JPH10116232A - メモリシステム - Google Patents

メモリシステム

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JPH10116232A
JPH10116232A JP8287707A JP28770796A JPH10116232A JP H10116232 A JPH10116232 A JP H10116232A JP 8287707 A JP8287707 A JP 8287707A JP 28770796 A JP28770796 A JP 28770796A JP H10116232 A JPH10116232 A JP H10116232A
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JP
Japan
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memory
chips
chip
wiring board
printed wiring
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JP8287707A
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English (en)
Inventor
Koichi Ikeda
孝市 池田
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NSC Co Ltd
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Nigata Semitsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度実装が可能で不良の発生率の少ないメ
モリシステムを提供する。 【解決手段】 本発明のメモリシステムは、データ格納
およびデータ読み出しに利用する8個のメモリ用ベアチ
ップ11〜18と予備用のメモリ用ベアチップ19とを
含んで構成される。これらメモリ用ベアチップは、半導
体ウエハ上の連続した領域に形成された複数のメモリチ
ップを切り出してプリント配線板上に実装したものであ
る。メモリ用ベアチップ11〜18のデータ入出力端子
にはそれぞれヒューズ20が接続される。また、メモリ
用ベアチップ19のデータ入出力端子にはそれぞれ8つ
ずつヒューズ20が接続され、これらヒューズ2の他端
側はそれぞれ、メモリ用ベアチップ11〜18のヒュー
ズ20の他端側と接続されている。これらのヒューズ2
0の切り換えにより、不良になったメモリ用ベアチップ
は予備用のメモリ用ベアチップ19に置き換えられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板上
に複数のメモリチップを実装したメモリシステムに関す
る。
【0002】
【従来の技術】携帯電話や電子手帳などの携帯機器にお
いては、製品の小型化と消費電力の低減が製品の売り上
げを左右する重要な要素となっている。このため、従来
は多機能のLSIを用いて部品の実装点数を減らした
り、多層のプリント配線板に両面実装して小型化を図る
などしていた。また、LSIのパッケージを取り外した
ベアチップを直接プリント配線板に実装するいわゆるフ
リップチップ実装によって実装密度の向上を図ることも
一般化してきた。
【0003】ところで、携帯機器などの大抵の電子機器
はCPUを内部に含んでおり、CPUを動かすプログラ
ムの出来不出来によって製品の性能が決まることが多
い。また、機能の複雑多様化に伴ってプログラムの量も
膨大になりつつあり、大量のメモリを搭載しなければ所
望の処理速度が得られない場合も増えてきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、大量の
メモリをプリント配線板に実装しようとすると、プリン
ト配線板が大型化するという問題がある。このため、大
量のメモリを必要とするコンピュータなどの電子機器で
は、複数のメモリチップを小型のプリント配線板2に実
装したSIMM(Single In-line Memory Module)をメイ
ン基板に垂直あるいは斜めに取り付けるのが一般的であ
る。ところが、SIMMは市販のメモリチップを構成部
品として使用するため、SIMMの外形寸法を小さくす
るには限界があり、メイン基板もSIMMの外形寸法や
搭載数に応じて大きくせざるを得ない。
【0005】また、SIMMなどのメモリボードに実装
されたメモリチップのうち、一部のメモリチップに不良
があれば、従来はメモリボード全体を不良として扱って
いた。このため、メモリチップを実装する前に、各メモ
リチップの不良の有無を入念に検査しなければならず、
検査にかなりの時間を必要とするとともに、検査に時間
をかけてもメモリボードの製造時の不良率は低くならな
いという問題があった。
【0006】本発明の目的は、このような点に鑑みて創
作されたものであり、その目的はプリント配線板上にメ
モリチップを高密度実装でき、かつ不良の発生率を低減
できるメモリシステムを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、請求項1のメモリシステムは、半導体ウエハ上
の連続した領域に形成された複数のメモリチップをプリ
ント配線板に実装し、そのうちの一部のメモリチップが
不良の場合に、他のメモリチップに代用するための配線
切換回路をプリント配線板上に形成するため、一部のメ
モリチップが不良であっても、メモリシステム全体を不
良として扱う必要がなく、メモリシステムの製造時の不
良率を低減できる。
【0008】請求項2のメモリシステムは、データ格納
およびデータ読み出しの対象となるメモリチップのデー
タ入出力端子と、予備用のメモリチップのデータ入出力
端子とを択一的に選択して外部接続端子と導通させるよ
うにしたため、データ入出力端子の切り換えだけで不良
のメモリチップの使用を禁止して代わりに予備用のメモ
リチップを使用することができる。
【0009】請求項3のメモリシステムは、各メモリチ
ップのイネーブル端子の信号レベルを制御することによ
り、不良のメモリチップの使用を禁止して代わりに予備
用のメモリチップを使用することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用したメモリシ
ステムについて、図面を参照しながら具体的に説明す
る。
【0011】〔第1の実施形態〕図1はメモリシステム
の第1の実施形態の回路図、図2は図1の回路をプリン
ト配線板2上に実装した状態を示す平面図、図3は図2
のプリント配線板2の一部を拡大して示した図である。
図2に示すように、本実施形態のメモリシステムは、半
導体ウエハ上の連続した領域に形成された複数のメモリ
用ベアチップ1を、1個1個に分割することなく密着さ
せた状態でプリント配線板2上に実装したものである。
プリント配線板2の一端側Pは、不図示のメイン基板の
コネクタに取り付け可能な形状に加工されており、この
部分にはメイン基板のコネクタと導通を取るための複数
のパターン3が形成されている。これらパターン3のそ
れぞれは、図3に示すように、プリント配線板2上のパ
ッド4とボンディングワイヤ5を介してメモリ用ベアチ
ップ1の入出力パッド6と導通している。図2に示すパ
ターン3のそれぞれは、図1に示す外部接続端子I/O
0 〜31、A0 〜9 、RAS、CAS、WE、OEに対応
している。
【0012】本実施形態のメモリシステムは、図1に示
すように、9個のメモリ用ベアチップ11〜19を含ん
で構成され、このうちの8個のメモリ用ベアチップ11
〜18が実際にメモリとして利用され、残りの1個のメ
モリ用ベアチップ19は予備として用いられる。図1で
は、各メモリ用ベアチップ11〜19として1M×4ビ
ットのDRAMを用いる例を示しており、メモリシステ
ム全体のメモリ容量は、32ビット×4Mバイトにな
る。
【0013】各メモリ用ベアチップ11〜19は、図1
に示すように、アドレス端子A0 〜A9 と、データ入出
力端子D0 〜D3 と、RAS端子と、CAS端子と、W
E(ライトイネーブル)端子と、OE(アウトイネーブ
ル)端子とを備えている。このうち、データ入出力端子
D0 〜D3 以外の端子の接続は、9個のメモリ用ベアチ
ップ11〜19のいずれも同じである。メモリ用ベアチ
ップ11〜18のデータ入出力端子D0 〜D3 のそれぞ
れにはヒューズ20が接続され、これらヒューズ20は
通常は導通しており、レーザ光線を照射すると導通が途
切れるようになっている。なお、図1では、簡略化のた
め、それぞれのメモリ用ベアチップ11〜18のデータ
入出力端子D0 〜3 に対してヒューズ20を1つだけ接
続した図を示しているが、実際は、データ入出力端子D
0 〜D3 の各端子ごとに別々にヒューズ20が接続され
ている。また、予備用のメモリ用ベアチップ19の各デ
ータ入出力端子D0 〜D3 には、それぞれ8つずつヒュ
ーズ20が接続され、これらヒューズ20の他端側は、
それぞれメモリ用ベアチップ11〜18のヒューズ20
の他端側とそれぞれ接続されている。
【0014】図1に示すヒューズ20のそれぞれは、各
ヒューズごとに導通を切るか否かを任意に選択すること
ができる。例えば、メモリ用ベアチップ11〜18のい
ずれにも不良がない場合には、図4に示すように、予備
用のメモリ用ベアチップ19のデータ入出力端子D0 〜
D3 に接続されたすべてのヒューズ20が切断される。
一方、例えば図1に示すメモリ用ベアチップ11が不良
の場合には、図5に示すように、不良になったメモリ用
ベアチップ11のデータ入出力端子D0 〜D3に接続さ
れたすべてのヒューズ20が切断され、これらヒューズ
20に接続されている予備用のメモリ用ベアチップ19
のヒューズ20は切断されない。これにより、不良にな
ったメモリ用ベアチップ11の使用が禁止され、代わり
に予備用のメモリ用ベアチップ19がメモリの一部とし
て用いられる。
【0015】なお、ヒューズ20を切断したときに、外
部接続端子I/O0 〜I/O31の電位が不定にならない
ように、すべてのヒューズ20の他端側にはプルアップ
抵抗Rが取り付けられている。
【0016】このように、第1の実施形態のメモリシス
テムは、プリント配線板2上に予備用のメモリ用ベアチ
ップ19を予め実装し、この予備用のメモリ用ベアチッ
プ19のデータ入出力端子D0 〜D3 と、他のメモリ用
ベアチップ11〜18のデータ入出力端子D0 〜D3 と
をヒューズ20によって択一的に選択できるようにした
ため、メモリ用ベアチップ11〜18の一部が不良の場
合でも、不良になったメモリ用ベアチップの使用を禁止
して、代わりに予備用のメモリ用ベアチップ19を使用
することができる。このため、プリント配線板2上に実
装されたメモリ用ベアチップの一部だけが不良の場合
に、メモリシステム全体を不良として扱わくなくて済
み、メモリシステムの製造時の不良率が低減する。
【0017】また、第1の実施形態のメモリシステム
は、半導体ウエハ上に形成されたメモリ用ベアチップ1
を複数個組にして切り出し、個別に分離せずに密着させ
てプリント配線板2上に実装するため、従来のようにパ
ッケージングされたメモリを実装する場合に比べて高密
度実装が可能となる。
【0018】また、所望のヒューズを切るだけで、不良
のメモリ用ベアチップと予備用のメモリ用ベアチップ1
9とを切り換えることができるため、プリント配線板2
上の配線を複雑にすることもなく予備用のメモリ用ベア
チップ19への切り換えが可能となる。
【0019】〔第2の実施形態〕第1の実施形態では、
ヒューズ20を用いてメモリ用ベアチップの切り換えを
行う例を示したが、ヒューズ20の代わりにディップス
イッチやゲート等により切り換えを行うこともできる。
【0020】図6は第2の実施形態のメモリシステムの
回路図である。第2の実施形態のメモリシステムは、第
1の実施形態と同様に、1個の予備用のメモリ用ベアチ
ップ19を含む計9個のメモリ用ベアチップ11〜19
からなり、メモリ用ベアチップ11〜18のそれぞれに
は、図7に詳細構成を示すデータ制御回路21〜28が
接続されている。
【0021】データ制御回路21〜28は4ビット構成
になっており、そのうちの1ビット分の回路が図7に示
されている。図7の端子A1 には、図6に示すメモリ用
ベアチップ11〜18のデータ入出力端子D0 が接続さ
れ、端子B1 には、図6に示す予備用のメモリ用ベアチ
ップ19のデータ入出力端子D0 が接続される。また、
端子D1 には、例えば図6に示す外部接続端子I/O0
が接続され、端子Sには、例えば図8に詳細を示すディ
ップスイッチ29の接点SL0 が接続される。このディ
ップスイッチ29は8個のスイッチからなり、これらス
イッチの切換により、接点SL0 〜SL7 はハイレベル
かローレベルのいずれかに設定され、これら接点SL0
〜SL7 はそれぞれデータ制御回路21〜28に接続さ
れる。
【0022】図7に詳細を示すデータ制御回路21〜2
8は、端子A1 〜4 あるいは端子B1 〜4 のいずれか一
方を、端子Sの論理によって選択するようになってお
り、また、WE(ライトイネーブル)端子の論理によっ
てデータの流れる方向を切り換えている。
【0023】図9は、図7に詳細を示すデータ制御回路
21〜28の動作を示す論理図である。図9に示すよう
に、端子SがローレベルでWE端子がローレベルのとき
には、トライステートバッファ31がイネーブル状態に
なり、端子D1 〜4 から入力されたデータがそれぞれ端
子A1 〜4 から出力され、対応するメモリ用ベアチップ
11〜18に格納される。また、端子Sがローレベルで
WE端子がハイレベルのときには、トライステートバッ
ファ32がイネーブル状態になり、端子A1 〜4 から入
力されたデータは端子D1 〜4 から出力され、対応する
外部接続端子I/O0 〜31を介して外部に出力される。
また、端子SがハイレベルでWE端子がローレベルのと
きには、端子D1 〜4 から入力されたデータは端子B1
〜4 から出力される。また、端子SがハイレベルでWE
端子がハイレベルのときには、端子B1 〜4 から入力さ
れたデータは端子D1 〜4 から出力される。
【0024】例えば、メモリ用ベアチップ11〜18の
いずれにも不良がない場合には、図6に示すデータ制御
回路21〜28のすべてのS端子がローレベルになるよ
うに、図9に示すディップスイッチ29を切り換える。
これにより、データ制御回路21〜28は、WE端子の
信号レベルによって、トライステートバッファ31、3
2のいずれかをイネーブル状態にする。一方、例えば図
6に示すメモリ用ベアチップ18が不良の場合には、デ
ィップスイッチ29の接点SL7だけがハイレベルにな
るようにディップスイッチ29を切り換える。これによ
り、メモリ用ベアチップ18は予備用のメモリ用ベアチ
ップ19に置き換えられる。
【0025】このように、第2の実施形態は、メモリ用
ベアチップ11〜18にデータ制御回路21〜28をそ
れぞれ接続し、ディップスイッチ29の状態によってデ
ータ制御回路21〜28内を通過するデータの流れを制
御するようにしたため、ディップスイッチ29の切り換
えだけで不良のメモリ用ベアチップを予備用のメモリ用
ベアチップ19に置き換えることができ、メモリ用ベア
チップの置き換えを手作業で簡易に行うことができる。
【0026】〔第3の実施形態〕第3の実施形態は、メ
モリ用ベアチップのOE(アウトイネーブル)端子にヒ
ューズを接続するものである。
【0027】図10は第3の実施形態のメモリシステム
の回路図である。同図に示すように、プリント配線板2
上に実装された8個のメモリ用ベアチップ11〜18の
OE端子にはそれぞれヒューズ20が接続されている。
また、予備用のメモリ用ベアチップ19のデータ入出力
端子D0 〜D3 は、それぞれ異なるヒューズ20を介し
てメモリ用ベアチップ11〜18のデータ入出力端子と
接続されている。
【0028】例えば、メモリ用ベアチップ11〜18の
いずれにも不良がない場合には、各OE端子に接続され
たすべてのヒューズ20は切断されず、予備用のメモリ
用ベアチップ19のデータ入出力端子D0 〜D3 に接続
されたヒューズ20はすべて切断される。これにより、
メモリ用ベアチップ11〜18に対してデータの格納と
データの読み出しが行われる。
【0029】一方、例えば、メモリ用ベアチップ11が
不良の場合には、このチップ11のOE端子に接続され
たヒューズ20がすべて切断される。また、このチップ
11のデータ入出力端子D0 〜D3 に接続される予備用
のメモリ用ベアチップ19のヒューズ20は切断され
ず、その他の予備用のメモリ用ベアチップ19のヒュー
ズ20は切断される。
【0030】なお、図10では、OE端子にヒューズ2
0を接続する例を説明したが、WE端子やRAS端子や
CAS端子にヒューズを接続してメモリ用ベアチップ1
9との切り換えを行ってもよい。
【0031】また、上述した各実施形態では、予備用の
メモリ用ベアチップ19を1個だけ設ける例を説明した
が、複数のメモリ用ベアチップを予備として設けてもよ
い。また、メモリシステムを構成するメモリ用ベアチッ
プの種類や個数は上述した各実施形態に限定されない。
【0032】さらに、上述した第1および第3の実施形
態では、各メモリ用ベアチップのデータ入出力端子にヒ
ューズ20を接続する例を示したが、ヒューズ20の代
わりに、ディップスイッチ等の機械的な切換手段を接続
したり、トランジスタ等の電気的な切換手段を接続して
もよい。あるいは、ヒューズ20の代わりに、プリント
配線板2上に形成された配線パターンをレーザで直接焼
き切ってもよい。
【0033】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、半導体ウエハ上に形成された複数のメモリチップ
をプリント配線板に密着して実装し、そのうちの一部の
メモリチップをデータ格納およびデータ読み出し用とし
て用い、その他のメモリチップを予備として用いるた
め、データ格納およびデータ読み出し用として用いるメ
モリチップの一部が不良になっても、メモリチップを取
り外すことなく他のメモリチップに置き換えることがで
きる。したがって、メモリシステムの製造時の不良率が
低減し、部品コストを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】メモリシステムの第1の実施形態の回路図であ
る。
【図2】図1の回路をプリント配線板上に実装した状態
を示す平面図である。
【図3】図2のプリント配線板の一部を拡大して示した
図である。
【図4】図1に示す一部のヒューズを切断した状態を示
す回路図である。
【図5】図1に示す一部のヒューズを切断した状態を示
す回路図である。
【図6】第2の実施形態のメモリシステムの回路図であ
る。
【図7】データ制御回路の詳細構成を示す回路図であ
る。
【図8】ディップスイッチの詳細を示す回路図である。
【図9】データ制御回路の動作を示す論理図である。
【図10】第3の実施形態のメモリシステムの回路図で
ある。
【符号の説明】
1、11〜19 メモリ用ベアチップ 2 プリント配線板 3 パターン 4 パッド 5 ボンディングワイヤ 20 ヒューズ 21〜28 データ制御回路 29 ディップスイッチ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハ上の連続した領域に形成さ
    れた複数のメモリチップのそれぞれを互いに密着させて
    実装したプリント配線板を備え、 前記複数のメモリチップのうち一部のメモリチップに対
    するデータ格納およびデータ読み出しを制御するメモリ
    アクセス回路と、前記一部のメモリチップのそれぞれを
    前記一部のメモリチップ以外のメモリチップで代用でき
    るように配線の切換を行う配線切換回路とを前記プリン
    ト配線板上に形成したことを特徴とするメモリシステ
    ム。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記プリント配線板に実装された前記複数のメモリチッ
    プのそれぞれは、アドレス端子とデータ入出力端子とを
    少なくとも備え、 前記プリント配線板は、外部とのデータの送受を行うた
    めの複数の外部接続端子を備え、 前記配線切換回路は、前記一部のメモリチップのそれぞ
    れごとに、前記一部のメモリチップのデータ入出力端子
    と前記一部のメモリチップ以外のメモリチップのデータ
    入出力端子とを択一的に選択して前記外部接続端子と導
    通させることを特徴とするメモリシステム。
  3. 【請求項3】 請求項1または2において、 前記プリント配線板に実装された前記複数のメモリチッ
    プのそれぞれは、データ格納あるいはデータ読み出しを
    制御するイネーブル端子を備え、 前記配線切換回路は、前記一部のメモリチップのそれぞ
    れごとに、前記イネーブル端子の信号レベルを制御する
    ことを特徴とするメモリシステム。
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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1662318A1 (en) 1999-03-09 2006-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. 1,3-dihydro-1-oxo-2H-indene derivative
EP1701213A2 (en) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP1975702A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 Fujifilm Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
EP2037323A2 (en) 2007-07-17 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2036957A2 (en) 2007-07-13 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device
EP2055746A2 (en) 2007-10-31 2009-05-06 Fujifilm Corporation Colored curable composition, color filter, method of producing the same, and solid state image pickup device.
WO2009113447A1 (ja) 2008-03-10 2009-09-17 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
EP2105443A1 (en) 2008-03-24 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Oxime derivatives and their use in photopolymerizable compositions for colour filters
WO2009119218A1 (ja) 2008-03-28 2009-10-01 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
WO2009123050A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
WO2009122789A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子
EP2221665A2 (en) 2009-02-19 2010-08-25 Fujifilm Corporation Dispersion composition, photosensitive resin composition for light- shielding color filter, light-shielding color filter, method of producing the same, and solid-state image sensor having the color filter
WO2014087901A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 Irカットフィルタ及びその製造方法、固体撮像装置、遮光膜の形成方法
WO2014087900A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用保持基板及びその製造方法、固体撮像装置
US9424954B2 (en) 2013-05-23 2016-08-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor package including stacked chips and method of fabricating the same
CN115428086A (zh) * 2020-04-07 2022-12-02 美光科技公司 用于堆叠存储器中的裸片替换的设备及方法

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1662318A1 (en) 1999-03-09 2006-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. 1,3-dihydro-1-oxo-2H-indene derivative
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1701213A2 (en) 2005-03-08 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP1975702A2 (en) 2007-03-29 2008-10-01 Fujifilm Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
EP2036957A2 (en) 2007-07-13 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device
EP2207062A2 (en) 2007-07-17 2010-07-14 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2037323A2 (en) 2007-07-17 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2055746A2 (en) 2007-10-31 2009-05-06 Fujifilm Corporation Colored curable composition, color filter, method of producing the same, and solid state image pickup device.
WO2009113447A1 (ja) 2008-03-10 2009-09-17 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
EP2105443A1 (en) 2008-03-24 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Oxime derivatives and their use in photopolymerizable compositions for colour filters
WO2009119218A1 (ja) 2008-03-28 2009-10-01 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
WO2009123050A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
WO2009122789A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子
EP2221665A2 (en) 2009-02-19 2010-08-25 Fujifilm Corporation Dispersion composition, photosensitive resin composition for light- shielding color filter, light-shielding color filter, method of producing the same, and solid-state image sensor having the color filter
WO2014087901A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 Irカットフィルタ及びその製造方法、固体撮像装置、遮光膜の形成方法
WO2014087900A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用保持基板及びその製造方法、固体撮像装置
US9424954B2 (en) 2013-05-23 2016-08-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor package including stacked chips and method of fabricating the same
CN115428086A (zh) * 2020-04-07 2022-12-02 美光科技公司 用于堆叠存储器中的裸片替换的设备及方法

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