JPH10116558A - プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートおよび電極形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シートおよび電極形成方法Info
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- JPH10116558A JPH10116558A JP28907396A JP28907396A JPH10116558A JP H10116558 A JPH10116558 A JP H10116558A JP 28907396 A JP28907396 A JP 28907396A JP 28907396 A JP28907396 A JP 28907396A JP H10116558 A JPH10116558 A JP H10116558A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精細あるいは大面積のプラズマディスプレ
イパネルにおいても高い表示品質が可能な電極を形成す
るための転写シートと電極形成方法とを提供する。 【解決手段】 転写支持体上に黒色顔料を含有した感光
性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層を備
えた転写シート、あるいは、転写支持体上に黒色顔料を
含有した感光性黒色導電性ペースト層を備えた転写シー
トと転写支持体上に感光性導電性ペースト層を備えた転
写シートとを用いて、透明電極を備えた絶縁基板上に感
光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層を
転写し、これらを露光し現像した後、焼成して黒色導電
層と主導電層の２層構造からなる電極を形成する。
イパネルにおいても高い表示品質が可能な電極を形成す
るための転写シートと電極形成方法とを提供する。 【解決手段】 転写支持体上に黒色顔料を含有した感光
性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層を備
えた転写シート、あるいは、転写支持体上に黒色顔料を
含有した感光性黒色導電性ペースト層を備えた転写シー
トと転写支持体上に感光性導電性ペースト層を備えた転
写シートとを用いて、透明電極を備えた絶縁基板上に感
光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペースト層を
転写し、これらを露光し現像した後、焼成して黒色導電
層と主導電層の２層構造からなる電極を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネルの電極形成用の転写シートと電極形成方法に係
り、特に透明電極の低抵抗化を図るためのバス電極を簡
便に形成するためのプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートと電極形成方法に関する。
イパネルの電極形成用の転写シートと電極形成方法に係
り、特に透明電極の低抵抗化を図るためのバス電極を簡
便に形成するためのプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートと電極形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネルの開
発が進んでいる。プラズマディスプレイパネルには、直
流型プラズマディスプレイパネルと交流型プラズマディ
スプレイパネルとがある。両表示パネルとも、前面板に
形成された電極と、この電極に直交するように背面板に
形成された電極との間の放電空間におけるプラズマ放電
を利用するものであり、また、放電空間に所定のガスを
封入し、ガス放電により発生する紫外線によって放電空
間内面に塗布された蛍光体を発光させてカラー表示を行
うものである。
発が進んでいる。プラズマディスプレイパネルには、直
流型プラズマディスプレイパネルと交流型プラズマディ
スプレイパネルとがある。両表示パネルとも、前面板に
形成された電極と、この電極に直交するように背面板に
形成された電極との間の放電空間におけるプラズマ放電
を利用するものであり、また、放電空間に所定のガスを
封入し、ガス放電により発生する紫外線によって放電空
間内面に塗布された蛍光体を発光させてカラー表示を行
うものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、前面板に形成さ
れる電極（表示電極）は、酸化インジウムスズ（ＩＴ
Ｏ）等の透明電極であり、この透明電極は金属導電物質
に比べて電気抵抗が大きく、特に高精細のプラズマディ
スプレイパネルあるいは大面積のプラズマディスプレイ
パネルでは、透明電極の電気抵抗が大幅に増大し、表示
品質に支障を来したり、高い印加電圧が必要になるとい
う問題があった。
れる電極（表示電極）は、酸化インジウムスズ（ＩＴ
Ｏ）等の透明電極であり、この透明電極は金属導電物質
に比べて電気抵抗が大きく、特に高精細のプラズマディ
スプレイパネルあるいは大面積のプラズマディスプレイ
パネルでは、透明電極の電気抵抗が大幅に増大し、表示
品質に支障を来したり、高い印加電圧が必要になるとい
う問題があった。
【０００４】このような問題を解決するために、透明電
極上に銀ペースト層を形成して表示電極の抵抗を減少さ
せることが行われているが、銀ペーストが白っぽいため
表示コントラストが低下するという問題があった。そこ
で、透明電極上に黒色導電層を形成して表示電極の抵抗
を減少させるとともに、前面板側から表示パネルを見た
場合のコントラストと色純度を高めることがなされてい
る。しかしながら、現状では高い表示品質を維持できる
程の十分な黒さを有し、かつ、電気抵抗の低い黒色導電
層は得られておらず、表示品質への悪影響と電気抵抗の
増大のいずれかが避けられないという問題がある。
極上に銀ペースト層を形成して表示電極の抵抗を減少さ
せることが行われているが、銀ペーストが白っぽいため
表示コントラストが低下するという問題があった。そこ
で、透明電極上に黒色導電層を形成して表示電極の抵抗
を減少させるとともに、前面板側から表示パネルを見た
場合のコントラストと色純度を高めることがなされてい
る。しかしながら、現状では高い表示品質を維持できる
程の十分な黒さを有し、かつ、電気抵抗の低い黒色導電
層は得られておらず、表示品質への悪影響と電気抵抗の
増大のいずれかが避けられないという問題がある。
【０００５】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、高精細あるいは大面積のプラズマディ
スプレイパネルにおいても高い表示品質が可能な電極を
形成するための転写シートと電極形成方法を提供するこ
とを目的とする。
れたものであり、高精細あるいは大面積のプラズマディ
スプレイパネルにおいても高い表示品質が可能な電極を
形成するための転写シートと電極形成方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、プラズマディスプレイパネルの電極形成用の
転写シートの第１の発明は、転写支持体と、該転写支持
体上に剥離可能に形成された感光性導電性ペースト層
と、該感光性導電性ペースト層上に形成された黒色顔料
を含有する感光性黒色導電性ペースト層とを備えるよう
な構成とした。
るために、プラズマディスプレイパネルの電極形成用の
転写シートの第１の発明は、転写支持体と、該転写支持
体上に剥離可能に形成された感光性導電性ペースト層
と、該感光性導電性ペースト層上に形成された黒色顔料
を含有する感光性黒色導電性ペースト層とを備えるよう
な構成とした。
【０００７】また、プラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの第２の発明は、前記転写支持体が
光透過性を備えるような構成とした。
形成用の転写シートの第２の発明は、前記転写支持体が
光透過性を備えるような構成とした。
【０００８】プラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートの第３の発明は、転写支持体と、該転写支
持体上に剥離可能に形成された黒色顔料を含有する感光
性黒色導電性ペースト層とを備えるような構成とした。
の転写シートの第３の発明は、転写支持体と、該転写支
持体上に剥離可能に形成された黒色顔料を含有する感光
性黒色導電性ペースト層とを備えるような構成とした。
【０００９】また、プラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの第４の発明は、前記転写支持体が
光透過性を備えるような構成とした。
形成用の転写シートの第４の発明は、前記転写支持体が
光透過性を備えるような構成とした。
【００１０】プラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートの第５の発明は、転写支持体と、該転写支
持体上に剥離可能に形成された感光性導電性ペースト層
とを備えるような構成とした。
の転写シートの第５の発明は、転写支持体と、該転写支
持体上に剥離可能に形成された感光性導電性ペースト層
とを備えるような構成とした。
【００１１】また、プラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの第６の発明は、前記転写支持体が
光透過性を備えるような構成とした。
形成用の転写シートの第６の発明は、前記転写支持体が
光透過性を備えるような構成とした。
【００１２】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第１の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性
ペースト層とを転写し、次いで、所定のパターンを有す
るマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層および感
光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成して
黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成す
るような構成とした。
法の第１の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性
ペースト層とを転写し、次いで、所定のパターンを有す
るマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層および感
光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成して
黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成す
るような構成とした。
【００１３】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第２の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第２の発明の電極形成用の転写シートの感光性
黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有
するマスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性
ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次
いで、転写支持体を剥離し、次に、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
するような構成とした。
法の第２の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第２の発明の電極形成用の転写シートの感光性
黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有
するマスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性
ペースト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次
いで、転写支持体を剥離し、次に、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
するような構成とした。
【００１４】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第３の発明は、所定のパターンを有するマスクを介
して上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シー
トの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペ
ースト層を露光し、次いで、絶縁基板上に形成した透明
電極上に、該転写シートの感光性黒色導電性ペースト層
と感光性導電性ペースト層とを転写し、次に、現像した
後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる
電極を形成するような構成とした。
法の第３の発明は、所定のパターンを有するマスクを介
して上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シー
トの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペ
ースト層を露光し、次いで、絶縁基板上に形成した透明
電極上に、該転写シートの感光性黒色導電性ペースト層
と感光性導電性ペースト層とを転写し、次に、現像した
後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる
電極を形成するような構成とした。
【００１５】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第４の発明は、所定のパターンを有するマスクを介
して上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シー
トの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペ
ースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンと主導
電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形成し
た透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパターン
と主導電層のパターンとを転写し、その後、焼成して黒
色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成する
ような構成とした。
法の第４の発明は、所定のパターンを有するマスクを介
して上記第１または第２の発明の電極形成用の転写シー
トの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペ
ースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンと主導
電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形成し
た透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパターン
と主導電層のパターンとを転写し、その後、焼成して黒
色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成する
ような構成とした。
【００１６】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第５の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、さら
に、該感光性黒色導電性ペースト層上に、上記第５また
は第６の発明の電極形成用の転写シートを用いて感光性
導電性ペースト層を転写し、次いで、所定のパターンを
有するマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層およ
び感光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成するような構成とした。
法の第５の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、さら
に、該感光性黒色導電性ペースト層上に、上記第５また
は第６の発明の電極形成用の転写シートを用いて感光性
導電性ペースト層を転写し、次いで、所定のパターンを
有するマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層およ
び感光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成するような構成とした。
【００１７】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第６の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、さら
に、該感光性黒色導電性ペースト層上に、上記第６の発
明の電極形成用の転写シートの感光性導電性ペースト層
側を圧着し、次いで、所定のパターンを有するマスクを
介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペースト層お
よび感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、転写支
持体を剥離し、現像した後、焼成して黒色導電層と主導
電層の２層構造からなる電極を形成するような構成とし
た。
法の第６の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、さら
に、該感光性黒色導電性ペースト層上に、上記第６の発
明の電極形成用の転写シートの感光性導電性ペースト層
側を圧着し、次いで、所定のパターンを有するマスクを
介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペースト層お
よび感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、転写支
持体を剥離し、現像した後、焼成して黒色導電層と主導
電層の２層構造からなる電極を形成するような構成とし
た。
【００１８】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第７の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定
のパターンを有するマスクを介して該感光性黒色導電性
ペースト層を露光し、さらに、前記感光性黒色導電性ペ
ースト層上に、上記第５または第６の発明の電極形成用
の転写シートを用いて感光性導電性ペースト層を転写
し、所定のパターンを有するマスクを介して該感光性導
電性ペースト層を露光し、次いで、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
するような構成とした。
法の第７の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定
のパターンを有するマスクを介して該感光性黒色導電性
ペースト層を露光し、さらに、前記感光性黒色導電性ペ
ースト層上に、上記第５または第６の発明の電極形成用
の転写シートを用いて感光性導電性ペースト層を転写
し、所定のパターンを有するマスクを介して該感光性導
電性ペースト層を露光し、次いで、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
するような構成とした。
【００１９】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第８の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第４の発明の電極形成用の転写シートの感光性
黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有
するマスクを介して転写支持体上から前記感光性黒色導
電性ペースト層を露光した後、転写支持体を剥離し、さ
らに、前記感光性黒色導電性ペースト層上に、上記第６
の発明の電極形成用の転写シートの感光性導電性ペース
ト層側を圧着し、所定のパターンを有するマスクを介し
て転写支持体上から感光性導電性ペースト層を露光した
後、転写支持体を剥離し、次いで、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
するような構成とした。
法の第８の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第４の発明の電極形成用の転写シートの感光性
黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有
するマスクを介して転写支持体上から前記感光性黒色導
電性ペースト層を露光した後、転写支持体を剥離し、さ
らに、前記感光性黒色導電性ペースト層上に、上記第６
の発明の電極形成用の転写シートの感光性導電性ペース
ト層側を圧着し、所定のパターンを有するマスクを介し
て転写支持体上から感光性導電性ペースト層を露光した
後、転写支持体を剥離し、次いで、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
するような構成とした。
【００２０】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第９の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定
のパターンを有するマスクを介して該感光性黒色導電性
ペースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンを形
成し、さらに、該黒色導電層のパターンを覆うように上
記第５または第６の発明の電極形成用の転写シートを用
いて感光性導電性ペースト層を転写し、所定のパターン
を有するマスクを介して該感光性導電性ペースト層を露
光し現像して主導電層のパターンを形成し、その後、焼
成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を
形成するような構成とした。
法の第９の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定
のパターンを有するマスクを介して該感光性黒色導電性
ペースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンを形
成し、さらに、該黒色導電層のパターンを覆うように上
記第５または第６の発明の電極形成用の転写シートを用
いて感光性導電性ペースト層を転写し、所定のパターン
を有するマスクを介して該感光性導電性ペースト層を露
光し現像して主導電層のパターンを形成し、その後、焼
成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を
形成するような構成とした。
【００２１】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第１０の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第４の発明の電極形成用の転写シートの感光性
黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有
するマスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性
ペースト層を露光し転写支持体を剥離した後に現像して
黒色導電層のパターンを形成し、さらに、該黒色導電層
のパターンを覆うように上記第６の発明の電極形成用の
転写シートの感光性導電性ペースト層側を圧着し、所定
のパターンを有するマスクを介して転写支持体上から感
光性導電性ペースト層を露光し転写支持体を剥離した後
に現像して主導電層のパターンを形成し、その後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成するような構成とした。
法の第１０の発明は、絶縁基板上に形成した透明電極上
に、上記第４の発明の電極形成用の転写シートの感光性
黒色導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有
するマスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性
ペースト層を露光し転写支持体を剥離した後に現像して
黒色導電層のパターンを形成し、さらに、該黒色導電層
のパターンを覆うように上記第６の発明の電極形成用の
転写シートの感光性導電性ペースト層側を圧着し、所定
のパターンを有するマスクを介して転写支持体上から感
光性導電性ペースト層を露光し転写支持体を剥離した後
に現像して主導電層のパターンを形成し、その後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成するような構成とした。
【００２２】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第１１の発明は、所定のパターンを有するマスクを
介して上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層を露光し、次いで、
絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの感
光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定のパターンを
有するマスクを介して上記第５または第６の発明の電極
形成用の転写シートの感光性導電性ペースト層を露光
し、次いで、前記感光性黒色導電性ペースト層上に感光
性導電性ペースト層を転写し、次に、現像した後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成するような構成とした。
法の第１１の発明は、所定のパターンを有するマスクを
介して上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層を露光し、次いで、
絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの感
光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定のパターンを
有するマスクを介して上記第５または第６の発明の電極
形成用の転写シートの感光性導電性ペースト層を露光
し、次いで、前記感光性黒色導電性ペースト層上に感光
性導電性ペースト層を転写し、次に、現像した後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成するような構成とした。
【００２３】プラズマディスプレイパネルの電極形成方
法の第１２の発明は、所定のパターンを有するマスクを
介して上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層を露光し現像して黒
色導電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形
成した透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパタ
ーンを転写し、所定のパターンを有するマスクを介して
上記第５または第６の発明の電極形成用の転写シートの
感光性導電性ペースト層を露光し現像して主導電層のパ
ターンを形成し、次いで、前記黒色導電層のパターン上
に、該転写シートの主導電層のパターンを転写し、その
後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる
電極を形成するような構成とした。
法の第１２の発明は、所定のパターンを有するマスクを
介して上記第３または第４の発明の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層を露光し現像して黒
色導電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形
成した透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパタ
ーンを転写し、所定のパターンを有するマスクを介して
上記第５または第６の発明の電極形成用の転写シートの
感光性導電性ペースト層を露光し現像して主導電層のパ
ターンを形成し、次いで、前記黒色導電層のパターン上
に、該転写シートの主導電層のパターンを転写し、その
後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる
電極を形成するような構成とした。
【００２４】このような本発明では、転写シート上に形
成した感光性のペースト層を用いて透明電極上に転写形
成された黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極
は、主導電層により透明電極の電気抵抗が下げられ、黒
色導電層により主導電層と透明電極間の接続が高めら
れ、かつ、表示パネルのコントラストと色純度が高めら
れる。
成した感光性のペースト層を用いて透明電極上に転写形
成された黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極
は、主導電層により透明電極の電気抵抗が下げられ、黒
色導電層により主導電層と透明電極間の接続が高めら
れ、かつ、表示パネルのコントラストと色純度が高めら
れる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて説明する。第１の発明の転写シート 図１は第１の発明のプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図であ
る。図１において、転写シート１は、転写支持体２の上
に感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペース
ト層４をこの順に積層して備えた構造であり、感光性導
電性ペースト層３は転写支持体２に対して剥離可能とな
っている。
ついて説明する。第１の発明の転写シート 図１は第１の発明のプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図であ
る。図１において、転写シート１は、転写支持体２の上
に感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペース
ト層４をこの順に積層して備えた構造であり、感光性導
電性ペースト層３は転写支持体２に対して剥離可能とな
っている。
【００２６】転写シート１を構成する転写支持体２とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポ
リアミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、
ポリイミド、セロハン、トリアセチルセルロース等のセ
ルロース誘導体、アイオノマー等の樹脂フィルム、ＳＵ
Ｓ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属薄板、これらの複合体等を挙げ
ることができる。このような転写支持体２の厚みは１〜
４００μｍ、好ましくは４．５〜２００μｍ程度とする
ことができ、形状はシート状、長尺状いずれでもよい。
また、転写支持体２の感光性導電性ペースト層３を形成
する面には、転写支持体２と感光性導電性ペースト層３
との密着性および剥離性を調整するためのプライマー層
を設けてもよい。このようなプライマー層は、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、（メタ）アクリレート系樹
脂、イソシアネート硬化樹脂、エポキシ樹脂、シリコー
ン樹脂（オイル）、フッ素樹脂、ポリエチレンワック
ス、カルナバワックス、アクリルメラミン樹脂等を用い
て形成することができ、厚みは０．１〜１０μｍ程度と
することができる。
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリサルホン、ポ
リアミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、
ポリイミド、セロハン、トリアセチルセルロース等のセ
ルロース誘導体、アイオノマー等の樹脂フィルム、ＳＵ
Ｓ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属薄板、これらの複合体等を挙げ
ることができる。このような転写支持体２の厚みは１〜
４００μｍ、好ましくは４．５〜２００μｍ程度とする
ことができ、形状はシート状、長尺状いずれでもよい。
また、転写支持体２の感光性導電性ペースト層３を形成
する面には、転写支持体２と感光性導電性ペースト層３
との密着性および剥離性を調整するためのプライマー層
を設けてもよい。このようなプライマー層は、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、（メタ）アクリレート系樹
脂、イソシアネート硬化樹脂、エポキシ樹脂、シリコー
ン樹脂（オイル）、フッ素樹脂、ポリエチレンワック
ス、カルナバワックス、アクリルメラミン樹脂等を用い
て形成することができ、厚みは０．１〜１０μｍ程度と
することができる。
【００２７】転写シート１を構成する感光性導電性ペー
スト層３は、少なくとも導電性粉体と感光性樹脂成分を
含み、電極を形成する基板との密着性を向上させる目的
等により必要に応じて無機粉体を含んだ感光性導電性ペ
ーストを転写支持体２上に塗布し乾燥して形成すること
ができる。塗布方法としては、ブレードコート法、ロー
ルコート法、ダイコート法、ビードコート法、グラビア
コート法、ディップコート法、コンマコート法等を挙げ
ることができる。
スト層３は、少なくとも導電性粉体と感光性樹脂成分を
含み、電極を形成する基板との密着性を向上させる目的
等により必要に応じて無機粉体を含んだ感光性導電性ペ
ーストを転写支持体２上に塗布し乾燥して形成すること
ができる。塗布方法としては、ブレードコート法、ロー
ルコート法、ダイコート法、ビードコート法、グラビア
コート法、ディップコート法、コンマコート法等を挙げ
ることができる。
【００２８】導電性粉体は、Ａｕ粉体、Ａｇ粉体、Ｃｕ
粉体、Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉体等の１種ま
たは２種以上を使用することができる。この導電性粉体
の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の
形状であってよいが、光透過性が良好で凝集がなく分散
性が良好な球状の導電性粉体が好ましく、その平均粒径
は０．０５〜１０μｍの範囲が好ましい。導電性粉体の
平均粒径が０．０５μｍ未満であると感光性導電性ペー
ストの構造粘性（チクソトロピー性）が大きくなり好ま
しくない。一方、導電性粉体の平均粒径が１０μｍを超
えると、後述する本発明の電極形成方法において感光性
導電性ペースト層３に照射された光の透過性が不十分と
なり、感光性黒色導電性ペースト層４の露光に支障を来
すことになる。このような導電性粉体は、感光性導電性
ペースト層３に４５〜９３重量％の範囲で含有させるこ
とができる。
粉体、Ｎｉ粉体、Ａｌ粉体、Ａｇ−Ｐｄ粉体等の１種ま
たは２種以上を使用することができる。この導電性粉体
の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の
形状であってよいが、光透過性が良好で凝集がなく分散
性が良好な球状の導電性粉体が好ましく、その平均粒径
は０．０５〜１０μｍの範囲が好ましい。導電性粉体の
平均粒径が０．０５μｍ未満であると感光性導電性ペー
ストの構造粘性（チクソトロピー性）が大きくなり好ま
しくない。一方、導電性粉体の平均粒径が１０μｍを超
えると、後述する本発明の電極形成方法において感光性
導電性ペースト層３に照射された光の透過性が不十分と
なり、感光性黒色導電性ペースト層４の露光に支障を来
すことになる。このような導電性粉体は、感光性導電性
ペースト層３に４５〜９３重量％の範囲で含有させるこ
とができる。
【００２９】感光性導電性ペースト層３に必要に応じて
含有される無機粉体としては、例えば、軟化温度が４０
０〜６５０℃であり、熱膨張係数α300 が６０×１０-7
〜１００×１０-7／℃であるガラスフリットを使用する
ことができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃を
超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、電極
形成対象の絶縁基板の耐熱性が低い場合には焼成段階で
絶縁基板に熱変形を生じることになり好ましくない。ま
た、ガラスフリットの軟化温度が４００℃未満では、感
光性導電性ペースト層３の樹脂成分が完全に分解、揮発
する前にガラスフリットが融着するため、空隙を生じや
すく好ましくない。さらに、ガラスフリットの熱膨張係
数α300 が６０×１０-7／℃未満、あるいは、１００×
１０-7／℃を超えると、電極形成対象のガラス基板の熱
膨張係数との差が大きくなりすぎ、歪み等を生じること
になり好ましくない。このようなガラスフリットの平均
粒径は０．１〜５μｍの範囲が好ましい。
含有される無機粉体としては、例えば、軟化温度が４０
０〜６５０℃であり、熱膨張係数α300 が６０×１０-7
〜１００×１０-7／℃であるガラスフリットを使用する
ことができる。ガラスフリットの軟化温度が６５０℃を
超えると焼成温度を高くする必要があり、例えば、電極
形成対象の絶縁基板の耐熱性が低い場合には焼成段階で
絶縁基板に熱変形を生じることになり好ましくない。ま
た、ガラスフリットの軟化温度が４００℃未満では、感
光性導電性ペースト層３の樹脂成分が完全に分解、揮発
する前にガラスフリットが融着するため、空隙を生じや
すく好ましくない。さらに、ガラスフリットの熱膨張係
数α300 が６０×１０-7／℃未満、あるいは、１００×
１０-7／℃を超えると、電極形成対象のガラス基板の熱
膨張係数との差が大きくなりすぎ、歪み等を生じること
になり好ましくない。このようなガラスフリットの平均
粒径は０．１〜５μｍの範囲が好ましい。
【００３０】また、感光性導電性ペースト層３を構成す
る感光性樹脂成分は、少なくともアルカリ現像型バイン
ダーポリマー、モノマーおよび開始剤を含有するもので
あり、焼成によって揮発、分解して、パターン中に炭化
物を残存させることのないものである。
る感光性樹脂成分は、少なくともアルカリ現像型バイン
ダーポリマー、モノマーおよび開始剤を含有するもので
あり、焼成によって揮発、分解して、パターン中に炭化
物を残存させることのないものである。
【００３１】アルカリ現像型バインダーポリマーとして
は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体
（例えば、東亜合成化学（株）製Ｍ−５６００）、イタ
コン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢
酸、これらの酸無水物の１種以上と、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プ
ロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イ
ソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、
ｎ−ブチルメタクリレート、sec-ブチルアクリレート、
sec-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、
イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレー
ト、tert−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリ
レート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルア
クリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチル
ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレ
ート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタク
リレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタク
リレート、スチレン、α−メチルスチレン、１−ビニル
−２−ピロリドンの１種以上とからなるコポリマー等が
挙げられる。
は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体
（例えば、東亜合成化学（株）製Ｍ−５６００）、イタ
コン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢
酸、これらの酸無水物の１種以上と、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プ
ロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イ
ソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、
ｎ−ブチルメタクリレート、sec-ブチルアクリレート、
sec-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、
イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレー
ト、tert−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリ
レート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルア
クリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチル
ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレ
ート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタク
リレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタク
リレート、スチレン、α−メチルスチレン、１−ビニル
−２−ピロリドンの１種以上とからなるコポリマー等が
挙げられる。
【００３２】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
【００３３】尚、上記のアルカリ現像型バインダーポリ
マーに非アルカリ現像型のポリマーを混合してもよい。
非アルカリ現像型のポリマーとしては、ポリビニルアル
コール、ポリビニルブチラール、アクリル酸エステル重
合体、メタクリル酸エステル重合体、ポリスチレン、α
−メチルスチレン重合体、１−ビニル−２−ピロリドン
重合体、および、これらの共重合体等を挙げることがで
きる。
マーに非アルカリ現像型のポリマーを混合してもよい。
非アルカリ現像型のポリマーとしては、ポリビニルアル
コール、ポリビニルブチラール、アクリル酸エステル重
合体、メタクリル酸エステル重合体、ポリスチレン、α
−メチルスチレン重合体、１−ビニル−２−ピロリドン
重合体、および、これらの共重合体等を挙げることがで
きる。
【００３４】感光性樹脂成分を構成する反応性モノマー
としては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽
和結合を有する化合物を用いることができる。具体的に
は、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコール
アクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロ
ペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、
イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリ
レート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フ
ェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピ
ルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレン
グリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオ
ールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，
３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレ
ート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およ
び、上記のアクリレートをメタクリレートに変えたも
の、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
１−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。本発明で
は、上記の反応性モノマーを１種または２種以上の混合
物として、あるいは、その他の化合物との混合物として
使用することができる。
としては、少なくとも１つの重合可能な炭素−炭素不飽
和結合を有する化合物を用いることができる。具体的に
は、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコール
アクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロ
ペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、
イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリ
レート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フ
ェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３
−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプ
ロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロー
ルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピ
ルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレン
グリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオ
ールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，
３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレ
ート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およ
び、上記のアクリレートをメタクリレートに変えたも
の、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
１−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。本発明で
は、上記の反応性モノマーを１種または２種以上の混合
物として、あるいは、その他の化合物との混合物として
使用することができる。
【００３５】感光性樹脂成分を構成する光重合開始剤と
しては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−
アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェ
ノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、
ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシ
アセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフ
ェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チ
オキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロ
チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジ
エチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベ
ンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラ
キノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベン
ズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロ
ン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−
ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘ
キサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−
（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−
プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキ
シム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−
（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−
３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイ
ル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンス
ルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、
４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジス
ルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニ
ルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリ
ブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシ
ン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が
挙げられる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種
または２種以上使用することができる。
しては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−
アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェ
ノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、
ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシ
アセトフォノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフ
ェノン、ｐ−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チ
オキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロ
チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジ
エチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベ
ンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、
２−tert−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラ
キノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベン
ズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロ
ン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−
ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘ
キサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−
（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−
プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキ
シム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−
（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−
３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイ
ル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プ
ロパン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンス
ルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、
４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジス
ルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニ
ルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリ
ブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシ
ン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組み合わせ等が
挙げられる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種
または２種以上使用することができる。
【００３６】上記の感光性樹脂成分の揮発、分解温度が
６００℃を超えると、感光性導電性ペースト層３の露光
・現像後に樹脂成分を除去する際の焼成温度が高くな
り、例えば、電極形成対象の基板の耐熱性が低い場合、
基板に熱変形が生じることになり好ましくない。一方、
感光性樹脂成分の揮発、分解温度の下限は特に制限はな
いが、揮発、分解温度が低くなるほど完全に揮発または
分解する樹脂の種類が少なくなり材料選択の幅が狭くな
るので、例えば、感光性樹脂成分の揮発、分解温度の下
限を２００℃程度に設定することが好ましい。
６００℃を超えると、感光性導電性ペースト層３の露光
・現像後に樹脂成分を除去する際の焼成温度が高くな
り、例えば、電極形成対象の基板の耐熱性が低い場合、
基板に熱変形が生じることになり好ましくない。一方、
感光性樹脂成分の揮発、分解温度の下限は特に制限はな
いが、揮発、分解温度が低くなるほど完全に揮発または
分解する樹脂の種類が少なくなり材料選択の幅が狭くな
るので、例えば、感光性樹脂成分の揮発、分解温度の下
限を２００℃程度に設定することが好ましい。
【００３７】このような感光性樹脂成分の感光性導電性
ペースト層３における含有量は、５〜４０重量％が好ま
しい。
ペースト層３における含有量は、５〜４０重量％が好ま
しい。
【００３８】更に、感光性導電性ペースト層３は、添加
剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリン
グ剤、分散剤、可塑剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じ
て含有することができる。
剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリン
グ剤、分散剤、可塑剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じ
て含有することができる。
【００３９】また、感光性導電性ペーストに用いる溶剤
としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
パネール、ｉ−プロパノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ
−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエ
ン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテー
ト、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセ
テート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステ
ル類等が挙げられる。
としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
パネール、ｉ−プロパノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ
−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエ
ン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテー
ト、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセ
テート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステ
ル類等が挙げられる。
【００４０】上述のような感光性導電性ペーストからな
る感光性導電性ペースト層３の厚みは、２〜３０μｍ程
度とすることができる。
る感光性導電性ペースト層３の厚みは、２〜３０μｍ程
度とすることができる。
【００４１】転写シート１を構成する感光性黒色導電性
ペースト層４は、上述の感光性導電性ペーストに黒色顔
料を含有させた感光性黒色導電性ペーストを感光性導電
性ペースト層３に塗布し乾燥して形成することができ
る。塗布方法としては、ブレードコート法、ロールコー
ト法、ダイコート法、ビードコート法、グラビアコート
法、ディップコート法、コンマコート法等を挙げること
ができる。
ペースト層４は、上述の感光性導電性ペーストに黒色顔
料を含有させた感光性黒色導電性ペーストを感光性導電
性ペースト層３に塗布し乾燥して形成することができ
る。塗布方法としては、ブレードコート法、ロールコー
ト法、ダイコート法、ビードコート法、グラビアコート
法、ディップコート法、コンマコート法等を挙げること
ができる。
【００４２】感光性黒色導電性ペーストに使用する黒色
顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック等の
導電性黒色顔料、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆ
ｅ，Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ
−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等
を挙げることができる。このような黒色顔料は、平均粒
径が０．０１〜５μｍ程度であり、感光性導電性ペース
トに含有される導電性粉体１００重量部に対して０．１
〜５０重量部の範囲で含有させることができる。上記の
黒色顔料の平均粒径が０．０１μｍ未満であると、この
ような微細粒子の製造が困難であるとともに、感光性黒
色導電性ペーストのチクソトロピー性が大きくなりす
ぎ、一方、平均粒径が５μｍを超えると色ムラを生じ易
くなり好ましくない。また、黒色顔料の含有量が０．１
重量部未満であると着色が不足し、５０重量部を超える
と抵抗が高くなるとともに、光透過性が大幅に低下して
感光性黒色導電性ペースト層４の露光箇所に硬化不良が
生じることになり好ましくない。
顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック等の
導電性黒色顔料、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆ
ｅ，Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ
−Ｃｒ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等
を挙げることができる。このような黒色顔料は、平均粒
径が０．０１〜５μｍ程度であり、感光性導電性ペース
トに含有される導電性粉体１００重量部に対して０．１
〜５０重量部の範囲で含有させることができる。上記の
黒色顔料の平均粒径が０．０１μｍ未満であると、この
ような微細粒子の製造が困難であるとともに、感光性黒
色導電性ペーストのチクソトロピー性が大きくなりす
ぎ、一方、平均粒径が５μｍを超えると色ムラを生じ易
くなり好ましくない。また、黒色顔料の含有量が０．１
重量部未満であると着色が不足し、５０重量部を超える
と抵抗が高くなるとともに、光透過性が大幅に低下して
感光性黒色導電性ペースト層４の露光箇所に硬化不良が
生じることになり好ましくない。
【００４３】上述のような感光性黒色導電性ペーストか
らなる感光性黒色導電性ペースト層４の厚みは、１〜１
５μｍ程度とすることができる。第２の発明の転写シート 第２の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートは、上述の第１の発明の転写シート１にお
いて、転写支持体２をポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポ
リサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセチルセ
ルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等の光透
過性を有する樹脂フィルムで構成したものである。この
ように転写支持体２に光透過性を付与させることによっ
て、転写支持体２側から感光性導電性ペースト層３およ
び感光性黒色導電性ペースト層４を露光することが可能
となる。第３の発明の転写シート 図２は第３の発明のプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図であ
る。図２において、転写シート１１は、転写支持体１２
の上に感光性黒色導電性ペースト層１４を剥離可能に備
えた構造である。
らなる感光性黒色導電性ペースト層４の厚みは、１〜１
５μｍ程度とすることができる。第２の発明の転写シート 第２の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートは、上述の第１の発明の転写シート１にお
いて、転写支持体２をポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポ
リサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセチルセ
ルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等の光透
過性を有する樹脂フィルムで構成したものである。この
ように転写支持体２に光透過性を付与させることによっ
て、転写支持体２側から感光性導電性ペースト層３およ
び感光性黒色導電性ペースト層４を露光することが可能
となる。第３の発明の転写シート 図２は第３の発明のプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図であ
る。図２において、転写シート１１は、転写支持体１２
の上に感光性黒色導電性ペースト層１４を剥離可能に備
えた構造である。
【００４４】この転写シート１１を構成する転写支持体
１２は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する転
写支持体２と同様とすることができる。また、転写支持
体１２の感光性黒色導電性ペースト層１４を形成する面
には、転写支持体１２と感光性黒色導電性ペースト層１
４との密着性および剥離性を調整するためのプライマー
層を設けてもよい。
１２は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する転
写支持体２と同様とすることができる。また、転写支持
体１２の感光性黒色導電性ペースト層１４を形成する面
には、転写支持体１２と感光性黒色導電性ペースト層１
４との密着性および剥離性を調整するためのプライマー
層を設けてもよい。
【００４５】転写シート１１を構成する感光性黒色導電
性ペースト層１４は、上述の第１の発明の転写シート１
を構成する感光性黒色導電性ペースト層４と同様に、感
光性導電性ペーストに黒色顔料を含有させた感光性黒色
導電性ペーストを転写支持体１２に塗布し乾燥して形成
したものであってよい。第４の発明の転写シート 第４の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートは、上述の第３の発明の転写シート１１に
おいて、転写支持体１２をポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセ
チルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等
の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものであ
る。このように転写支持体１２に光透過性を付与させる
ことによって、転写支持体１２側から感光性黒色導電性
ペースト層１４を露光することが可能となる。第５の発明の転写シート 図３は第５の発明のプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図であ
る。図３において、転写シート２１は、転写支持体２２
の上に感光性導電性ペースト層２３を剥離可能に備えた
構造である。
性ペースト層１４は、上述の第１の発明の転写シート１
を構成する感光性黒色導電性ペースト層４と同様に、感
光性導電性ペーストに黒色顔料を含有させた感光性黒色
導電性ペーストを転写支持体１２に塗布し乾燥して形成
したものであってよい。第４の発明の転写シート 第４の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートは、上述の第３の発明の転写シート１１に
おいて、転写支持体１２をポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセ
チルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等
の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものであ
る。このように転写支持体１２に光透過性を付与させる
ことによって、転写支持体１２側から感光性黒色導電性
ペースト層１４を露光することが可能となる。第５の発明の転写シート 図３は第５の発明のプラズマディスプレイパネルの電極
形成用の転写シートの一実施形態を示す概略断面図であ
る。図３において、転写シート２１は、転写支持体２２
の上に感光性導電性ペースト層２３を剥離可能に備えた
構造である。
【００４６】この転写シート２１を構成する転写支持体
２２は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する転
写支持体２と同様とすることができる。また、転写支持
体２２の感光性導電性ペースト層２３を形成する面に
は、転写支持体２２と感光性導電性ペースト層２３との
密着性および剥離性を調整するためのプライマー層を設
けてもよい。
２２は、上述の第１の発明の転写シート１を構成する転
写支持体２と同様とすることができる。また、転写支持
体２２の感光性導電性ペースト層２３を形成する面に
は、転写支持体２２と感光性導電性ペースト層２３との
密着性および剥離性を調整するためのプライマー層を設
けてもよい。
【００４７】転写シート２１を構成する感光性導電性ペ
ースト層２３は、上述の第１の発明の転写シート１を構
成する感光性導電性ペースト層３と同様に、感光性導電
性ペーストを転写支持体２２に塗布し乾燥して形成した
ものであってよい。第６の発明の転写シート 第６の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートは、上述の第５の発明の転写シート２１に
おいて、転写支持体２２をポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセ
チルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等
の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものであ
る。このように転写支持体２２に光透過性を付与させる
ことによって、転写支持体２２側から感光性導電性ペー
スト層２３を露光することが可能となる。
ースト層２３は、上述の第１の発明の転写シート１を構
成する感光性導電性ペースト層３と同様に、感光性導電
性ペーストを転写支持体２２に塗布し乾燥して形成した
ものであってよい。第６の発明の転写シート 第６の発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シートは、上述の第５の発明の転写シート２１に
おいて、転写支持体２２をポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルフ
ァイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリサルホン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リビニルアルコール、ポリイミド、セロハン、トリアセ
チルセルロース等のセルロース誘導体、アイオノマー等
の光透過性を有する樹脂フィルムで構成したものであ
る。このように転写支持体２２に光透過性を付与させる
ことによって、転写支持体２２側から感光性導電性ペー
スト層２３を露光することが可能となる。
【００４８】次に、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの電極形成方法について説明する。電極形成方法の第１の発明 図４はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
１の発明の一実施形態を示す工程図である。図４におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第１あるいは第２の発明の電極形成用
の転写シート１を用いて感光性導電性ペースト層３と感
光性黒色導電性ペースト層４とを転写する（図４
（Ａ））。このような感光性導電性ペースト層３と感光
性黒色導電性ペースト層４の転写形成は、転写シート１
を圧着あるいは加熱圧着した後、転写支持体２を剥離す
ることにより行うことができる。また、透明電極５２
は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ
2 ）等の公知の透明導電性材料により形成することがで
きる。
ルの電極形成方法について説明する。電極形成方法の第１の発明 図４はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
１の発明の一実施形態を示す工程図である。図４におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第１あるいは第２の発明の電極形成用
の転写シート１を用いて感光性導電性ペースト層３と感
光性黒色導電性ペースト層４とを転写する（図４
（Ａ））。このような感光性導電性ペースト層３と感光
性黒色導電性ペースト層４の転写形成は、転写シート１
を圧着あるいは加熱圧着した後、転写支持体２を剥離す
ることにより行うことができる。また、透明電極５２
は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ
2 ）等の公知の透明導電性材料により形成することがで
きる。
【００４９】次に、所定のパターンを有するマスクＭを
介して感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電
性ペースト層４を露光する（図４（Ｂ））。この露光で
は、マスクＭを通過し感光性導電性ペースト層３に照射
された光は、この感光性導電性ペースト層３を露光する
とともに、感光性導電性ペースト層３を透過して感光性
黒色導電性ペースト層４を露光する。このような露光
は、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中高圧
水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀
ショートアークランプ、メタルハライドランプ、Ｘ線、
電子ビーム等の光源を使用して行うことができる。尚、
上記の露光においては、感光性導電性ペースト層３がマ
スクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭを
感光性導電性ペースト層３に密着させて露光を行うこと
ができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感光性
導電性ペースト層３との間に間隙を設けることが好まし
い。
介して感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電
性ペースト層４を露光する（図４（Ｂ））。この露光で
は、マスクＭを通過し感光性導電性ペースト層３に照射
された光は、この感光性導電性ペースト層３を露光する
とともに、感光性導電性ペースト層３を透過して感光性
黒色導電性ペースト層４を露光する。このような露光
は、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中高圧
水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀
ショートアークランプ、メタルハライドランプ、Ｘ線、
電子ビーム等の光源を使用して行うことができる。尚、
上記の露光においては、感光性導電性ペースト層３がマ
スクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭを
感光性導電性ペースト層３に密着させて露光を行うこと
ができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感光性
導電性ペースト層３との間に間隙を設けることが好まし
い。
【００５０】次いで、感光性導電性ペースト層３および
感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像した後、
焼成して、感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電
性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去することによ
って、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からな
る電極５５を透明電極５２上に形成する（図４
（Ｃ））。電極形成方法の第２の発明 図５はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
２の発明の一実施形態を示す工程図である。図５におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第２の発明の電極形成用の転写シート
１の感光性黒色導電性ペースト層４側を圧着し、所定の
パターンを有するマスクＭを介して転写支持体２上から
感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペー
スト層４を露光する（図５（Ａ））。この露光では、マ
スクＭを通過した光は、光透過性を有する転写支持体２
を透過して感光性導電性ペースト層３を露光するととも
に、感光性導電性ペースト層３を透過して感光性黒色導
電性ペースト層４を露光する。このように転写支持体２
上から露光を行うため、感光性導電性ペースト層３の粘
着性に関係なく露光を行うことができる。尚、使用でき
る光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様であ
る。
感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像した後、
焼成して、感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電
性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去することによ
って、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からな
る電極５５を透明電極５２上に形成する（図４
（Ｃ））。電極形成方法の第２の発明 図５はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
２の発明の一実施形態を示す工程図である。図５におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第２の発明の電極形成用の転写シート
１の感光性黒色導電性ペースト層４側を圧着し、所定の
パターンを有するマスクＭを介して転写支持体２上から
感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペー
スト層４を露光する（図５（Ａ））。この露光では、マ
スクＭを通過した光は、光透過性を有する転写支持体２
を透過して感光性導電性ペースト層３を露光するととも
に、感光性導電性ペースト層３を透過して感光性黒色導
電性ペースト層４を露光する。このように転写支持体２
上から露光を行うため、感光性導電性ペースト層３の粘
着性に関係なく露光を行うことができる。尚、使用でき
る光源は上述の第１の発明の電極形成方法と同様であ
る。
【００５１】次いで、転写支持体２を剥離して感光性導
電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４
を転写し、この感光性導電性ペースト層３と感光性黒色
導電性ペースト層４を一括して現像する。その後、焼成
して感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペー
スト層４を構成する樹脂成分を除去することによって、
黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極
５５を透明電極５２上に形成する（図５（Ｂ））。電極形成方法の第３の発明 図６はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
３の発明の一実施形態を示す工程図である。図６におい
て、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上
述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート
１の感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性
ペースト層４を露光する（図６（Ａ））。この露光で
は、マスクＭを通過した光は、感光性黒色導電性ペース
ト層４を露光するとともに、感光性黒色導電性ペースト
層４を透過して感光性導電性ペースト層３を露光する。
このような露光を行うための光源としては、高圧水銀ラ
ンプ、低圧水銀ランプ、中高圧水銀ランプ、超高圧水銀
ランプ、キセノンランプ、水銀ショートアークランプ、
メタルハライドランプ、Ｘ線、電子線等を使用すること
が好ましい。また、上記の露光においては、感光性黒色
導電性ペースト層４がマスクＭに対して粘着性をもたな
い場合には、マスクＭを感光性黒色導電性ペースト層４
に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ
場合には、マスクＭと感光性黒色導電性ペースト層４と
の間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体２
が光透過性を有する第２の発明の転写シート１を使用す
る場合、転写支持体２側からマスクＭを介して露光を行
ってもよい。この場合、使用できる光源は上述の第１の
発明の電極形成方法と同様である。
電性ペースト層３および感光性黒色導電性ペースト層４
を転写し、この感光性導電性ペースト層３と感光性黒色
導電性ペースト層４を一括して現像する。その後、焼成
して感光性導電性ペースト層３と感光性黒色導電性ペー
スト層４を構成する樹脂成分を除去することによって、
黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極
５５を透明電極５２上に形成する（図５（Ｂ））。電極形成方法の第３の発明 図６はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
３の発明の一実施形態を示す工程図である。図６におい
て、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上
述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート
１の感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性
ペースト層４を露光する（図６（Ａ））。この露光で
は、マスクＭを通過した光は、感光性黒色導電性ペース
ト層４を露光するとともに、感光性黒色導電性ペースト
層４を透過して感光性導電性ペースト層３を露光する。
このような露光を行うための光源としては、高圧水銀ラ
ンプ、低圧水銀ランプ、中高圧水銀ランプ、超高圧水銀
ランプ、キセノンランプ、水銀ショートアークランプ、
メタルハライドランプ、Ｘ線、電子線等を使用すること
が好ましい。また、上記の露光においては、感光性黒色
導電性ペースト層４がマスクＭに対して粘着性をもたな
い場合には、マスクＭを感光性黒色導電性ペースト層４
に密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ
場合には、マスクＭと感光性黒色導電性ペースト層４と
の間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体２
が光透過性を有する第２の発明の転写シート１を使用す
る場合、転写支持体２側からマスクＭを介して露光を行
ってもよい。この場合、使用できる光源は上述の第１の
発明の電極形成方法と同様である。
【００５２】次に、絶縁基板５１上に形成した透明電極
５２を覆うように、露光の完了した感光性導電性ペース
ト層３と感光性黒色導電性ペースト層４とを転写する
（図６（Ｂ））。その後、感光性導電性ペースト層３お
よび感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像し、
次いで焼成して、感光性導電性ペースト層３と感光性黒
色導電性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去するこ
とによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造
からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図６
（Ｃ））。電極形成方法の第４の発明 図７はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
４の発明の一実施形態を示す工程図である。図７におい
て、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上
述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート
１の感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性
ペースト層４を露光する（図７（Ａ））。この露光は、
上述の第３の発明と同様とすることができる。
５２を覆うように、露光の完了した感光性導電性ペース
ト層３と感光性黒色導電性ペースト層４とを転写する
（図６（Ｂ））。その後、感光性導電性ペースト層３お
よび感光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像し、
次いで焼成して、感光性導電性ペースト層３と感光性黒
色導電性ペースト層４を構成する樹脂成分を除去するこ
とによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構造
からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図６
（Ｃ））。電極形成方法の第４の発明 図７はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
４の発明の一実施形態を示す工程図である。図７におい
て、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介して上
述の第１あるいは第２の発明の電極形成用の転写シート
１の感光性導電性ペースト層３および感光性黒色導電性
ペースト層４を露光する（図７（Ａ））。この露光は、
上述の第３の発明と同様とすることができる。
【００５３】次に、感光性導電性ペースト層３および感
光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像し、転写支
持体２上に主導電層のパターン３´と黒色導電層のパタ
ーン４´を形成する（図７（Ｂ））。
光性黒色導電性ペースト層４を一括して現像し、転写支
持体２上に主導電層のパターン３´と黒色導電層のパタ
ーン４´を形成する（図７（Ｂ））。
【００５４】次に、絶縁基板５１上に形成した透明電極
５２の所定位置に主導電層のパターン３´と黒色導電層
のパターン４´を転写し、その後、焼成して、主導電層
のパターン３´と黒色導電層のパターン４´を構成する
樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主
導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２
上に形成する（図７（Ｃ））。電極形成方法の第５の発明 図８はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
５の発明の一実施形態を示す工程図である。図８におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用
の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層
１４を転写する（図８（Ａ））。次に、この感光性黒色
導電性ペースト層１４上に、上述の第５あるいは第６の
発明の電極形成用の転写シート２１を用いて感光性導電
性ペースト層２３を転写する（図８（Ｂ））。
５２の所定位置に主導電層のパターン３´と黒色導電層
のパターン４´を転写し、その後、焼成して、主導電層
のパターン３´と黒色導電層のパターン４´を構成する
樹脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主
導電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２
上に形成する（図７（Ｃ））。電極形成方法の第５の発明 図８はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
５の発明の一実施形態を示す工程図である。図８におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用
の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層
１４を転写する（図８（Ａ））。次に、この感光性黒色
導電性ペースト層１４上に、上述の第５あるいは第６の
発明の電極形成用の転写シート２１を用いて感光性導電
性ペースト層２３を転写する（図８（Ｂ））。
【００５５】次に、所定のパターンを有するマスクＭを
介して感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導
電性ペースト層１４を露光する（図８（Ｃ））。この露
光では、マスクＭを通過し感光性導電性ペースト層２３
に照射された光は、この感光性導電性ペースト層２３を
露光するとともに、感光性導電性ペースト層２３を透過
して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。尚、
上記の露光においては、感光性導電性ペースト層２３が
マスクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ
を感光性導電性ペースト層２３に密着させて露光を行う
ことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感
光性導電性ペースト層２３との間に間隙を設けることが
好ましい。また、使用できる光源は上述の第１の発明の
電極形成方法と同様である。
介して感光性導電性ペースト層２３および感光性黒色導
電性ペースト層１４を露光する（図８（Ｃ））。この露
光では、マスクＭを通過し感光性導電性ペースト層２３
に照射された光は、この感光性導電性ペースト層２３を
露光するとともに、感光性導電性ペースト層２３を透過
して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。尚、
上記の露光においては、感光性導電性ペースト層２３が
マスクＭに対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ
を感光性導電性ペースト層２３に密着させて露光を行う
ことができるが、粘着性をもつ場合には、マスクＭと感
光性導電性ペースト層２３との間に間隙を設けることが
好ましい。また、使用できる光源は上述の第１の発明の
電極形成方法と同様である。
【００５６】次いで、感光性導電性ペースト層２３およ
び感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像した
後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒
色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去する
ことによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構
造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図８
（Ｄ））。電極形成方法の第６の発明 図９はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
６の発明の一実施形態を示す工程図である。図９におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用
の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層
１４を転写する（図９（Ａ））。次に、この感光性黒色
導電性ペースト層１４上に、上述の第６の発明の電極形
成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３側
を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転
写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３および
感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図９
（Ｂ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、光
透過性を有する転写支持体２２を透過して感光性導電性
ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペー
スト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４
を露光する。このように転写支持体２２上から露光を行
うため、感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関係な
く露光を行うことができる。尚、使用できる光源は上述
の第１の発明の電極形成方法と同様である。
び感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像した
後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と感光性黒
色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を除去する
ことによって、黒色導電層５４と主導電層５３の２層構
造からなる電極５５を透明電極５２上に形成する（図８
（Ｄ））。電極形成方法の第６の発明 図９はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の第
６の発明の一実施形態を示す工程図である。図９におい
て、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２を覆
うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用
の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペースト層
１４を転写する（図９（Ａ））。次に、この感光性黒色
導電性ペースト層１４上に、上述の第６の発明の電極形
成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３側
を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転
写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３および
感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図９
（Ｂ））。この露光では、マスクＭを通過した光は、光
透過性を有する転写支持体２２を透過して感光性導電性
ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペー
スト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４
を露光する。このように転写支持体２２上から露光を行
うため、感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関係な
く露光を行うことができる。尚、使用できる光源は上述
の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５７】次いで、転写支持体２２を剥離して感光性
導電性ペースト層２３を転写し、感光性導電性ペースト
層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括し
て現像する。その後、焼成して、感光性導電性ペースト
層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹
脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導
電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上
に形成する（図９（Ｄ））。電極形成方法の第７の発明 図１０はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第７の発明の一実施形態を示す工程図である。図１０に
おいて、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２
を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形
成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペース
ト層１４を転写し、所定のパターンを有するマスクＭを
介して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図
１０（Ａ））。
導電性ペースト層２３を転写し、感光性導電性ペースト
層２３および感光性黒色導電性ペースト層１４を一括し
て現像する。その後、焼成して、感光性導電性ペースト
層２３と感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹
脂成分を除去することによって、黒色導電層５４と主導
電層５３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上
に形成する（図９（Ｄ））。電極形成方法の第７の発明 図１０はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第７の発明の一実施形態を示す工程図である。図１０に
おいて、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２
を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形
成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペース
ト層１４を転写し、所定のパターンを有するマスクＭを
介して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図
１０（Ａ））。
【００５８】次に、この感光性黒色導電性ペースト層１
４上に、上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の
転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を転写
し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して感光性
導電性ペースト層２３を露光する（図１０（Ｂ））。こ
の露光では、マスクＭ´を通過した光は、感光性導電性
ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペー
スト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４
にも照射されるが、図示のようにマスクＭ´はマスクＭ
の開口部に重なるような開口部を有しているので、感光
性黒色導電性ペースト層１４に対して不必要な露光が行
われることはない。このような露光では、感光性黒色導
電性ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもた
ず、また、感光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に
対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ、Ｍ´を感
光性黒色導電性ペースト層１４、感光性導電性ペースト
層２３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性
をもつ場合には、マスクと各ペースト層との間に間隙を
設けることが好ましい。尚、使用できる光源は上述の第
１の発明の電極形成方法と同様である。
４上に、上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の
転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を転写
し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介して感光性
導電性ペースト層２３を露光する（図１０（Ｂ））。こ
の露光では、マスクＭ´を通過した光は、感光性導電性
ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペー
スト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４
にも照射されるが、図示のようにマスクＭ´はマスクＭ
の開口部に重なるような開口部を有しているので、感光
性黒色導電性ペースト層１４に対して不必要な露光が行
われることはない。このような露光では、感光性黒色導
電性ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもた
ず、また、感光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に
対して粘着性をもたない場合には、マスクＭ、Ｍ´を感
光性黒色導電性ペースト層１４、感光性導電性ペースト
層２３に密着させて露光を行うことができるが、粘着性
をもつ場合には、マスクと各ペースト層との間に間隙を
設けることが好ましい。尚、使用できる光源は上述の第
１の発明の電極形成方法と同様である。
【００５９】次いで、感光性導電性ペースト層２３およ
び感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像す
る。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と
感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１０（Ｃ））。電極形成方法の第８の発明 図１１はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第８の発明の一実施形態を示す工程図である。図１１に
おいて、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２
を覆うように、上述の第４の発明の電極形成用の転写シ
ート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４側を圧着
し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持
体１２上から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１１（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過し
た光は、光透過性を有する転写支持体１２を透過して感
光性黒色導電性ペースト層４を露光する。
び感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像す
る。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と
感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１０（Ｃ））。電極形成方法の第８の発明 図１１はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第８の発明の一実施形態を示す工程図である。図１１に
おいて、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２
を覆うように、上述の第４の発明の電極形成用の転写シ
ート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４側を圧着
し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持
体１２上から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１１（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過し
た光は、光透過性を有する転写支持体１２を透過して感
光性黒色導電性ペースト層４を露光する。
【００６０】次に、転写支持体１２を剥離し、感光性黒
色導電性ペースト層１４上に、上述の第６の発明の電極
形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３
側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介し
て転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３を
露光する（図１１（Ｂ））。この露光では、マスクＭ´
を通過し転写支持体２２を透過した光は、感光性導電性
ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペー
スト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４
にも照射されるが、図示のようにマスクＭ´はマスクＭ
の開口部に重なるような開口部を有しているので、感光
性黒色導電性ペースト層１４に対して不必要な露光が行
われることはない。
色導電性ペースト層１４上に、上述の第６の発明の電極
形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３
側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介し
て転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３を
露光する（図１１（Ｂ））。この露光では、マスクＭ´
を通過し転写支持体２２を透過した光は、感光性導電性
ペースト層２３を露光するとともに、感光性導電性ペー
スト層２３を透過して感光性黒色導電性ペースト層１４
にも照射されるが、図示のようにマスクＭ´はマスクＭ
の開口部に重なるような開口部を有しているので、感光
性黒色導電性ペースト層１４に対して不必要な露光が行
われることはない。
【００６１】このように転写支持体１２あるいは転写支
持体２２上から露光を行うため、感光性黒色導電性ペー
スト層１４や感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関
係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は
上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
持体２２上から露光を行うため、感光性黒色導電性ペー
スト層１４や感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関
係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は
上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００６２】次いで、転写支持体２２を剥離し、感光性
導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト
層１４を一括して現像する。その後、焼成して、感光性
導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１
４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導
電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を
透明電極５２上に形成する（図１１（Ｃ））。電極形成方法の第９の発明 図１２はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第９の発明の一実施形態を示す工程図である。図１２に
おいて、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２
を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形
成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペース
ト層１４を転写し、所定のパターンを有するマスクＭを
介して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図
１２（Ａ））。
導電性ペースト層２３および感光性黒色導電性ペースト
層１４を一括して現像する。その後、焼成して、感光性
導電性ペースト層２３と感光性黒色導電性ペースト層１
４を構成する樹脂成分を除去することによって、黒色導
電層５４と主導電層５３の２層構造からなる電極５５を
透明電極５２上に形成する（図１１（Ｃ））。電極形成方法の第９の発明 図１２はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第９の発明の一実施形態を示す工程図である。図１２に
おいて、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５２
を覆うように、上述の第３あるいは第４の発明の電極形
成用の転写シート１１を用いて感光性黒色導電性ペース
ト層１４を転写し、所定のパターンを有するマスクＭを
介して感光性黒色導電性ペースト層１４を露光する（図
１２（Ａ））。
【００６３】次に、感光性黒色導電性ペースト層１４を
現像し、透明電極５２上に黒色導電層のパターン１４´
を形成する（図１２（Ｂ））。その後、透明電極５２お
よび黒色導電層のパターン１４´を覆うように、上述の
第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１
の感光性導電性ペースト層２３を転写し、所定のパター
ンを有するマスクＭ´を介して感光性導電性ペースト層
２３を露光する（図１２（Ｃ））。このマスクＭ´は、
図示のようにマスクＭの開口部に重なるような開口部を
有している。
現像し、透明電極５２上に黒色導電層のパターン１４´
を形成する（図１２（Ｂ））。その後、透明電極５２お
よび黒色導電層のパターン１４´を覆うように、上述の
第５あるいは第６の発明の電極形成用の転写シート２１
の感光性導電性ペースト層２３を転写し、所定のパター
ンを有するマスクＭ´を介して感光性導電性ペースト層
２３を露光する（図１２（Ｃ））。このマスクＭ´は、
図示のようにマスクＭの開口部に重なるような開口部を
有している。
【００６４】次に、感光性導電性ペースト層２３を現像
し、黒色導電層のパターン１４´上に主導電層のパター
ン２３´を形成する（図１２（Ｄ））。
し、黒色導電層のパターン１４´上に主導電層のパター
ン２３´を形成する（図１２（Ｄ））。
【００６５】上記の露光では、感光性黒色導電性ペース
ト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたず、また、感
光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に対して粘着性
をもたない場合には、マスクＭ、Ｍ´を感光性黒色導電
性ペースト層１４、感光性導電性ペースト層２３に密着
させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合に
は、マスクと各ペースト層との間に間隙を設けることが
好ましい。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電
極形成方法と同様である。
ト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたず、また、感
光性導電性ペースト層２３がマスクＭ´に対して粘着性
をもたない場合には、マスクＭ、Ｍ´を感光性黒色導電
性ペースト層１４、感光性導電性ペースト層２３に密着
させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合に
は、マスクと各ペースト層との間に間隙を設けることが
好ましい。尚、使用できる光源は上述の第１の発明の電
極形成方法と同様である。
【００６６】次に、焼成して、主導電層のパターン２３
´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１２（Ｅ））。電極形成方法の第１０の発明 図１３はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１０の発明の一実施形態を示す工程図である。図１３
において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５
２を覆うように、上述の第４の発明の電極形成用の転写
シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４側を圧着
し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持
体１２上から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１３（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過し
た光は、光透過性を有する転写支持体１２を透過して感
光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。
´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１２（Ｅ））。電極形成方法の第１０の発明 図１３はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１０の発明の一実施形態を示す工程図である。図１３
において、まず、絶縁基板５１上に形成した透明電極５
２を覆うように、上述の第４の発明の電極形成用の転写
シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４側を圧着
し、所定のパターンを有するマスクＭを介して転写支持
体１２上から感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１３（Ａ））。この露光では、マスクＭを通過し
た光は、光透過性を有する転写支持体１２を透過して感
光性黒色導電性ペースト層１４を露光する。
【００６７】次に、転写支持体１２を剥離した後、感光
性黒色導電性ペースト層１４を現像し、透明電極５２上
に黒色導電層のパターン１４´を形成する（図１３
（Ｂ））。
性黒色導電性ペースト層１４を現像し、透明電極５２上
に黒色導電層のパターン１４´を形成する（図１３
（Ｂ））。
【００６８】次いで、透明電極５２および黒色導電層の
パターン１４´を覆うように、上述の第６の発明の電極
形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３
側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介し
て転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３を
露光する（図１３（Ｃ））。このマスクＭ´は、図示の
ようにマスクＭの開口部に重なるような開口部を有して
いる。
パターン１４´を覆うように、上述の第６の発明の電極
形成用の転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３
側を圧着し、所定のパターンを有するマスクＭ´を介し
て転写支持体２２上から感光性導電性ペースト層２３を
露光する（図１３（Ｃ））。このマスクＭ´は、図示の
ようにマスクＭの開口部に重なるような開口部を有して
いる。
【００６９】このように転写支持体１２あるいは転写支
持体２２上から露光を行うため、感光性黒色導電性ペー
スト層１４や感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関
係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は
上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
持体２２上から露光を行うため、感光性黒色導電性ペー
スト層１４や感光性導電性ペースト層２３の粘着性に関
係なく露光を行うことができる。尚、使用できる光源は
上述の第１の発明の電極形成方法と同様である。
【００７０】次いで、転写支持体２２を剥離し、感光性
導電性ペースト層２３を現像し、黒色導電層のパターン
１４´上に主導電層のパターン２３´を形成する（図１
３（Ｄ））。
導電性ペースト層２３を現像し、黒色導電層のパターン
１４´上に主導電層のパターン２３´を形成する（図１
３（Ｄ））。
【００７１】次に、焼成して、主導電層のパターン２３
´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１３（Ｅ））。電極形成方法の第１１の発明 図１４はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１１の発明の一実施形態を示す工程図である。図１４
において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介
して上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写
シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１４（Ａ））。この露光では、感光性黒色導電性
ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたない場
合には、マスクＭを感光性黒色導電性ペースト層１４に
密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場
合には、マスクＭと感光性黒色導電性ペースト層１４と
の間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体１
２が光透過性を有する第４の発明の転写シート１１を使
用する場合、転写支持体１２側からマスクＭを介して露
光を行ってもよい。また、使用できる光源は上述の第１
の発明の電極形成方法と同様である。
´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１３（Ｅ））。電極形成方法の第１１の発明 図１４はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１１の発明の一実施形態を示す工程図である。図１４
において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介
して上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写
シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１４（Ａ））。この露光では、感光性黒色導電性
ペースト層１４がマスクＭに対して粘着性をもたない場
合には、マスクＭを感光性黒色導電性ペースト層１４に
密着させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場
合には、マスクＭと感光性黒色導電性ペースト層１４と
の間に間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体１
２が光透過性を有する第４の発明の転写シート１１を使
用する場合、転写支持体１２側からマスクＭを介して露
光を行ってもよい。また、使用できる光源は上述の第１
の発明の電極形成方法と同様である。
【００７２】次に、絶縁基板５１上に形成した透明電極
５２を覆うように、露光の完了した感光性黒色導電性ペ
ースト層１４を転写する（図１４（Ｂ））。
５２を覆うように、露光の完了した感光性黒色導電性ペ
ースト層１４を転写する（図１４（Ｂ））。
【００７３】一方、所定のパターンを有するマスクＭ´
を介して上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の
転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を露光す
る（図１４（Ｃ））。この露光では、感光性導電性ペー
スト層２３がマスクＭ´に対して粘着性をもたない場合
には、マスクＭ´を感光性導電性ペースト層２３に密着
させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合に
は、マスクＭ´と感光性導電性ペースト層２３との間に
間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体２２が光
透過性を有する第６の発明の転写シート２１を使用する
場合、転写支持体２２側からマスクＭ´を介して露光を
行ってもよい。また、使用できる光源は上述の第１の発
明の電極形成方法と同様である。
を介して上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の
転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を露光す
る（図１４（Ｃ））。この露光では、感光性導電性ペー
スト層２３がマスクＭ´に対して粘着性をもたない場合
には、マスクＭ´を感光性導電性ペースト層２３に密着
させて露光を行うことができるが、粘着性をもつ場合に
は、マスクＭ´と感光性導電性ペースト層２３との間に
間隙を設けることが好ましい。尚、転写支持体２２が光
透過性を有する第６の発明の転写シート２１を使用する
場合、転写支持体２２側からマスクＭ´を介して露光を
行ってもよい。また、使用できる光源は上述の第１の発
明の電極形成方法と同様である。
【００７４】次に、感光性黒色導電性ペースト層１４上
に、露光の完了した感光性導電性ペースト層２３を転写
する（図１４（Ｄ））。
に、露光の完了した感光性導電性ペースト層２３を転写
する（図１４（Ｄ））。
【００７５】次いで、感光性導電性ペースト層２３およ
び感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像す
る。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と
感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１４（Ｅ））。電極形成方法の第１２の発明 図１５はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１２の発明の一実施形態を示す工程図である。図１５
において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介
して上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写
シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１５（Ａ））。この露光は、上述の第１１の発明
の電極形成方法と同様に行うことができる。
び感光性黒色導電性ペースト層１４を一括して現像す
る。その後、焼成して、感光性導電性ペースト層２３と
感光性黒色導電性ペースト層１４を構成する樹脂成分を
除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５３
の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成す
る（図１４（Ｅ））。電極形成方法の第１２の発明 図１５はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１２の発明の一実施形態を示す工程図である。図１５
において、まず、所定のパターンを有するマスクＭを介
して上述の第３あるいは第４の発明の電極形成用の転写
シート１１の感光性黒色導電性ペースト層１４を露光す
る（図１５（Ａ））。この露光は、上述の第１１の発明
の電極形成方法と同様に行うことができる。
【００７６】次に、感光性黒色導電性ペースト層１４を
現像し、転写支持体１２上に黒色導電層のパターン１４
´を形成する（図１５（Ｂ））。次いで、絶縁基板５１
上に形成した透明電極５２の所定位置に黒色導電層のパ
ターン１４´を転写する（図１５（Ｃ））。
現像し、転写支持体１２上に黒色導電層のパターン１４
´を形成する（図１５（Ｂ））。次いで、絶縁基板５１
上に形成した透明電極５２の所定位置に黒色導電層のパ
ターン１４´を転写する（図１５（Ｃ））。
【００７７】一方、所定のパターンを有するマスクＭ´
を介して上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の
転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を露光す
る（図１５（Ｄ））。この露光は、上述の第１１の発明
の電極形成方法と同様に行うことができる。
を介して上述の第５あるいは第６の発明の電極形成用の
転写シート２１の感光性導電性ペースト層２３を露光す
る（図１５（Ｄ））。この露光は、上述の第１１の発明
の電極形成方法と同様に行うことができる。
【００７８】次に、感光性導電性ペースト層２３を現像
し、転写支持体２２上に主導電層のパターン２３´を形
成し、これを黒色導電層のパターン１４´上に転写する
（図１５（Ｅ））。
し、転写支持体２２上に主導電層のパターン２３´を形
成し、これを黒色導電層のパターン１４´上に転写する
（図１５（Ｅ））。
【００７９】次いで、焼成して、主導電層のパターン２
３´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分
を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５
３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成
する（図１５（Ｆ））。
３´と黒色導電層のパターン１４´を構成する樹脂成分
を除去することによって、黒色導電層５４と主導電層５
３の２層構造からなる電極５５を透明電極５２上に形成
する（図１５（Ｆ））。
【００８０】上述の電極形成方法における感光性導電性
ペースト層および感光性黒色導電性ペースト層の露光後
の現像は、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水
溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、モ
ノエタノールアミン等の有機アルカリ等を用いて行うこ
とができる。
ペースト層および感光性黒色導電性ペースト層の露光後
の現像は、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水
溶液、水酸化カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、モ
ノエタノールアミン等の有機アルカリ等を用いて行うこ
とができる。
【００８１】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （実施例１）まず、下記の組成の感光性導電性ペースト
を調製した。
明する。 （実施例１）まず、下記の組成の感光性導電性ペースト
を調製した。
【００８２】 （感光性導電性ペーストの組成） ・メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体に グリシジルメタクリレートを付加したポリマー …１００重量部 ・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート … ６０重量部 ・重合開始剤（チバガイギ（株）製イルガキュア 907） … １５重量部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル …１００重量部 ・Ａｇ粉体 …６５０重量部 ・ガラスフリット （軟化点５５０℃、熱膨張係数８０×１０-7／℃） …４０重量部 また、上記の感光性導電性ペースト１００重量部にチタ
ンブラック（平均粒径１．３μｍ）５重量部を添加して
感光性黒色導電性ペーストを調製した。
ンブラック（平均粒径１．３μｍ）５重量部を添加して
感光性黒色導電性ペーストを調製した。
【００８３】次に、転写支持体としてのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東レ（株）製 ルミラーＴ、厚
み２５μｍ）にグラビアコート法により上記の感光性導
電性ペーストを塗布し乾燥して感光性導電性ペースト層
（厚み１２μｍ）を形成した。次いで、この上にグラビ
アコート法により上記の感光性黒色導電性ペーストを塗
布し乾燥して感光性黒色導電性ペースト層（厚み８μ
ｍ）を積層し、転写シート（図１に示される構造を有す
る）を作製した。
レフタレートフィルム（東レ（株）製 ルミラーＴ、厚
み２５μｍ）にグラビアコート法により上記の感光性導
電性ペーストを塗布し乾燥して感光性導電性ペースト層
（厚み１２μｍ）を形成した。次いで、この上にグラビ
アコート法により上記の感光性黒色導電性ペーストを塗
布し乾燥して感光性黒色導電性ペースト層（厚み８μ
ｍ）を積層し、転写シート（図１に示される構造を有す
る）を作製した。
【００８４】次に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）から
なる透明電極をパターニング（線幅１５０μｍ）したガ
ラス基板上に、上記の転写シートを用いて感光性導電性
ペースト層と感光性黒色導電性ペースト層を転写した
（図４（Ａ）に相当）。この転写は、転写シートを１０
０℃でガラス基板に圧着して行った。
なる透明電極をパターニング（線幅１５０μｍ）したガ
ラス基板上に、上記の転写シートを用いて感光性導電性
ペースト層と感光性黒色導電性ペースト層を転写した
（図４（Ａ）に相当）。この転写は、転写シートを１０
０℃でガラス基板に圧着して行った。
【００８５】次いで、線幅８０μｍの開口部を有するマ
スクを介して紫外線を照射し、感光性導電性ペースト層
と感光性黒色導電性ペースト層を一括して露光した（図
４（Ｂ）に相当）。
スクを介して紫外線を照射し、感光性導電性ペースト層
と感光性黒色導電性ペースト層を一括して露光した（図
４（Ｂ）に相当）。
【００８６】次に、１％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液を使用して
現像を行い、ピーク温度５７０℃にて焼成して黒色導電
層と主導電層の２層構造からなる電極（線幅７０μｍ、
厚み８μｍ）をＩＴＯ透明電極上に形成した（図４
（Ｃ）に相当）。
現像を行い、ピーク温度５７０℃にて焼成して黒色導電
層と主導電層の２層構造からなる電極（線幅７０μｍ、
厚み８μｍ）をＩＴＯ透明電極上に形成した（図４
（Ｃ）に相当）。
【００８７】上記のようにＩＴＯ透明電極上に２層構造
の電極を形成したガラス基板を使用してプラズマディス
プレイパネルを作製した結果、表示コントラストと色純
度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネル
が得られた。 （実施例２）まず、転写支持体としてのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東レ（株）製 ルミラーＴ、厚
み１２μｍ）にロールコート法により実施例１の感光性
黒色導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性黒色導電性
ペースト層（厚み１０μｍ）を形成して転写シートＡ
（図２に示される構造を有する）を作製した。
の電極を形成したガラス基板を使用してプラズマディス
プレイパネルを作製した結果、表示コントラストと色純
度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネル
が得られた。 （実施例２）まず、転写支持体としてのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東レ（株）製 ルミラーＴ、厚
み１２μｍ）にロールコート法により実施例１の感光性
黒色導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性黒色導電性
ペースト層（厚み１０μｍ）を形成して転写シートＡ
（図２に示される構造を有する）を作製した。
【００８８】また、転写支持体としてのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東レ（株）製 ルミラーＴ、厚
み２５μｍ）にコンマコート法により実施例１の感光性
導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性導電性ペースト
層（厚み１５μｍ）を形成して転写シートＢ（図３に示
される構造を有する）を作製した。
レフタレートフィルム（東レ（株）製 ルミラーＴ、厚
み２５μｍ）にコンマコート法により実施例１の感光性
導電性ペーストを塗布し乾燥して感光性導電性ペースト
層（厚み１５μｍ）を形成して転写シートＢ（図３に示
される構造を有する）を作製した。
【００８９】次に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）から
なる透明電極をパターニング（線幅１５０μｍ）したガ
ラス基板上に、上記の転写シートＡの感光性黒色導電性
ペースト層側を圧着し、線幅５０μｍの開口部を有する
マスクを介して紫外線を照射し、感光性黒色導電性ペー
スト層を露光した（図１１（Ａ）に相当）。その後、転
写支持体を剥離して感光性黒色導電性ペースト層を転写
した。
なる透明電極をパターニング（線幅１５０μｍ）したガ
ラス基板上に、上記の転写シートＡの感光性黒色導電性
ペースト層側を圧着し、線幅５０μｍの開口部を有する
マスクを介して紫外線を照射し、感光性黒色導電性ペー
スト層を露光した（図１１（Ａ）に相当）。その後、転
写支持体を剥離して感光性黒色導電性ペースト層を転写
した。
【００９０】次に、上記の感光性黒色導電性ペースト層
上に、転写シートＢの感光性導電性ペースト層側を圧着
し、線幅５０μｍの開口部を有するマスクを介して紫外
線を照射し、感光性導電性ペースト層を露光した（図１
１（Ｂ）に相当）。その後、転写支持体を剥離して感光
性導電性ペースト層を転写した。尚、使用したマスク
は、上記の感光性黒色導電性ペースト層の露光に使用し
たマスクの開口部と重なるような開口部を有するものと
した。
上に、転写シートＢの感光性導電性ペースト層側を圧着
し、線幅５０μｍの開口部を有するマスクを介して紫外
線を照射し、感光性導電性ペースト層を露光した（図１
１（Ｂ）に相当）。その後、転写支持体を剥離して感光
性導電性ペースト層を転写した。尚、使用したマスク
は、上記の感光性黒色導電性ペースト層の露光に使用し
たマスクの開口部と重なるような開口部を有するものと
した。
【００９１】次に、１％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液を使用して
現像を行い、ピーク温度５７０℃にて焼成して黒色導電
層と主導電層の２層構造からなる電極（線幅４０μｍ、
厚み１２μｍ）をＩＴＯ透明電極上に形成した（図１１
（Ｃ）に相当）。
現像を行い、ピーク温度５７０℃にて焼成して黒色導電
層と主導電層の２層構造からなる電極（線幅４０μｍ、
厚み１２μｍ）をＩＴＯ透明電極上に形成した（図１１
（Ｃ）に相当）。
【００９２】上記のようにＩＴＯ透明電極上に２層構造
の電極を形成したガラス基板を使用してプラズマディス
プレイパネルを作製した結果、表示コントラストと色純
度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネル
が得られた。
の電極を形成したガラス基板を使用してプラズマディス
プレイパネルを作製した結果、表示コントラストと色純
度が高く表示品質に優れたプラズマディスプレイパネル
が得られた。
【００９３】尚、上述の実施例１は第１の発明の転写シ
ートを使用し、第１の発明の電極形成方法にしたがった
ものであり、また、実施例２は第４および第６の発明の
転写シートを使用し、第８の発明の電極形成方法にした
がったものであるが、本発明の他の転写シートを使用
し、本発明の他の電極形成方法にしたがっても、同様に
ＩＴＯ透明電極の大幅な電気抵抗の減少と、表示コント
ラストと色純度が高く表示品質に優れたプラズマディス
プレイパネルが得られることは勿論である。
ートを使用し、第１の発明の電極形成方法にしたがった
ものであり、また、実施例２は第４および第６の発明の
転写シートを使用し、第８の発明の電極形成方法にした
がったものであるが、本発明の他の転写シートを使用
し、本発明の他の電極形成方法にしたがっても、同様に
ＩＴＯ透明電極の大幅な電気抵抗の減少と、表示コント
ラストと色純度が高く表示品質に優れたプラズマディス
プレイパネルが得られることは勿論である。
【００９４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば転
写支持体上に黒色顔料を含有した感光性黒色導電性ペー
スト層と感光性導電性ペースト層を備えた転写シート、
あるいは、転写支持体上に黒色顔料を含有した感光性黒
色導電性ペースト層を備えた転写シートと転写支持体上
に感光性導電性ペースト層を備えた転写シートとを用い
て、絶縁基板の透明電極上に黒色導電層と主導電層の２
層構造からなる電極（バス電極）を形成するものであ
り、この２層構造の電極の主導電層により透明電極の電
気抵抗が下げられ、黒色導電層により主導電層と透明電
極間の接続がなされるとともに、表示パネルのコントラ
ストと色純度が高められ、このようにして電極を形成す
ることにより、高精細あるいは大面積のプラズマディス
プレイパネルにおいても高い表示品質が可能となり、さ
らに、本発明は、フォトレジストを使用する必要がなく
工程が簡便であるとともに、印刷法に比べて電極の形成
精度が高いという効果も奏する。
写支持体上に黒色顔料を含有した感光性黒色導電性ペー
スト層と感光性導電性ペースト層を備えた転写シート、
あるいは、転写支持体上に黒色顔料を含有した感光性黒
色導電性ペースト層を備えた転写シートと転写支持体上
に感光性導電性ペースト層を備えた転写シートとを用い
て、絶縁基板の透明電極上に黒色導電層と主導電層の２
層構造からなる電極（バス電極）を形成するものであ
り、この２層構造の電極の主導電層により透明電極の電
気抵抗が下げられ、黒色導電層により主導電層と透明電
極間の接続がなされるとともに、表示パネルのコントラ
ストと色純度が高められ、このようにして電極を形成す
ることにより、高精細あるいは大面積のプラズマディス
プレイパネルにおいても高い表示品質が可能となり、さ
らに、本発明は、フォトレジストを使用する必要がなく
工程が簡便であるとともに、印刷法に比べて電極の形成
精度が高いという効果も奏する。
【図１】プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転
写シートの第１の発明の一実施形態を示す概略断面図で
ある。
写シートの第１の発明の一実施形態を示す概略断面図で
ある。
【図２】プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転
写シートの第３の発明の一実施形態を示す概略断面図で
ある。
写シートの第３の発明の一実施形態を示す概略断面図で
ある。
【図３】プラズマディスプレイパネルの電極形成用の転
写シートの第５の発明の一実施形態を示す概略断面図で
ある。
写シートの第５の発明の一実施形態を示す概略断面図で
ある。
【図４】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第１の発明の一実施形態を示す工程図である。
第１の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第２の発明の一実施形態を示す工程図である。
第２の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図６】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第３の発明の一実施形態を示す工程図である。
第３の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図７】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第４の発明の一実施形態を示す工程図である。
第４の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図８】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第５の発明の一実施形態を示す工程図である。
第５の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図９】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法の
第６の発明の一実施形態を示す工程図である。
第６の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１０】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法
の第７の発明の一実施形態を示す工程図である。
の第７の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１１】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法
の第８の発明の一実施形態を示す工程図である。
の第８の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１２】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法
の第９の発明の一実施形態を示す工程図である。
の第９の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１３】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法
の第１０の発明の一実施形態を示す工程図である。
の第１０の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１４】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法
の第１１の発明の一実施形態を示す工程図である。
の第１１の発明の一実施形態を示す工程図である。
【図１５】プラズマディスプレイパネルの電極形成方法
の第１２の発明の一実施形態を示す工程図である。 １，１１，２１…転写シート ２，１２，２２…転写支持体 ３，２３…感光性導電性ペースト層 ４，１４…感光性黒色導電性ペースト層 ３´，２３´…主導電層のパターン ４´，１４´…黒色導電層のパターン ５１…絶縁基板 ５２…透明電極 ５３…主導電層 ５４…黒色導電層 ５５…電極 Ｍ，Ｍ´…マスク
の第１２の発明の一実施形態を示す工程図である。 １，１１，２１…転写シート ２，１２，２２…転写支持体 ３，２３…感光性導電性ペースト層 ４，１４…感光性黒色導電性ペースト層 ３´，２３´…主導電層のパターン ４´，１４´…黒色導電層のパターン ５１…絶縁基板 ５２…透明電極 ５３…主導電層 ５４…黒色導電層 ５５…電極 Ｍ，Ｍ´…マスク
Claims (18)
- 【請求項１】 転写支持体と、該転写支持体上に剥離可
能に形成された感光性導電性ペースト層と、該感光性導
電性ペースト層上に形成された黒色顔料を含有する感光
性黒色導電性ペースト層とを備えることを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの電極形成用の転写シート。 - 【請求項２】 前記転写支持体は光透過性を有すること
を特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの電極形成用の転写シート。 - 【請求項３】 転写支持体と、該転写支持体上に剥離可
能に形成された黒色顔料を含有する感光性黒色導電性ペ
ースト層とを備えることを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの電極形成用の転写シート。 - 【請求項４】 前記転写支持体は光透過性を有すること
を特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの電極形成用の転写シート。 - 【請求項５】 転写支持体と、該転写支持体上に剥離可
能に形成された感光性導電性ペースト層とを備えること
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成用
の転写シート。 - 【請求項６】 前記転写支持体は光透過性を有すること
を特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの電極形成用の転写シート。 - 【請求項７】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、請
求項１または請求項２に記載の電極形成用の転写シート
を用いて感光性黒色導電性ペースト層と感光性導電性ペ
ースト層とを転写し、次いで、所定のパターンを有する
マスクを介して感光性黒色導電性ペースト層および感光
性導電性ペースト層を露光し、現像した後、焼成して黒
色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形
成方法。 - 【請求項８】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、請
求項２に記載の電極形成用の転写シートの感光性黒色導
電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有するマ
スクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペース
ト層および感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、
転写支持体を剥離し、次に、現像した後、焼成して黒色
導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成するこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極形成
方法。 - 【請求項９】 所定のパターンを有するマスクを介して
請求項１または請求項２に記載の電極形成用の転写シー
トの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性ペ
ースト層を露光し、次いで、絶縁基板上に形成した透明
電極上に、該転写シートの感光性黒色導電性ペースト層
と感光性導電性ペースト層とを転写し、次に、現像した
後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる
電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの電極形成方法。 - 【請求項１０】 所定のパターンを有するマスクを介し
て請求項１または請求項２に記載の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層および感光性導電性
ペースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンと主
導電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形成
した透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパター
ンと主導電層のパターンとを転写し、その後、焼成して
黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成す
ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極
形成方法。 - 【請求項１１】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、
請求項３または請求項４に記載の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、さら
に、該感光性黒色導電性ペースト層上に、請求項５また
は請求項６に記載の電極形成用の転写シートを用いて感
光性導電性ペースト層を転写し、次いで、所定のパター
ンを有するマスクを介して感光性黒色導電性ペースト層
および感光性導電性ペースト層を露光し、現像した後、
焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極
を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの電極形成方法。 - 【請求項１２】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、
請求項３または請求項４に記載の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、さら
に、該感光性黒色導電性ペースト層上に、請求項６に記
載の電極形成用の転写シートの感光性導電性ペースト層
側を圧着し、次いで、所定のパターンを有するマスクを
介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペースト層お
よび感光性導電性ペースト層を露光し、次いで、転写支
持体を剥離し、現像した後、焼成して黒色導電層と主導
電層の２層構造からなる電極を形成することを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。 - 【請求項１３】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、
請求項３または請求項４に記載の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定
のパターンを有するマスクを介して該感光性黒色導電性
ペースト層を露光し、さらに、前記感光性黒色導電性ペ
ースト層上に、請求項５または請求項６に記載の電極形
成用の転写シートを用いて感光性導電性ペースト層を転
写し、所定のパターンを有するマスクを介して該感光性
導電性ペースト層を露光し、次いで、現像した後、焼成
して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形
成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
電極形成方法。 - 【請求項１４】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、
請求項４に記載の電極形成用の転写シートの感光性黒色
導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有する
マスクを介して転写支持体上から前記感光性黒色導電性
ペースト層を露光した後、転写支持体を剥離し、さら
に、前記感光性黒色導電性ペースト層上に、請求項６に
記載の電極形成用の転写シートの感光性導電性ペースト
層側を圧着し、所定のパターンを有するマスクを介して
転写支持体上から感光性導電性ペースト層を露光した
後、転写支持体を剥離し、次いで、現像した後、焼成し
て黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成
することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電
極形成方法。 - 【請求項１５】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、
請求項３または請求項４に記載の電極形成用の転写シー
トを用いて感光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定
のパターンを有するマスクを介して該感光性黒色導電性
ペースト層を露光し現像して黒色導電層のパターンを形
成し、さらに、該黒色導電層のパターンを覆うように請
求項５または請求項６に記載の電極形成用の転写シート
を用いて感光性導電性ペースト層を転写し、所定のパタ
ーンを有するマスクを介して該感光性導電性ペースト層
を露光し現像して主導電層のパターンを形成し、その
後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる
電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの電極形成方法。 - 【請求項１６】 絶縁基板上に形成した透明電極上に、
請求項４に記載の電極形成用の転写シートの感光性黒色
導電性ペースト層側を圧着し、所定のパターンを有する
マスクを介して転写支持体上から感光性黒色導電性ペー
スト層を露光し転写支持体を剥離した後に現像して黒色
導電層のパターンを形成し、さらに、該黒色導電層のパ
ターンを覆うように請求項６に記載の電極形成用の転写
シートの感光性導電性ペースト層側を圧着し、所定のパ
ターンを有するマスクを介して転写支持体上から感光性
導電性ペースト層を露光し転写支持体を剥離した後に現
像して主導電層のパターンを形成し、その後、焼成して
黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を形成す
ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの電極
形成方法。 - 【請求項１７】 所定のパターンを有するマスクを介し
て請求項３または請求項４に記載の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層を露光し、次いで、
絶縁基板上に形成した透明電極上に、該転写シートの感
光性黒色導電性ペースト層を転写し、所定のパターンを
有するマスクを介して請求項５または請求項６に記載の
電極形成用の転写シートの感光性導電性ペースト層を露
光し、次いで、前記感光性黒色導電性ペースト層上に感
光性導電性ペースト層を転写し、次に、現像した後、焼
成して黒色導電層と主導電層の２層構造からなる電極を
形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の電極形成方法。 - 【請求項１８】 所定のパターンを有するマスクを介し
て請求項３または請求項４に記載の電極形成用の転写シ
ートの感光性黒色導電性ペースト層を露光し現像して黒
色導電層のパターンを形成し、次いで、絶縁基板上に形
成した透明電極上に、該転写シートの黒色導電層のパタ
ーンを転写し、所定のパターンを有するマスクを介して
請求項５または請求項６に記載の電極形成用の転写シー
トの感光性導電性ペースト層を露光し現像して主導電層
のパターンを形成し、次いで、前記黒色導電層のパター
ン上に、該転写シートの主導電層のパターンを転写し、
その後、焼成して黒色導電層と主導電層の２層構造から
なる電極を形成することを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの電極形成方法。
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6800166B2 (en) * | 1997-10-03 | 2004-10-05 | Dal Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer sheet |
| JP2005116528A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-28 | Lg Electronics Inc | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| JP2006059817A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Lg Electronics Inc | プラズマディスプレイ装置用シート及びそれを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
| JP2006344483A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Dowa Holdings Co Ltd | 黒色電極およびその黒色電極が設けられたディスプレイパネル |
| KR100726648B1 (ko) * | 2005-05-11 | 2007-06-11 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법 |
| KR100738234B1 (ko) * | 2004-12-14 | 2007-07-12 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 그린 쉬트 및 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR100739061B1 (ko) | 2005-07-29 | 2007-07-12 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 형성용 감광성 조성물, 전사필름, 전극 및 이를포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 |
| USRE40104E1 (en) | 1997-03-31 | 2008-02-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plasma display panel with bus electrodes having black electroconductive material |
| US7442488B2 (en) | 2004-10-06 | 2008-10-28 | Beom-Wook Lee | Positive type photosensitive paste composition for PDP electrode, PDP electrode prepared therefrom, and PDP comprising the PDP electrode |
| US8057979B2 (en) | 2005-01-05 | 2011-11-15 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive paste composition and plasma display panel manufactured using the same |
| WO2017217639A1 (ko) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 주식회사 엘지화학 | 전극 구조체, 이를 포함하는 전자 소자 및 이의 제조방법 |
| CN107870506A (zh) * | 2016-09-26 | 2018-04-03 | 康达智株式会社 | 图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序 |
-
1996
- 1996-10-11 JP JP28907396A patent/JP3644775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE40104E1 (en) | 1997-03-31 | 2008-02-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plasma display panel with bus electrodes having black electroconductive material |
| US6800166B2 (en) * | 1997-10-03 | 2004-10-05 | Dal Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer sheet |
| JP2005116528A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-28 | Lg Electronics Inc | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
| JP2006059817A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Lg Electronics Inc | プラズマディスプレイ装置用シート及びそれを利用したプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
| US7442488B2 (en) | 2004-10-06 | 2008-10-28 | Beom-Wook Lee | Positive type photosensitive paste composition for PDP electrode, PDP electrode prepared therefrom, and PDP comprising the PDP electrode |
| KR100738234B1 (ko) * | 2004-12-14 | 2007-07-12 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 그린 쉬트 및 플라즈마 디스플레이 패널 |
| US8057979B2 (en) | 2005-01-05 | 2011-11-15 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive paste composition and plasma display panel manufactured using the same |
| KR100726648B1 (ko) * | 2005-05-11 | 2007-06-11 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법 |
| JP2006344483A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Dowa Holdings Co Ltd | 黒色電極およびその黒色電極が設けられたディスプレイパネル |
| KR100739061B1 (ko) | 2005-07-29 | 2007-07-12 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 형성용 감광성 조성물, 전사필름, 전극 및 이를포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 |
| US7674403B2 (en) | 2005-07-29 | 2010-03-09 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Composition, an electrode transfer film including the same, a display panel, and a method of forming an electrode |
| WO2017217639A1 (ko) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 주식회사 엘지화학 | 전극 구조체, 이를 포함하는 전자 소자 및 이의 제조방법 |
| US10749135B2 (en) | 2016-06-17 | 2020-08-18 | Lg Chem, Ltd. | Electrode structure, electronic device comprising same and method for manufacturing same |
| CN107870506A (zh) * | 2016-09-26 | 2018-04-03 | 康达智株式会社 | 图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序 |
| JP2018054665A (ja) * | 2016-09-26 | 2018-04-05 | カンタツ株式会社 | パターン形成用シート、パターン製造装置、パターン製造方法およびパターン製造プログラム |
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|---|---|
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