JPH10122144A - クライオトラップ - Google Patents
クライオトラップInfo
- Publication number
- JPH10122144A JPH10122144A JP28923696A JP28923696A JPH10122144A JP H10122144 A JPH10122144 A JP H10122144A JP 28923696 A JP28923696 A JP 28923696A JP 28923696 A JP28923696 A JP 28923696A JP H10122144 A JPH10122144 A JP H10122144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- panel
- cryotrap
- cooling panel
- cooling
- heat conduction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水分子と水素分子の排気性能を改善し、構造
が簡素で、比較的小さいサイズで製作でき、効率的かつ
実用的であり、特に産業設備として有用なクライオトラ
ップを提供する。 【解決手段】 冷却パネル14を備えたヘリウム冷凍機12
を有し、ヘリウム冷凍機により冷却パネルを冷却し水分
子を排気し、さらに水素吸蔵合金からなる吸着パネル15
を内部に組み込み、吸着パネルで水素分子を排気する。
吸着パネルはクライオトラップ容器の内面11に設けられ
る。吸着パネルを再活性化し冷却パネルを加熱ベーキン
グするための加熱機構21を備える。冷却パネルとヘリウ
ム冷凍機は熱伝導特性を変化させる機構31,36 で結合さ
れる。
が簡素で、比較的小さいサイズで製作でき、効率的かつ
実用的であり、特に産業設備として有用なクライオトラ
ップを提供する。 【解決手段】 冷却パネル14を備えたヘリウム冷凍機12
を有し、ヘリウム冷凍機により冷却パネルを冷却し水分
子を排気し、さらに水素吸蔵合金からなる吸着パネル15
を内部に組み込み、吸着パネルで水素分子を排気する。
吸着パネルはクライオトラップ容器の内面11に設けられ
る。吸着パネルを再活性化し冷却パネルを加熱ベーキン
グするための加熱機構21を備える。冷却パネルとヘリウ
ム冷凍機は熱伝導特性を変化させる機構31,36 で結合さ
れる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はクライオトラップに
関し、特に、ヘリウム冷凍機に接続された冷却パネルで
の気体の凝縮作用を利用して水分子を排気でき、加えて
吸着パネルを備えることにより水素分子も排気できるク
ライオトラップに関する。
関し、特に、ヘリウム冷凍機に接続された冷却パネルで
の気体の凝縮作用を利用して水分子を排気でき、加えて
吸着パネルを備えることにより水素分子も排気できるク
ライオトラップに関する。
【0002】
【従来の技術】クライオトラップは、通常、機械式の1
段型ヘリウム冷凍機を用いる。当該ヘリウム冷凍機に接
続された冷却パネルは55〜120K程度に冷却され、
その冷却面での気体の凝縮作用を利用して、被排気対象
である容器内の水分子が主に排気される。冷却パネルの
冷却面の温度は、水分子だけを効率よく排気しかつ目的
とする到達圧力以下にまで到達させるため、55〜12
0K程度に保持される。目的とする到達圧力が比較的高
い場合には160K程度の温度レベルでも使用できる。
冷却パネルは、一般に熱伝導特性の良い銅または銅合金
で形成され、表面にニッケルメッキなどが施され、スム
ーズな金属表面を持つように形成される。限定された適
用範囲では、アルミ合金やステンレス等も冷却パネルと
して用いられる。
段型ヘリウム冷凍機を用いる。当該ヘリウム冷凍機に接
続された冷却パネルは55〜120K程度に冷却され、
その冷却面での気体の凝縮作用を利用して、被排気対象
である容器内の水分子が主に排気される。冷却パネルの
冷却面の温度は、水分子だけを効率よく排気しかつ目的
とする到達圧力以下にまで到達させるため、55〜12
0K程度に保持される。目的とする到達圧力が比較的高
い場合には160K程度の温度レベルでも使用できる。
冷却パネルは、一般に熱伝導特性の良い銅または銅合金
で形成され、表面にニッケルメッキなどが施され、スム
ーズな金属表面を持つように形成される。限定された適
用範囲では、アルミ合金やステンレス等も冷却パネルと
して用いられる。
【0003】クライオトラップは、高真空ポンプである
ターボ分子ポンプと組み合わせて用いられることが多
い。クライオトラップは、水分子に対する排気速度が大
きいことを利用して、容器内の残留気体の主成分となる
水分子を補助的に排気することに使用される。クライオ
トラップによる補助的排気は、被排気対象である容器が
大気圧から10-1Pa以下の中真空から高真空まで排気
される際、真空排気装置の容器壁や各種構成部品の表面
から多量に気体が放出され、加熱ベーキングなどによっ
て容器壁等が真空的に十分に枯れるまでの間に行われ
る。
ターボ分子ポンプと組み合わせて用いられることが多
い。クライオトラップは、水分子に対する排気速度が大
きいことを利用して、容器内の残留気体の主成分となる
水分子を補助的に排気することに使用される。クライオ
トラップによる補助的排気は、被排気対象である容器が
大気圧から10-1Pa以下の中真空から高真空まで排気
される際、真空排気装置の容器壁や各種構成部品の表面
から多量に気体が放出され、加熱ベーキングなどによっ
て容器壁等が真空的に十分に枯れるまでの間に行われ
る。
【0004】ところで、10-1Pa以下の到達圧力を必
要とする真空排気装置の真空ポンプとしては、クライオ
ポンプやターボ分子ポンプが一般的に使用される。しか
し、これらのポンプにはそれぞれの排気原理に基づく利
点と欠点がある。クライオポンプは水分子や水素分子に
対する排気性能が高いという利点がある反面、ため込み
式のポンプであるので、一定期間使用すると、それまで
にため込んだ気体を再放出してリフレッシュしなければ
ならない(以下「再生」という)ので、長時間連続して
使用し続けることができず、再生に時間がかかるという
欠点がある。他方、ターボ分子ポンプは、吐き出し式の
ポンプであるので再生操作は不要であるという利点があ
る反面、水分子や水素分子に対する排気性能がクライオ
ポンプに比較して劣るという欠点を有する。
要とする真空排気装置の真空ポンプとしては、クライオ
ポンプやターボ分子ポンプが一般的に使用される。しか
し、これらのポンプにはそれぞれの排気原理に基づく利
点と欠点がある。クライオポンプは水分子や水素分子に
対する排気性能が高いという利点がある反面、ため込み
式のポンプであるので、一定期間使用すると、それまで
にため込んだ気体を再放出してリフレッシュしなければ
ならない(以下「再生」という)ので、長時間連続して
使用し続けることができず、再生に時間がかかるという
欠点がある。他方、ターボ分子ポンプは、吐き出し式の
ポンプであるので再生操作は不要であるという利点があ
る反面、水分子や水素分子に対する排気性能がクライオ
ポンプに比較して劣るという欠点を有する。
【0005】そこでターボ分子ポンプについて、近年で
は、上記のクライオトラップを組み合せて用い、水分子
に対する排気性能を補う方法が提案されている。
は、上記のクライオトラップを組み合せて用い、水分子
に対する排気性能を補う方法が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】10-1〜10-5Pa程
度の到達圧力を目的とする場合は、真空排気装置を構成
する容器壁や各種部品の表面から放出される水分子の排
気が問題となる。また真空排気装置の到達圧力をさらに
低下させたい場合、例えば10-6〜10-7Paあるいは
それ以下に低下させる必要がある場合は、圧力の低下に
伴って真空排気装置を構成する容器壁や各種部品の表面
から水素分子が多く放出され、真空排気装置内の残留気
体の主成分となってくる。従って、到達圧力が10-6〜
10-7Paあるいはそれ以下のときには、使用する真空
ポンプとして、水分子に対する排気性能が改善され、か
つ水素分子に対する排気性能が高いものが必要となる。
度の到達圧力を目的とする場合は、真空排気装置を構成
する容器壁や各種部品の表面から放出される水分子の排
気が問題となる。また真空排気装置の到達圧力をさらに
低下させたい場合、例えば10-6〜10-7Paあるいは
それ以下に低下させる必要がある場合は、圧力の低下に
伴って真空排気装置を構成する容器壁や各種部品の表面
から水素分子が多く放出され、真空排気装置内の残留気
体の主成分となってくる。従って、到達圧力が10-6〜
10-7Paあるいはそれ以下のときには、使用する真空
ポンプとして、水分子に対する排気性能が改善され、か
つ水素分子に対する排気性能が高いものが必要となる。
【0007】前述のごとく、ターボ分子ポンプに対しク
ライオトラップを併用した構成によれば、水分子に対す
る排気性能を改善することはできる。しかしながら、水
素分子に対する排気性能を改善することはできない。
ライオトラップを併用した構成によれば、水分子に対す
る排気性能を改善することはできる。しかしながら、水
素分子に対する排気性能を改善することはできない。
【0008】一方、水素吸蔵合金は常温でも水素吸蔵能
力を有するため、水素吸蔵合金を用いた常温型の吸着ト
ラップは既に知られている。そこで、水素分子に対する
排気性能を改善するため、ターボ分子ポンプとクライオ
トラップを併用した構成において、さらに、当該クライ
オトラップに対して水素吸蔵合金を付設し一体化する構
造が考えられる。ところが、水素吸蔵合金は、或る量の
水素を吸蔵すると、吸蔵能力が低下してくるので、一定
期間ごとに加熱し再活性化することにより、それまで吸
蔵した水素を再放出する必要がある。水素吸蔵合金の加
熱では、その材質を適切に選んだとしても、少なくとも
250℃以上、実用的には300℃以上に温度に加熱す
る必要がある。従って、使用されるヘリウム冷凍機が一
般的に70℃程度の温度までしか加熱できないので、ク
ライオトラップと上記水素吸蔵合金とを一体化して構成
することは不可能であった。
力を有するため、水素吸蔵合金を用いた常温型の吸着ト
ラップは既に知られている。そこで、水素分子に対する
排気性能を改善するため、ターボ分子ポンプとクライオ
トラップを併用した構成において、さらに、当該クライ
オトラップに対して水素吸蔵合金を付設し一体化する構
造が考えられる。ところが、水素吸蔵合金は、或る量の
水素を吸蔵すると、吸蔵能力が低下してくるので、一定
期間ごとに加熱し再活性化することにより、それまで吸
蔵した水素を再放出する必要がある。水素吸蔵合金の加
熱では、その材質を適切に選んだとしても、少なくとも
250℃以上、実用的には300℃以上に温度に加熱す
る必要がある。従って、使用されるヘリウム冷凍機が一
般的に70℃程度の温度までしか加熱できないので、ク
ライオトラップと上記水素吸蔵合金とを一体化して構成
することは不可能であった。
【0009】また水素吸蔵合金の吸着トラップのみを考
えると、この水素吸蔵合金の吸着トラップだけでは、水
素分子に対する排気性能を高めることはできても、同時
に水分子に対する排気性能を高めることはできない。そ
こで、上記クライオトラップと水素吸蔵合金の吸着トラ
ップを、それぞれ別のユニットとして、真空排気装置に
組み込むことが考えられる。しかし、この構成によれ
ば、装置構成として複雑であってサイズが大きくなり、
コンパクトな装置を実現することができない。このこと
は研究的な用途では大きな問題ではないが、真空ポンプ
の形状に対する制約の大きい生産用の産業設備を目的と
した装置としては実用的でない。また別々に機器を構成
することで、コスト的にも上昇するという問題も提起さ
れる。
えると、この水素吸蔵合金の吸着トラップだけでは、水
素分子に対する排気性能を高めることはできても、同時
に水分子に対する排気性能を高めることはできない。そ
こで、上記クライオトラップと水素吸蔵合金の吸着トラ
ップを、それぞれ別のユニットとして、真空排気装置に
組み込むことが考えられる。しかし、この構成によれ
ば、装置構成として複雑であってサイズが大きくなり、
コンパクトな装置を実現することができない。このこと
は研究的な用途では大きな問題ではないが、真空ポンプ
の形状に対する制約の大きい生産用の産業設備を目的と
した装置としては実用的でない。また別々に機器を構成
することで、コスト的にも上昇するという問題も提起さ
れる。
【0010】本発明の目的は、上記の問題を解決するこ
とにあり、水分子に対する排気性能と水素分子に対する
排気性能を同時に改善でき、かつ構造が簡素であり、比
較的小さいサイズで製作でき、効率的かつ実用的であ
り、特に産業設備として有用なクライオトラップを提供
することにある。
とにあり、水分子に対する排気性能と水素分子に対する
排気性能を同時に改善でき、かつ構造が簡素であり、比
較的小さいサイズで製作でき、効率的かつ実用的であ
り、特に産業設備として有用なクライオトラップを提供
することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段および作用】本発明に係る
クライオトラップは、上記の目的を達成するため、次の
ように構成される。
クライオトラップは、上記の目的を達成するため、次の
ように構成される。
【0012】第1の本発明(請求項1に対応)に係るク
ライオトラップは、基本的構成として冷却パネルを備え
たヘリウム冷凍機を有し、ヘリウム冷凍機により冷却パ
ネルを冷却し、気体の凝縮作用を利用して被排気対象で
ある真空容器内の水分子を排気し、さらに、水素吸蔵合
金からなる吸着パネルを内部に組み込み、この吸着パネ
ルで水素分子を排気するように構成される。
ライオトラップは、基本的構成として冷却パネルを備え
たヘリウム冷凍機を有し、ヘリウム冷凍機により冷却パ
ネルを冷却し、気体の凝縮作用を利用して被排気対象で
ある真空容器内の水分子を排気し、さらに、水素吸蔵合
金からなる吸着パネルを内部に組み込み、この吸着パネ
ルで水素分子を排気するように構成される。
【0013】上記第1の発明では、主にターボ分子ポン
プなどと組み合わせて使用するクライオトラップにおい
て、水分子を排気するのに適した冷却パネルと共に、水
素吸蔵合金からなる吸着パネルを併せて設けるようにし
た。従って、吸着パネルによって水素分子を排気するこ
とも可能になった。
プなどと組み合わせて使用するクライオトラップにおい
て、水分子を排気するのに適した冷却パネルと共に、水
素吸蔵合金からなる吸着パネルを併せて設けるようにし
た。従って、吸着パネルによって水素分子を排気するこ
とも可能になった。
【0014】第2の本発明(請求項2に対応)に係るク
ライオトラップは、第1の発明において、好ましくは吸
着パネルはクライオトラップ容器の内面に設けられる。
ライオトラップは、第1の発明において、好ましくは吸
着パネルはクライオトラップ容器の内面に設けられる。
【0015】第3の本発明(請求項3に対応)に係るク
ライオトラップは、第1の発明において、好ましくは、
吸着パネルは冷却パネルに対して熱的に良好な接触状態
で設けられ、吸着パネルの温度を前記冷却パネルの温度
と実質的に等しくする。
ライオトラップは、第1の発明において、好ましくは、
吸着パネルは冷却パネルに対して熱的に良好な接触状態
で設けられ、吸着パネルの温度を前記冷却パネルの温度
と実質的に等しくする。
【0016】水素吸蔵合金は再活性化が十分であれば常
温でも実用的な水素排気能力を有するため、水素吸蔵合
金からなる吸着パネルをクライオトラップ容器などに配
置して常温で使用することも、また冷却パネル面上ある
いは冷却パネルと熱的に良好に接触させて設置し、吸着
パネルの温度を冷却パネルと同等にした場合でも同様な
排気性能の改善効果を得ることはできる。なお、吸着パ
ネルを冷却することにより水素に対する飽和蒸気圧が大
幅に低下して到達圧力が改善されるので、吸着パネルを
冷却した方がポンプ性能としての改善効果は大きい。
温でも実用的な水素排気能力を有するため、水素吸蔵合
金からなる吸着パネルをクライオトラップ容器などに配
置して常温で使用することも、また冷却パネル面上ある
いは冷却パネルと熱的に良好に接触させて設置し、吸着
パネルの温度を冷却パネルと同等にした場合でも同様な
排気性能の改善効果を得ることはできる。なお、吸着パ
ネルを冷却することにより水素に対する飽和蒸気圧が大
幅に低下して到達圧力が改善されるので、吸着パネルを
冷却した方がポンプ性能としての改善効果は大きい。
【0017】第4の本発明(請求項4に対応)に係るク
ライオトラップは、上記の各発明において、好ましく
は、吸着パネルの前面に冷却パネルが位置するように構
成される。吸着パネルは、水素分子以外の水分子や窒素
などの他の活性な気体に対しても吸着性能を有するが、
ターボ分子ポンプなどと主に組み合わせて使用するクラ
イオトラップでは、水素に対する排気能力を主に利用し
たいため、吸着パネルの前面に冷却トラップを配置する
構成が好ましい。
ライオトラップは、上記の各発明において、好ましく
は、吸着パネルの前面に冷却パネルが位置するように構
成される。吸着パネルは、水素分子以外の水分子や窒素
などの他の活性な気体に対しても吸着性能を有するが、
ターボ分子ポンプなどと主に組み合わせて使用するクラ
イオトラップでは、水素に対する排気能力を主に利用し
たいため、吸着パネルの前面に冷却トラップを配置する
構成が好ましい。
【0018】第5の本発明(請求項5に対応)に係るク
ライオトラップは、第4の発明において、吸着パネルの
前面に位置する冷却パネルを、吸着パネルへの被排気気
体の通過確率の高い形状で形成するようにした。形状と
しては、例えばシェブロンバッフルあるいはルーバーの
形状である。
ライオトラップは、第4の発明において、吸着パネルの
前面に位置する冷却パネルを、吸着パネルへの被排気気
体の通過確率の高い形状で形成するようにした。形状と
しては、例えばシェブロンバッフルあるいはルーバーの
形状である。
【0019】特に、吸着パネルの温度を冷却パネルと同
等な温度に冷却する場合は、吸着パネル表面が短時間で
水分子で覆われてしまい水素分子に対する排気性能が低
下するので、吸着パネルの前面に冷却パネルを配置し、
さらに冷却パネル形状をシェブロンバッフルあるいはル
ーバー形状とすることにより吸着パネルへの水素分子の
通過確率(コンダクタンス)を良好に保つと共に、クラ
イオトラップ全体として水分子を捕獲しやすいように構
成する。
等な温度に冷却する場合は、吸着パネル表面が短時間で
水分子で覆われてしまい水素分子に対する排気性能が低
下するので、吸着パネルの前面に冷却パネルを配置し、
さらに冷却パネル形状をシェブロンバッフルあるいはル
ーバー形状とすることにより吸着パネルへの水素分子の
通過確率(コンダクタンス)を良好に保つと共に、クラ
イオトラップ全体として水分子を捕獲しやすいように構
成する。
【0020】第6の本発明(請求項6に対応)に係るク
ライオトラップは、上記の各発明において、吸着パネル
の加熱活性化と冷却パネルの加熱ベーキングを行うため
の加熱機構を備えるように構成される。水素吸蔵合金か
らなる吸着パネルでは再活性化を行うことが必要であ
る。そこで再活性化のための加熱機構が付設される。
ライオトラップは、上記の各発明において、吸着パネル
の加熱活性化と冷却パネルの加熱ベーキングを行うため
の加熱機構を備えるように構成される。水素吸蔵合金か
らなる吸着パネルでは再活性化を行うことが必要であ
る。そこで再活性化のための加熱機構が付設される。
【0021】第7の本発明(請求項7に対応)に係るク
ライオトラップは、第6の発明において、ヘリウム冷凍
機と冷却パネルは熱伝導特性を変化させる機構(以下で
は説明の簡易化のため「熱伝特性可変機構」記す)によ
って結合され、この熱伝特性可変機構は、加熱機構によ
って吸着パネルと冷却パネルが加熱されるとき、その熱
伝導特性が低くなるように構成される。上記加熱機構を
クライオトラップ容器内に設けかつ冷却パネルに近付け
て設けた場合、再活性化時に吸着パネルおよび冷却パネ
ルを効率的に加熱しかつヘリウム冷凍機に熱を与えない
ようにするために、ヘリウム冷凍機と冷却パネルとの間
に熱伝特性可変機構を介設し、熱伝特性可変機構によっ
てヘリウム冷凍機と冷却パネルを結合することが好まし
い。
ライオトラップは、第6の発明において、ヘリウム冷凍
機と冷却パネルは熱伝導特性を変化させる機構(以下で
は説明の簡易化のため「熱伝特性可変機構」記す)によ
って結合され、この熱伝特性可変機構は、加熱機構によ
って吸着パネルと冷却パネルが加熱されるとき、その熱
伝導特性が低くなるように構成される。上記加熱機構を
クライオトラップ容器内に設けかつ冷却パネルに近付け
て設けた場合、再活性化時に吸着パネルおよび冷却パネ
ルを効率的に加熱しかつヘリウム冷凍機に熱を与えない
ようにするために、ヘリウム冷凍機と冷却パネルとの間
に熱伝特性可変機構を介設し、熱伝特性可変機構によっ
てヘリウム冷凍機と冷却パネルを結合することが好まし
い。
【0022】水素吸蔵合金は、ある量の水素を吸蔵する
と吸蔵能力が低下してくるため、一定期間ごとに加熱再
活性化してそれまでに吸蔵した水素を再放出する必要が
ある。この再活性化は、水素吸蔵合金を少なくとも25
0℃以上、実用的には300℃以上に加熱する必要があ
る。一方、ヘリウム冷凍機は冷凍機自体の内部構成材料
の耐熱温度の問題から、70℃程度にまでしか加熱でき
ないのが一般的であり、そのままではクライオトラップ
内に設置された吸着パネルを、特に冷却パネルに熱的に
良好な状態で接触された場合の吸着パネルを上記のよう
な高温にまで加熱することは不可能である。そのため、
ヘリウム冷凍機と冷却パネルの間に、熱伝特性可変機構
を設置し、加熱時にヘリウム冷凍機の温度が耐熱温度を
超えて上昇しないように保護している。
と吸蔵能力が低下してくるため、一定期間ごとに加熱再
活性化してそれまでに吸蔵した水素を再放出する必要が
ある。この再活性化は、水素吸蔵合金を少なくとも25
0℃以上、実用的には300℃以上に加熱する必要があ
る。一方、ヘリウム冷凍機は冷凍機自体の内部構成材料
の耐熱温度の問題から、70℃程度にまでしか加熱でき
ないのが一般的であり、そのままではクライオトラップ
内に設置された吸着パネルを、特に冷却パネルに熱的に
良好な状態で接触された場合の吸着パネルを上記のよう
な高温にまで加熱することは不可能である。そのため、
ヘリウム冷凍機と冷却パネルの間に、熱伝特性可変機構
を設置し、加熱時にヘリウム冷凍機の温度が耐熱温度を
超えて上昇しないように保護している。
【0023】第8の本発明(請求項8に対応)に係るク
ライオトラップは、第7の発明において、熱伝特性可変
機構が、ガス圧力により伸縮自在な良熱伝導性の伸縮部
を含む熱伝導部材であり、外部のガス供給・排出機構に
よってガスを供給されるとき伸縮部が伸びて熱伝導部材
がヘリウム冷凍機と冷却パネルを熱伝導の面で接続し、
ガス供給・排出機構によってガスが排出されるとき伸縮
部が縮んで熱伝導部材がヘリウム冷凍機と冷却パネルを
熱伝導の面で遮断するように構成される。こうして、ク
ライオトラップが正常に作動して冷却パネルが水分子を
効率よく凝縮するような低温範囲に冷却される際は良好
な熱的接触を保つ一方、例えば冷却パネルを加熱ベーキ
ングする際は熱伝導特性を低く保ち、加熱機構で加熱さ
れた冷却パネル側からヘリウム冷凍機側に熱が伝わりに
くいようにしている。
ライオトラップは、第7の発明において、熱伝特性可変
機構が、ガス圧力により伸縮自在な良熱伝導性の伸縮部
を含む熱伝導部材であり、外部のガス供給・排出機構に
よってガスを供給されるとき伸縮部が伸びて熱伝導部材
がヘリウム冷凍機と冷却パネルを熱伝導の面で接続し、
ガス供給・排出機構によってガスが排出されるとき伸縮
部が縮んで熱伝導部材がヘリウム冷凍機と冷却パネルを
熱伝導の面で遮断するように構成される。こうして、ク
ライオトラップが正常に作動して冷却パネルが水分子を
効率よく凝縮するような低温範囲に冷却される際は良好
な熱的接触を保つ一方、例えば冷却パネルを加熱ベーキ
ングする際は熱伝導特性を低く保ち、加熱機構で加熱さ
れた冷却パネル側からヘリウム冷凍機側に熱が伝わりに
くいようにしている。
【0024】第9の本発明(請求項9に対応)に係るク
ライオトラップは、第8の発明において、好ましくは、
伸縮部が、少なくとも1つのベローズから構成される。
ライオトラップは、第8の発明において、好ましくは、
伸縮部が、少なくとも1つのベローズから構成される。
【0025】第10の本発明(請求項10に対応)に係
るクライオトラップは、第7の発明において、熱伝特性
可変機構が、周囲温度により伸縮自在な良熱伝導性の伸
縮部を含む熱伝導部材であり、加熱機構が非発熱状態の
とき伸縮部が伸びて熱伝導部材がヘリウム冷凍機と冷却
パネルを熱伝導の面で接続し、加熱機構が発熱状態のと
き伸縮部が縮んで良熱伝導部材がヘリウム冷凍機と冷却
パネルを熱伝導の面で遮断するように構成される。この
場合にも、上記と同様に、クライオトラップが正常に作
動して冷却パネルが水分子を効率よく凝縮するような低
温範囲に冷却される際は良好な熱的接触を保つ一方、冷
却パネルを加熱ベーキングする際は熱伝導特性を低く保
ち、加熱機構で加熱された冷却パネル側からヘリウム冷
凍機側に熱が伝わりにくいようにする。
るクライオトラップは、第7の発明において、熱伝特性
可変機構が、周囲温度により伸縮自在な良熱伝導性の伸
縮部を含む熱伝導部材であり、加熱機構が非発熱状態の
とき伸縮部が伸びて熱伝導部材がヘリウム冷凍機と冷却
パネルを熱伝導の面で接続し、加熱機構が発熱状態のと
き伸縮部が縮んで良熱伝導部材がヘリウム冷凍機と冷却
パネルを熱伝導の面で遮断するように構成される。この
場合にも、上記と同様に、クライオトラップが正常に作
動して冷却パネルが水分子を効率よく凝縮するような低
温範囲に冷却される際は良好な熱的接触を保つ一方、冷
却パネルを加熱ベーキングする際は熱伝導特性を低く保
ち、加熱機構で加熱された冷却パネル側からヘリウム冷
凍機側に熱が伝わりにくいようにする。
【0026】第11の本発明(請求項11に対応)に係
るクライオトラップは、第10の発明において、伸縮部
が、形状記憶合金支持体であることを特徴とする。
るクライオトラップは、第10の発明において、伸縮部
が、形状記憶合金支持体であることを特徴とする。
【0027】第12の本発明(請求項12に対応)に係
るクライオトラップは、第11の発明において、好まし
くは、伸縮部が、形状記憶合金支持体とベローズとの組
合せで構成される。
るクライオトラップは、第11の発明において、好まし
くは、伸縮部が、形状記憶合金支持体とベローズとの組
合せで構成される。
【0028】第13の本発明(請求項13に対応)に係
るクライオトラップは、外部にガス供給・排出機構を設
け、このガス供給・排出機構によるベローズ内の空間へ
のガスの供給または前記空間からのガスの排出と、形状
記憶合金支持体の伸縮との組合せによって、ベローズを
伸縮させ、熱伝導特性を変化するように構成したことを
特徴とする。
るクライオトラップは、外部にガス供給・排出機構を設
け、このガス供給・排出機構によるベローズ内の空間へ
のガスの供給または前記空間からのガスの排出と、形状
記憶合金支持体の伸縮との組合せによって、ベローズを
伸縮させ、熱伝導特性を変化するように構成したことを
特徴とする。
【0029】第14の本発明(請求項14に対応)に係
るクライオトラップは、第9または第12の発明におい
て、ベローズが好ましくは良熱伝導ベローズであること
を特徴とする。
るクライオトラップは、第9または第12の発明におい
て、ベローズが好ましくは良熱伝導ベローズであること
を特徴とする。
【0030】第15の本発明(請求項15に対応)に係
るクライオトラップは、好ましくは冷却パネルの冷却温
度を55〜160K程度の範囲とした。冷却パネルの温
度は、主に水分子を効率的に凝縮させ、かつ窒素やアル
ゴンなどの他の気体が凝縮しない温度である必要があ
り、それ故に55〜160Kの温度範囲が適当である。
るクライオトラップは、好ましくは冷却パネルの冷却温
度を55〜160K程度の範囲とした。冷却パネルの温
度は、主に水分子を効率的に凝縮させ、かつ窒素やアル
ゴンなどの他の気体が凝縮しない温度である必要があ
り、それ故に55〜160Kの温度範囲が適当である。
【0031】以上のごとく、水分子の排気に最適な温度
に冷却された冷却パネルと、水素吸蔵合金からなる吸着
パネルを併せ持つことで、組み合わせて使用されるター
ボ分子ポンプなどの性能に対して、水分子に対する排気
性能と水素分子に対する排気性能を同時に改善すること
が可能となった。またヘリウム冷凍機と冷却パネルの間
に熱伝導特性を変化させる機構を組み込むことで、ヘリ
ウム冷凍機が耐熱温度を越えて過熱されないように保護
しながら、吸着パネルや冷却パネルを十分な高温状態に
まで加熱することができ、そのため、水素吸蔵合金の性
能を十分に発揮させる効率的な再活性化を行うことがで
きると共に、クライオトラップ容器や冷却パネル自体の
加熱ベーキングも同時に行うことができ、真空排気装置
の到達圧力を10-6〜10-7Paあるいはそれ以下にま
で低減する際の障害の一つであったクライオトラップ自
体からのガス放出を大幅に低減できる。
に冷却された冷却パネルと、水素吸蔵合金からなる吸着
パネルを併せ持つことで、組み合わせて使用されるター
ボ分子ポンプなどの性能に対して、水分子に対する排気
性能と水素分子に対する排気性能を同時に改善すること
が可能となった。またヘリウム冷凍機と冷却パネルの間
に熱伝導特性を変化させる機構を組み込むことで、ヘリ
ウム冷凍機が耐熱温度を越えて過熱されないように保護
しながら、吸着パネルや冷却パネルを十分な高温状態に
まで加熱することができ、そのため、水素吸蔵合金の性
能を十分に発揮させる効率的な再活性化を行うことがで
きると共に、クライオトラップ容器や冷却パネル自体の
加熱ベーキングも同時に行うことができ、真空排気装置
の到達圧力を10-6〜10-7Paあるいはそれ以下にま
で低減する際の障害の一つであったクライオトラップ自
体からのガス放出を大幅に低減できる。
【0032】さらに加熱機構を備えることで、クライオ
トラップの再生において、冷却された状態からの昇温に
要する時間を短縮でき、加熱機構を持たない従来型のク
ライオトラップに比較して生産用設備などの稼働率を向
上する。このように、単純に従来型のクライオトラップ
と常温型の水素吸蔵合金の吸着トラップを足し合わせた
以上に、真空ポンプとしての排気性能および使い勝手を
向上させることが可能である。またクライオトラップの
外形形状は、従来の冷却パネルだけで構成されるクライ
オトラップに比較してほとんど大きくならないため、真
空排気装置に対する形状的な制約を大きくするものでは
ない。
トラップの再生において、冷却された状態からの昇温に
要する時間を短縮でき、加熱機構を持たない従来型のク
ライオトラップに比較して生産用設備などの稼働率を向
上する。このように、単純に従来型のクライオトラップ
と常温型の水素吸蔵合金の吸着トラップを足し合わせた
以上に、真空ポンプとしての排気性能および使い勝手を
向上させることが可能である。またクライオトラップの
外形形状は、従来の冷却パネルだけで構成されるクライ
オトラップに比較してほとんど大きくならないため、真
空排気装置に対する形状的な制約を大きくするものでは
ない。
【0033】なお、冷却パネルと吸着パネルは、実際に
はクライオポンプと同様なため込み式のポンプであるた
め、いつかは再生あるいは再活性化操作を必要とする
が、積極的に水分子や水素分子を真空排気装置の内部に
導入する場合を除くと、真空容器の各部の壁面などから
放出される水分子や水素分子の絶対量は極めて少ないた
め、クライオポンプほど頻繁に再生を必要とするもので
はない。従って、実質的には、組み合せて用いるターボ
分子ポンプなどを単独で用いる場合に近い使い勝手で使
用できる。
はクライオポンプと同様なため込み式のポンプであるた
め、いつかは再生あるいは再活性化操作を必要とする
が、積極的に水分子や水素分子を真空排気装置の内部に
導入する場合を除くと、真空容器の各部の壁面などから
放出される水分子や水素分子の絶対量は極めて少ないた
め、クライオポンプほど頻繁に再生を必要とするもので
はない。従って、実質的には、組み合せて用いるターボ
分子ポンプなどを単独で用いる場合に近い使い勝手で使
用できる。
【0034】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施の形
態を添付図面に基づいて説明する。
態を添付図面に基づいて説明する。
【0035】図1〜図9を参照して本発明に係るクライ
オトラップの各種の実施形態を説明する。図1〜図9に
示したクライオトラップは、ターボ分子ポンプ等の一般
的吐出し型の真空ポンプと組み合せて使用される。そこ
で、各クライオトラップの両端には真空接続用フランジ
が形成される。一方のフランジは被排気系である真空排
気装置に接続され、他方のフランジは上記真空ポンプに
接続される。
オトラップの各種の実施形態を説明する。図1〜図9に
示したクライオトラップは、ターボ分子ポンプ等の一般
的吐出し型の真空ポンプと組み合せて使用される。そこ
で、各クライオトラップの両端には真空接続用フランジ
が形成される。一方のフランジは被排気系である真空排
気装置に接続され、他方のフランジは上記真空ポンプに
接続される。
【0036】図1〜図3で示した実施形態のクライオト
ラップは、1段式のヘリウム冷凍機を使用し、クライオ
トラップ容器の内面に水素吸蔵合金からなる吸着パネル
を配置し、この吸着パネルの前面に冷却パネルを設置し
た構成例を示す。
ラップは、1段式のヘリウム冷凍機を使用し、クライオ
トラップ容器の内面に水素吸蔵合金からなる吸着パネル
を配置し、この吸着パネルの前面に冷却パネルを設置し
た構成例を示す。
【0037】図1は第1の実施形態を示す。第1の実施
形態において、11は、上端と下端にフランジ11a,
11bが形成された円筒形のクライオトラップ容器であ
る。このクライオトラップ容器11は、壁部に径方向に
て設けられた1段式のヘリウム冷凍機12と、このヘリ
ウム冷凍機12の冷却ステージ13に接続された円筒形
の冷却パネル14と、クライオトラップ容器11の内面
に設置された吸着パネル15を備える。吸着パネル15
は水素吸蔵合金によって形成され、冷却パネル14に対
向している。また吸着パネル15の再活性化するための
加熱機構として、パネル状またはシース状の外部ヒータ
ユニット16がクライオトラップ容器11の外面に備え
られる。
形態において、11は、上端と下端にフランジ11a,
11bが形成された円筒形のクライオトラップ容器であ
る。このクライオトラップ容器11は、壁部に径方向に
て設けられた1段式のヘリウム冷凍機12と、このヘリ
ウム冷凍機12の冷却ステージ13に接続された円筒形
の冷却パネル14と、クライオトラップ容器11の内面
に設置された吸着パネル15を備える。吸着パネル15
は水素吸蔵合金によって形成され、冷却パネル14に対
向している。また吸着パネル15の再活性化するための
加熱機構として、パネル状またはシース状の外部ヒータ
ユニット16がクライオトラップ容器11の外面に備え
られる。
【0038】図2は第2の実施形態を示す。図2におい
て図1で示した要素と実質的に同一の要素には同一の符
号を付している。第2の実施形態では、外部ヒータユニ
ット16を設ける代わりに、入端子20を介して、クラ
イオトラップ容器11の内部であってかつ冷却パネル1
4の周囲にシース状またはランプ状の内部ヒータユニッ
ト21を備えている。その他の構成は第1の実施形態の
場合と同じである。
て図1で示した要素と実質的に同一の要素には同一の符
号を付している。第2の実施形態では、外部ヒータユニ
ット16を設ける代わりに、入端子20を介して、クラ
イオトラップ容器11の内部であってかつ冷却パネル1
4の周囲にシース状またはランプ状の内部ヒータユニッ
ト21を備えている。その他の構成は第1の実施形態の
場合と同じである。
【0039】図3は第3の実施形態を示す。図3におい
て図1で示した要素と実質的に同一の要素には同一の符
号を付している。第3の実施形態では、吸着パネル15
に対向するように設置された冷却パネル14Aが、シェ
ブロンバッフルあるいはルーバーの形状を有するように
形成される。その他の構成は第1の実施形態の場合と同
じである。かかる構造によって、吸着パネル15におけ
る水素の通過確率を大きくしている。
て図1で示した要素と実質的に同一の要素には同一の符
号を付している。第3の実施形態では、吸着パネル15
に対向するように設置された冷却パネル14Aが、シェ
ブロンバッフルあるいはルーバーの形状を有するように
形成される。その他の構成は第1の実施形態の場合と同
じである。かかる構造によって、吸着パネル15におけ
る水素の通過確率を大きくしている。
【0040】前述の第1から第3の実施形態に係るクラ
イオトラップによれば、ヘリウム冷凍機12および冷却
パネル14(または14A)に加えて、クライオトラッ
プ容器11の内面に水素吸蔵合金からなる吸着パネル1
5を設けるようにしたため、冷却パネル14,14Aに
おける凝縮作用によって水分子を排気できると共に、吸
着パネル15による吸着作用によって水素分子を併せて
排気することができる。また吸着パネル15に対して、
熱接触が良好な状態で外部ヒータユニット16を設けた
り、あるいは、その近傍に内部ヒータユニット21を設
けるようにしたため、吸着パネル15の加熱再活性化を
行うことができる。この場合において、図1と図3に示
す第1または第3の実施形態の構成では、外部ヒータユ
ニット16と冷却パネル14,14Aとの間に熱伝導を
遮る十分な距離が確保され、かつそれらの間に吸着パネ
ル15やクライオトラップ容器11が存在するため、冷
却パネル14,14Aが熱の影響を受けることが少な
く、問題はない。これに対して、図2に示す第2の実施
形態では、内部ヒータユニット21が、冷却パネル14
に対して比較的に近い距離で配置され、加熱される。し
かしながら、加熱の温度条件を適宜に設定することによ
って、実用的な使用が可能となる。
イオトラップによれば、ヘリウム冷凍機12および冷却
パネル14(または14A)に加えて、クライオトラッ
プ容器11の内面に水素吸蔵合金からなる吸着パネル1
5を設けるようにしたため、冷却パネル14,14Aに
おける凝縮作用によって水分子を排気できると共に、吸
着パネル15による吸着作用によって水素分子を併せて
排気することができる。また吸着パネル15に対して、
熱接触が良好な状態で外部ヒータユニット16を設けた
り、あるいは、その近傍に内部ヒータユニット21を設
けるようにしたため、吸着パネル15の加熱再活性化を
行うことができる。この場合において、図1と図3に示
す第1または第3の実施形態の構成では、外部ヒータユ
ニット16と冷却パネル14,14Aとの間に熱伝導を
遮る十分な距離が確保され、かつそれらの間に吸着パネ
ル15やクライオトラップ容器11が存在するため、冷
却パネル14,14Aが熱の影響を受けることが少な
く、問題はない。これに対して、図2に示す第2の実施
形態では、内部ヒータユニット21が、冷却パネル14
に対して比較的に近い距離で配置され、加熱される。し
かしながら、加熱の温度条件を適宜に設定することによ
って、実用的な使用が可能となる。
【0041】図4は本発明に係るクライオトラップの第
4の実施形態を示し、前述の図2で説明した第2実施形
態の変形例を示すものである。図4において、図2で説
明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付し
ている。第4の実施形態では、ヘリウム冷凍機12の冷
却ステージ13と冷却パネル14との間に両者を結合す
る熱伝導特性を変化させる機構31を備え、さらにこの
熱伝導特性を変化させる機構32内に設けられた伸縮部
を伸縮させるためのヘリウム(He)などのガスを供給
するガス導入機構32を備えている。その他の構成は、
図2に示された第2の実施形態の場合と実質的に同じで
ある。上記の熱伝導特性を変化させる機構31は、(課
題を解決するための手段および作用)で述べた通り、説
明の便宜上「熱伝特性可変機構」と記す。
4の実施形態を示し、前述の図2で説明した第2実施形
態の変形例を示すものである。図4において、図2で説
明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付し
ている。第4の実施形態では、ヘリウム冷凍機12の冷
却ステージ13と冷却パネル14との間に両者を結合す
る熱伝導特性を変化させる機構31を備え、さらにこの
熱伝導特性を変化させる機構32内に設けられた伸縮部
を伸縮させるためのヘリウム(He)などのガスを供給
するガス導入機構32を備えている。その他の構成は、
図2に示された第2の実施形態の場合と実質的に同じで
ある。上記の熱伝導特性を変化させる機構31は、(課
題を解決するための手段および作用)で述べた通り、説
明の便宜上「熱伝特性可変機構」と記す。
【0042】本実施形態における熱伝特性可変機構31
は、後述するごとく、伸縮部としてベローズ機構を内蔵
し、当該ベローズ機構の内部空間にガスを供給しベロー
ズ機構を伸ばして熱伝導特性を高め、反対に当該ベロー
ズ機構の内部空間からガスを排出しベローズ機構を縮め
て熱伝導特性を低めるように構成される。こうして、熱
伝特性可変機構31は、冷却パネル14とヘリウム冷凍
機12との間の熱伝特性を変化させる。
は、後述するごとく、伸縮部としてベローズ機構を内蔵
し、当該ベローズ機構の内部空間にガスを供給しベロー
ズ機構を伸ばして熱伝導特性を高め、反対に当該ベロー
ズ機構の内部空間からガスを排出しベローズ機構を縮め
て熱伝導特性を低めるように構成される。こうして、熱
伝特性可変機構31は、冷却パネル14とヘリウム冷凍
機12との間の熱伝特性を変化させる。
【0043】また上記ガス導入機構32は、熱伝特性可
変機構31の上記ベローズ機構の内部空間にガスを供給
すると共に、当該内部空間からガスを排出する機能を有
するものである。ガス導入機構32は、ガス導入管33
と、ガスの供給および排出を切り替えるためのガス供給
バルブ34およびガス排出バルブ35とを備え、ガス供
給バルブ34を介してガス供給源(図示せず)に接続さ
れ、ガス排出バルブ35を介して真空ポンプ(図示せ
ず)に接続される。ガス供給バルブ34とガス排出バル
ブ35は、一般的にクライオトラップ容器11の外部に
設置される。
変機構31の上記ベローズ機構の内部空間にガスを供給
すると共に、当該内部空間からガスを排出する機能を有
するものである。ガス導入機構32は、ガス導入管33
と、ガスの供給および排出を切り替えるためのガス供給
バルブ34およびガス排出バルブ35とを備え、ガス供
給バルブ34を介してガス供給源(図示せず)に接続さ
れ、ガス排出バルブ35を介して真空ポンプ(図示せ
ず)に接続される。ガス供給バルブ34とガス排出バル
ブ35は、一般的にクライオトラップ容器11の外部に
設置される。
【0044】なお上記真空ポンプとしては、クライオト
ラップと組み合せて使用させるターボ分子ポンプなどの
補助ポンプをそのまま利用することができ、新たに真空
ポンプを必要とするものではない。また導入するガス
は、安全性などを考慮してヘリウム(He)ガスが適当
である。ただし、55Kで凝縮しないようなガスであれ
ば他のガスも使用できる。
ラップと組み合せて使用させるターボ分子ポンプなどの
補助ポンプをそのまま利用することができ、新たに真空
ポンプを必要とするものではない。また導入するガス
は、安全性などを考慮してヘリウム(He)ガスが適当
である。ただし、55Kで凝縮しないようなガスであれ
ば他のガスも使用できる。
【0045】図5は本発明に係るクライオトラップの第
5の実施形態を示し、第4の実施形態と同様に、前述の
図2で説明した第2実施形態の変形例を示すものであ
る。図5において、図2で説明した要素と実質的に同一
の要素には同一の符号を付している。第5の実施形態で
は、ヘリウム冷凍機12の冷却ステージ13と冷却パネ
ル14の間に、上記熱伝特性可変機構31とは異なる構
造を有する熱伝特性可変機構36を備える。この熱伝特
性可変機構36は、上記ガス導入機構32によるガスの
供給・排出を必要とせず、後述するごとく、ベローズ機
構と形状記憶合金支持体を内蔵し、これらの組合せ構造
に基づいて、周囲温度の条件の変化でベローズ構造を伸
縮させ、冷却パネル14とヘリウム冷凍機12の間の熱
伝導特性を変化するように構成される。その他の構成
は、図2に示された第2の実施形態の場合と同じであ
る。
5の実施形態を示し、第4の実施形態と同様に、前述の
図2で説明した第2実施形態の変形例を示すものであ
る。図5において、図2で説明した要素と実質的に同一
の要素には同一の符号を付している。第5の実施形態で
は、ヘリウム冷凍機12の冷却ステージ13と冷却パネ
ル14の間に、上記熱伝特性可変機構31とは異なる構
造を有する熱伝特性可変機構36を備える。この熱伝特
性可変機構36は、上記ガス導入機構32によるガスの
供給・排出を必要とせず、後述するごとく、ベローズ機
構と形状記憶合金支持体を内蔵し、これらの組合せ構造
に基づいて、周囲温度の条件の変化でベローズ構造を伸
縮させ、冷却パネル14とヘリウム冷凍機12の間の熱
伝導特性を変化するように構成される。その他の構成
は、図2に示された第2の実施形態の場合と同じであ
る。
【0046】上記の第4および第5の実施形態によれ
ば、クライオトラップ容器11内に設けた吸着パネル1
5を再活性化するため、および冷却パネル15等を加熱
ベーキングするために設けられた内部ヒータユニット2
1が、冷却パネル14を経由して、ヘリウム冷凍機12
にとって好ましくない十分に高い温度をもたらす熱を与
える場合において、熱伝特性可変機構31,36の熱伝
導特性を低減し、ヘリウム冷凍機12に熱が伝わるのを
防止している。また、排気動作のときには、熱伝特性可
変機構31,36の熱伝導特性を高め、ヘリウム冷凍機
12による冷却パネル14の冷却が効果的に行われるよ
うにする。
ば、クライオトラップ容器11内に設けた吸着パネル1
5を再活性化するため、および冷却パネル15等を加熱
ベーキングするために設けられた内部ヒータユニット2
1が、冷却パネル14を経由して、ヘリウム冷凍機12
にとって好ましくない十分に高い温度をもたらす熱を与
える場合において、熱伝特性可変機構31,36の熱伝
導特性を低減し、ヘリウム冷凍機12に熱が伝わるのを
防止している。また、排気動作のときには、熱伝特性可
変機構31,36の熱伝導特性を高め、ヘリウム冷凍機
12による冷却パネル14の冷却が効果的に行われるよ
うにする。
【0047】図6は本発明に係るクライオトラップの第
6の実施形態を示し、図4で説明した第4の実施形態の
変形例である。図6において、図4で説明した要素と実
質的に同一の要素には同一の符号を付している。第6の
実施形態では、水素吸蔵合金からなる吸着パネル15を
冷却パネル14の外側表面上に設置し、あるいは外側に
て他の構造にて冷却パネル14と熱的に良好な接触状態
で設置し、吸着パネル15の温度を冷却パネル14の温
度と同等になるように冷却するように構成している。そ
の他の構成は図4で説明した第4の実施形態と実質的に
同じである。
6の実施形態を示し、図4で説明した第4の実施形態の
変形例である。図6において、図4で説明した要素と実
質的に同一の要素には同一の符号を付している。第6の
実施形態では、水素吸蔵合金からなる吸着パネル15を
冷却パネル14の外側表面上に設置し、あるいは外側に
て他の構造にて冷却パネル14と熱的に良好な接触状態
で設置し、吸着パネル15の温度を冷却パネル14の温
度と同等になるように冷却するように構成している。そ
の他の構成は図4で説明した第4の実施形態と実質的に
同じである。
【0048】第6の実施形態では、吸着パネル15を形
成する水素吸蔵合金を内部ヒータユニット21で加熱
し、再活性化する際に、冷却パネル14も同時に内部ヒ
ータユニット21で高温で加熱ベーキングするように構
成される。そこで、冷却パネル14の加熱ベーキングに
際に、前述の熱伝特性可変機構31の熱電導特性を低減
することによって、冷却パネル14の熱がヘリウム冷凍
機12の側に伝わりにくくしている。
成する水素吸蔵合金を内部ヒータユニット21で加熱
し、再活性化する際に、冷却パネル14も同時に内部ヒ
ータユニット21で高温で加熱ベーキングするように構
成される。そこで、冷却パネル14の加熱ベーキングに
際に、前述の熱伝特性可変機構31の熱電導特性を低減
することによって、冷却パネル14の熱がヘリウム冷凍
機12の側に伝わりにくくしている。
【0049】図7は本発明に係るクライオトラップの第
7の実施形態を示し、図6で説明した上記第6の実施形
態の変形例である。図7において、図6で説明した要素
と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。第
7の実施形態では、水素吸蔵合金からなる吸着パネル1
5を冷却パネル14の内側表面上に設置し、あるいは内
側にて冷却パネル14と熱的に良好な接触状態で設置し
て、吸着パネル15の温度が冷却パネル14の温度と同
等になるように冷却する。さらに本実施形態では、冷却
パネル14の内部に、吸着パネル15に対向して通過形
冷却パネル37を設けている。この冷却パネル37は、
吸着パネル15の表面が短時間で水分子で覆われてしま
い、水素分子に対する排気性能が低下するのを防ぎ、か
つ吸着パネル15への水素分子の通過確率を良好に保つ
ためのものであり、シェブロンバッフルあるいはルーバ
ー形状を有する。その他の構成は、図4で説明した第4
の実施形態と実質的に同じである。
7の実施形態を示し、図6で説明した上記第6の実施形
態の変形例である。図7において、図6で説明した要素
と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。第
7の実施形態では、水素吸蔵合金からなる吸着パネル1
5を冷却パネル14の内側表面上に設置し、あるいは内
側にて冷却パネル14と熱的に良好な接触状態で設置し
て、吸着パネル15の温度が冷却パネル14の温度と同
等になるように冷却する。さらに本実施形態では、冷却
パネル14の内部に、吸着パネル15に対向して通過形
冷却パネル37を設けている。この冷却パネル37は、
吸着パネル15の表面が短時間で水分子で覆われてしま
い、水素分子に対する排気性能が低下するのを防ぎ、か
つ吸着パネル15への水素分子の通過確率を良好に保つ
ためのものであり、シェブロンバッフルあるいはルーバ
ー形状を有する。その他の構成は、図4で説明した第4
の実施形態と実質的に同じである。
【0050】図8は本発明に係るクライオトラップの第
8の実施形態を示し、図6で説明した上記第6の実施形
態の変形例である。図8において、図6で説明した要素
と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。第
8の実施形態では、ガス導入機構32を利用してなる熱
伝特性可変機構31の代わりに、第5の実施形態(図
5)で使用した熱伝特性可変機構36を用いて構成され
ている。その他の構成は、図6で説明した第6の実施形
態と実質的に同じである。
8の実施形態を示し、図6で説明した上記第6の実施形
態の変形例である。図8において、図6で説明した要素
と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。第
8の実施形態では、ガス導入機構32を利用してなる熱
伝特性可変機構31の代わりに、第5の実施形態(図
5)で使用した熱伝特性可変機構36を用いて構成され
ている。その他の構成は、図6で説明した第6の実施形
態と実質的に同じである。
【0051】図9は本発明に係るクライオトラップの第
9の実施形態を示し、図7で説明した上記第7の実施形
態の変形例である。図9において、図7で説明した要素
と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。第
9の実施形態では、ガス導入機構32を利用してなる熱
伝特性可変機構31の代わりに、同じく第5の実施形態
(図5)で使用した熱伝特性可変機構36を用いて構成
されている。その他の構成は、図7で説明した第7の実
施形態と実質的に同じである。
9の実施形態を示し、図7で説明した上記第7の実施形
態の変形例である。図9において、図7で説明した要素
と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。第
9の実施形態では、ガス導入機構32を利用してなる熱
伝特性可変機構31の代わりに、同じく第5の実施形態
(図5)で使用した熱伝特性可変機構36を用いて構成
されている。その他の構成は、図7で説明した第7の実
施形態と実質的に同じである。
【0052】次に、図10〜図13を参照して上記の第
4、第6、第7の実施形態で使用された熱伝特性可変機
構31の具体的な構成例について説明する。
4、第6、第7の実施形態で使用された熱伝特性可変機
構31の具体的な構成例について説明する。
【0053】図10はヘリウム冷凍機12の冷却ステー
ジ13に設けられた熱伝特性可変機構31の第1の構成
例を示し、図10で、(A)は高い熱伝導特性を有する
場合(良好な熱的接触状態を保つ場合)の構成、(B)
は低い熱伝導特性を有する場合の構成をそれぞれ示す。
この構成例では、ガス導入機構32から熱伝特性可変機
構31へのガス供給と、熱伝特性可変機構31からのガ
ス排出に連動して伸縮する伸縮部としてベローズ構造を
利用している。このベローズ構造では複数のベローズ部
分を備えている。また図示例では冷却パネル14の内面
に吸着パネル15を備えており、図7で示した第7実施
形態の構造に対応する。なお、図10では、内部ヒータ
ユニット21等の図示は省略される。
ジ13に設けられた熱伝特性可変機構31の第1の構成
例を示し、図10で、(A)は高い熱伝導特性を有する
場合(良好な熱的接触状態を保つ場合)の構成、(B)
は低い熱伝導特性を有する場合の構成をそれぞれ示す。
この構成例では、ガス導入機構32から熱伝特性可変機
構31へのガス供給と、熱伝特性可変機構31からのガ
ス排出に連動して伸縮する伸縮部としてベローズ構造を
利用している。このベローズ構造では複数のベローズ部
分を備えている。また図示例では冷却パネル14の内面
に吸着パネル15を備えており、図7で示した第7実施
形態の構造に対応する。なお、図10では、内部ヒータ
ユニット21等の図示は省略される。
【0054】熱伝特性可変機構31は、ヘリウム冷凍機
12の冷却ステージ13と冷却パネル14との間に設け
られる。この熱伝特性可変機構31は、冷却ステージ1
3に固定された良熱伝導支持体41をベース部材とし、
肉厚の薄いステンレスパイプなどで形成された低熱伝導
連結体42を介して、機械的に十分に強い強度で、冷却
パネル14に接続されている。低熱伝導連結体42の内
部には、上記の良熱伝導支持体41を基礎にして良熱伝
導接触体43、良熱伝導ベローズ44が設けられる。良
熱伝導支持体41と良熱伝導接触体43と良熱伝導ベロ
ーズ44は、溶接またはロー付けでリークが生じないよ
うに接合され、内部に気密な空間が形成される。良熱伝
導支持体41には前述のガス導入管33が接続され、ガ
ス導入管32を介して、熱伝特性可変機構31内の上記
空間にヘリウムガス等が供給され、また当該空間からヘ
リウムガス等が排出されるように構成される。
12の冷却ステージ13と冷却パネル14との間に設け
られる。この熱伝特性可変機構31は、冷却ステージ1
3に固定された良熱伝導支持体41をベース部材とし、
肉厚の薄いステンレスパイプなどで形成された低熱伝導
連結体42を介して、機械的に十分に強い強度で、冷却
パネル14に接続されている。低熱伝導連結体42の内
部には、上記の良熱伝導支持体41を基礎にして良熱伝
導接触体43、良熱伝導ベローズ44が設けられる。良
熱伝導支持体41と良熱伝導接触体43と良熱伝導ベロ
ーズ44は、溶接またはロー付けでリークが生じないよ
うに接合され、内部に気密な空間が形成される。良熱伝
導支持体41には前述のガス導入管33が接続され、ガ
ス導入管32を介して、熱伝特性可変機構31内の上記
空間にヘリウムガス等が供給され、また当該空間からヘ
リウムガス等が排出されるように構成される。
【0055】上記熱伝特性可変機構31において、その
熱伝導特性を変化させる機構自体は、良熱伝導支持体4
1と、良熱伝導接触体43と、良熱伝導ベローズ44
と、ガス導入管33とによって実現される。これらの構
成部品によって形成された上記内部空間に、ガス導入機
構32およびガス導入管33によってヘリウムガスが導
入されても、真空側には影響は出ない。ガス導入管33
の大気側は、前述の通り、ガス導入バルブ34を介して
ヘリウムガス供給源に接続され、またガス排出バルブ3
5を介して真空ポンプに接続される。
熱伝導特性を変化させる機構自体は、良熱伝導支持体4
1と、良熱伝導接触体43と、良熱伝導ベローズ44
と、ガス導入管33とによって実現される。これらの構
成部品によって形成された上記内部空間に、ガス導入機
構32およびガス導入管33によってヘリウムガスが導
入されても、真空側には影響は出ない。ガス導入管33
の大気側は、前述の通り、ガス導入バルブ34を介して
ヘリウムガス供給源に接続され、またガス排出バルブ3
5を介して真空ポンプに接続される。
【0056】上記良熱伝導ベローズ44は、内部と外部
の差圧に応じて伸縮するように設計されており、内部と
外部の圧力差がない状態では長さが短くなって良熱伝導
接触体43と冷却パネル14とが接触しない、すなわち
熱伝導の面で遮断されるように構成される。逆に内部に
ヘリウムガスが供給され、外圧よりも内圧の方が大きく
なった状態では良熱伝導ベローズ44の長さが伸び、良
熱伝導接触体43と冷却パネル14が密着する、すなわ
ち熱伝導の面で接続されるように構成される。また良熱
伝導ベローズ44自体は、銅あるいは銅合金などの良好
な熱伝導特性を有する材料で形成され、ヘリウム冷凍機
12が冷却動作を行った場合には、冷却パネル14が必
要な低温にまで冷却されるのに十分な熱伝導特性を有す
るように設計されている。
の差圧に応じて伸縮するように設計されており、内部と
外部の圧力差がない状態では長さが短くなって良熱伝導
接触体43と冷却パネル14とが接触しない、すなわち
熱伝導の面で遮断されるように構成される。逆に内部に
ヘリウムガスが供給され、外圧よりも内圧の方が大きく
なった状態では良熱伝導ベローズ44の長さが伸び、良
熱伝導接触体43と冷却パネル14が密着する、すなわ
ち熱伝導の面で接続されるように構成される。また良熱
伝導ベローズ44自体は、銅あるいは銅合金などの良好
な熱伝導特性を有する材料で形成され、ヘリウム冷凍機
12が冷却動作を行った場合には、冷却パネル14が必
要な低温にまで冷却されるのに十分な熱伝導特性を有す
るように設計されている。
【0057】図10の(A)は、クライオトラップが通
常に作動し、ヘリウム冷凍機12で冷却が行われる場合
の各構成部品の相互位置関係を示す。クライオトラップ
を運転開始する場合は、先ずクライオトラップ内部が真
空に排気される。この状態で、ガス供給バルブ34を開
け、良熱伝導ベローズ44の内部空間に1気圧程度にま
でヘリウムガスを導入する。そうすると、図10(A)
に示すごとく良熱伝導接触体43と冷却パネル14が密
着し、良熱伝導ベローズ44の熱伝導特性と共に内部に
導入されたヘリウムガスの対流による熱伝導で、冷却パ
ネル14が冷却される。クライオトラップが運転されて
いる間はこの状態が保たれる。
常に作動し、ヘリウム冷凍機12で冷却が行われる場合
の各構成部品の相互位置関係を示す。クライオトラップ
を運転開始する場合は、先ずクライオトラップ内部が真
空に排気される。この状態で、ガス供給バルブ34を開
け、良熱伝導ベローズ44の内部空間に1気圧程度にま
でヘリウムガスを導入する。そうすると、図10(A)
に示すごとく良熱伝導接触体43と冷却パネル14が密
着し、良熱伝導ベローズ44の熱伝導特性と共に内部に
導入されたヘリウムガスの対流による熱伝導で、冷却パ
ネル14が冷却される。クライオトラップが運転されて
いる間はこの状態が保たれる。
【0058】図10の(B)は、吸着パネル15を再活
性化しかつ冷却パネル14を加熱ベーキングする場合の
各構成部品の相互位置関係を示す。冷却パネル14と吸
着パネル15を加熱する場合は、ガス排出バルブ35を
開け、真空ポンプを利用して良熱伝導ベローズ44の内
部空間のヘリウムガスを排出する。そうすると、良熱伝
導ベローズ44の内部と外部の圧力差がなくなって当該
ベローズが縮まり、図10(B)に示すごとく良熱伝導
接触体43と冷却パネル14が離れ、熱伝導がほとんど
無視できる状態に保持される。なおクライオトラップの
再生やベーキングの過程で放出されたガスによって一時
的に良熱伝導ベローズ44の外部の方が圧力的に高くな
る場合があるが、当該ベローズの伸縮に影響はなく、問
題ではない。特に多量のガスを排気した後のクライオト
ラップの再生時に、ベローズ内部が真空状態でかつ一時
的にポンプ内すなわちベローズの外側が大気圧、または
大気圧を越えてより大きな圧力に上昇する場合がある
が、ベローズが縮んだままの状態で保持されるだけで、
熱伝特性可変機構31の本来の動作に影響はなく、ガス
導入操作を行うなどの処置も不要である。
性化しかつ冷却パネル14を加熱ベーキングする場合の
各構成部品の相互位置関係を示す。冷却パネル14と吸
着パネル15を加熱する場合は、ガス排出バルブ35を
開け、真空ポンプを利用して良熱伝導ベローズ44の内
部空間のヘリウムガスを排出する。そうすると、良熱伝
導ベローズ44の内部と外部の圧力差がなくなって当該
ベローズが縮まり、図10(B)に示すごとく良熱伝導
接触体43と冷却パネル14が離れ、熱伝導がほとんど
無視できる状態に保持される。なおクライオトラップの
再生やベーキングの過程で放出されたガスによって一時
的に良熱伝導ベローズ44の外部の方が圧力的に高くな
る場合があるが、当該ベローズの伸縮に影響はなく、問
題ではない。特に多量のガスを排気した後のクライオト
ラップの再生時に、ベローズ内部が真空状態でかつ一時
的にポンプ内すなわちベローズの外側が大気圧、または
大気圧を越えてより大きな圧力に上昇する場合がある
が、ベローズが縮んだままの状態で保持されるだけで、
熱伝特性可変機構31の本来の動作に影響はなく、ガス
導入操作を行うなどの処置も不要である。
【0059】ガス供給バルブ34とガス排出バルブ35
による供給および排出の動作は自由に行える。これらの
バルブの操作は、クライオトラップのヘリウム冷凍機1
2を運転するための別置きの圧縮機ユニットの運転操作
に連動させて制御されるように構成される。
による供給および排出の動作は自由に行える。これらの
バルブの操作は、クライオトラップのヘリウム冷凍機1
2を運転するための別置きの圧縮機ユニットの運転操作
に連動させて制御されるように構成される。
【0060】図11は前述の熱伝特性可変機構31の第
2の構成例を示し、図10と同様な図である。図11
で、(A)は高い熱伝導特性を有する場合(良好な熱的
接触状態を保つ場合)の構成、(B)は低い熱伝導特性
を有する場合の構成をそれぞれ示す。図11の(A),
(B)において図10で説明した要素と実質的に同一の
要素には同一の符号を付している。この構成例でも、ガ
ス導入機構32から熱伝特性可変機構31へのガス供給
と、熱伝特性可変機構31からのガス排出に連動して伸
縮するベローズ構造を利用している。図10の構成と相
違する点は、1個のベローズ部分を備えた良熱伝導ベロ
ーズ45を使用している点である。基本的な動作原理は
図10で説明したものと同じであり、詳細な説明は省略
する。
2の構成例を示し、図10と同様な図である。図11
で、(A)は高い熱伝導特性を有する場合(良好な熱的
接触状態を保つ場合)の構成、(B)は低い熱伝導特性
を有する場合の構成をそれぞれ示す。図11の(A),
(B)において図10で説明した要素と実質的に同一の
要素には同一の符号を付している。この構成例でも、ガ
ス導入機構32から熱伝特性可変機構31へのガス供給
と、熱伝特性可変機構31からのガス排出に連動して伸
縮するベローズ構造を利用している。図10の構成と相
違する点は、1個のベローズ部分を備えた良熱伝導ベロ
ーズ45を使用している点である。基本的な動作原理は
図10で説明したものと同じであり、詳細な説明は省略
する。
【0061】図12は熱伝特性可変機構31の第3の構
成例を示し、ガス導入を利用した構造をさらに簡略化し
た例である。この構成例では、ベローズ部分の伸縮によ
って熱伝導を変化させる構成を採用せず、導入したヘリ
ウムガスの対流による熱伝導だけによって冷却時に必要
な熱伝導特性を確保するものである。従って、図12に
示した熱伝特性可変機構31では、良熱伝導支持体41
と低熱伝導連結体42と良熱伝導接触体43が設けら
れ、良熱伝導ベローズの部分は存在しない。良熱伝導支
持体41と低熱伝導連結体42と良熱伝導接触体43の
みによって形成される熱伝特性可変機構31では伸縮等
の変化を生じない。第3の構成例に係る熱伝特性可変機
構31によれば、必要な熱伝導量と確保できるガス導入
部分の断面積などの条件に基づいて、ガス導入管33を
介して導入されるヘリウムガスの対流による熱伝導の寄
与だけで、冷却パネル14を必要な温度範囲まで冷却す
ることが可能となる。
成例を示し、ガス導入を利用した構造をさらに簡略化し
た例である。この構成例では、ベローズ部分の伸縮によ
って熱伝導を変化させる構成を採用せず、導入したヘリ
ウムガスの対流による熱伝導だけによって冷却時に必要
な熱伝導特性を確保するものである。従って、図12に
示した熱伝特性可変機構31では、良熱伝導支持体41
と低熱伝導連結体42と良熱伝導接触体43が設けら
れ、良熱伝導ベローズの部分は存在しない。良熱伝導支
持体41と低熱伝導連結体42と良熱伝導接触体43の
みによって形成される熱伝特性可変機構31では伸縮等
の変化を生じない。第3の構成例に係る熱伝特性可変機
構31によれば、必要な熱伝導量と確保できるガス導入
部分の断面積などの条件に基づいて、ガス導入管33を
介して導入されるヘリウムガスの対流による熱伝導の寄
与だけで、冷却パネル14を必要な温度範囲まで冷却す
ることが可能となる。
【0062】図13は、図12に示した熱伝特性可変機
構31の第3の構成例の変形してなる第4の構成例を示
す。第4の構成例に係る熱伝特性可変機構31は、寸法
的な制約からヘリウム冷凍機12の冷却ステージ13と
冷却パネル14との間の距離を小さくするために、低熱
伝導連結体の形状を変化させた例を示す。本構成例の低
熱伝導連結体46では、折返し部46aを形成すること
によって、低熱伝導連結体46の軸方向の長さ、すなわ
ち、冷却ステージ13と冷却パネル14との間の熱伝導
路の距離を大きくしている。
構31の第3の構成例の変形してなる第4の構成例を示
す。第4の構成例に係る熱伝特性可変機構31は、寸法
的な制約からヘリウム冷凍機12の冷却ステージ13と
冷却パネル14との間の距離を小さくするために、低熱
伝導連結体の形状を変化させた例を示す。本構成例の低
熱伝導連結体46では、折返し部46aを形成すること
によって、低熱伝導連結体46の軸方向の長さ、すなわ
ち、冷却ステージ13と冷却パネル14との間の熱伝導
路の距離を大きくしている。
【0063】次に、図14を参照して前述の第5、第
8、第9の実施形態で使用された熱伝特性可変機構36
の具体的な構成例について説明する。
8、第9の実施形態で使用された熱伝特性可変機構36
の具体的な構成例について説明する。
【0064】図14に、冷却ステージ13と冷却パネル
14との間に設けられた熱伝特性可変機構36の内部構
造を示す。第5、第8、第9の実施形態では、上述の通
り、ガス導入機構を用いず、その代わりに、周囲温度に
よって形状を変化させることができる形状記憶合金支持
体と伸縮可能なベローズ構造を組み合わせて熱伝導特性
を変化させる機構を形成している。すなわち、温度条件
に基づく形状記憶合金支持体の変形動作によってベロー
ズ構造の伸縮を行うように構成される。熱伝導特性を変
化させるためのその他の基本構成、および熱伝導に関す
るベローズ構造の役割は前述の各実施形態の場合と同じ
である。
14との間に設けられた熱伝特性可変機構36の内部構
造を示す。第5、第8、第9の実施形態では、上述の通
り、ガス導入機構を用いず、その代わりに、周囲温度に
よって形状を変化させることができる形状記憶合金支持
体と伸縮可能なベローズ構造を組み合わせて熱伝導特性
を変化させる機構を形成している。すなわち、温度条件
に基づく形状記憶合金支持体の変形動作によってベロー
ズ構造の伸縮を行うように構成される。熱伝導特性を変
化させるためのその他の基本構成、および熱伝導に関す
るベローズ構造の役割は前述の各実施形態の場合と同じ
である。
【0065】熱伝導特性を変化させる機構すなわち熱伝
特性可変機構36は、冷却ステージ13と冷却パネル1
4の間に、良熱伝導支持体51をベースに、低熱伝導連
結体52を介して、機械的に十分な強度で設けられる。
熱伝導特性を変化させる機構自体は、良熱伝導支持体5
1をベースにして良熱伝導接触体53、良熱伝導ベロー
ズ54、および形状記憶合金支持体55で構成される。
これらの構成部品は、溶接あるいはロー付けで接合さ
れ、また良熱伝導ベローズ54の内部と外部で差圧が生
じないように開放された構造で形成される。
特性可変機構36は、冷却ステージ13と冷却パネル1
4の間に、良熱伝導支持体51をベースに、低熱伝導連
結体52を介して、機械的に十分な強度で設けられる。
熱伝導特性を変化させる機構自体は、良熱伝導支持体5
1をベースにして良熱伝導接触体53、良熱伝導ベロー
ズ54、および形状記憶合金支持体55で構成される。
これらの構成部品は、溶接あるいはロー付けで接合さ
れ、また良熱伝導ベローズ54の内部と外部で差圧が生
じないように開放された構造で形成される。
【0066】上記形状記憶合金支持体55は、例えばコ
イル形状に形成され、良熱伝導ベローズ54の中心位置
であって、かつ良熱伝導支持体51と良熱伝導接触体5
3との間に両端が固定した状態で設けられる。良熱伝導
ベローズ54は、通常の周囲環境の温度条件つまり室温
程度以上の温度状態では長さが短くなって良熱伝導接触
体53と冷却パネル14が接触しないようにし、逆に、
温度が低下した状態では長さが伸び、良熱伝導接触体5
3と冷却パネル14が密着するように構成される。また
良熱伝導ベローズ54は銅あるいは銅合金などの良好な
熱伝導特性を有する材料で形成され、ヘリウム冷凍機1
2が冷却された場合に冷却パネルが目的とする低温状態
に冷却されるのに十分な熱伝導特性を有するように設計
されている。
イル形状に形成され、良熱伝導ベローズ54の中心位置
であって、かつ良熱伝導支持体51と良熱伝導接触体5
3との間に両端が固定した状態で設けられる。良熱伝導
ベローズ54は、通常の周囲環境の温度条件つまり室温
程度以上の温度状態では長さが短くなって良熱伝導接触
体53と冷却パネル14が接触しないようにし、逆に、
温度が低下した状態では長さが伸び、良熱伝導接触体5
3と冷却パネル14が密着するように構成される。また
良熱伝導ベローズ54は銅あるいは銅合金などの良好な
熱伝導特性を有する材料で形成され、ヘリウム冷凍機1
2が冷却された場合に冷却パネルが目的とする低温状態
に冷却されるのに十分な熱伝導特性を有するように設計
されている。
【0067】図14において、(A)はクライオトラッ
プが通常に作動し冷却を行っている場合の各構成部品の
相互位置関係を、(B)は冷却パネルや吸着パネルを加
熱ベーキングする場合の各構成部品の相互位置関係を示
す。
プが通常に作動し冷却を行っている場合の各構成部品の
相互位置関係を、(B)は冷却パネルや吸着パネルを加
熱ベーキングする場合の各構成部品の相互位置関係を示
す。
【0068】図14(A)に示すごとく、ヘリウム冷凍
機12が運転開始されて形状記憶合金支持体55の温度
が低下し始め、形状記憶合金の変態温度に達すると、形
状記憶合金支持体55が伸びて良熱伝導ベローズ54を
伸ばし、良熱伝導接触体53と冷却パネル14が密着す
る。これによって良熱伝導ベローズ54による熱伝導で
冷却パネル14が冷却されることになる。クライオトラ
ップが運転されている間はこの状態が保たれる。冷却パ
ネル14および吸着パネル15を加熱する場合は、図1
4(B)に示すごとく、通常はヘリウム冷凍機12が停
止された上で加熱し、形状記憶合金支持体55の温度を
上昇させ、形状記憶合金の変態温度を超えたところで形
状記憶合金支持体55の寸法が縮まって良熱伝導接触体
53と冷却パネル14とが離れ、熱伝導がほとんど無視
できる状態に保持される。以上のごとく、熱伝特性可変
機構36によって、冷却時と加熱活性化および加熱ベー
キングの時に応じて、その条件に合うように熱伝導特性
を変化させることができる。
機12が運転開始されて形状記憶合金支持体55の温度
が低下し始め、形状記憶合金の変態温度に達すると、形
状記憶合金支持体55が伸びて良熱伝導ベローズ54を
伸ばし、良熱伝導接触体53と冷却パネル14が密着す
る。これによって良熱伝導ベローズ54による熱伝導で
冷却パネル14が冷却されることになる。クライオトラ
ップが運転されている間はこの状態が保たれる。冷却パ
ネル14および吸着パネル15を加熱する場合は、図1
4(B)に示すごとく、通常はヘリウム冷凍機12が停
止された上で加熱し、形状記憶合金支持体55の温度を
上昇させ、形状記憶合金の変態温度を超えたところで形
状記憶合金支持体55の寸法が縮まって良熱伝導接触体
53と冷却パネル14とが離れ、熱伝導がほとんど無視
できる状態に保持される。以上のごとく、熱伝特性可変
機構36によって、冷却時と加熱活性化および加熱ベー
キングの時に応じて、その条件に合うように熱伝導特性
を変化させることができる。
【0069】形状記憶合金支持体55を応用して構成さ
れる熱伝特性可変機構36では、図14に示す構成にお
いて、さらに、形状記憶合金支持体55の伸縮に対する
回復応力よりも弱い力の範囲内で適当な圧力にまで良熱
伝導ベローズ54内にヘリウムなどのガスを封入し、ガ
スの対流による熱伝導特性を、補助的に付加することも
可能である。
れる熱伝特性可変機構36では、図14に示す構成にお
いて、さらに、形状記憶合金支持体55の伸縮に対する
回復応力よりも弱い力の範囲内で適当な圧力にまで良熱
伝導ベローズ54内にヘリウムなどのガスを封入し、ガ
スの対流による熱伝導特性を、補助的に付加することも
可能である。
【0070】上記熱伝特性可変機構36において、ベロ
ーズ構造は任意に変形することができる。また熱伝特性
可変機構36についても、熱伝特性可変機構31と同様
に、形状記憶合金支持体と複数のベローズ構造を利用し
て構成することができる。
ーズ構造は任意に変形することができる。また熱伝特性
可変機構36についても、熱伝特性可変機構31と同様
に、形状記憶合金支持体と複数のベローズ構造を利用し
て構成することができる。
【0071】ベローズ構造部分の内部空間にガスを封入
した場合でベローズの動作が問題になるのは、冷却パネ
ルや吸着パネルを加熱ベーキングする際であって形状記
憶合金支持体55が変形して良熱伝導ベローズ54を縮
めようとしたとき、当該ベローズの外部が真空のため、
内部が加圧された分だけベローズ自体が伸びようとする
力が作用する場合である。この場合、ベローズの内部と
外部の差圧によるベローズが伸びる方向の力よりも、形
状記憶合金支持体55の回復応力の方が大きければ、動
作上の問題はない。
した場合でベローズの動作が問題になるのは、冷却パネ
ルや吸着パネルを加熱ベーキングする際であって形状記
憶合金支持体55が変形して良熱伝導ベローズ54を縮
めようとしたとき、当該ベローズの外部が真空のため、
内部が加圧された分だけベローズ自体が伸びようとする
力が作用する場合である。この場合、ベローズの内部と
外部の差圧によるベローズが伸びる方向の力よりも、形
状記憶合金支持体55の回復応力の方が大きければ、動
作上の問題はない。
【0072】また、将来的に形状記憶合金の成形性が向
上してより自由な形状が使用できるようになった場合、
全体形状や断面形状を工夫することで形状記憶合金支持
体自体の熱伝導特性だけで、冷却時に必要な熱伝導を確
保するように構成することも可能である。
上してより自由な形状が使用できるようになった場合、
全体形状や断面形状を工夫することで形状記憶合金支持
体自体の熱伝導特性だけで、冷却時に必要な熱伝導を確
保するように構成することも可能である。
【0073】また、コストアップや構造の複雑化の問題
を解消することにより、形状記憶合金支持体55を用い
た構成に、前述の実施形態によるガス導入機構を併用す
ることも可能である。
を解消することにより、形状記憶合金支持体55を用い
た構成に、前述の実施形態によるガス導入機構を併用す
ることも可能である。
【0074】次に、図15と図16を参照して本発明に
係るクライオトラップの他の実施形態を説明する。装置
のレイアウトの関係上、クライオトラップを真空ポンプ
とは別の位置に設置する必要が生じる場合も考えられ
る。このような場合にも真空排気装置全体での真空ポン
プ性能に対して上記と同様な改善効果を得ることができ
る。図15と図16に示す実施形態はかかる場合に対応
する構成を示す。
係るクライオトラップの他の実施形態を説明する。装置
のレイアウトの関係上、クライオトラップを真空ポンプ
とは別の位置に設置する必要が生じる場合も考えられ
る。このような場合にも真空排気装置全体での真空ポン
プ性能に対して上記と同様な改善効果を得ることができ
る。図15と図16に示す実施形態はかかる場合に対応
する構成を示す。
【0075】図15は本発明に係るクライオトラップの
第10の実施形態を示し、クライオトラップを真空排気
装置の容器部に直接取り付けた構成を示している。この
クライオトラップは、クライオトラップ用のベースフラ
ンジ61上に設けられ、かつクライオトラップ用ニップ
ル62を介して真空排気装置の側に取り付けられてい
る。図15において、ヘリウム冷凍機12はベースフラ
ンジ61に固定され、ヘリウム冷凍機12の冷却ステー
ジ13に、例えば熱伝特性可変機構36を介して冷却パ
ネル63と水素吸蔵合金からなる吸着パネル64が取り
付けられる。またクライオトラップ用ニップル62の内
部であって、吸着パネル64の図中上側に通過形冷却パ
ネル65が配置される。この冷却パネル65は、吸着パ
ネル64の表面が短時間で水分子で覆われてしまい、水
素分子に対する排気性能が低下するのを防ぎ、かつ吸着
パネル64への水素分子の通過確率を良好に保つため
に、吸着パネル64を覆うように配置され、シェブロン
バッフルあるいはルーバー形状を有する。また、吸着パ
ネル64の内側のスペースを利用して内部ヒータユニッ
ト66が配置される。なお20は前述の電流導入端子で
ある。
第10の実施形態を示し、クライオトラップを真空排気
装置の容器部に直接取り付けた構成を示している。この
クライオトラップは、クライオトラップ用のベースフラ
ンジ61上に設けられ、かつクライオトラップ用ニップ
ル62を介して真空排気装置の側に取り付けられてい
る。図15において、ヘリウム冷凍機12はベースフラ
ンジ61に固定され、ヘリウム冷凍機12の冷却ステー
ジ13に、例えば熱伝特性可変機構36を介して冷却パ
ネル63と水素吸蔵合金からなる吸着パネル64が取り
付けられる。またクライオトラップ用ニップル62の内
部であって、吸着パネル64の図中上側に通過形冷却パ
ネル65が配置される。この冷却パネル65は、吸着パ
ネル64の表面が短時間で水分子で覆われてしまい、水
素分子に対する排気性能が低下するのを防ぎ、かつ吸着
パネル64への水素分子の通過確率を良好に保つため
に、吸着パネル64を覆うように配置され、シェブロン
バッフルあるいはルーバー形状を有する。また、吸着パ
ネル64の内側のスペースを利用して内部ヒータユニッ
ト66が配置される。なお20は前述の電流導入端子で
ある。
【0076】上記の実施形態でも、ヘリウム冷凍機12
の冷却ステージ13と冷却パネル63等の間に熱伝特性
可変機構36が接続部(結合部)として設けられ、その
熱伝導特性を、冷却排気時と加熱ベーキング等の時に応
じて変化させるように構成される。熱伝特性可変機構に
ついては、前述の各構成例31を用いることも可能であ
る。
の冷却ステージ13と冷却パネル63等の間に熱伝特性
可変機構36が接続部(結合部)として設けられ、その
熱伝導特性を、冷却排気時と加熱ベーキング等の時に応
じて変化させるように構成される。熱伝特性可変機構に
ついては、前述の各構成例31を用いることも可能であ
る。
【0077】図16は本発明に係るクライオトラップの
第11の実施形態を示し、この実施形態でも、クライオ
トラップを真空排気装置の容器部に直接取り付ける。特
に、本実施形態では、上記のクライオトラップ用ニップ
ル62を用いないで、クライオトラップを、真空容器6
7に直接に取り付けた構成を有している。その他の構成
については前述の第10の実施形態と実質的に同一であ
り、第10の実施形態で説明した要素と実質的に同一の
要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略す
る。
第11の実施形態を示し、この実施形態でも、クライオ
トラップを真空排気装置の容器部に直接取り付ける。特
に、本実施形態では、上記のクライオトラップ用ニップ
ル62を用いないで、クライオトラップを、真空容器6
7に直接に取り付けた構成を有している。その他の構成
については前述の第10の実施形態と実質的に同一であ
り、第10の実施形態で説明した要素と実質的に同一の
要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略す
る。
【0078】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明によ
れば、クライオトラップにおいて、クライオトラップ容
器の内部に水素吸蔵合金からなる吸着パネルを組み込む
ようにしたため、水分子に対する排気性能と同時に水素
分子に対する排気性能を向上できる。
れば、クライオトラップにおいて、クライオトラップ容
器の内部に水素吸蔵合金からなる吸着パネルを組み込む
ようにしたため、水分子に対する排気性能と同時に水素
分子に対する排気性能を向上できる。
【0079】また吸着パネルの再活性化および冷却パネ
ルの加熱ベーキングを行うための加熱機構を設けると共
に、排気時にはヘリウム冷凍機と冷却パネルの間の熱伝
導特性を良好にし、上記再活性化および加熱ベーキング
の時には熱伝導特性を低減してヘリウム冷凍機を保護す
るようにした熱伝導特性を変化させる機構を設けるよう
にしたため、産業設備として実用性が高く有用なクライ
オトラップを実現することができる。
ルの加熱ベーキングを行うための加熱機構を設けると共
に、排気時にはヘリウム冷凍機と冷却パネルの間の熱伝
導特性を良好にし、上記再活性化および加熱ベーキング
の時には熱伝導特性を低減してヘリウム冷凍機を保護す
るようにした熱伝導特性を変化させる機構を設けるよう
にしたため、産業設備として実用性が高く有用なクライ
オトラップを実現することができる。
【0080】また加熱機構によって、クライオトラップ
自体からのガス放出の低減も併せて可能にし、到達圧力
として10-6〜10-7Paあるいはそれ以下を目的とす
る真空排気装置に最適なクライオトラップを、外形サイ
ズやコストをそれほどアップさせることなく実現でき
る。
自体からのガス放出の低減も併せて可能にし、到達圧力
として10-6〜10-7Paあるいはそれ以下を目的とす
る真空排気装置に最適なクライオトラップを、外形サイ
ズやコストをそれほどアップさせることなく実現でき
る。
【図1】本発明に係るクライオトラップの第1の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図2】本発明に係るクライオトラップの第2の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図3】本発明に係るクライオトラップの第3の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図4】本発明に係るクライオトラップの第4の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図5】本発明に係るクライオトラップの第5の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図6】本発明に係るクライオトラップの第6の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図7】本発明に係るクライオトラップの第7の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図8】本発明に係るクライオトラップの第8の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図9】本発明に係るクライオトラップの第9の実施形
態を示す縦断面図である。
態を示す縦断面図である。
【図10】熱伝特性可変機構の第1の構成例を示す図
で、(A)は良好な熱接触状態を示し、(B)は熱伝導
が低減された状態を示す。
で、(A)は良好な熱接触状態を示し、(B)は熱伝導
が低減された状態を示す。
【図11】熱伝特性可変機構の第2の構成例を示す図
で、(A)は良好な熱接触状態を示し、(B)は熱伝導
が低減された状態を示す。
で、(A)は良好な熱接触状態を示し、(B)は熱伝導
が低減された状態を示す。
【図12】熱伝特性可変機構の第3の構成例を示す図で
ある。
ある。
【図13】熱伝特性可変機構の第4の構成例を示す図で
ある。
ある。
【図14】熱伝特性可変機構の第5の構成例を示す図
で、(A)は良好な熱接触状態を示し、(B)は熱伝導
が低減された状態を示す。
で、(A)は良好な熱接触状態を示し、(B)は熱伝導
が低減された状態を示す。
【図15】本発明に係るクライオトラップの第10の実
施形態を示す縦断面図である。
施形態を示す縦断面図である。
【図16】本発明に係るクライオトラップの第11の実
施形態を示す縦断面図である。
施形態を示す縦断面図である。
11 クライオトラップ容器 12 ヘリウム冷凍機 13 冷却ステージ 14,14A 冷却パネル 15 吸着パネル 16 外部ヒータユニット 21 内部ヒータユニット 31,36 熱伝導特性を変化させる機構
(熱伝特性可変機構) 32 ガス導入機構 37 通過形冷却パネル
(熱伝特性可変機構) 32 ガス導入機構 37 通過形冷却パネル
Claims (15)
- 【請求項1】 冷却パネルを備えたヘリウム冷凍機を有
し、前記ヘリウム冷凍機により前記冷却パネルを冷却
し、気体の凝縮作用を利用して被排気対象である容器内
の水分子を排気するクライオトラップにおいて、水素吸
蔵合金からなる吸着パネルを内部に組み込み、前記吸着
パネルで水素分子を排気することを特徴とするクライオ
トラップ。 - 【請求項2】 前記吸着パネルはクライオトラップ容器
の内面に設けられることを特徴とする請求項1記載のク
ライオトラップ。 - 【請求項3】 前記吸着パネルは前記冷却パネルに対し
て熱的に良好な接触状態で設けられ、前記吸着パネルの
温度を前記冷却パネルの温度と実質的に等しくしたこと
を特徴とする請求項1記載のクライオトラップ。 - 【請求項4】 前記吸着パネルの前面に前記冷却パネル
が位置するように構成されることを特徴とする請求項1
〜3のいずれか1項に記載のクライオトラップ。 - 【請求項5】 前記吸着パネルの前面に位置する前記冷
却パネルを、前記吸着パネルへの被排気気体の通過確率
の高い形状で形成したことを特徴とする請求項4記載の
クライオトラップ。 - 【請求項6】 前記吸着パネルの加熱活性化と前記冷却
パネルの加熱ベーキングを行うための加熱機構を備えた
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の
クライオトラップ。 - 【請求項7】 前記ヘリウム冷凍機と前記冷却パネルは
熱伝導特性を変化させる機構によって結合され、熱伝導
特性を変化させる前記機構は、前記加熱機構によって前
記吸着パネルと前記冷却パネルが加熱されるとき、その
熱伝導特性が低くなるように構成されることを特徴とす
る請求項6記載のクライオトラップ。 - 【請求項8】 熱伝導特性を変化させる前記機構は、ガ
ス圧力により伸縮自在な伸縮部を含む熱伝導部材であ
り、外部のガス供給・排出機構によってガスを供給され
るとき前記伸縮部が伸びて前記熱伝導部材が前記ヘリウ
ム冷凍機と前記冷却パネルを熱伝導の面で接続し、前記
ガス供給・排出機構によってガスが排出されるとき前記
伸縮部が縮んで前記熱伝導部材が前記ヘリウム冷凍機と
前記冷却パネルを熱伝導の面で遮断するように構成され
ることを特徴とする請求項7記載のクライオトラップ。 - 【請求項9】 前記伸縮部は、少なくとも1つのベロー
ズからなることを特徴とする請求項8記載のクライオト
ラップ。 - 【請求項10】 熱伝導特性を変化させる前記機構は、
周囲温度により伸縮自在な伸縮部を含む熱伝導部材であ
り、前記加熱機構が非発熱状態のとき前記伸縮部が伸び
て前記熱伝導部材が前記ヘリウム冷凍機と前記冷却パネ
ルを熱伝導の面で接続し、前記加熱機構が発熱状態のと
き前記伸縮部が縮んで前記熱伝導部材が前記ヘリウム冷
凍機と前記冷却パネルを熱伝導の面で遮断するように構
成されることを特徴とする請求項7記載のクライオトラ
ップ。 - 【請求項11】 前記伸縮部は、形状記憶合金支持体で
あることを特徴とする請求項10記載のクライオトラッ
プ。 - 【請求項12】 前記伸縮部は、前記形状記憶合金支持
体とベローズとの組合せで構成されることを特徴とする
請求項11記載のクライオトラップ。 - 【請求項13】 外部にガス供給・排出機構を設け、こ
のガス供給・排出機構による前記ベローズ内の空間への
ガスの供給または前記空間からのガスの排出と、前記形
状記憶合金支持体の伸縮との組合せによって、前記ベロ
ーズを伸縮させ、熱伝導特性を変化するように構成した
ことを特徴とする請求項12記載のクライオトラップ。 - 【請求項14】 前記ベローズは良熱伝導ベローズであ
ることを特徴とする請求項9または12記載のクライオ
トラップ。 - 【請求項15】 前記冷却パネルの冷却温度を55〜1
60K程度の範囲としたことを特徴とする請求項1記載
のクライオトラップ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28923696A JPH10122144A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | クライオトラップ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28923696A JPH10122144A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | クライオトラップ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10122144A true JPH10122144A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=17740553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28923696A Pending JPH10122144A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | クライオトラップ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10122144A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001194018A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-07-17 | Aisin Seiki Co Ltd | 極低温冷凍装置 |
| WO2008143067A1 (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Canon Anelva Technix Corporation | クライオトラップ及びクライオトラップを有する真空処理装置 |
| US7635826B2 (en) | 2006-06-14 | 2009-12-22 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Glow plug having built-in sensor |
| CN101956690A (zh) * | 2009-07-16 | 2011-01-26 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵及低温泵的监控方法 |
| JP2011109081A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-06-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置及び当該液晶表示装置を具備する電子機器 |
| CN101568727B (zh) | 2007-05-17 | 2011-08-17 | 佳能安内华股份有限公司 | 低温冷阱和具有该低温冷阱的真空处理设备 |
| JP2015104721A (ja) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 住友重機械工業株式会社 | コールドトラップ |
| CN110548304A (zh) * | 2019-09-07 | 2019-12-10 | 天津药明康德新药开发有限公司 | 用于移除沸点溶剂的离心浓缩仪 |
-
1996
- 1996-10-11 JP JP28923696A patent/JPH10122144A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001194018A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-07-17 | Aisin Seiki Co Ltd | 極低温冷凍装置 |
| US7635826B2 (en) | 2006-06-14 | 2009-12-22 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Glow plug having built-in sensor |
| KR101045488B1 (ko) * | 2007-05-17 | 2011-06-30 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | 크라이오 트랩 및 크라이오 트랩을 갖는 진공 처리 장치 |
| WO2008143067A1 (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Canon Anelva Technix Corporation | クライオトラップ及びクライオトラップを有する真空処理装置 |
| CN101568727B (zh) | 2007-05-17 | 2011-08-17 | 佳能安内华股份有限公司 | 低温冷阱和具有该低温冷阱的真空处理设备 |
| CN101956690A (zh) * | 2009-07-16 | 2011-01-26 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵及低温泵的监控方法 |
| JP2011021550A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | クライオポンプ、及びクライオポンプの監視方法 |
| US9068564B2 (en) | 2009-07-16 | 2015-06-30 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump and method of monitoring cryopump |
| JP2011109081A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-06-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置及び当該液晶表示装置を具備する電子機器 |
| US9559208B2 (en) | 2009-10-21 | 2017-01-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and electronic device including the same |
| US10714622B2 (en) | 2009-10-21 | 2020-07-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and electronic device including the same |
| JP2015104721A (ja) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 住友重機械工業株式会社 | コールドトラップ |
| CN110548304A (zh) * | 2019-09-07 | 2019-12-10 | 天津药明康德新药开发有限公司 | 用于移除沸点溶剂的离心浓缩仪 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4521047B2 (ja) | クライオポンプ | |
| CN102171454B (zh) | 真空抽吸系统、衬底处理设备、电子装置的制造方法和真空抽吸系统的操作方法 | |
| TWI507605B (zh) | Cryogenic pump and its regeneration method | |
| JP5184995B2 (ja) | クライオポンプ | |
| US20110147198A1 (en) | Vacuum pumping system, operating method of vacuum pumping system, refrigerator, vacuum pump, operating method of refrigerator, operation control method of two-stage type refrigerator, operation control method of cryopump, two-stage type refrigerator, cryopump, substrate processing apparatus, and manufacturing method of electronic device | |
| JP5123103B2 (ja) | クライオポンプ | |
| JP5552693B2 (ja) | クライオポンプルーバ拡張部 | |
| CN101568727B (zh) | 低温冷阱和具有该低温冷阱的真空处理设备 | |
| US6122920A (en) | High specific surface area aerogel cryoadsorber for vacuum pumping applications | |
| WO2005052369A1 (ja) | 水の再生方法及び装置 | |
| JP7339950B2 (ja) | クライオポンプ | |
| TW202235748A (zh) | 低溫泵 | |
| JP3961050B2 (ja) | 真空排気装置 | |
| JP2763524B2 (ja) | 二次ポンプ装置 | |
| JPS6157473B2 (ja) | ||
| JP4371010B2 (ja) | コールドトラップおよび真空排気装置 | |
| CN110352301B (zh) | 低温泵 | |
| JPH10122143A (ja) | クライオポンプ | |
| JP6929601B2 (ja) | クライオポンプ | |
| JP2007309184A (ja) | クライオポンプ及びその再生方法 | |
| JP4304450B2 (ja) | 真空排気装置 | |
| JP2007154785A (ja) | コールドトラップおよび真空排気装置 | |
| CN114810550A (zh) | 低温泵 | |
| JP2009281363A (ja) | クライオポンプ | |
| JP2009019501A (ja) | クライオトラップ |