JPH1011814A

JPH1011814A - 光ディスク原盤記録方法

Info

Publication number: JPH1011814A
Application number: JP8186757A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Nagai; 芳久長井; Kiyoshi Nagasawa; 澄長澤; Haruyuki Morisawa; 治幸守澤
Original assignee: Pioneer Video Corp; Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Video Corp; Pioneer Corp
Priority date: 1996-06-27
Filing date: 1996-06-27
Publication date: 1998-01-16

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、光ディスク原盤記録方法に関す
る。【解決手段】ダミーピットを形成するためのダミーピ
ット形成用パルスを発生させ、Ｘ−Ｙ系座標で表現され
た原画データをＲ−θ系座標に変換し、光ディスク原盤
の回転に同期して座標原画データに基づいて、座標変換
原画データパルスを発生する工程と、ダミーピット形成
用パルスを座標変換原画データパルスに基づいて選択的
に遮断して表示パターン形成用信号を生成する工程と、
表示パターン形成用信号に応じて光ビームを変調して光
ディスク原盤を露光し、ダミーピットのない部分の形で
表示パターンを形成する工程とを設けた光ディスク原盤
記録方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤記
録方法に関する。

【０００３】

【０００２】

【０００４】

【従来の技術】従来の光ディスクとして、図７に示す如
く、光ディスク１の情報記録領域１ａとレーベル領域１
ｃとの間の領域１ｂに目視可能な文字「Ａ」等のパター
ンが円周方向に整列した形で形成されているものが例え
ば、特公平５−７９７号公報において公知である。

【０００５】

【０００３】

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うなパターンの表示領域が狭いため十分に大きなパター
ン表示できないと共に、その表示情報量が制限されてい
た。また、パターンが円周方向に整列しているため、表
示の自由度が低いものとなっていた。

【０００７】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、鮮明でかつ大きな文字等のパターン
が表示可能で、かつ表示の自由度が増した光ディスク原
盤記録方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【０００４】

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明による光ディスク
原盤記録方法は、ダミーピットを形成するためのダミー
ピット形成用パルスを発生する工程と、Ｘ−Ｙ系座標で
表現された原画データをＲ−θ系座標に変換し、光ディ
スク原盤の回転に同期して座標原画データに基づいて、
座標変換原画データパルスを発生する工程と、ダミーピ
ット形成用パルスを座標変換原画データパルスに基づい
て選択的に遮断して表示パターン形成用信号を生成する
工程と、表示パターン形成用信号に応じて光ビームを変
調して光ディスク原盤を露光し、ダミーピットのない部
分の形で表示パターンを形成する工程とを有することを
特徴とする。

【００１０】

【０００５】

【００１１】

【作用】かかる特徴を有する本発明の光ディスク原盤記
録方法は、ダミーピットを形成するためのダミーピット
形成用パルスを発生する工程と、Ｘ−Ｙ系座標で表現さ
れた原画データをＲ−θ系座標に変換し、光ディスク原
盤の回転に同期して座標原画データに基づいて、座標変
換原画データパルスを発生する工程と、ダミーピット形
成用パルスを座標変換原画データパルスに基づいて選択
的に遮断して表示パターン形成用信号を生成する工程
と、表示パターン形成用信号に応じて光ビームを変調し
て光ディスク原盤を露光し、ダミーピットのない部分の
形で表示パターンを形成する工程とを設けたので、鮮明
でかつ大きな文字等のパターンが表示可能となり、かつ
表示の自由度を増すことが可能となる。

【００１２】

【０００６】

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例としての光
ディスク及び光ディスク原盤記録方法を添付図面を参照
しつつ説明する。図１、図２及び図３に本発明の一実施
例としての光ディスクを示す。

【００１４】図１、図２及び図３に示すように、当該光
ディスク４２は、ピットが形成されるピット形成領域４
２ａとレーベル領域４２ｂとに区分けされている。そし
て、当該光ディスク４２は、情報記録ディスク部１２と
ダミーディスク部１１とが接着層５を介して結合された
いわゆる両面タイプの光ディスクである。

【００１５】

【０００７】情報記録ディスク部１２は、情報信号を担
い同心円状又は螺旋状の記録トラックを形成する複数の
情報用ピット１０がピット列となって片面に形成された
基板８と、その基板８のピット形成面に形成された反射
層７と、及び反射層７を覆う保護層６とから構成され
る。

【００１６】

【０００８】一方、ダミーディスク部１１は、情報信号
とは何等関係のない複数のピット、即ちダミーピット９
がピット群となって片面に形成された基板２と、その基
板２のピット形成面に形成された反射層３と、及び反射
層３を覆う保護層４とから構成されている。かかるダミ
ーピット９は、反射回折光によって生じる鮮やかな虹色
を得るために形成されている。

【００１７】

【０００９】具体的には、円形同寸法の２枚の円形基板
２及び８は透明の合成樹脂などからなり、各基板の一方
の面には、ダミーピット９及び情報用ピット１０が夫々
形成され、その各ピット形成面には金属製の反射層３及
び７が形成されている。反射層３及び７にはそれを夫々
保護する保護層４及び６が形成されている。そして、該
保護層４、６間に塗着された接着剤から成る接着層５よ
り、保護層４及び６を結合することにより当該両面タイ
プの光ディスク４２が形成されている。

【００１８】

【００１０】図１に示した本発明の光ディスクの平面図
から明らかなように、ダミーディスク部１１の基板２の
ピット形成領域４２ａには、文字「Ａ」を表すパターン
表示領域Ｐがダミーピット群により形成されている。ダ
ミーピット群は、「Ａ」という文字パターン部分には形
成されておらず、その文字パターンを除く部分に形成さ
れている。即ち、文字「Ａ」のパターンをいわゆる白抜
きにしたものであり、かかるパターン表示領域Ｐは鏡面
となっている。図示したようにパターン表示領域Ｐの周
囲だけでなく、ダミーディスク部１１の記録面全域にダ
ミーピット群を形成しても良い。また、図中の矢印Ｒは
ディスク半径方向を示す。

【００１９】

【００１１】当該ディスク４２のダミーディスク部１１
の記録面においては、ダミーピット９が形成されている
部分では反射回折光が生じるが、ダミーピット９が形成
されていない鏡面部では反射回折光が生じない故、反射
回折光の有無により表示パターンが目視可能となるので
ある。

【００２０】また、上記したように表示パターン以外の
部分にダミーピットを形成するだけでなくパターン表示
領域Ｐをダミーピット自身によって形成しても良い。

【００２１】

【００１２】また、パターン表示領域Ｐの内外にダミー
ピット群を形成し、パターン表示領域内に形成されるダ
ミーピットとパターン表示領域外に形成されるダミーピ
ットとの深さ若しくは密度を異ならせても良い。かかる
場合、パターン表示領域内外において反射回折光の強度
若しくは回折角度が異なる故、パターンが目視可能とな
る。

【００２２】

【００１３】尚、上記実施例においてはダミーピット群
により文字を示したが、これに限定されるものではな
い。例えば、その光ディスクに記録された情報信号の内
容を示すグラフィックス、写真等のパターンを表示する
ようにすることができる。

【００２３】次に、本発明による光ディスク原盤記録装
置の実施例を図面を参照しつつ説明する。

【００２４】

【００１４】図４に本発明による光ディスク原盤の製造
装置の実施例を示す。かかる製造装置は、ダミーディス
ク部１１の原盤の製造装置であり、以下の如き構成であ
る。

【００２５】先ず、光ビームを発する光源としてはＡｒ
レーザ１７が用いられている。ダミーピット９を形成す
るためのダミーパルスを繰り返し発するダミーパルス発
生手段としてダミーパルス発生器２０が設けられてい
る。ダミーパルス（ダミーピット形成用信号）を選択的
に遮断してダミー形成信号を生成する遮断手段として
は、乗算器２４が設けられている。かかる乗算器２４
は、表示パターン生成回路２１から発せられた表示パタ
ーン信号「極座標変換原画データパルス」とダミーパル
スとを乗じてダミー形成信号を生成する。

【００２６】

【００１５】表示パターン生成回路２１はスキャナ２３
及び表示パターン発生器２２とにより構成され、表示パ
ターン発生器２２はメモリＢ２２ａ、メモリＡ２２ｃと
Ｒ−θ系座標（極座標）変換手段２２ｂにより構成され
ている。先ず、スキャナ２３は印刷物若しくは写真等か
らダミーディスク部１１に形成する表示パターンを光学
的に読取って、読取った光学データを電気信号（Ｘ−Ｙ
系座標の原画データ）に変換した後、表示パターン発生
器２２に供給する。

【００２７】

【００１６】Ｘ−Ｙ系座標の原画データは、Ｒ−θ系座
標変換手段２２ｂにより図６（ａ）に示す原理に従っ
て、極座標に変換され、メモリＡ２２ｃに供給され記憶
され図６（ｂ）に示すように記憶される。

【００２８】図６（ａ）に示すようにダミーディスク部
１１の一部に文字「Ａ」の表示パターンを形成する場合
を例にして説明する。

【００２９】Ｘ−Ｙ系座標の或る原画データ上に、例え
ば文字「Ａ」のパターン表示領域の１つの点（Ａ１）に
対して、ディスク４２の中心位置であるＯ点からＡ１点
までの距離（ｒ１：ディスク４２の半径方向の距離）
と、水平線からの角度（θ１）からなるＲ−θ系座標デ
ータに変換する。

【００３０】

【００１７】また、同様に、文字「Ａ」のパターン表示
領域の別の点（Ａ２）に対して、ディスク４２の中心位
置であるＯ点からＡ２点までの距離（ｒ２）と、水平線
からの角度（θ２）からなるＲ−θ系座標データに変換
する。

【００３１】このように文字「Ａ」を構成するパターン
表示領域全体の位置情報をＲ−θ系座標データとして、
図６（ｂ）に示すように、メモリＡ２２ｃの横方向に角
度（θ）データを、また縦方向には半径（ｒ）データを
配列記憶する。そして回転同期パルスに応じてメモリＡ
２２ｃから読み出される。

【００３２】

【００１８】メモリＡ２２ｃに記憶されている文字
「Ａ」のパターン表示領域用Ｒ−θ系座標データは、回
転同期パルスに応じて読み出され、乗算器２４に供給さ
れる。

【００３３】また、乗算器２４にはダミーパルス発生器
２０からダミーピット９を形成するための回転同期パル
スに応じてダミーパルスが供給されている。この乗算器
２４はＲ−θ系座標データが存在する時は、ダミーパル
スを遮断し、Ｒ−θ系座標データが存在しない時はダミ
ーパルスを出力するので、文字「Ａ」を構成するパター
ン表示領域にはダミーピットが形成されない。ディスク
４２のダミーディスク部１１の記録面においては、ダミ
ーピット９が形成されている部分では反射回折光が生じ
るが、ダミーピット９が形成されていない文字「Ａ」を
構成するパターン表示領域では反射回折光が生じること
がなく、鏡面状態になるので、反射回折光の有無により
文字「Ａ」の表示パターンが目視可能となる。

【００３４】

【００１９】尚、表示パターン発生器２２において、Ｘ
−Ｙ系座標データをＲ−θ系座標データに変換し、一旦
メモリＡ２２ｃに記憶し、回転同期パルスに応じて読み
出す方法で説明したが、Ｘ−Ｙ系座標データをリアルタ
イムでＲ−θ系座標変換し、出力するように構成しても
良い。

【００３５】また、表示パターン生成回路２１は、コン
ピュータからなり、コンピュータ上で作成されるグラフ
ィックパターンを用いて表示パターン信号を発生させて
も良い。そして、変調手段としてＡ／Ｏ変調器（Acoust
ic Optical Modulator ）２５が用いられている。

【００３６】

【００２０】照射手段としてはミラー１８ｂ、ビームエ
キスパンダ２６、ミラー１８ｃ、及び対物レンズ２７が
用いられている。尚、ビームエキスパンダ２６、ミラー
１８ｃ、及び対物レンズ２７からなる光ヘッド２８は、
送りモータ１５ａにより矢印Ｍ方向（光ディスク半径方
向）に駆動される。

【００３７】

【００２１】また、ターンテーブル１３ａは露光部分を
ピットとするポジ型フォトレジスト層を有するダミーデ
ィスク原盤４３を保持している。ターンテーブル１３ａ
はスピンドルモータ１４ａにより回転駆動される。

【００３８】ターンテーブル１３ａの回転に同期した回
転同期パルスを発する回転同期信号発生手段として、上
記したように回転同期パルス発生器１６が備えられてい
る。更に、クロック発生器１９は、かかる回転同期パル
スを基準にしてクロックパルスを発生する。

【００３９】

【００２２】そして、記録動作は以下のように行われ
る。

【００４０】先ず、Ａｒレーザ１７から出射された光ビ
ームは、ミラー１８ａで反射された後にＡ／Ｏ変調器２
５に入射する。

【００４１】そして、回転同期パルス発生器１６からは
ターンテーブル１３ａの回転に同期した回転同期パルス
が発せられ、かかる回転同期パルスを基準にしてクロッ
ク発生器１９はクロックパルスを発する。

【００４２】

【００２３】ダミーパルス発生器２０は、かかるクロッ
クパルスに同期して例えば、図５（ａ）に示すようなラ
ンダムなパルス幅のダミーパルスを発する。

【００４３】一方、表示パターン生成回路２１からは例
えば図５（ｂ）に示すような表示パターン信号が発せら
れる。ここで、表示パターン信号はスキャナ２３によっ
て読み取られた表示パターンが存在する部分がＬ（低レ
ベル）、存在しない部分がＨ（高レベル）となってい
る。乗算器２４は、かかるダミーパルスと表示パターン
信号に乗じて、図５（ｃ）の如きダミー形成信号を生成
する。

【００４４】

【００２４】Ａ／Ｏ変調器２５は、かかるダミー形成信
号に応じて光ビームを変調し、これにより図５（ｄ）に
示すような強度で変調光ビームを生成する。

【００４５】変調光ビームは、ミラー１８ｂ、ビームエ
キスパンダ２６、ミラー１８ｃ及び対物レンズ２７を介
してダミーディスク原盤４３のフォトレジスト層に照射
され、図５（ｅ）に示すようにトラック上にはダミーピ
ット９のピット列が形成され、ダミーピット群領域が形
成される。

【００４６】

【００２５】送りモータ１５ａは、ダミーディスク原盤
４３の回転に応じて光ヘッドを矢印Ｍ方向（光ディスク
半径方向）に移動し、これにより所定のピッチでトラッ
クがダミーディスク原盤４３上に形成される。

【００４７】かかる方法により、ダミーディスク原盤４
３に表示パターン以外の部分にダミーピット９を形成す
ることができるのである。

【００４８】

【００２６】即ち、ダミーディスク原盤４３に表示パタ
ーンが白抜きされたダミーピット群が形成されるのであ
る。

【００４９】尚、ダミーピット９の深さ及び幅はダミー
パルスの振幅により調整可能であり、また、ダミーピッ
ト９の長さは、ダミーパルス幅により調整される。

【００５０】かかる構成の光ディスク原盤の製造装置に
よれば、ダミーピット群の形成と同時に目視可能な表示
パターンを形成することができるのである。

【００５１】

【００２７】また、本発明では、ダミーピット群を形成
するダミーピットの深さを一定にしているが、かかるダ
ミーピットの深さを変えても良い。ダミーピットの深さ
が異なれば、反射回折光の回折強度が異なり、ダミーピ
ットの深さを一定とした場合とは異なった明暗を呈する
ことになる。

【００５２】更に、図５（ｂ）に示される表示パターン
信号を反転させて、表示パターンが存在する部分をＨ
（高レベル）、表示パターンが存在しない部分をＬ（低
レベル）とすれば、ダミーディスク原盤４３にはダミー
ピット９の形成部分の形状によって、目視可能なパター
ンを形成することができる。

【００５３】

【００２８】本実施例においては、ダミーパルスを選択
的に遮断してダミー形成信号を生成する遮断手段として
は、乗算器２４を用いているがこれに限定されるわけで
はなく、かかる遮断手段にゲート回路を用いれば同様の
効果を得ることができる。この場合、入力信号をダミー
パルスとし、制御信号を表示パターン信号とし、出力信
号をダミー形成信号とすれば良いのである。

【００５４】

【００２９】

【００５５】

【発明の効果】本発明によれば、ダミーピットを形成す
るためのダミーピット形成用パルスを発生する工程と、
Ｘ−Ｙ系座標で表現された原画データをＲ−θ系座標に
変換し、光ディスク原盤の回転に同期して前記座標原画
データに基づいて、座標変換原画データパルスを発生す
る工程と、ダミーピット形成用パルスを座標変換原画デ
ータパルスに基づいて選択的に遮断して表示パターン形
成用信号を生成する工程と、表示パターン形成用信号に
応じて光ビームを変調して前記光ディスク原盤を露光
し、ダミーピットのない部分の形で表示パターンを形成
する工程とを設けたので、鮮明でかつ大きな文字や図形
等のパターンが表示可能となり、ディスク上に任意の図
形を描写することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光ディスクの実施例であり、その
要部の概略を示す斜視図。

【図２】本発明の光ディスクの実施例であり、その断面
図。

【図３】本発明の光ディスクの実施例であり、その構成
の概略を示す図。

【図４】本発明による光ディスク原盤の製造装置の実施
例を示す概略ブロック図。

【図５】図４の装置の各部の信号波形例を示す図。

【図６】本発明によるＸ−Ｙ系座標をＲ−θ系座標デー
タに変換する原理図。

【図７】従来の光ディスクの概略図。

【符号の説明】

２、８・・・基板３、７・・・反射層４、６・・・保護層５・・・接着層９・・・ダミーピット１０・・・情報用ピット１１・・・ダミーディスク部１２・・・情報記録ディスク部１３・・・ターンテーブル１４・・・スピンドルモータ１７・・・Ａｒレーザ１８・・・ミラー２０・・・ダミーパルス発生器２１・・・表示パターン生成回路２２・・・表示パターン発生器２２ａ・・・メモリＢ２２ｂ・・・Ｒ−θ系座標変換手段２２ｃ・・・メモリＡ２４・・・乗算器２５・・・Ａ／Ｏ変調器２８・・・光ヘッド４２・・・光ディスク４３・・・ダミーディスク原盤Ｐ・・・パターン表示領域

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成９年３月２４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の詳細な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うなパターンの表示領域が狭いため十分に大きなパター
ン表示できないと共に、その表示情報量が制限されてい
た。また、パターンが円周方向に整列しているため、表
示の自由度が低いものとなっていた。そこで、本発明
は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、鮮明でか
つ大きな文字等のパターンが表示可能で、かつ表示の自
由度が増した光ディスク原盤記録方法を提供することを
目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明による光ディスク
原盤記録方法は、ダミーピットを形成するためのダミー
ピット形成用パルスを発生する工程と、Ｘ−Ｙ系座標で
表現された原画データをＲ−θ系座標に変換し、光ディ
スク原盤の回転に同期して座標原画データに基づいて、
座標変換原画データパルスを発生する工程と、ダミーピ
ット形成用パルスを座標変換原画データパルスに基づい
て選択的に遮断して表示パターン形成用信号を生成する
工程と、表示パターン形成用信号に応じて光ビームを変
調して光デイスク原盤を露光し、ダミーピットのない部
分の形で表示パターンを形成する工程とを有することを
特徴とする。

【０００５】

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例としての光
ディスク及び光ディスク原盤記録方法を添付図面を参照
しつつ説明する。図１、図２及び図３に本発明の一実施
例としての光ディスクを示す。図１、図２及び図３に示
すように、当該光ディスク４２は、ピットが形成される
ピット形成領域４２ａとレーベル領域４２ｂとに区分け
されている。そして、当該光ディスク４２は、情報記録
ディスク部１２とダミーディスク部１１とが接着層５を
介して結合されたいわゆる両面タイプの光ディスクであ
る。

【０００８】一方、ダミーディスク部１１は、情報信号
とは何等関係のない複数のピット、即ちダミーピット９
がピット群となって片面に形成された基板２と、その基
板２のピット形成面に形成された反射層３と、及び反射
層３を覆う保護層４とから構成されている。かかるダミ
ーピット９は、反射回折光によつて生じる鮮やかな虹色
を得るために形成されている。

【００１０】図１に示した本発明の光ディスクの平面図
から明らかなように、ダミーディスク部１１の基板２の
ビット形成領域４２ａには、文字「Ａ」を表すパターン
表示領域Ｐがダミーピット群により形成されている。ダ
ミーピット群は、「Ａ」という文字パターン部分には形
成されておらず、その文字パターンを除く部分に形成さ
れている。即ち、文字「Ａ」のパターンをいわゆる白抜
きにしたものであり、かかるパターン表示領域Ｐは鏡面
となっている。図示したようにパターン表示領域Ｐの周
囲だけでなく、ダミーディスク部１１の記録面全域にダ
ミーピット群を形成しても良い。また、図中の矢印Ｒは
ディスク半径方向を示す。

【００１１】当該ディスク４２のダミーディスク部１１
の記録面においては、ダミーピット９が形成されている
部分では反射回折光が生じるが、ダミーピット９が形成
されていない鏡面部では反射回折光が生じない故、反射
回折光の有無により表示パターンが目視可能となるので
ある。また、上記したように表示パターン以外の部分に
ダミーピットを形成するだけでなくパターン表示領域Ｐ
をダミーピット自身によって形成しても良い。

【００１３】尚、上記実施例においてはダミーピット群
により文字を示したが、これに限定されるものではな
い。例えば、その光ディスクに記録された情報信号の内
容を示すグラフィックス、写真等のパターンを表示する
ようにすることができる。次に、本発明による光ディス
ク原盤記録装置の実施例を図面を参照しつつ説明する。

【００１４】図４に本発明による光ディスク原盤の製造
装置の実施例を示す。かかる製造装置は、ダミーディス
ク部１１の原盤の製造装置であり、以下の如き構成であ
る。先ず、光ビームを発する光源としてはＡｒレーザ１
７が用いられている。ダミーピット９を形成するための
ダミーパルスを繰り返し発するダミーパルス発生手段と
してダミーパルス発生器２０が設けられている。ダミー
パルス（ダミーピット形成用信号）を選択的に遮断して
ダミー形成信号を生成する遮断手段としては、乗算器２
４が設けられている。かかる乗算器２４は、表示パター
ン生成回路２１から発せられた表示パターン信号「極座
標変換原画データパルス」とダミーパルスとを乗じてダ
ミー形成信号を生成する。

【００１６】Ｘ−Ｙ系座標の原画データは、Ｒ−θ系座
標変換手段２２ｂにより図６（ａ）に示す原理に従っ
て、極座標に変換され、メモリＡ２２ｃに供給され記憶
され図６（ｂ）に示すように記憶される。図６（ａ）に
示すようにダミーディスク部１１の一部に文字「Ａ」の
表示パターンを形成する場合を例にして説明する。Ｘ−
Ｙ系座標の或る原画データ上に、例えば文字「Ａ」のパ
ターン表示領域の１つの点（Ａ１）に対して、ディスク
４２の中心位置であるＯ点からＡ１点までの距離（ｒ
１：ディスク４２の半径方向の距離）と、水平線からの
角度（θ１）からなるＲ−θ系座標データに変換する。

【００１７】また、同様に、文字「Ａ」のパターン表示
領域の別の点（Ａ２）に対して、ディスク４２の中心位
置であるＯ点からＡ２点までの距離（ｒ２）と、水平線
からの角度（θ２）からなるＲ−θ系座標データに変換
する。このように文字「Ａ」を構成するパターン表示領
域全体の位置情報をＲ−θ系座標データとして、図６
（ｂ）に示すように、メモリＡ２２ｃの横方向に角度
（θ）データを、また縦方向には半径（ｒ）データを配
列記憶する。そして回転同期パルスに応じてメモリＡ２
２ｃから読み出される。

【００１８】メモリＡ２２ｃに記憶されている文字
「Ａ」のパターン表示領域用Ｒ−θ系座標データは、回
転同期パルスに応じて読み出され、乗算器２４に供給さ
れる。また、乗算器２４にはダミーパルス発生器２０か
らダミーピット９を形成するための回転同期パルスに応
じてダミーパルスが供給されている。この乗算器２４は
Ｒ−θ系座標データが存在する時は、ダミーパルスを遮
断し、Ｒ−θ系座標データが存在しない時はダミーパル
スを出力するので、文字「Ａ」を構成するパターン表示
領域にはダミービットが形成されない。ディスク４２の
ダミーディスク部１１の記録面においては、ダミーピッ
ト９が形成されている部分では反射回折光が生じるが、
ダミーピット９が形成されていない文字「Ａ」を構成す
るパターン表示領域では反射回折光が生じることがな
く、鏡面状態になるので、反射回折光の有無により文字
「Ａ」の表示パターンが目視可能となる。

【００１９】尚、表示パターン発生器２２において、Ｘ
−Ｙ系座標データをＲ−θ系座標データに変換し、一旦
メモリＡ２２ｃに記憶し、回転同期パルスに応じて読み
出す方法で説明したが、Ｘ−Ｙ系座標データをリアルタ
イムでＲ−θ系座標変換し、出力するように構成しても
良い。また、表示パターン生成回路２１は、コンピュー
タからなり、コンピュータ上で作成されるグラフィック
パターンを用いて表示パターン信号を発生させても良
い。そして、変調手段としてＡ／Ｏ変調器（Ａｃｏｕｓ
ｔｉｃＯｐｔｉｃａｌＭｏｄｕｌａｔｏｒ）２５が用
いられている。

【００２１】また、ターンテーブル１３ａは露光部分を
ピットとするポジ型フォトレジスト層を有するダミーデ
ィスク原盤４３を保持している。ターンテーブル１３ａ
はスピンドルモータ１４ａにより回転駆動される。ター
ンテーブル１３ａの回転に同期した回転同期パルスを発
する回転同期信号発生手段として、上記したように回転
同期パルス発生器１６が備えられている。更に、クロッ
ク発生器１９は、かかる回転同期パルスを基準にしてク
ロックパルスを発生する。

【００２２】そして、記録動作は以下のように行われ
る。先ず、Ａｒレーザ１７から出射された光ビームは、
ミラー１８ａで反射された後にＡ／Ｏ変調器２５に入射
する。そして、回転同期パルス発生器１６からはターン
テーブル１３ａの回転に同期した回転同期パルスが発せ
られ、かかる回転同期パルスを基準にしてクロック発生
器１９はクロックパルスを発する。

【００２３】ダミーパルス発生器２０は、かかるクロッ
クパルスに同期して例えば、図５（ａ）に示すようなラ
ンダムなパルス幅のダミーパルスを発する。一方、表示
パターン生成回路２１からは例えば図５（ｂ）に示すよ
うな表示パターン信号が発せられる。ここで、表示パタ
ーン信号はスキャナ２３によって読み取られた表示パタ
ーンが存在する部分がＬ（低レベル）、存在しない部分
がＨ（高レベル）となっている。乗算器２４は、かかる
ダミーパルスと表示パターン信号に乗じて、図５（ｃ）
の如きダミー形成信号を生成する。

【００２４】Ａ／Ｏ変調器２５は、かかるダミー形成信
号に応じて光ビームを変調し、これにより図５（ｄ）に
示すような強度で変調光ビームを生成する。変調光ビー
ムは、ミラー１８ｂ、ビームエキスパンダ２６、ミラー
１８ｃ及び対物レンズ２７を介してダミーディスク原盤
４３のフォトレジスト層に照射され、図５（ｅ）に示す
ようにトラック上にはダミーピット９のピット列が形成
され、ダミーピット群領域が形成される。

【００２５】送りモータ１５ａは、ダミーディスク原盤
４３の回転に応じて光ヘッドを矢印Ｍ方向（光ディスク
半径方向）に移動し、これにより所定のピッチでトラッ
クがダミーディスク原盤４３上に形成される。かかる方
法により、ダミーディスク原盤４３に表示パターン以外
の部分にダミーピット９を形成することができるのであ
る。

【００２６】即ち、ダミーディスク原盤４３に表示パタ
ーンが白抜きされたダミーピット群が形成されるのであ
る。尚、ダミーピット９の深さ及び幅はダミーパルスの
振幅により調整可能であり、また、ダミーピット９の長
さは、ダミーパルス幅により調整される。かかる構成の
光ディスク原盤の製造装置によれば、ダミーピット群の
形成と同時に目視可能な表示パターンを形成することが
できるのである。

【００２７】また、本発明では、ダミーピット群を形成
するダミーピットの深さを一定にしているが、かかるダ
ミーピットの深さを変えても良い。ダミーピットの深さ
が異なれば、反射回折光の回折強度が異なり、ダミーピ
ットの深さを一定とした場合とは異なった明暗を呈する
ことになる。更に、図５（ｂ）に示される表示パターン
信号を反転させて、表示パターンが存在する部分をＨ
（高レベル）、表示パターンが存在しない部分をＬ（低
レベル）とすれば、ダミーディスク原盤４３にはダミー
ピット９の形成部分の形状によって、目視可能なパター
ンを形成することができる。

【００２９】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者守澤治幸山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニアビデオ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ダミーピットを形成するためのダミーピ
ット形成用パルスを発生する工程と、Ｘ−Ｙ系座標で表現された原画データをＲ−θ系座標に
変換し、光ディスク原盤の回転に同期して前記座標原画
データに基づいて、座標変換原画データパルスを発生す
る工程と、前記ダミーピット形成用パルスを前記座標変換原画デー
タパルスに基づいて選択的に遮断して表示パターン形成
用信号を生成する工程と、前記表示パターン形成用信号に応じて光ビームを変調し
て前記光ディスク原盤を露光し、ダミーピットのない部
分の形で表示パターンを形成する工程とを有することを
特徴とする光ディスク原盤記録方法。