JPH10111215A - Apparatus and method for measuring afocal optical system with display mark - Google Patents
Apparatus and method for measuring afocal optical system with display markInfo
- Publication number
- JPH10111215A JPH10111215A JP28288596A JP28288596A JPH10111215A JP H10111215 A JPH10111215 A JP H10111215A JP 28288596 A JP28288596 A JP 28288596A JP 28288596 A JP28288596 A JP 28288596A JP H10111215 A JPH10111215 A JP H10111215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- display mark
- light source
- receiving element
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定者の個人差や視力あるいは熟練度などと
いった不確定要素を排除でき、精度良く視度を測定でき
る表示マーク付きアフォーカルレンズの測定装置及び測
定方法を提供する。
【解決手段】 第1光源装置19でスリット15aを照
射し、スリット15aの像を受光素子37に結像させ、
受光素子37の出力を増幅器53で増幅し、微分回路5
5で微分し、微分値のピーク値が最大になる位置を結像
位置として視度を求める。第1光源装置19を第2光源
装置45に置き換え、被検体Aに設けられた表示マーク
の像を受光素子37上に結像させ、微分値のピーク値が
最大になる位置を求める。その位置から表示マークの視
度を求める。
(57) [Problem] To provide a measuring device and a measuring method of an afocal lens with a display mark capable of eliminating uncertain factors such as individual differences of a measurer, visual acuity, skill, and the like, and measuring diopter with high accuracy. . SOLUTION: A first light source device 19 irradiates a slit 15a to form an image of the slit 15a on a light receiving element 37,
The output of the light receiving element 37 is amplified by the amplifier 53,
The diopter is differentiated by 5, and the diopter is obtained by setting the position where the peak value of the differential value becomes the maximum as the imaging position. The first light source device 19 is replaced with the second light source device 45, the image of the display mark provided on the subject A is formed on the light receiving element 37, and the position where the peak value of the differential value becomes maximum is obtained. The diopter of the display mark is obtained from the position.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズの視度や表
示マークの視度を測定する方法及び装置に関し、特にカ
メラのファインダ、双眼鏡又は望遠鏡等に使用される表
示マーク付きのアフォーカル光学系の視度測定に適した
技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for measuring the diopter of a lens and a display mark, and more particularly to an afocal optical system with a display mark used in a camera finder, binoculars, or a telescope. The present invention relates to a technique suitable for diopter measurement.
【0002】[0002]
【従来の技術】カメラのファインダ等のアフォーカル光
学系において、無限遠と表示マークの視度の測定を行う
ものとして、図5(a)に示すような視度望遠鏡が知ら
れている。同図に示す視度望遠鏡1は、対物レンズ2を
対物レンズ枠3に、また、接眼レンズ4を接眼レンズ枠
5にそれぞれ固定し、これらを鏡筒6の両端からはめ込
んだものである。対物レンズ枠3及び接眼レンズ枠5
は、共に光軸を中心に回転自在で、回転することによっ
て対物レンズ2や接眼レンズ4が光軸上を進退できるよ
うな構成である。また、対物レンズ枠3の外周には、図
5(b)に示すように視度目盛3aが刻まれている。鏡
筒6の内部の中間には、焦点板7があり、ここに十字線
等の目盛を有している。被検体Aとしてのアフォーカル
光学系は、視度望遠鏡1の対物レンズ2の前方に置かれ
る。2. Description of the Related Art In an afocal optical system such as a finder of a camera, a diopter telescope as shown in FIG. The diopter telescope 1 shown in FIG. 1 has an objective lens 2 fixed to an objective lens frame 3 and an eyepiece 4 fixed to an eyepiece lens frame 5, and these are fitted from both ends of a lens barrel 6. Objective lens frame 3 and eyepiece lens frame 5
Are both rotatable about the optical axis, and the objective lens 2 and the eyepiece 4 can advance and retreat on the optical axis by rotating. A diopter scale 3a is engraved on the outer periphery of the objective lens frame 3 as shown in FIG. In the middle of the inside of the lens barrel 6, there is a focusing screen 7, which has a scale such as a crosshair. The afocal optical system as the subject A is placed in front of the objective lens 2 of the diopter telescope 1.
【0003】被検体Aの測定に際しては、まず、(被検
体があってもよいが)被検体Aを置かない状態で、接眼
レンズ枠5を回転し、焦点板7上に描かれた目盛が鮮明
に見えるように接眼レンズ4の光軸上の位置を調整す
る。次に、被検体Aを図示の位置に配置してその接眼部
に対物レンズ枠3を突き当て、対物レンズ枠3を被検体
Aから離反させる方向に回転し、被検体Aを通して見た
無限遠の被写体が鮮明に見えるように調整し、そのとき
の視度目盛3aを読みとる。When measuring the subject A, first, the eyepiece frame 5 is rotated while the subject A is not placed (although the subject may be present), and the scale drawn on the reticle 7 is displayed. The position of the eyepiece 4 on the optical axis is adjusted so that the eyepiece 4 can be clearly seen. Next, the subject A is arranged at the position shown in the figure, the objective lens frame 3 is brought into contact with the eyepiece thereof, and the objective lens frame 3 is rotated in a direction to separate the subject lens frame 3 from the subject A. The distant subject is adjusted so as to be clearly seen, and the diopter scale 3a at that time is read.
【0004】また、被検体Aのファインダ視野内に描か
れた表示マークが最も鮮明に見えるように対物レンズ枠
3を回転し、鮮明に見えたときの視度目盛3aを読みと
れば、表示マークの視度を測定することができる。さら
に、ファインダ視野の周辺部あるいは視野周辺部の表示
マークの視度を測定する場合は、ファインダ光軸に対し
て視度望遠鏡1の光軸を傾けて上記と同様にして視度を
測定することができる。When the objective lens frame 3 is rotated so that the display mark drawn in the finder visual field of the subject A can be seen most clearly, and the diopter scale 3a when the image is clearly seen is read, the display mark of the display mark can be obtained. Diopter can be measured. Further, when measuring the diopter of the display mark at the periphery of the finder visual field or at the periphery of the visual field, the diopter is measured in the same manner as above by tilting the optical axis of the diopter telescope 1 with respect to the finder optical axis. Can be.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法で
は、測定者が目視によりピントを合わせるので、測定者
による測定誤差の影響が大きく、測定精度を上げられな
かった。また、測定者の視力差によるバラツキなども大
きいため、この点からも測定精度が低下するという問題
があった。However, in the above-mentioned method, since the measurer adjusts the focus visually, the influence of the measurement error by the measurer is large, and the measurement accuracy cannot be improved. In addition, there is also a problem that the measurement accuracy is reduced from this point, because the variation due to the eyesight difference of the measurer is large.
【0006】さらに、視野の周辺部を測定する場合に
は、上記視度望遠鏡1を被検体Aの光軸に対して傾けて
測定するのだが、セッティングが不安定で、測定精度は
さらに低下し、再現精度が±0.2dioptry程度にしかなら
ないという問題もあった。Further, when measuring the peripheral part of the visual field, the diopter telescope 1 is measured by tilting the diopter telescope 1 with respect to the optical axis of the subject A. However, the setting is unstable, and the measuring accuracy is further reduced. However, there is also a problem that the reproducibility is only about ± 0.2 dioptry.
【0007】本発明は、上記の事実から考えられたもの
で、測定者の個人差や視力あるいは熟練度などといった
不確定要素を排除でき、精度良く視度を測定できる表示
マーク付きアフォーカルレンズの測定装置及び測定方法
を提供することを目的としている。また、視野の周辺部
の測定も安定して精度良くできる測定方法と装置を提供
することを目的としている。The present invention has been made in view of the above facts. The present invention provides an afocal lens with a display mark which can eliminate uncertain factors such as individual differences of a measurer, visual acuity and skill, and can measure a diopter with high accuracy. It is an object to provide a measuring device and a measuring method. It is another object of the present invention to provide a measuring method and apparatus capable of stably and accurately measuring a peripheral portion of a visual field.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明のレンズ測定装置は、第1光源とこれにより
背面から光を照射されるパターン板及び該パターン板が
焦点にくるように配置されたコリメータとを有する第1
光源装置と、第2光源を有し該第1光源装置と置換可能
な第2光源装置と、これら第1又は第2光源装置からの
光束が択一的に入射するように被検体としての表示マー
ク付きアフォーカル光学系を保持する試料台と、被検体
を経由した光束が入射する結像レンズ系と、該結像レン
ズ系の光軸方向に移動自在で、上記パターン板の像及び
表示マークの像と交叉するように配置された受光素子
と、該受光素子の出力を微分する微分回路と、を有する
ことを特徴としている。In order to achieve the above-mentioned object, a lens measuring apparatus according to the present invention comprises a first light source, a pattern plate irradiated with light from the back by the first light source, and a pattern plate so that the pattern plate comes to a focal point. First having a collimator disposed therein
A light source device, a second light source device having a second light source and replaceable with the first light source device, and a display as an object such that light beams from the first or second light source device are selectively incident. A sample stage for holding a marked afocal optical system, an imaging lens system to which a light beam passing through the subject enters, and an image and display mark on the pattern plate that are movable in the optical axis direction of the imaging lens system And a differentiating circuit for differentiating the output of the light receiving element.
【0009】また、上記第1及び第2光源装置が、上記
被検体の光軸をx軸としてこれと直交するy軸方向に移
動自在で、かつ、上記xy平面内で回動自在であり、上
記結像レンズ系と受光素子とが一体となってy軸方向に
移動自在でかつxy平面内で回動自在である構成とする
ことができる。The first and second light source devices are movable in the y-axis direction perpendicular to the optical axis of the subject with the optical axis being the x-axis, and are rotatable in the xy plane. The imaging lens system and the light receiving element may be integrally movable in the y-axis direction and rotatable in the xy plane.
【0010】この構成において、上記試料台を被検体の
x軸方向に延びるXステージ上に設け、上記第1光源装
置と第2光源装置を回転ステージ上に回転自在に取り付
けるとともに、各回転ステージを上記Xステージと直交
するYステージ上に移動自在に係合し、上記結像レンズ
系と受光素子とを結像部として一体化して上記Xステー
ジから張り出した弧状ステージに移動自在に設けた構成
とすることが望ましい。上記パターン板がスリットを有
する構成や、上記第2光源装置が、照射面に拡散板を有
する構成や、上記受光素子がラインセンサである構成と
することができる。In this configuration, the sample stage is provided on an X stage extending in the x-axis direction of the subject, and the first light source device and the second light source device are rotatably mounted on a rotary stage. A structure movably engaged on a Y stage orthogonal to the X stage, wherein the imaging lens system and the light receiving element are integrated as an imaging unit, and movably provided on an arc-shaped stage protruding from the X stage. It is desirable to do. A configuration in which the pattern plate has a slit, a configuration in which the second light source device has a diffusion plate on an irradiation surface, and a configuration in which the light receiving element is a line sensor can be employed.
【0011】本発明の測定方法は、光源の光をパターン
板に透過し、該透過した光束をコリメータにより平行光
束とし、該平行光束を被検体としての表示マーク付きア
フォーカル光学系を透過させて結像レンズに入射させ、
該結像レンズにより受光素子上に上記パターン板のパタ
ーン像を結像させ、受光素子の出力を微分し、微分値の
ピーク値が最大になる位置を結像位置として視度を測定
することを特徴としている。According to the measuring method of the present invention, light from a light source is transmitted through a pattern plate, the transmitted light is converted into a parallel light by a collimator, and the parallel light is transmitted through an afocal optical system with a display mark as an object. Incident on the imaging lens,
Forming the pattern image of the pattern plate on the light receiving element by the imaging lens, differentiating the output of the light receiving element, and measuring the diopter with the position where the peak value of the differential value becomes the maximum as the image forming position. Features.
【0012】または、光源の光を被検体としての表示マ
ーク付きアフォーカル光学系に照射し、被検体に設けら
れた表示マークの像を結像レンズにより受光素子上に結
像させ、受光素子の出力を微分し、微分値のピーク値が
最大になる位置を表示マークの結像位置として表示マー
クの視度を求めることとしている。Alternatively, light from a light source is irradiated to an afocal optical system having a display mark as an object, and an image of a display mark provided on the object is formed on a light receiving element by an imaging lens. The output is differentiated, and the diopter of the display mark is determined by using the position where the peak value of the differential value becomes the maximum as the imaging position of the display mark.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面によ
り説明する。図1は、本発明の測定装置の1実施例の構
成を示す図である。光源11は、筒体13に支持され、
この筒体13には、パターン板15と、コリメータレン
ズ17とが一体に組み込まれ、これら全体で第1光源装
置19を構成している。パターン板15には、スリット
15aが開けられ、このスリット15aがコリメータレ
ンズ17の前側焦点に重なる。筒体13は、回転ステー
ジ21に固定され、回転ステージ21はy軸方向に延び
るYステージ23に移動が自在な状態で係合されてい
る。回転ステージ21には角度目盛りが刻まれ、Yステ
ージ23には距離を示す目盛が刻まれており、第1光源
装置19が移動したY方向の距離と、角度を読み取れる
用になっている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing the configuration of one embodiment of the measuring device of the present invention. The light source 11 is supported by the cylindrical body 13,
A pattern plate 15 and a collimator lens 17 are integrally incorporated in the cylindrical body 13, and the whole constitutes a first light source device 19. A slit 15 a is formed in the pattern plate 15, and the slit 15 a overlaps a front focal point of the collimator lens 17. The cylindrical body 13 is fixed to a rotary stage 21, and the rotary stage 21 is movably engaged with a Y stage 23 extending in the y-axis direction. An angle scale is engraved on the rotary stage 21, and a scale indicating the distance is engraved on the Y stage 23, so that the distance and the angle in the Y direction to which the first light source device 19 has moved can be read.
【0014】Yステージ23は、その中央でXステージ
25と直交し、このXステージ25の中央付近には、試
料台27があり、被検体Aはこれに着脱自在に装着され
る。この実施例における被検体Aは、カメラのファイン
ダレンズで、ファインダ枠などの表示マークを有するア
フォーカル光学系である。また、被検体Aの光軸aはX
ステージ25の中心と一致している。The center of the Y stage 23 is orthogonal to the X stage 25, and a sample table 27 is provided near the center of the X stage 25, and the subject A is removably mounted on the sample stage 27. The subject A in this embodiment is a finder lens of a camera, and is an afocal optical system having a display mark such as a finder frame. The optical axis a of the subject A is X
It matches the center of stage 25.
【0015】Xステージの試料台27の右側には、結像
部29があり、ここに視野絞り31、結像レンズ33、
拡大レンズ35、CCDのラインセンサからなる受光素
子37が取り付けられている。結像レンズ33と拡大レ
ンズ35とで結像レンズ系39を構成する。また、上記
のうちの拡大レンズ35と受光素子37とは、受光部4
1として一体となって光軸方向に進退してピント合わせ
が可能な構成である。結像部29は、また、Xステージ
25から円弧状に張り出した弧状ステージ43上を移動
自在であり、このとき、視野絞り31を中心とした回転
となるように動く。弧状ステージ43も目盛があり、結
像部29の角度を読み取ることができる。On the right side of the sample stage 27 of the X stage, there is an imaging unit 29, in which a field stop 31, an imaging lens 33,
A magnifying lens 35 and a light receiving element 37 composed of a CCD line sensor are attached. An imaging lens system 39 is constituted by the imaging lens 33 and the magnifying lens 35. Also, the magnifying lens 35 and the light receiving element 37 among the above are connected to the light receiving section 4.
1 is a configuration in which focusing can be performed by integrally moving forward and backward in the optical axis direction. The imaging unit 29 is also movable on an arc-shaped stage 43 that protrudes in an arc shape from the X stage 25, and at this time, moves so as to rotate around the field stop 31. The arc-shaped stage 43 also has a scale, so that the angle of the imaging unit 29 can be read.
【0016】Yステージ23の上記第1光源装置19の
下方には、第2光源装置45が設けられている。この第
2光源装置は、多数のファイバーを平行に束ねて形成し
た光源47と、拡散板49とを有し、回転ステージ51
に載せられてxy平面内で(z軸回りに)回転自在であ
ると共に、回転ステージ51とYステージ23の係合に
よりYステージ上を移動自在である。回転ステージ51
には角度目盛りが刻まれており、第2光源装置45の移
動距離と、角度を容易に知ることができる。Below the first light source device 19 of the Y stage 23, a second light source device 45 is provided. The second light source device includes a light source 47 formed by bundling a large number of fibers in parallel, and a diffusion plate 49.
And is rotatable in the xy plane (around the z-axis), and is movable on the Y stage by the engagement of the rotary stage 51 and the Y stage 23. Rotation stage 51
Is provided with an angle scale, so that the moving distance and angle of the second light source device 45 can be easily known.
【0017】受光素子37の出力は、増幅器53で増幅
された後、微分回路55で微分される。そして、コンピ
ュータ57により処理され、ディスプレイ59上に受光
素子37の出力や微分値の波形が表示される。The output of the light receiving element 37 is amplified by an amplifier 53 and then differentiated by a differentiating circuit 55. The processed signal is processed by the computer 57, and the output of the light receiving element 37 and the waveform of the differential value are displayed on the display 59.
【0018】図1において、光源11から出射されパタ
ーン板15のスリット15aを透過した光束は、コリメ
ータレンズ17により平行光束となり、被検体Aを透過
し、視野絞り31を通過した後、結像レンズ33で実像
となり、さらに、拡大レンズ35で拡大され、受光素子
37上にスリット像を結像する。In FIG. 1, a light beam emitted from the light source 11 and transmitted through the slit 15a of the pattern plate 15 is converted into a parallel light beam by the collimator lens 17, passes through the subject A, passes through the field stop 31, and then forms an imaging lens. The image becomes a real image at 33 and is further enlarged by the magnifying lens 35 to form a slit image on the light receiving element 37.
【0019】図2(a)は受光素子37と直交するよう
に結像したスリット像16を示す図である。受光素子3
7には多数の素子が配列されており、スリット像16に
対応する各素子の出力をグラフに示すと、図2(b)の
ような線図になる。この出力を微分回路55で微分する
と、図2(c)のような線図を得る。このピーク値Hを
コンピュータ57が検出し、Hが最大になる受光素子3
7の位置を検出することによって、被写体が無限遠の場
合の視度を求めることができる。FIG. 2A is a view showing a slit image 16 formed so as to be orthogonal to the light receiving element 37. Light receiving element 3
7 has a large number of elements arranged. When the output of each element corresponding to the slit image 16 is shown in a graph, the output becomes a diagram as shown in FIG. When this output is differentiated by the differentiating circuit 55, a diagram as shown in FIG. 2C is obtained. The computer 57 detects this peak value H, and the light receiving element 3 at which H is maximized
By detecting the position 7, the diopter when the subject is at infinity can be obtained.
【0020】このように、本発明によれば、結像位置の
検出を<微分値のピーク値検出>という数値化により行
うことができるので、測定者による個人差や、測定者の
視力の影響などを排除して測定ができる。また、再現精
度が約±0.05dioptry程度と、従来に比べて非常に高精
度となった。As described above, according to the present invention, the detection of the image formation position can be performed by the numerical value of <detection of the peak value of the differential value>. Measurements can be made without such factors. In addition, the reproducibility was about ± 0.05 dioptry, which was much higher than the conventional one.
【0021】次に、ファインダ視野内に設けられた表示
マークの視度の測定について説明する。まず、図1にお
いて、第1光源装置19を図の上方に移動し、代わりに
第2光源装置45を第1光源装置19があった位置に移
動する。第2光源装置45のファイバからなる光源47
は、ほぼ平行な光束を射出し、拡散板49を介して被検
体Aを照射する。そして、受光部41を光軸方向に移動
すると、被検体Aに描かれている表示マーク(たとえば
ファインダ枠)の像を受光素子37上に結像する。Next, the measurement of the diopter of the display mark provided in the finder field will be described. First, in FIG. 1, the first light source device 19 is moved upward in the drawing, and instead, the second light source device 45 is moved to a position where the first light source device 19 was located. Light source 47 made of fiber of second light source device 45
Emits a substantially parallel light beam, and irradiates the subject A via the diffusion plate 49. When the light receiving unit 41 is moved in the optical axis direction, an image of a display mark (for example, a finder frame) drawn on the subject A is formed on the light receiving element 37.
【0022】図3(a)は受光素子37上に結像された
表示マーク像50を示す。図2のスリット像16は明像
であったが、表示マークの像は、逆に暗像であり、受光
素子37の出力は、図2(b)とは逆方向(マイナス)
の出力となる。この出力を増幅器53で増幅した後、微
分回路55で微分してピーク値Hが最大になる位置をコ
ンピュータ57で求めれば、表示マークの視度を求める
ことができる。FIG. 3A shows a display mark image 50 formed on the light receiving element 37. Although the slit image 16 in FIG. 2 is a bright image, the image of the display mark is a dark image, and the output of the light receiving element 37 is in the opposite direction (minus) to that in FIG.
Output. After the output is amplified by the amplifier 53 and differentiated by the differentiating circuit 55 and the position at which the peak value H is maximized is determined by the computer 57, the diopter of the display mark can be determined.
【0023】図4は軸外の視度を測定する方法を説明す
る図である。まず、第1光源装置19をYステージ23
上で移動すると同時にxy平面内で回転させ、コリメー
タレンズ17から照射される光束が、被検体Aに入射す
るように調整する。第1光源装置19の移動距離はYス
テージ23の目盛から、角度は回転ステージ21の目盛
から読み取る。次に、結像部29を弧状ステージ43上
で移動し、被検体Aから射出される光束を受光できるよ
うにする。すなわち、結像部41はy軸方向に移動し、
かつxy面内で回転することとなる。そして、移動後の
角度は弧状ステージの目盛から読み取ることができる。
なお、結像部29のy軸方向の移動距離は計算により求
めることができる。つぎに、受光部41を光軸に沿って
進退させ、スリット15aの像を受光素子37上に結像
するように調整する。以下は、上記の軸上の測定と同じ
である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method of measuring off-axis diopter. First, the first light source device 19 is connected to the Y stage 23.
At the same time as moving up, it is rotated in the xy plane so that the light beam emitted from the collimator lens 17 is adjusted to enter the subject A. The moving distance of the first light source device 19 is read from the scale of the Y stage 23, and the angle is read from the scale of the rotary stage 21. Next, the imaging unit 29 is moved on the arc-shaped stage 43 so that the light beam emitted from the subject A can be received. That is, the imaging unit 41 moves in the y-axis direction,
In addition, it rotates in the xy plane. The angle after the movement can be read from the scale of the arc stage.
The moving distance of the imaging unit 29 in the y-axis direction can be obtained by calculation. Next, the light receiving unit 41 is advanced and retracted along the optical axis, and adjustment is performed so that the image of the slit 15a is formed on the light receiving element 37. The following is the same as the on-axis measurement described above.
【0024】この後、第1光源装置19を移動してその
後に第2光源装置45を据え、同様に行えば、軸外の視
野における視度の測定を行うことができる。第2光源装
置の移動距離や角度も第1光源装置と同様にして求めら
れる。上記の実施例ではを受光素子37をラインセンサ
としたが、エリアセンサを使用することもできる。エリ
アセンサとした場合には、受光素子24の出力をスリッ
ト像または表示マーク像と交叉する方向に読みとること
で同様の測定ができる。ラインセンサとしては、CCD
リニアセンサや、フォトダイオードアレイなどを使用す
ることができる。上記の実施例では、パターン板として
スリット15aを使用したが、スリット以外の形状とす
ることもできる。After that, the first light source device 19 is moved, and then the second light source device 45 is installed. If the same operation is performed, the diopter can be measured in an off-axis visual field. The moving distance and the angle of the second light source device are obtained in the same manner as in the first light source device. In the above embodiment, the light receiving element 37 is a line sensor, but an area sensor may be used. When an area sensor is used, the same measurement can be performed by reading the output of the light receiving element 24 in a direction crossing the slit image or the display mark image. CCD as line sensor
A linear sensor, a photodiode array, or the like can be used. In the above embodiment, the slit 15a is used as the pattern plate, but a shape other than the slit may be used.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
光源で照明されたパターン板の光像を被検レンズ、結像
レンズを通し受光素子で計測し、微分回路で微分し、微
分値のピーク値が最大値になる受光素子の位置を求めて
被検体の視度を測定するので、被検体の視度を高精度に
測定することができる。According to the present invention as described above,
The light image of the pattern plate illuminated by the light source passes through the test lens and the imaging lens, is measured by the light receiving element, is differentiated by the differentiating circuit, and the position of the light receiving element at which the peak value of the differential value reaches the maximum value is determined. Since the diopter of the sample is measured, the diopter of the subject can be measured with high accuracy.
【0026】また、無限遠の視度と表示マークの視度を
それぞれ第1光源装置と第2光源装置で計測するので、
測定を簡単に行うことができる。上記第1及び第2光源
装置が、上記被検体の光軸をx軸としてこれと直交する
y軸方向に移動自在で、かつ、上記xy平面内で回動自
在であり、上記結像レンズ系と受光素子とが一体となっ
てy軸方向に移動自在でかつxy平面内で回動自在であ
る構成とすれば、軸上の視度測定は勿論、軸外の視度測
定もできる。Also, the diopter at infinity and the diopter of the display mark are measured by the first light source device and the second light source device, respectively.
Measurement can be performed easily. The first and second light source devices are movable in a y-axis direction orthogonal to the optical axis of the subject as an x-axis, and are rotatable in the xy plane. And the light receiving element are integrally movable in the y-axis direction and rotatable in the xy plane, so that not only on-axis diopter measurement but also off-axis diopter measurement can be performed.
【0027】上記試料台を被検体のx軸方向に延びるX
ステージ上に設け、上記第1光源装置と第2光源装置を
回転ステージ上に回転自在に取り付けるとともに、各回
転ステージを上記Xステージと直交するYステージ上に
移動自在に係合し、上記結像レンズ系と受光素子とを結
像部として一体化して上記Xステージから張り出した弧
状ステージに移動自在に設けた構成とすれば、軸外の測
定を安定してできるようになる。X extending in the x-axis direction of the subject through the sample stage
The first light source device and the second light source device are rotatably mounted on a rotary stage, and each rotary stage is movably engaged on a Y stage orthogonal to the X stage; If the lens system and the light receiving element are integrated as an imaging unit and are movably provided on an arc-shaped stage protruding from the X stage, off-axis measurement can be stably performed.
【図1】本発明の測定装置の1実施例を示す構成図であ
る。FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of a measuring device of the present invention.
【図2】(a)は受光素子とスリット像の関係を示す
図、(b)は受光素子の出力を示す線図、(c)は受光
素子の出力を微分した線図である。2A is a diagram showing a relationship between a light receiving element and a slit image, FIG. 2B is a diagram showing an output of the light receiving device, and FIG. 2C is a diagram showing a differential of the output of the light receiving device.
【図3】(a)は受光素子と表示マーク像の関係を示す
図、(b)は受光素子の出力を示す線図、(c)は受光
素子の出力を微分した線図である。3A is a diagram showing a relationship between a light receiving element and a display mark image, FIG. 3B is a diagram showing an output of the light receiving device, and FIG. 3C is a diagram showing a differentiated output of the light receiving device.
【図4】軸外の視度を測定する方法を説明する図であ
る。FIG. 4 is a diagram illustrating a method of measuring off-axis diopter.
【図5】(a)は従来の視度測定装置の構成を示す図、
(b)は(a)の矢符号Bから見た部分図である。FIG. 5A is a diagram showing a configuration of a conventional diopter measurement device;
(B) is a partial view as viewed from arrow B in (a).
A 被検レンズ 11 第1光源 15 パターン板 15a スリット 17 コリメータ 19 第1光源装置 21 回転ステージ 23 Yステージ 25 Xステージ 27 試料台 29 結像部 37 受光素子 39 結像レンズ系 45 第2光源装置 47 第2光源 49 拡散板 55 微分回路 A lens under test 11 first light source 15 pattern plate 15a slit 17 collimator 19 first light source device 21 rotation stage 23 Y stage 25 X stage 27 sample table 29 imaging unit 37 light receiving element 39 imaging lens system 45 second light source device 47 Second light source 49 Diffuser 55 Differentiation circuit
Claims (8)
されるパターン板及び該パターン板が焦点にくるように
配置されたコリメータとを有する第1光源装置と、第2
光源を有し該第1光源装置と置換可能な第2光源装置
と、これら第1又は第2光源装置からの光束が択一的に
入射するように被検体としての表示マーク付きアフォー
カル光学系を保持する試料台と、被検体を経由した光束
が入射する結像レンズ系と、該結像レンズ系の光軸方向
に移動自在で、上記パターン板の像及び表示マークの像
と交叉するように配置された受光素子と、該受光素子の
出力を微分する微分回路と、を有することを特徴とする
ことを表示マーク付きアフォーカル光学系の測定装置。A first light source device having a first light source, a pattern plate irradiated with light from the back thereof, and a collimator arranged so that the pattern plate comes to a focal point;
A second light source device having a light source and being replaceable with the first light source device, and an afocal optical system with a display mark as a subject so that a light beam from the first or second light source device is selectively incident. And an imaging lens system on which a light beam passing through the subject enters, and movable in the optical axis direction of the imaging lens system so as to intersect the image of the pattern plate and the image of the display mark. A measuring device for an afocal optical system with a display mark, comprising: a light-receiving element disposed in the light-receiving element; and a differentiating circuit for differentiating an output of the light-receiving element.
体の光軸をx軸としてこれと直交するy軸方向に移動自
在で、かつ、上記xy平面内で回動自在であり、上記結
像レンズ系と受光素子とが一体となってy軸方向に移動
自在でかつxy平面内で回動自在であることを特徴とす
る請求項1記載の表示マーク付きアフォーカル光学系の
測定装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the first and second light source devices are movable in a y-axis direction orthogonal to an optical axis of the subject as an x-axis, and rotatable in the xy plane. 2. The measurement of an afocal optical system with a display mark according to claim 1, wherein the imaging lens system and the light receiving element are integrally movable in the y-axis direction and rotatable in the xy plane. apparatus.
Xステージ上に設け、上記第1光源装置と第2光源装置
を回転ステージ上に回転自在に取り付けるとともに、各
回転ステージを上記Xステージと直交するYステージ上
に移動自在に係合し、上記結像レンズ系と受光素子とを
結像部として一体化して上記Xステージから張り出した
弧状ステージに移動自在に設けたことを特徴とする請求
項2記載の表示マーク付きアフォーカル光学系の測定装
置。3. The sample stage is provided on an X stage extending in the x-axis direction of the subject. The first light source device and the second light source device are rotatably mounted on a rotary stage, and each rotary stage is mounted on the X stage. The imaging lens system and the light receiving element are movably engaged on a Y stage orthogonal to the stage, and the imaging lens system and the light receiving element are integrated as an imaging unit and provided movably on an arc-shaped stage protruding from the X stage. The measuring device for an afocal optical system with a display mark according to claim 2.
を特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の表示マ
ーク付きアフォーカル光学系の測定装置。4. The measuring device for an afocal optical system with a display mark according to claim 1, wherein the pattern plate has a slit.
有することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記
載の表示マーク付きアフォーカル光学系の測定装置。5. The measuring device for an afocal optical system with a display mark according to claim 1, wherein the second light source device has a diffusion plate on an irradiation surface.
を特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の表示マ
ーク付きアフォーカル光学系の測定装置。6. The measuring device for an afocal optical system with a display mark according to claim 1, wherein the light receiving element is a line sensor.
した光束をコリメータにより平行光束とし、該平行光束
を被検体としての表示マーク付きアフォーカル光学系を
透過させて結像レンズに入射させ、該結像レンズにより
受光素子上に上記パターン板のパターン像を結像させ、
受光素子の出力を微分し、微分値のピーク値が最大にな
る位置を結像位置として視度を測定することを特徴とす
る表示マーク付きアフォーカル光学系の測定方法。7. A light from a light source is transmitted through a pattern plate, the transmitted light is converted into a parallel light by a collimator, and the parallel light is transmitted through an afocal optical system with a display mark as an object to be incident on an imaging lens. To form a pattern image of the pattern plate on the light receiving element by the imaging lens,
A method for measuring an afocal optical system with a display mark, comprising differentiating an output of a light receiving element and measuring a diopter with a position at which a peak value of a differential value becomes a maximum as an image forming position.
きアフォーカル光学系に照射し、被検体に設けられた表
示マークの像を結像レンズにより受光素子上に結像さ
せ、受光素子の出力を微分し、微分値のピーク値が最大
になる位置を表示マークの結像位置として表示マークの
視度を求めることを特徴とする表示マーク付きアフォー
カル光学系の測定方法。8. A light from a light source is irradiated to an afocal optical system with a display mark as a subject, and an image of a display mark provided on the subject is formed on a light receiving element by an imaging lens. A method for measuring an afocal optical system with a display mark, wherein the output is differentiated, and the position at which the peak value of the differential value is maximized is determined as the imaging position of the display mark to determine the diopter of the display mark.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28288596A JPH10111215A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Apparatus and method for measuring afocal optical system with display mark |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28288596A JPH10111215A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Apparatus and method for measuring afocal optical system with display mark |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10111215A true JPH10111215A (en) | 1998-04-28 |
Family
ID=17658359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28288596A Pending JPH10111215A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Apparatus and method for measuring afocal optical system with display mark |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10111215A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010243992A (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Masaaki Tanabe | Monocular scale |
-
1996
- 1996-10-07 JP JP28288596A patent/JPH10111215A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010243992A (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Masaaki Tanabe | Monocular scale |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4647867B2 (en) | Apparatus and method used to evaluate a target larger than the sensor measurement aperture | |
| US4764016A (en) | Instrument for measuring the topography of a surface | |
| US3813172A (en) | Photometric device with a plurality of measuring fields | |
| JPH0363009B2 (en) | ||
| DE60136888D1 (en) | Device for image acquisition and image processing in spectacle lenses | |
| GB2215837A (en) | Microscope arranged for measuring microscopic structures | |
| KR20230136631A (en) | Measuring apparatus and method for measuring the modulation transfer function of an infinity-focus optical system | |
| JPH10311779A (en) | Equipment for measuring characteristics of lens | |
| JPH061241B2 (en) | Particle analyzer | |
| JP4751156B2 (en) | Autocollimator and angle measuring device using the same | |
| JPH10111215A (en) | Apparatus and method for measuring afocal optical system with display mark | |
| CN216012682U (en) | Device for measuring modulation transfer function of ultrashort object distance optical lens | |
| JPH1068674A (en) | Measuring apparatus for lens system and method for measuring MTF of lens system | |
| US5307098A (en) | Projection inspecting machine | |
| JP2001166202A (en) | Focus detection method and focus detector | |
| EP0539609A1 (en) | Projection inspecting machine | |
| JP2003148939A (en) | Autocollimator provided with microscope, and instrument for measuring shape using the same | |
| JP4629835B2 (en) | Abbe number measuring apparatus and Abbe number measuring method | |
| JP2672771B2 (en) | Through hole inner diameter measuring device | |
| JPH0738807Y2 (en) | Projection inspection machine | |
| JP2505042B2 (en) | Lens eccentricity measuring device | |
| JP3066056B2 (en) | Method and apparatus for measuring eccentricity of lens | |
| JPS6255542A (en) | Optical system inspection equipment | |
| JPH09257643A (en) | Lens meter | |
| JPH0345163Y2 (en) |