JPH10120656A - 気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法 - Google Patents
気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法Info
- Publication number
- JPH10120656A JPH10120656A JP8299262A JP29926296A JPH10120656A JP H10120656 A JPH10120656 A JP H10120656A JP 8299262 A JP8299262 A JP 8299262A JP 29926296 A JP29926296 A JP 29926296A JP H10120656 A JPH10120656 A JP H10120656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- gas
- reaction
- heterocyclic
- heterocyclic compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複素環化合物の気相接触アンモ酸化による複
素環ニトリルを製造するに際し、アンモニアや酸素の使
用量を大きくしたり、水蒸気を導入したりすることなく
反応を効率よく行い、目的生成物を高収率、高選択率
で、しかも経時的に安定して製造することができる方法
の提供。 【解決手段】 複素環化合物を気相接触流動層反応によ
ってアンモ酸化させ複素環ニトリルを製造するに際し、
この反応を、触媒としてバナジウムおよび／またはモリ
ブデンを含有する金属酸化物触媒を用い、流動層反応器
底部入口に酸素含有ガスを、この酸素含有ガスの入口よ
り上部に複素環化合物とアンモニアをそれぞれ供給し、
かつ反応帯域における複素環化合物の供給口より上部で
流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素含有ガスの供給口よ
り上部で流動化している触媒（Ｗａ）の割合が、重量比
でＷｂ／Ｗａ＝０．０１〜０．９５の範囲である流動層
を形成せしめ、行うことを特徴とする気相アンモ酸化反
応による複素環ニトリルの製造法。
素環ニトリルを製造するに際し、アンモニアや酸素の使
用量を大きくしたり、水蒸気を導入したりすることなく
反応を効率よく行い、目的生成物を高収率、高選択率
で、しかも経時的に安定して製造することができる方法
の提供。 【解決手段】 複素環化合物を気相接触流動層反応によ
ってアンモ酸化させ複素環ニトリルを製造するに際し、
この反応を、触媒としてバナジウムおよび／またはモリ
ブデンを含有する金属酸化物触媒を用い、流動層反応器
底部入口に酸素含有ガスを、この酸素含有ガスの入口よ
り上部に複素環化合物とアンモニアをそれぞれ供給し、
かつ反応帯域における複素環化合物の供給口より上部で
流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素含有ガスの供給口よ
り上部で流動化している触媒（Ｗａ）の割合が、重量比
でＷｂ／Ｗａ＝０．０１〜０．９５の範囲である流動層
を形成せしめ、行うことを特徴とする気相アンモ酸化反
応による複素環ニトリルの製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複素環ニトリルの
製造法に関する。詳しくは、複素環化合物を気相接触流
動層反応によってアンモ酸化させ複素環ニトリルを製造
する方法に関する。
製造法に関する。詳しくは、複素環化合物を気相接触流
動層反応によってアンモ酸化させ複素環ニトリルを製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来技術】気相アンモ酸化による複素環ニトリルの製
造法については種々の提案がある。例えば、特公昭４０
−７５１１号、特公昭４５−１３５７２号、特公昭４９
−３４６７３号、特開昭４７−４５５６号、特開昭５０
−４１８７１号、特開昭５１−８０８６４号、特開昭５
５−１７３６０号、特開昭５６−１３４４４号、特開昭
５７−１５６０３８号、特開昭６３−２０８５７５号、
特開平１−２７５５６４号などの各公報にはアルキル置
換ピリジンからシアノピリジン類の製造法が、特開昭４
９−３０３８２号、特開昭５５−１４５６７２号、特開
昭５７−１５６０３９号、特開平７−８１４４８号など
の各公報にはメチルピラジンからシアノピラジンの製造
法が、特開昭５２−１１５６６号公報にはメチルチアゾ
−ルからシアノチアゾ−ルの製造法が、特開昭６２−９
９３６０号公報にはメチルピリジンおよびメチルピペリ
ジンからシアノピリジンの製造法が、特開昭６３−１０
７５３号、特開昭６３−７２６７５号、特開昭６３−１
５２３６０号、特開昭６４−３１７３０号、特開昭６４
−３１７３１号、特開昭６４−３１７６９号、特開昭６
４−６３５６３号、特開平４−１２６５４８号、特開平
５−１７０７２４号などの各公報にはアルキル置換複素
環化合物から対応するニトリルの製造法が、特開昭６３
−１９０６４６号公報にはアルキル置換複素環化合物、
アルキル置換脂環式化合物から対応するニトリルの製造
法がそれぞれ開示されている。
造法については種々の提案がある。例えば、特公昭４０
−７５１１号、特公昭４５−１３５７２号、特公昭４９
−３４６７３号、特開昭４７−４５５６号、特開昭５０
−４１８７１号、特開昭５１−８０８６４号、特開昭５
５−１７３６０号、特開昭５６−１３４４４号、特開昭
５７−１５６０３８号、特開昭６３−２０８５７５号、
特開平１−２７５５６４号などの各公報にはアルキル置
換ピリジンからシアノピリジン類の製造法が、特開昭４
９−３０３８２号、特開昭５５−１４５６７２号、特開
昭５７−１５６０３９号、特開平７−８１４４８号など
の各公報にはメチルピラジンからシアノピラジンの製造
法が、特開昭５２−１１５６６号公報にはメチルチアゾ
−ルからシアノチアゾ−ルの製造法が、特開昭６２−９
９３６０号公報にはメチルピリジンおよびメチルピペリ
ジンからシアノピリジンの製造法が、特開昭６３−１０
７５３号、特開昭６３−７２６７５号、特開昭６３−１
５２３６０号、特開昭６４−３１７３０号、特開昭６４
−３１７３１号、特開昭６４−３１７６９号、特開昭６
４−６３５６３号、特開平４−１２６５４８号、特開平
５−１７０７２４号などの各公報にはアルキル置換複素
環化合物から対応するニトリルの製造法が、特開昭６３
−１９０６４６号公報にはアルキル置換複素環化合物、
アルキル置換脂環式化合物から対応するニトリルの製造
法がそれぞれ開示されている。
【０００３】これらの方法は、複素環ニトリルの収率が
高いなどの利点を有するものであるが、商業的実施を行
う場合、特に複素環ニトリルを大規模に生産する場合に
は解決すべき点を多々含んでいた。すなわち、複素環化
合物の気相接触アンモ酸化による複素環ニトリル合成反
応では多量の反応熱の発生を伴うので、複素環ニトリル
を大規模に生産しようとすると局部的過熱による燃焼反
応の進行、反応温度制御の困難から生じる副生成物の増
大により、目的生成物である複素環ニトリルの収率が低
下する問題があった。また原料複素環化合物に由来する
有機質炭素の触媒への沈着や触媒の還元劣化などにより
複素環ニトリルの収率が経時的に低下する問題もあっ
た。
高いなどの利点を有するものであるが、商業的実施を行
う場合、特に複素環ニトリルを大規模に生産する場合に
は解決すべき点を多々含んでいた。すなわち、複素環化
合物の気相接触アンモ酸化による複素環ニトリル合成反
応では多量の反応熱の発生を伴うので、複素環ニトリル
を大規模に生産しようとすると局部的過熱による燃焼反
応の進行、反応温度制御の困難から生じる副生成物の増
大により、目的生成物である複素環ニトリルの収率が低
下する問題があった。また原料複素環化合物に由来する
有機質炭素の触媒への沈着や触媒の還元劣化などにより
複素環ニトリルの収率が経時的に低下する問題もあっ
た。
【０００４】このような現象は供給ガス中の原料複素環
化合物の濃度が高いほど顕著である。そのため、通常、
工業的に気相アンモ酸化反応で複素環ニトリルを生産し
ようとする場合には複素環化合物濃度を低める必要があ
った。さらに上記の欠点を解消するためにアンモニアや
酸素の使用量を大きくしたり、水蒸気を大量に加えた
り、また、原料ガス組成を爆発組成範囲から外すために
不活性ガスの導入を考慮しなければならないこともあっ
た。
化合物の濃度が高いほど顕著である。そのため、通常、
工業的に気相アンモ酸化反応で複素環ニトリルを生産し
ようとする場合には複素環化合物濃度を低める必要があ
った。さらに上記の欠点を解消するためにアンモニアや
酸素の使用量を大きくしたり、水蒸気を大量に加えた
り、また、原料ガス組成を爆発組成範囲から外すために
不活性ガスの導入を考慮しなければならないこともあっ
た。
【０００５】このような問題点を解消するために、特開
昭５０−４１８７１号公報、特開平１−２７５５６４号
公報および特開平５−１７０７２４号公報では、アンモ
酸化反応を流動層で実施することを推奨している。しか
し、後述の比較例で示すように単に流動層でアンモ酸化
反応を実施しても触媒活性の経時変化による目的生成物
収率の低下が大きいなど、改善すべき問題点があった。
昭５０−４１８７１号公報、特開平１−２７５５６４号
公報および特開平５−１７０７２４号公報では、アンモ
酸化反応を流動層で実施することを推奨している。しか
し、後述の比較例で示すように単に流動層でアンモ酸化
反応を実施しても触媒活性の経時変化による目的生成物
収率の低下が大きいなど、改善すべき問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記のよう
な従来技術の問題点を解決するためになされたものであ
って、複素環化合物を気相接触流動層反応によってアン
モ酸化させ複素環ニトリルを製造するに際して、アンモ
ニアや酸素の使用量を大きくしたり、水蒸気を導入した
りすることなしに反応を効果的に行い、目的生成物であ
る複素環ニトリルが高収率、高選択率で、しかも経時的
に安定して得られる経済的に有利な製造方法を提供する
ことを目的としてなされたものである。
な従来技術の問題点を解決するためになされたものであ
って、複素環化合物を気相接触流動層反応によってアン
モ酸化させ複素環ニトリルを製造するに際して、アンモ
ニアや酸素の使用量を大きくしたり、水蒸気を導入した
りすることなしに反応を効果的に行い、目的生成物であ
る複素環ニトリルが高収率、高選択率で、しかも経時的
に安定して得られる経済的に有利な製造方法を提供する
ことを目的としてなされたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するために鋭意検討した結果、反応原料の供給
方法を工夫することによって触媒への炭素質物質の蓄積
抑制、触媒の還元劣化抑制などをはかることができ、目
的生成物である複素環ニトリルが効率よく得られるとい
うことを見出し、本発明に到達した。
的を達成するために鋭意検討した結果、反応原料の供給
方法を工夫することによって触媒への炭素質物質の蓄積
抑制、触媒の還元劣化抑制などをはかることができ、目
的生成物である複素環ニトリルが効率よく得られるとい
うことを見出し、本発明に到達した。
【０００８】すなわち、本発明は、複素環化合物を気相
接触流動層反応によってアンモ酸化させ複素環ニトリル
を製造するに際し、この反応を、触媒としてバナジウム
および／またはモリブデンを含有する金属酸化物触媒を
用い、流動層反応器底部入口に酸素含有ガスを、この酸
素含有ガスの入口より上部に複素環化合物とアンモニア
をそれぞれ供給し、かつ反応帯域における複素環化合物
の供給口より上部で流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素
含有ガスの供給口より上部で流動化している触媒（Ｗ
ａ）の割合が、重量比でＷｂ／Ｗａ＝０．０１〜０．９
５の範囲である流動層を形成せしめ、行うことを特徴と
する気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法
に関する。
接触流動層反応によってアンモ酸化させ複素環ニトリル
を製造するに際し、この反応を、触媒としてバナジウム
および／またはモリブデンを含有する金属酸化物触媒を
用い、流動層反応器底部入口に酸素含有ガスを、この酸
素含有ガスの入口より上部に複素環化合物とアンモニア
をそれぞれ供給し、かつ反応帯域における複素環化合物
の供給口より上部で流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素
含有ガスの供給口より上部で流動化している触媒（Ｗ
ａ）の割合が、重量比でＷｂ／Ｗａ＝０．０１〜０．９
５の範囲である流動層を形成せしめ、行うことを特徴と
する気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法
に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下，本発明を具体的に説明す
る。本発明が対象としている気相接触流動層反応は、複
素環化合物と酸素含有ガスとアンモニアの反応、所謂複
素環化合物のアンモ酸化反応である。本発明で用いられ
る原料複素環化合物は、フラン、ピロ−ル、インド−
ル、チオフェン、ピラゾ−ル、イミダゾ−ル、チアゾ−
ル、オキサゾ−ル、ピラン、ピリジン、キノリン、イソ
キノリン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、オキソ
ラン、ピロリン、ピロリジン、チオラン、イミダゾリ
ン、イミダゾリジン、オキサン、ピペリジンおよびピペ
ラジンから選ばれる複素環を含有し、その側鎖にメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ホルミル
基、アセチル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチ
ル基、ヒドロキシイソプロピル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基お
よびイソプロポキシカルボニル基から選ばれた少なくと
も一種を含有する複素環化合物である。また、複素環化
合物はハロゲン基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、
アミノ基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基等の置換基
を含有してもよい。
る。本発明が対象としている気相接触流動層反応は、複
素環化合物と酸素含有ガスとアンモニアの反応、所謂複
素環化合物のアンモ酸化反応である。本発明で用いられ
る原料複素環化合物は、フラン、ピロ−ル、インド−
ル、チオフェン、ピラゾ−ル、イミダゾ−ル、チアゾ−
ル、オキサゾ−ル、ピラン、ピリジン、キノリン、イソ
キノリン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、オキソ
ラン、ピロリン、ピロリジン、チオラン、イミダゾリ
ン、イミダゾリジン、オキサン、ピペリジンおよびピペ
ラジンから選ばれる複素環を含有し、その側鎖にメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ホルミル
基、アセチル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチ
ル基、ヒドロキシイソプロピル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基お
よびイソプロポキシカルボニル基から選ばれた少なくと
も一種を含有する複素環化合物である。また、複素環化
合物はハロゲン基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、
アミノ基、ニトロ基、シアノ基、フェニル基等の置換基
を含有してもよい。
【００１０】好ましい複素環化合物としては、フルフラ
−ル、２−メチルチオフェン、３−メチルチオフェン、
２−ホルミルチオフェン、４−メチルチアゾ−ル、２−
メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−メチルピリ
ジン、２，３−ジメチルピリジン、２，４−ジメチルピ
リジン、２，５−ジメチルピリジン、２，６−ジメチル
ピリジン、３，４−ジメチルピリジン、３，５−ジメチ
ルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、２，
４，６−トリメチルピリジン、２−メチルキノリン、３
−メチルキノリン、４−メチルキノリン、２−メチルピ
ラジン、２，５−ジメチルピラジン、２−メチルピペリ
ジン、３−メチルピペリジン、４−メチルピペリジン、
２−メチルピペラジン等である。これらの複素環化合物
は単独あるいは混合物で使用できる。
−ル、２−メチルチオフェン、３−メチルチオフェン、
２−ホルミルチオフェン、４−メチルチアゾ−ル、２−
メチルピリジン、３−メチルピリジン、４−メチルピリ
ジン、２，３−ジメチルピリジン、２，４−ジメチルピ
リジン、２，５−ジメチルピリジン、２，６−ジメチル
ピリジン、３，４−ジメチルピリジン、３，５−ジメチ
ルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、２，
４，６−トリメチルピリジン、２−メチルキノリン、３
−メチルキノリン、４−メチルキノリン、２−メチルピ
ラジン、２，５−ジメチルピラジン、２−メチルピペリ
ジン、３−メチルピペリジン、４−メチルピペリジン、
２−メチルピペラジン等である。これらの複素環化合物
は単独あるいは混合物で使用できる。
【００１１】アンモニアは工業用のものを用いることが
できる。酸素含有ガスとしては、通常、空気が好んで用
いられるが、これを酸素で冨化して用いてもよい。ま
た、窒素、水蒸気、炭酸ガスなど適当な希釈剤を併用し
てもよい。
できる。酸素含有ガスとしては、通常、空気が好んで用
いられるが、これを酸素で冨化して用いてもよい。ま
た、窒素、水蒸気、炭酸ガスなど適当な希釈剤を併用し
てもよい。
【００１２】本発明における流動層反応による複素環化
合物のアンモ酸化は、いかなる形式の流動層反応器を用
いてもよいが、反応器はその頂部にサイクロンを内蔵
し、ディプレック下端が酸素含有ガスの供給口と複素環
化合物の供給口の中間に位置することが望ましい。好ま
しい一つの実施態様としては、たとえば、図１に示され
るものがある。なお、この図１に具体的に記載されてい
る範囲内のみに本発明が限定されるものではない。流動
層反応器１には触媒が充填されている。酸素含有ガスは
供給路２を経由してガス導入口Ａから、複素環化合物お
よび必要によりアンモニアは供給路３を経由してガス導
入口Ａより上部にあるガス導入口Ｂから、それぞれ流動
層反応器１に供給される。ガス流に同伴された触媒粒子
は、反応器の頂部のサイクロンでガス流から分離され、
触媒層下部へ戻る。触媒粒子を分離した反応ガスは流動
層反応器１から排出される。
合物のアンモ酸化は、いかなる形式の流動層反応器を用
いてもよいが、反応器はその頂部にサイクロンを内蔵
し、ディプレック下端が酸素含有ガスの供給口と複素環
化合物の供給口の中間に位置することが望ましい。好ま
しい一つの実施態様としては、たとえば、図１に示され
るものがある。なお、この図１に具体的に記載されてい
る範囲内のみに本発明が限定されるものではない。流動
層反応器１には触媒が充填されている。酸素含有ガスは
供給路２を経由してガス導入口Ａから、複素環化合物お
よび必要によりアンモニアは供給路３を経由してガス導
入口Ａより上部にあるガス導入口Ｂから、それぞれ流動
層反応器１に供給される。ガス流に同伴された触媒粒子
は、反応器の頂部のサイクロンでガス流から分離され、
触媒層下部へ戻る。触媒粒子を分離した反応ガスは流動
層反応器１から排出される。
【００１３】アンモニアは複素環化合物とは別に供給す
ることができる。特に、複素環化合物がホルミル基を含
有する場合には、複素環化合物とアンモニアとは別々の
ガス導入口から流動層反応器内に供給することが望まし
い。アンモニアの導入口は必ずしも複素環化合物の導入
口と同一平面上にある必要はなく、その上部または下部
に位置しても差し支えない。また、アンモニアはその一
部を酸素含有ガスと混合して供給しても良いし、複素環
化合物等には酸素含有ガスの一部を混合して流動層反応
器１へ供給することもできる。
ることができる。特に、複素環化合物がホルミル基を含
有する場合には、複素環化合物とアンモニアとは別々の
ガス導入口から流動層反応器内に供給することが望まし
い。アンモニアの導入口は必ずしも複素環化合物の導入
口と同一平面上にある必要はなく、その上部または下部
に位置しても差し支えない。また、アンモニアはその一
部を酸素含有ガスと混合して供給しても良いし、複素環
化合物等には酸素含有ガスの一部を混合して流動層反応
器１へ供給することもできる。
【００１４】前記流動層反応器１において、酸素含有ガ
スの導入口から反応器の頂部に設置されているサイクロ
ンの入口までが主たる反応帯域である。複素環化合物の
供給口より上部で流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素含
有ガスの供給口より上部で流動化している触媒（Ｗａ）
の割合が、特定範囲にあるとき複素環ニトリルが効率よ
く製造できる。すなわち、重量比でＷｂ／Ｗａ＝０．０
１〜０．９５、好ましくは０．０５〜０．９の範囲の値
であるとき、複素環化合物の濃度が広い範囲でアンモ酸
化反応が可能となり、またアンモニアモル比を過大にし
たり、水蒸気などを導入することなしに複素環ニトリル
が高収率、高選択率で、しかも経時安定的に得られる。
Ｗｂ／Ｗａが０．９５を越えると、目的生成物である複
素環ニトリルの収率、選択率は低くなる傾向にあり、ま
た反応速度、選択率の経時変化が大きくなる。Ｗｂ／Ｗ
ａが０．０１未満では反応装置が過大となり実用的でな
くなる。
スの導入口から反応器の頂部に設置されているサイクロ
ンの入口までが主たる反応帯域である。複素環化合物の
供給口より上部で流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素含
有ガスの供給口より上部で流動化している触媒（Ｗａ）
の割合が、特定範囲にあるとき複素環ニトリルが効率よ
く製造できる。すなわち、重量比でＷｂ／Ｗａ＝０．０
１〜０．９５、好ましくは０．０５〜０．９の範囲の値
であるとき、複素環化合物の濃度が広い範囲でアンモ酸
化反応が可能となり、またアンモニアモル比を過大にし
たり、水蒸気などを導入することなしに複素環ニトリル
が高収率、高選択率で、しかも経時安定的に得られる。
Ｗｂ／Ｗａが０．９５を越えると、目的生成物である複
素環ニトリルの収率、選択率は低くなる傾向にあり、ま
た反応速度、選択率の経時変化が大きくなる。Ｗｂ／Ｗ
ａが０．０１未満では反応装置が過大となり実用的でな
くなる。
【００１５】触媒の重量ＷｂおよびＷａは次式の定義に
よる。 Ｗｂ＝（Ｐｂ−Ｐｏ）×Ａ Ｗａ＝（Ｐａ−Ｐｏ）×Ａ ただし、Ｐａは前記導入口Ａ、Ｐｂは前記ガス導入口Ｂ
付近の流動層内の静圧、Ｐｏは反応ガスが流動層外へ排
出する直前の流動層内の静圧、Ａは流動層断面積を示
す。
よる。 Ｗｂ＝（Ｐｂ−Ｐｏ）×Ａ Ｗａ＝（Ｐａ−Ｐｏ）×Ａ ただし、Ｐａは前記導入口Ａ、Ｐｂは前記ガス導入口Ｂ
付近の流動層内の静圧、Ｐｏは反応ガスが流動層外へ排
出する直前の流動層内の静圧、Ａは流動層断面積を示
す。
【００１６】本発明で用いられる触媒は、バナジウム
（以下、Ｖと記述する）および／またはモリブデン（以
下、Ｍｏと記述する）を含有する金属酸化物触媒であ
る。好ましくはＶおよび／またはＭｏを含有し、かつＬ
ｉ、Ｎa 、Ｋ、Ｃs 、Ｍg 、Ｃa、Ｌa 、Ｃe 、Ｔｉ、
Ｚr 、Ｎb 、Ｔa 、Ｃr 、Ｗ、Ｍn 、Ｒe 、Ｆe 、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃu 、Ａg 、Ｚn 、Ｂ、Ａl 、Ｓｉ、Ｇe 、
Ｓn 、Ｐb 、Ｐ、Ｓb 、ＢｉおよびＴｅからなる群より
選ばれた少なくとも一種の元素を含有してなる金属酸化
物触媒である。より好ましくは下記の実験式で表わされ
る組成を有する金属酸化物触媒である。 Ｆｅa Ｓｂb Ｘc Ｑd Ｒe Ｏf （ＳｉＯ2 ）g （ただし、ＸはＶおよび／またはＭｏを示し、ＱはＬ
ｉ、Ｎa 、Ｋ、Ｃs 、Ｍg 、Ｃa 、Ｌa 、Ｃe 、Ｔｉ、
Ｚr 、Ｎb 、Ｔa 、Ｃr 、Ｗ、Ｍn 、Ｒe 、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃu 、Ａg 、Ｚn 、Ａl 、Ｇe 、Ｓn およびＰb か
らなる群より選ばれた少なくとも一種の元素を示し、Ｒ
はＰ、Ｂ、ＢｉおよびＴｅからなる群から選ばれた少な
くとも一種の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ
およびｇは原子比を示し、ａ＝５〜１５、ｂ＝５〜１０
０（好ましくは１０〜６０）、ｃ＝０．０１〜１２（好
ましくは０．１〜１０）、ｄ＝０〜１５、ｅ＝０〜１
０、ｆ＝上記各成分が結合して生成する酸化物に対応す
る数およびｇ＝１０〜２００の範囲である。）
（以下、Ｖと記述する）および／またはモリブデン（以
下、Ｍｏと記述する）を含有する金属酸化物触媒であ
る。好ましくはＶおよび／またはＭｏを含有し、かつＬ
ｉ、Ｎa 、Ｋ、Ｃs 、Ｍg 、Ｃa、Ｌa 、Ｃe 、Ｔｉ、
Ｚr 、Ｎb 、Ｔa 、Ｃr 、Ｗ、Ｍn 、Ｒe 、Ｆe 、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃu 、Ａg 、Ｚn 、Ｂ、Ａl 、Ｓｉ、Ｇe 、
Ｓn 、Ｐb 、Ｐ、Ｓb 、ＢｉおよびＴｅからなる群より
選ばれた少なくとも一種の元素を含有してなる金属酸化
物触媒である。より好ましくは下記の実験式で表わされ
る組成を有する金属酸化物触媒である。 Ｆｅa Ｓｂb Ｘc Ｑd Ｒe Ｏf （ＳｉＯ2 ）g （ただし、ＸはＶおよび／またはＭｏを示し、ＱはＬ
ｉ、Ｎa 、Ｋ、Ｃs 、Ｍg 、Ｃa 、Ｌa 、Ｃe 、Ｔｉ、
Ｚr 、Ｎb 、Ｔa 、Ｃr 、Ｗ、Ｍn 、Ｒe 、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃu 、Ａg 、Ｚn 、Ａl 、Ｇe 、Ｓn およびＰb か
らなる群より選ばれた少なくとも一種の元素を示し、Ｒ
はＰ、Ｂ、ＢｉおよびＴｅからなる群から選ばれた少な
くとも一種の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ
およびｇは原子比を示し、ａ＝５〜１５、ｂ＝５〜１０
０（好ましくは１０〜６０）、ｃ＝０．０１〜１２（好
ましくは０．１〜１０）、ｄ＝０〜１５、ｅ＝０〜１
０、ｆ＝上記各成分が結合して生成する酸化物に対応す
る数およびｇ＝１０〜２００の範囲である。）
【００１７】流動層触媒の製造法としては、この種の技
術分野で知られている任意の方法が用いられる。例え
ば、各成分原料より調製したスラリ−を適当な手段で噴
霧乾燥して微粒状に成型し、それを焼成することによっ
て製造することができる。殊に、上記のＦｅ、Ｓｂ、Ｖ
および／またはＭｏを必須成分として含む流動層触媒の
製法としては、結晶性鉄アンチモネ−トとバナジウムお
よび／またはモリブデンを含む水性スラリ−を調製し、
ついでこのスラリ−を噴霧乾燥した後、焼成する方法を
用いるのがよい（特開平４−１２６５４８号公報参
照）。触媒の粒径は、約１０〜５００μｍの範囲、平均
粒径は約３０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１００μ
ｍの範囲である。触媒のかさ密度は、０．５〜２ｇ／ｃ
ｍ3 、好ましくは０．７〜１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲であ
る。
術分野で知られている任意の方法が用いられる。例え
ば、各成分原料より調製したスラリ−を適当な手段で噴
霧乾燥して微粒状に成型し、それを焼成することによっ
て製造することができる。殊に、上記のＦｅ、Ｓｂ、Ｖ
および／またはＭｏを必須成分として含む流動層触媒の
製法としては、結晶性鉄アンチモネ−トとバナジウムお
よび／またはモリブデンを含む水性スラリ−を調製し、
ついでこのスラリ−を噴霧乾燥した後、焼成する方法を
用いるのがよい（特開平４−１２６５４８号公報参
照）。触媒の粒径は、約１０〜５００μｍの範囲、平均
粒径は約３０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１００μ
ｍの範囲である。触媒のかさ密度は、０．５〜２ｇ／ｃ
ｍ3 、好ましくは０．７〜１．５ｇ／ｃｍ3 の範囲であ
る。
【００１８】流動層反応器に供給する原料ガス中の複素
環化合物の濃度は０．３〜１５ｖｏｌ％、好ましくは
０．５〜１０ｖｏｌ％の範囲である。アンモニア／複素
環化合物のモル比は０．７〜１５、好ましくは１．０〜
１０の範囲、酸素／複素環化合物のモル比は２〜４０、
好ましくは２．５〜３０の範囲である。
環化合物の濃度は０．３〜１５ｖｏｌ％、好ましくは
０．５〜１０ｖｏｌ％の範囲である。アンモニア／複素
環化合物のモル比は０．７〜１５、好ましくは１．０〜
１０の範囲、酸素／複素環化合物のモル比は２〜４０、
好ましくは２．５〜３０の範囲である。
【００１９】反応温度は２００〜５００℃、好ましくは
２５０〜４６０℃の範囲である。反応圧力は常圧、加
圧、減圧いずれでもよいが、常圧付近から２ｋｇ／ｃｍ
3 Ｇの範囲が適当である。接触時間は反応温度および反
応圧力におけるガス容積を基準として０．０１〜２０
秒、好ましくは０．０５〜１０秒の範囲、特に好ましく
は０．１〜６秒の範囲である。接触時間は次式で求めら
れる。 接触時間：θ＝Ｗｂ／Ｄ・Ｑ ただし、Ｄは触媒の粗かさ密度、Ｑは単位時間当りの原
料ガス供給量（容積）である。
２５０〜４６０℃の範囲である。反応圧力は常圧、加
圧、減圧いずれでもよいが、常圧付近から２ｋｇ／ｃｍ
3 Ｇの範囲が適当である。接触時間は反応温度および反
応圧力におけるガス容積を基準として０．０１〜２０
秒、好ましくは０．０５〜１０秒の範囲、特に好ましく
は０．１〜６秒の範囲である。接触時間は次式で求めら
れる。 接触時間：θ＝Ｗｂ／Ｄ・Ｑ ただし、Ｄは触媒の粗かさ密度、Ｑは単位時間当りの原
料ガス供給量（容積）である。
【００２０】
【実施例】以下、実施例によって本発明の実施態様およ
び効果を具体的に説明するが本発明はこの実施例のみに
限定されるものではない。
び効果を具体的に説明するが本発明はこの実施例のみに
限定されるものではない。
【００２１】反応に供した触媒とその調製法は次のとお
りである。 〔触媒Ａ〕実験式がＦｅ10Ｓｂ17Ｖ3 Ｃｒ4 Ｐ0.7 Ｍｏ
0.5 Ｋ0.5 Ｏ66.0（ＳｉＯ2 ）40である流動層触媒を次
のようにして調製した。 (Ｉ) 三酸化アンチモン粉末１．７５ｋｇをとる。 （II）硝酸（比重１．３８）３．１リットルと純水３．
８リットルとを混合して加温し、この中に電解鉄粉３９
４ｇを少しずつ加えて溶解させる。 (III)シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２０ｗｔ％）８．５０ｋ
ｇをとる。 （II）に (III)、 (Ｉ) の順に、よく攪拌しながら加
え、１５％アンモニア水によりｐＨ２に調整する。この
スラリ−を攪拌しながら１００℃、３時間加熱処理し
た。 (IV) リン酸（含量８５％）５６．８ｇをとる。 (Ｖ) 硝酸クロム１．１３ｋｇを純水３．５リットルに
溶解する。 （VI) メタバナジン酸アンモニウム２４８ｇを純水１．
７リットルに加え、加熱し、蓚酸５１７ｇを少しずつ加
え溶解させる。 (VII)パラモリブデン酸アンモニウム６２．０ｇを純水
４００ｍｌに溶解する。 (VIII) 硝酸カリウム３５．３ｇを純水１００ｍｌに溶
解する。 上に調製したスラリ−に (IV) 、 (Ｖ) 、（VI) 、 (VI
I)、 (VIII) を加え、よく攪拌する。このようなスラリ
−を回転円盤式の噴霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。
得られた微細な球状粒子を２００℃で２時間、４００℃
で３時間焼成した。最終焼成は８１０℃、４時間で行っ
た。
りである。 〔触媒Ａ〕実験式がＦｅ10Ｓｂ17Ｖ3 Ｃｒ4 Ｐ0.7 Ｍｏ
0.5 Ｋ0.5 Ｏ66.0（ＳｉＯ2 ）40である流動層触媒を次
のようにして調製した。 (Ｉ) 三酸化アンチモン粉末１．７５ｋｇをとる。 （II）硝酸（比重１．３８）３．１リットルと純水３．
８リットルとを混合して加温し、この中に電解鉄粉３９
４ｇを少しずつ加えて溶解させる。 (III)シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２０ｗｔ％）８．５０ｋ
ｇをとる。 （II）に (III)、 (Ｉ) の順に、よく攪拌しながら加
え、１５％アンモニア水によりｐＨ２に調整する。この
スラリ−を攪拌しながら１００℃、３時間加熱処理し
た。 (IV) リン酸（含量８５％）５６．８ｇをとる。 (Ｖ) 硝酸クロム１．１３ｋｇを純水３．５リットルに
溶解する。 （VI) メタバナジン酸アンモニウム２４８ｇを純水１．
７リットルに加え、加熱し、蓚酸５１７ｇを少しずつ加
え溶解させる。 (VII)パラモリブデン酸アンモニウム６２．０ｇを純水
４００ｍｌに溶解する。 (VIII) 硝酸カリウム３５．３ｇを純水１００ｍｌに溶
解する。 上に調製したスラリ−に (IV) 、 (Ｖ) 、（VI) 、 (VI
I)、 (VIII) を加え、よく攪拌する。このようなスラリ
−を回転円盤式の噴霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。
得られた微細な球状粒子を２００℃で２時間、４００℃
で３時間焼成した。最終焼成は８１０℃、４時間で行っ
た。
【００２２】〔触媒Ｂ〕実験式がＦｅ10Ｓｂ20Ｖ7 Ｃｒ
0.5 Ｐ1.2 ＣS 0.2 Ｏ76.35 （ＳｉＯ2 ）60である流動
層触媒を触媒Ａと同様にして調製した。ただし、触媒の
最終焼成は８１０℃、４時間で行った。
0.5 Ｐ1.2 ＣS 0.2 Ｏ76.35 （ＳｉＯ2 ）60である流動
層触媒を触媒Ａと同様にして調製した。ただし、触媒の
最終焼成は８１０℃、４時間で行った。
【００２３】〔触媒Ｃ〕実験式がＦｅ10Ｓｂ23Ｖ4 Ｃｒ
3.5 Ｃｕ0.5 Ｚｎ1 Ｏ77.75 （ＳｉＯ2 ）50である流動
層触媒を触媒Ａと同様にして調製した。ただし、触媒の
最終焼成は７９０℃、４時間で行った。
3.5 Ｃｕ0.5 Ｚｎ1 Ｏ77.75 （ＳｉＯ2 ）50である流動
層触媒を触媒Ａと同様にして調製した。ただし、触媒の
最終焼成は７９０℃、４時間で行った。
【００２４】〔触媒Ｄ〕実験式がＭｏ15Ｆｅ8 Ｃｏ1 Ｐ
0.5 Ｏ59.25 （ＳｉＯ2 ）30である流動層触媒を次のよ
うにして調製した。純水７．７８リットルに硝酸鉄３．
８６ｋｇを溶解した後、シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２０．
４％）１０．５ｋｇを添加する。これに、硝酸コバルト
３５０ｇを純水１ｋｇに溶解した溶液、ついで６８ｇの
リン酸（含量８５．３％）、最後にパラモリブデン酸ア
ンモニウム３．１４ｋｇを純水１８．７リットルに溶解
した溶液を加える。これを１００℃、２時間加熱処理し
た。このようにして得られたスラリーを回転円盤式の噴
霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。得られた微細な球状
粒子を４００℃で２時間焼成した。最終焼成は５５０
℃、３時間で行った。
0.5 Ｏ59.25 （ＳｉＯ2 ）30である流動層触媒を次のよ
うにして調製した。純水７．７８リットルに硝酸鉄３．
８６ｋｇを溶解した後、シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２０．
４％）１０．５ｋｇを添加する。これに、硝酸コバルト
３５０ｇを純水１ｋｇに溶解した溶液、ついで６８ｇの
リン酸（含量８５．３％）、最後にパラモリブデン酸ア
ンモニウム３．１４ｋｇを純水１８．７リットルに溶解
した溶液を加える。これを１００℃、２時間加熱処理し
た。このようにして得られたスラリーを回転円盤式の噴
霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。得られた微細な球状
粒子を４００℃で２時間焼成した。最終焼成は５５０
℃、３時間で行った。
【００２５】〔触媒Ｅ〕実験式がＶ10Ｐ10Ｎｉ0.5 Ｏ
50.5（ＳｉＯ2 ）40である流動層触媒を次のようにして
調製した。純水６リットルにシュウ酸１．８ｋｇを溶解
し、さらに五酸化バナジウム１．０１ｋｇを加えて溶解
させる。完全に溶解したら硝酸ニッケル１６１．６ｇを
純水３００ｇに溶解した溶液、ついで８５．３％リン酸
１．２８ｋｇを加える。この溶液を１００℃で３時間加
熱処理した。加熱処理後、シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２
０．４％）１３．１ｋｇを加え、よく攪拌する。このよ
うにして得られたスラリーを回転円盤式の噴霧乾燥装置
を用いて噴霧乾燥した。得られた微細な球状粒子を２５
０℃で４時間焼成した。最終焼成は７５０℃、２時間で
行った。
50.5（ＳｉＯ2 ）40である流動層触媒を次のようにして
調製した。純水６リットルにシュウ酸１．８ｋｇを溶解
し、さらに五酸化バナジウム１．０１ｋｇを加えて溶解
させる。完全に溶解したら硝酸ニッケル１６１．６ｇを
純水３００ｇに溶解した溶液、ついで８５．３％リン酸
１．２８ｋｇを加える。この溶液を１００℃で３時間加
熱処理した。加熱処理後、シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２
０．４％）１３．１ｋｇを加え、よく攪拌する。このよ
うにして得られたスラリーを回転円盤式の噴霧乾燥装置
を用いて噴霧乾燥した。得られた微細な球状粒子を２５
０℃で４時間焼成した。最終焼成は７５０℃、２時間で
行った。
【００２６】活性試験方法は次のとおりである。図１に
示すような触媒流動部の内径が５cmの流動層反応器に触
媒を充填し、複素環化合物、アンモニアおよび空気を供
給した。反応圧力は常圧である。
示すような触媒流動部の内径が５cmの流動層反応器に触
媒を充填し、複素環化合物、アンモニアおよび空気を供
給した。反応圧力は常圧である。
【００２７】転化率および収率は以下の定義による。
【００２８】実施例および比較例 反応器へ下記の表１に示す条件にて原料ガスを供給し
た。その結果を表２に示す。
た。その結果を表２に示す。
【表１】
【００２９】
【表２】
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、複素環化合物を気相接
触流動層反応によってアンモ酸化させ複素環ニトリルを
製造するに際して、アンモニアや酸素の使用量を大きく
したり、水蒸気を導入することなしに反応を効率よく行
うことができ、目的生成物である複素環ニトリルを高収
率、高選択率で、しかも経時的に安定して得られる。
触流動層反応によってアンモ酸化させ複素環ニトリルを
製造するに際して、アンモニアや酸素の使用量を大きく
したり、水蒸気を導入することなしに反応を効率よく行
うことができ、目的生成物である複素環ニトリルを高収
率、高選択率で、しかも経時的に安定して得られる。
【図１】本発明の方法を実施するための反応器概略図。
１ 流動層反応器 ２ 酸素含有ガス供給路 ３ 複素環化合物含有ガス供給路 ４ 反応帯域 ５ 反応ガス排出路 Ａ 酸素含有ガス導入口 Ｂ 複素環化合物含有ガス導入口
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 241/24 Ｃ０７Ｄ 241/24 333/38 333/38 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 森下 和男 神奈川県横浜市鶴見区大黒町10番１号 日 東化学工業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 複素環化合物を気相接触流動層反応によ
ってアンモ酸化させ複素環ニトリルを製造するに際し、
この反応を、触媒としてバナジウムおよび／またはモリ
ブデンを含有する金属酸化物触媒を用い、流動層反応器
底部入口に酸素含有ガスを、この酸素含有ガスの入口よ
り上部に複素環化合物とアンモニアをそれぞれ供給し、
かつ反応帯域における複素環化合物の供給口より上部で
流動化している触媒（Ｗｂ）と酸素含有ガスの供給口よ
り上部で流動化している触媒（Ｗａ）の割合が、重量比
でＷｂ／Ｗａ＝０．０１〜０．９５の範囲である流動層
を形成せしめ、行うことを特徴とする気相アンモ酸化反
応による複素環ニトリルの製造法。 - 【請求項２】 触媒が、（１）Ｖおよび／またはＭｏと
（２）Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｐ、Ｓｂ、ＢｉおよびＴｅより
なる群から選ばれた少なくとも一種の元素を含有する金
属酸化物触媒である請求項１記載の気相アンモ酸化反応
による複素環ニトリルの製造法。 - 【請求項３】 酸素含有ガスの入口より上部に、複素環
化合物とアンモニアの混合物を供給する請求項１記載の
気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8299262A JPH10120656A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法 |
| US08/951,463 US6187943B1 (en) | 1996-10-24 | 1997-10-16 | Process for preparing carbocyclic or heterocyclic nitriles by vapor phase ammoxidation |
| CN97125976.3A CN1116277C (zh) | 1996-10-24 | 1997-10-23 | 通过汽相氨氧化反应制备碳环或杂环腈的方法 |
| DE19746883A DE19746883A1 (de) | 1996-10-24 | 1997-10-23 | Verfahren zur Herstellung carbocyclischer oder heterocyclischer Nitrile durch Gasphasenammoxidation |
| US09/629,418 US6392048B1 (en) | 1996-10-24 | 2000-07-31 | Process for preparing carbocyclic or heterocyclic nitriles by vapor phase ammoxidation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8299262A JPH10120656A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120656A true JPH10120656A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=17870270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8299262A Pending JPH10120656A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 気相アンモ酸化反応による複素環ニトリルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10120656A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001187783A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Koei Chem Co Ltd | シアノイソキノリン類の製造方法 |
| JP2002088043A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ニトリル化合物の製造方法 |
| JP2005289962A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Ms Jubilant Organosys Ltd | シアノピラジンの製造方法 |
| CN113976151A (zh) * | 2021-11-11 | 2022-01-28 | 鞍山七彩化学股份有限公司 | 四氢呋喃合成丁二腈的催化剂以及方法 |
-
1996
- 1996-10-24 JP JP8299262A patent/JPH10120656A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001187783A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Koei Chem Co Ltd | シアノイソキノリン類の製造方法 |
| JP2002088043A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ニトリル化合物の製造方法 |
| JP2005289962A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Ms Jubilant Organosys Ltd | シアノピラジンの製造方法 |
| CN113976151A (zh) * | 2021-11-11 | 2022-01-28 | 鞍山七彩化学股份有限公司 | 四氢呋喃合成丁二腈的催化剂以及方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111097468B (zh) | 烷基吡啶氨氧化催化剂及其制备方法 | |
| US6392048B1 (en) | Process for preparing carbocyclic or heterocyclic nitriles by vapor phase ammoxidation | |
| CN103467370B (zh) | 氰基吡啶及其衍生物的合成方法 | |
| JP2615819B2 (ja) | シアノピリジンの製造法 | |
| JP2007075819A (ja) | アンモノ酸化に適する担体触媒 | |
| JPH03106839A (ja) | イソブタンの接触酸化によるメタクリル酸および／またはメタクロレインの製造方法 | |
| US20070213210A1 (en) | Process for the production of hetreroaromatic nitriles, improved catalyst therefor and a process for the production of said improved catalyst | |
| KR0120264B1 (ko) | 니트릴의 제조방법 | |
| JPH0596B2 (ja) | ||
| JPS5850215B2 (ja) | 置換ピリジンの製法 | |
| AU729717B2 (en) | Process for production of prussic acid | |
| JP2006513852A (ja) | Ｔｉ−架橋粘土ベースのバナジウム触媒とその調製法 | |
| US4778890A (en) | Process for preparing nitriles | |
| US3803156A (en) | Process for the preparation of pyridinecarboxylic acid | |
| JP4302793B2 (ja) | ヘテロ芳香族アルデヒド類の製造方法 | |
| JP3078596B2 (ja) | アミノ置換シアノピリジン類の製造法 | |
| EP0253360B1 (en) | Process for preparing nitriles | |
| JP4723090B2 (ja) | ヘテロ芳香族アルデヒド類の製造方法 | |
| JPH08295672A (ja) | シアノピリジンの製造法 | |
| JP4321880B2 (ja) | ２−メチル−１，５−ペンタンジアミンからの３−シアノピリジンの製造方法 | |
| JP4161119B2 (ja) | アルキルピリジンの酸化アンモノリシス | |
| JP2604165B2 (ja) | ニトリル類の製法 | |
| JPWO2000037446A1 (ja) | ヘテロ芳香族アルデヒド類の製造方法 | |
| US6013800A (en) | Solid catalyst for preparing nitriles and its preparation | |
| JP3941121B2 (ja) | アルキルピリジンの酸化アンモノリシスのための触媒組成物 |