磁性体のものを使用す
る方が効果的であることがわかる。
同様に、実測値と計算値とでは、相当の大きな開きがあ
る。そして、磁気シールド29を設けた本発明による対
物レンズの例を使用した場合、WD=40mmにおける
磁束密度の実測値は0.4ガウスであった。これはは地
磁気の目安とされる0.5ガウスの80%の磁束密度で
ある。但し、非磁性体のスペーサ26を用いた前記の例
の4倍の磁束密度があった。従って、スペーサ26は、
磁性体のものを使用するより、非磁性体のものを使用す
る方が効果的であることがわかる。
【0023】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、磁
界形対物電子レンズから試料側に漏洩する磁界が小さい
ので、スピンSEM等を使用して磁性体試料の各磁区の
磁化ベクトルを観察する場合に、磁性体試料に磁気的な
影響を与えるおそれがなくなる。このため、磁性体試料
として、磁気記録媒体の記録情報に影響を与えることが
なくなる。
界形対物電子レンズから試料側に漏洩する磁界が小さい
ので、スピンSEM等を使用して磁性体試料の各磁区の
磁化ベクトルを観察する場合に、磁性体試料に磁気的な
影響を与えるおそれがなくなる。このため、磁性体試料
として、磁気記録媒体の記録情報に影響を与えることが
なくなる。
【図1】本発明による磁場形対物レンズの例を示す要部
縦断側面図である。
縦断側面図である。
【図2】同磁場形対物レンズが使用されすスピン偏極走
査電子顕微鏡の構成を示す要素配置図である。
査電子顕微鏡の構成を示す要素配置図である。
【図3】スペーサとして非磁性体のものを使用して磁気
シールドを設けたた本発明の例の磁界形対物レンズと、
磁気シールドを設けない磁界形対物レンズとの試料側の
への漏洩磁界の強度を比較したグラフである。
シールドを設けたた本発明の例の磁界形対物レンズと、
磁気シールドを設けない磁界形対物レンズとの試料側の
への漏洩磁界の強度を比較したグラフである。
【図4】スペーサとして磁性体のものを使用して磁気シ
ールドを設けたた本発明の例の磁界形対物レンズと、磁
気シールドを設けない磁界形対物レンズとの試料側のへ
の漏洩磁界の強度を比較したグラフである。
ールドを設けたた本発明の例の磁界形対物レンズと、磁
気シールドを設けない磁界形対物レンズとの試料側のへ
の漏洩磁界の強度を比較したグラフである。
【図5】一般的な走査形電子顕微鏡の構成を示す概略要
部縦断側面図である。
部縦断側面図である。
21 電子光学軸 22 磁極片 23 上部磁極片の磁極 24 下部磁極片の磁極 25 コイル 26 スペーサ 27 上部磁極片 28 下部磁極片 29 磁気シールド 30 電子線通過孔 d 電子線通過孔の径 D 下部磁極片の磁極の径 s 試料
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年11月15日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
フロントページの続き (72)発明者 紀國 雅宏 茨城県ひたちなか市山崎50番地 株式会社 エイコー・エンジニアリング内 (72)発明者 澤良木 宏 茨城県ひたちなか市山崎50番地 株式会社 エイコー・エンジニアリング内 (72)発明者 武笠 幸一 北海道札幌市北区北13条西8丁目 北海道 大学工学部内 (72)発明者 早川 和延 北海道札幌市北区北13条西8丁目 北海道 大学工学部内 (72)発明者 末岡 和久 北海道札幌市北区北13条西8丁目 北海道 大学工学部内 (72)発明者 倉岡 義孝 北海道札幌市北区北13条西8丁目 北海道 大学工学部内 (72)発明者 金井 靖 北海道札幌市北区北13条西8丁目 北海道 大学工学部内
Claims (5)
- 【請求項1】 電子線を所定の試料(s)の面上に集束
する磁界形対物電子レンズであって、電子銃側の上部磁
極片(27)と試料(s)側の下部磁極片(28)とか
らなる磁極片(22)と、この磁極片(22)の上部磁
極片(27)と下部磁極片(28)の端部にあって、電
子銃側と試料(s)側とに離れて対極する電子光学軸
(21)を囲む一対の磁極(23)、(24)と、前記
磁極片(22)を励磁し、前記磁極(23)、(24)
の間に磁界を形成するコイル(25)と、前記磁極片
(22)の下部磁極片(28)の試料(s)に面する側
に配置され、電子光学軸(21)上に電子線通過孔(3
0)を有する磁性体からなる磁気シールド(29)とを
備えることを特徴とする磁界形対物電子レンズ。 - 【請求項2】 磁気シールド(29)はスペーサ(2
6)を介して下部磁極片(28)の固定されていること
を特徴とする請求項1に記載の磁界形対物電子レンズ。 - 【請求項3】 スペーサ(26)は非磁性体であること
を特徴とする請求項2に記載の磁界形対物電子レンズ。 - 【請求項4】 スペーサ(26)は磁性体であることを
特徴とする請求項2に記載の磁界形対物電子レンズ。 - 【請求項5】 磁気シールド(29)の電子線通過孔
(30)の径(d)は、下部磁極片(28)の磁極(2
4)の径(D)より小さいことを特徴とする請求項1〜
4の何れかに記載の磁界形対物電子レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8278974A JPH10106466A (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 磁界形対物電子レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8278974A JPH10106466A (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 磁界形対物電子レンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10106466A true JPH10106466A (ja) | 1998-04-24 |
Family
ID=17604671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8278974A Pending JPH10106466A (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 磁界形対物電子レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10106466A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004134379A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-04-30 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | 電子顕微鏡システム用対物レンズおよび電子顕微鏡システム |
| JPWO2007119873A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2009-08-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡 |
| EP2270836A3 (en) * | 2005-11-28 | 2011-02-23 | Carl Zeiss SMT AG | Particle-optical component |
| WO2012117998A1 (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
| JP2013026045A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
| US8389935B2 (en) | 2008-04-14 | 2013-03-05 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus permitting high-resolution and high-contrast observation |
| JP2014056765A (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-27 | Hokkaido Univ | 電子線照射装置 |
| JP2016139466A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社ホロン | 画像振動低減装置 |
-
1996
- 1996-09-30 JP JP8278974A patent/JPH10106466A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004134379A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-04-30 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | 電子顕微鏡システム用対物レンズおよび電子顕微鏡システム |
| JP2011222525A (ja) * | 2002-07-19 | 2011-11-04 | Carl Zeiss Nts Gmbh | 電子顕微鏡システム用対物レンズおよび電子顕微鏡システム |
| EP2270836A3 (en) * | 2005-11-28 | 2011-02-23 | Carl Zeiss SMT AG | Particle-optical component |
| US10622184B2 (en) | 2005-11-28 | 2020-04-14 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Objective lens arrangement usable in particle-optical systems |
| JPWO2007119873A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2009-08-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡 |
| US8389935B2 (en) | 2008-04-14 | 2013-03-05 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus permitting high-resolution and high-contrast observation |
| US8431915B2 (en) | 2008-04-14 | 2013-04-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus permitting high resolution and high-contrast observation |
| US8785890B2 (en) | 2008-04-14 | 2014-07-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus permitting high-resolution and high-contrast observation |
| US9159533B2 (en) | 2008-04-14 | 2015-10-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus permitting high-resolution and high-contrast observation |
| US9006653B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-04-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron microscope |
| WO2012117998A1 (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡 |
| JP2013026045A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
| JP2014056765A (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-27 | Hokkaido Univ | 電子線照射装置 |
| JP2016139466A (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社ホロン | 画像振動低減装置 |
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