JPH10132795A - クロマトグラフ - Google Patents

クロマトグラフ

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JPH10132795A
JPH10132795A JP9299443A JP29944397A JPH10132795A JP H10132795 A JPH10132795 A JP H10132795A JP 9299443 A JP9299443 A JP 9299443A JP 29944397 A JP29944397 A JP 29944397A JP H10132795 A JPH10132795 A JP H10132795A
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manifold
chromatograph
fluid
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JP9299443A
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Terry A Berger
テリー・エイ・バーガー
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンパクトで、低プロフィル形状因子を有す
るクロマトグラフ・アセンブリを装備したクロマトグラ
フを提供する。 【解決手段】 流体をその中に流すことができるチャン
ネルを有する平坦ニューマチック・マニホルド113を
包含する平坦クロマトグラフ・アセンブリ120;温調
域を確立するヒータ/ファン・アセンブリ118A,1
18B;平坦ニューマチック・マニホルドの主表面に隣
接して温調域を定める絶縁エンクロージャ117,11
9;ニューマチック・マニホルドの選択された流体保持
チャンネルに入口と出口端が取付けられていて、前記主
表面に隣接し且つ前記温調域内に配置された分離カラム
114;平坦ニューマチック・マニホルドの内部に設け
られた各チャンネルと流体を漏らさずに連絡するようニ
ューマチック・マニホルドに取付けられた1つ以上の流
体処理用機能デバイス;を含んで成り:平坦クロマトグ
ラフ・アセンブリがコンパクト且つ低−プロフィル形状
因子を有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、分析器機に関し、
より詳細には、コンパクトで、低プロフィル形状因子を
有するクロマトグラフ・アセンブリを装備した機器に関
する。
【0002】
【技術背景】制御された流体の流れに依存する分析器機
は、試料精製、化学分析、臨床検定、及び工業処理のよ
うな広範囲の用途に共通に採用されている。ガス及び液
体クロマトグラフは、流体の流れシステムの特定例であ
り、この場合、特定の流体の流れに関連した一定の特
性、例えば、被検体又は汚染物のような流体成分の有無
が検出される。クロマトグラフの多くは、最適な操作に
必要な多くの流路を設けるために、且つ複数の種々のセ
ンサーを取付けることにより、配管、取付具、及びその
類の、高価で複雑な配列を採用している。実施上の問題
は、クロマトグラフにおける多数の流路の組合せに要す
る多数の弁、センサー、取付具、及びその類を接続する
ことに関連して残されている。このようなシステムの複
雑さのために、信頼性の問題も招来される。これらの流
れシステムに使われるデバイスは、時には自動化される
ことがあるので、信頼性とアクセス可能性は、機器の操
作を首尾よく達成する上で重要な特徴である。
【0003】別の問題は、所望の流路組合せを実現し、
しかも、コンパクトで、製造が容易で、高価でなく、且
つ信頼性のあるアセンブリを供給できるよう、弁、セン
サー、及びその類の全てを適切に配置させることに関わ
るものである。例えば、複雑な流体処理アセンブリにお
ける流体を漏らさない連結を供給することは、アセンブ
リのサイズ縮小化に伴い大きな問題となっている。ガス
クロマトグラフの幾つかは、分析を実行する際、可燃性
ガスの形で流体を使うものもある。典型的なクロマトグ
ラフでは漏洩を最小にするべく、ニューマチック(pn
eumatic)取付具が設計されているとはいえ、そ
れでもなお気送上の故障モードが考えられ、この場合、
ガスリークが起こり、且つ危険な状態をもたらすのに十
分なガスが滞留する可能性がある。
【0004】また、ガスクロマトグラフの流れシステム
は、多用途型でなければならない、即ち、修理又は改造
する場合は、その間、再形成できるもの、もしくはさら
に別の弁、取付具等がその流れシステムに付加される時
の特定の用途の要件を満たすものでなければならない、
ということが分かるであろう。
【0005】従って、在来のガスクロマトグラフは、そ
うでなければクロマトグラフ分析から利益を得たであろ
う多くの用途には大き過ぎ且つ嵩張り過ぎである。在来
のガスクロマトグラフは組立てが困難であり、その上、
その製造に労力と資本がかかる特殊設計の高価な材料と
部品類(非標準又は少量しかない部品)の複雑な配列を
必要とする。その電力要件とその非効率な電力の使用に
よって、在来のガスクロマトグラフは、より多くの電力
を消費し、且つ典型的には、限られた空間での操作の際
には、温度制御された環境が必要となる。
【0006】例えば、幾分か過酷な環境に設置でき、且
つ特定の化学処理工程において諸成分の濃度を監視する
のに専用できるガスクロマトグラフは、多くの化学処理
プラントで求められている。そのようなデバイスは、プ
ロセスガスクロマトグラフと呼ばれるものである。プロ
セスガスクロマトグラフは、現に製造されており、再パ
ッケージされた(例えば、補強された)研究所級のガス
クロマトグラフの用途に供給されている。そのデバイス
は、大きく、嵩張っていて、且つ高価である。プロセス
ガスクロマトグラフに望まれる多くの特性を示す携帯型
のガスクロマトグラフの必要性がある。これらの特性に
は、単純性、堅牢性、操作容易性、最小の保守、及び低
コストが含まれる。
【0007】小型化ガスクロマトグラフを供給するに当
たっての最近の試みは、一般に、3つの設計アプローチ
の中の1つに追従している。
【0008】第一のアプローチは、在来のガスクロマト
グラフの部品の幾つかを従来の材料と技術を使って小型
形状に作ることであり、従って、ガスクロマトグラフの
組立て時の全体寸法と構成の縮小率も劣ったものとな
る。この領域の代表的な特許には、USP3,996,
017(kaiser);5,298,225(Hig
don);及び5,340,543(Annino等)
がある。残念ながら、このアプローチでは、真に低コス
トで、信頼性があり、且つコンパクトなガスクロマトグ
ラフが作り出されていない。前述の小型化によって、典
型的に、製造コストと小型化部品の複雑さとが増大さ
れ、且つ該部品を完全なシステムに組立てることが困難
となり、しばしば、自動化ラインを必要とする。
【0009】別の、広く分岐されたアプローチは、半導
体製造並びにマイクロ電子機械システム(MEMS)の
分野で開発された技術を利用して、ガスクロマトグラフ
の寸法と構成を根本的に縮小するものである。このアプ
ローチが成功するか否かは、ガスクロマトグラフの部品
全部をシリコン又は半導体チップに微細加工することに
かかっている;代表的特許は、USP4,905,49
7(Shindo);4,935,040(Goede
rt)、及びAngell等の“Silicon Mi
cromechanical Devices”,Sc
ientific American,March,1
983である。このアプローチは、未だ初期段階にあ
り、高い設計・製造コスト、低い歩留り、及び扱い難い
性能及び信頼性の問題を伴っている。例えば、微細加工
されたガスクロマトグラフ−オン−チップ型の組立てに
必要な材料は、全機能ガスクロマトグラフの動作モード
とは部分的に互換できるに過ぎない。部品類は、堅牢で
あり(脆くなく)、不活性であり、高温及び急速な温度
変化と適合しなければならない。微細加工は、また、例
えば、微細加工した分離カラム中へ注射器針を介して試
料を注入する処理におけるような、手動操作に不向きと
なり得る程デバイスを小さく作る傾向がある。
【0010】さらに別の、中間的アプローチは、微細加
工技術を使って1つ又は2つの部品だけを作製し、次い
でそれらを在来の研究所向けガスクロマトグラフをベー
スとしたシステムに用いることである;代表的特許に
は、USP3,538,744(Karasek)及び
4,474,889(Terry等)がある。しかし、
このアプローチは、先の2つのアプローチの各欠点の多
くを抱えているものと思われ、従って、ガスクロマトグ
ラフのコスト、複雑さ、及び寸法の縮小化に際して大幅
な相殺改善をもたらすものではない。
【0011】
【発明の目的及び発明の概要】本発明は、上記の諸問題
を解決することを目的とする。本発明の利点は、分析器
機を供給できるような制御システムと併用するのに適し
た平坦クロマトグラフ・アセンブリにおいて達成され
る。平坦クロマトグラフ・アセンブリは、平坦ニューマ
チック・マニホルド、温調域を確立するヒータ/ファン
・アセンブリ、温調域を平坦ニューマチック・マニホル
ドの側面に定める絶縁エンクロージャ(enclosu
re)、注入部、ニューマチック・マニホルドの選択さ
れた流体支持導管に取付けられた入口及び出口端を有し
且つ温調域内に配置される分離カラム、及び平坦ニュー
マチック・マニホルドの内部に設けられた各内部エッチ
(etched)・チャンネルと流体を漏らさずに通じ
るようニューマチック・マニホルドに取付けられた1つ
以上の流体処理用機能デバイスを包含する。流体処理用
機能デバイスは、平坦ニューマチック・マニホルドのエ
ッチ・チャンネルの確定した1つに表面−取付け又は端
部−取付けしてよい。流体処理用機能デバイスは、a)
選択された流体支持導管へ又はそこから流体の流れを連
結するための流体連結器又は通気孔のような受動デバイ
ス;b)平坦ニューマチック・マニホルドの1つ以上の
選択エッチ・チャンネルにおいて流体の流れを制御する
ための制御システムからの制御信号に応答して動作でき
る弁、流体調整器、又は(流体源に接続可能な)流体流
インプットデバイスのような能動デバイス、又はc)エ
ッチ・チャンネル又は分離カラムにおける流体の流れの
特性を表す検知又は検出信号を生成するように動作可能
な、センサー又は検出器のような信号発生デバイスを包
含してよい。
【0012】本発明の第一の態様において、平坦クロマ
トグラフ・アセンブリは、コンパクトで、低プロフィル
形状因子で供給され、従って、携帯型ユニットとして使
用でき、又は被分析流れシステムに関して限られた空間
に容易に取り付けられるため、“オン−ライン”、“ア
ット−ライン”、又は化学プロセス分析に関し同様に方
向付けられたタイプの化学プロセスの分析を可能にする
ものである。
【0013】本発明の別の態様では、平坦クロマトグラ
フ・アセンブリは、悪環境で操作できるよう絶縁エンク
ロージャに封入する。
【0014】本発明の別の態様では、平坦クロマトグラ
フ・アセンブリは、極小容積において流体接続と流体処
理機能を実現すると共に優れた信頼性と長寿命を提供す
る平坦ニューマチック・マニホルドを用いて構成され
る。
【0015】本発明の別の態様では、平坦クロマトグラ
フ・アセンブリは、小型化流体処理用機能デバイスと、
熱を保存し、電力をほとんど消費せず、且つ従ってエネ
ルギー効率的なものとするべく、極小加熱域を有する平
坦マニホルドとを利用する。
【0016】本発明の別の態様では、平坦クロマトグラ
フ・アセンブリは、使用の容易化、費用の節約、及び多
用途化のために在来の分離カラムを利用する。
【0017】
【好ましい実施例の詳細な説明】本発明は、1つ以上の
流体の流れの分析から利益を得る様々な分析システムに
おいて有用な用途を見出すであろう。
【0018】本発明の一定の装置と方法は、1つ以上の
前述の流体の流れに関して、特に、開始、分配、再方向
付け、停止、制御、感知、及びその他の種類の機能(本
明細書では集合的に流体処理機能として定義)を供給す
るのに用いることができる。ガス類は、本発明の実施に
おいて好ましい流体であり、それ故、本発明に関する以
下の説明は、幾つかのニューマチック・デバイスの配
置、構成、及び動作の説明を包含し、従って、特に、ガ
スクロマトグラフ分析システム(以下、クロマトグラ
フ)におけるガス流の制御と分析に向けられる。しか
し、以下の説明の目的で、用語“ニューマチック”は、
やはり、全ての種類の流体に該当するものと考えられ
る。
【0019】理解すべきは、本明細書の教示は、液体ク
ロマトグラフ、高圧ガスクロマトグラフ(HPGC)、
高圧液体クロマトグラフ(HPLC)、超臨界流体クロ
マトグラフ(SFC)、及び超臨界流体抽出(SFE)
装置を含む、他の分析機器に適用できる、ということで
ある。
【0020】添付の図面と以下の説明において、類似の
名称と符号は類似成分に該当し;信号ラインは図式的に
シングルの実線で描き;ニューマチック流れライン又は
チャンネルは図式的にダブルの実線で描き;そしてファ
ントム(phantom)の成分、ライン、又はチャン
ネルは図式的に破線で描く。
【0021】新規且つ新奇な分析器機を図1に示し、平
坦クロマトグラフ・アセンブリ120と制御部130を
有するクロマトグラフをまとめて110で示す。平坦ク
ロマトグラフ・アセンブリ120は、コンパクトで、低
プロフィル形状因子で供給され、その結果、在来のガス
クロマトグラフに比べ、平坦クロマトグラフ・アセンブ
リ120は、専有容積が小さく、床面積が小さく、携帯
型ユニットとして形状を変更でき、製造がそれ程複雑で
なく且つその費用が少なくてよく、その上、動作電力の
消費が少ないものとなる。本説明の目的で、“コンパク
ト”とは、3000〜5000cmのオーダの極めて
小さい容積を占めるパッケージでその実施が可能となる
平坦クロマトグラフ・アセンブリの特性を指す。“低プ
ロファイル”及び“低プロフィル形状因子”は、全体的
に平坦で、6〜10cmのオーダの厚み、18〜24c
mのオーダの幅、及び28〜34cmの長さを有するパ
ッケージでその実施が可能となる平坦クロマトグラフ・
アセンブリの全体的プロフィル即ちアスペクト比を指
す。従って、意図された平坦クロマトグラフ・アセンブ
リの寸法と形状は、ヒューレット・パッカード社(Pa
lo Alto,CA)で製造された携帯型コンピュー
タのOmnibook系列のような(又は好ましくはそ
れより小さい)、現在、ノート型携帯コンピュータとし
て知られているものと似ていてよい。
【0022】ある与えられた試料成分のクロマトグラフ
分離を実行するため、試料は、試料注入口111によっ
て加圧キャリヤーガスと共に平坦クロマトグラフ・アセ
ンブリ120の中に注入する。注入口111に供給され
るキャリヤーガスは、1つ以上の流体連結器112Aを
通してガス源124Aから平坦ニューマチック・マニホ
ルド(以下、平坦マニホルド)113中に供給され、そ
こには、流体の流れを支持できる内部導管(以下、チャ
ンネルと呼ぶ)が組み込まれており、その各々が、キャ
リヤーガスと、空気、水素、及びメークアップガスのよ
うな、適当な種類の複数の検出器ガスとを含む、複数の
ガス流を一部分制御し且つ再方向付けをする。検出器ガ
スは、それぞれのガス源(該ガス源の1つ124Bを図
示)からそれぞれの連結器112Bを通して平坦マニホ
ルド113に供給される。分離カラム114は、1つの
側面上の平坦マニホルド113と他の側面上の下方絶縁
エンクロージャ117とで定められるオーブンの空洞内
部に配置される。下方絶縁エンクロージャ117は、オ
ーブン空洞を周囲環境から絶縁する働きをする。上方絶
縁エンクロージャ119は、平坦マニホルド113の他
の側面を絶縁できるように取付けられ、且つ前述の流体
処理用機能デバイスの幾つか又は全ての端部取付けがで
きるようノッチ(notch)を設ける。分離カラム1
14は、各連結器112C、112Dによって平坦マニ
ホルド113における選択チャンネルにその入口及び出
口端が接続される。カラム114を通過するキャリヤー
ガス/試料結合物は、ベント121及び/又はポート1
25を通して周囲空気をオーブン空洞の方へ及びそこか
ら導くところの、ヒータ/ファン・アセンブリ118
A、118Bの作動で部分的に生ずる温度プロフィルに
曝す。この可変温度プロフィルの間に、試料は、各成分
と与えられた温度でのカラム114との相互作用におけ
る差に主として起因してその成分に分離する。分離され
た成分がカラム114を出る時に、それらは検出器12
4によって検出される。
【0023】本発明の第一の特長では、平坦クロマトグ
ラフ・アセンブリ120に組み込まれる流体処理用機能
デバイスは、平坦マニホルド113に端部取付け又は表
面取付けされるものと考えられる。それらが端部取付け
されるか又は表面取付けされるかは、本発明の特定の用
途によって決まるが、しかし(そして図1に示すよう
に)デバイスのうちのあるものは、アクセスできるよう
平坦マニホルド113の1つの端部に配置するのが有利
である。意図された流体処理用機能デバイスは、前述の
注入口111及び連結器112A、112B、112
C、112Dのような受動デバイス;弁115又は(図
1には示されていないが)調整器のような能動デバイ
ス;及びセンサー108、検出器124、及びその類の
ような信号発生デバイスを包含する。
【0024】流体処理用機能デバイスのうちで、能動デ
バイスと信号発生デバイスは、コンピュータ122とニ
ューマチック調節器126に接続されたデータ・制御ラ
イン123A、123B、及び128上に制御部130
によって発生された制御信号の下で作動されると考えら
れる。例えば、ニューマチック調節器126は、とりわ
け、流体の流速、流体圧力、流体の流れ調整、及び流れ
の連続性又は不連続性のような、平坦マニホルド113
における流体流の特性の制御を実行する。さらに別の例
としては、平坦マニホルド113に取付けられた特定の
弁115がデータ・制御ライン128上で受信された制
御信号に関連して及びクロマトグラフ110の一定の動
作条件に応じて開けられたままに及び閉じられたままに
なる時間の制御を実行する。制御・データライン130
によって、能動及び信号発生デバイス(弁115、検出
器124等)における適当な信号−インタフェース回路
からの感知情報のリターンが可能となる。従って、コン
ピュータ122、ニューマチック調節器126、及び平
坦マニホルド113は、様々な流体処理機能を実行する
よう作動させることができる。調節器126とコンピュ
ータ122は、明確化のため、別ブロックとして示され
ているが、それらの機能は、平坦クロマトグラフ・アセ
ンブリ120に組込まれた電子モジュールによって実行
することができる、といことは認められるであろう。ま
た、本発明に関連して使用されるコンピュータ122に
関わるプログラミングは、本明細書の説明から容易に理
解されるであろう。平坦マニホルド・アセンブリ110
は、1つ以上の端部−又は表面−取付け連結器109
と、検出器124、弁115、センサー108、ファン
モータ118A、リニアモータ261(図6〜8)、及
びその類の作動に必要とされることがある制御、デー
タ、及び電力信号用の関連配線(はっきりさせるため簡
略化した形でライン123Bとして図示)とを包含す
る。
【0025】コンピュータ122は、クロマトグラフ・
アセンブリ120に関連した全てのシステムの総合的制
御を維持する。検出器124のような、ある構成成分か
らの信号でクロマトグラフ110の動作を監視すること
により、コンピュータ122は、分析実行に要する一定
の機能を開始し且つ維持することができる。コンピュー
タ122は、中央演算処理ユニットと、ランダムアクセ
スメモリ、読取り専用メモリ、入出力分離デバイス、ク
ロック及びその他の関連電子部品のような、全ての関連
周辺機器とを包含する。好ましい実施例においては、コ
ンピュータ122に用いる中央演算処理ユニットはマイ
クロプロセッサである。前述のように、コンピュータ1
22は、その中に情報とプログラミングを格納し且つ既
知の方法で検索できるメモリを包含する。しかし、ニュ
ーマチック調節器126のプログラムによる制御は、埋
込みマイクロプロセッサ又はクロマトグラフ・アセンブ
リ120に組み込まれた個別調節器回路のような、他の
計算手段によって実行することができる、ということは
明らかになろう。ある種の応用では、キーパッド158
とディスプレイ160とを有する電子制御パネル150
の形の光学インタフェースを包含できるものとする。従
って、表示又はプロンプトメッセージは、コンピュータ
122で生成させ、ディスプレイ160で表示させるこ
とができる。動作命令とその他の情報は、キーパッド1
58を使ってコンピュータ122に入力してよい。
【0026】図2〜8は、図1の平坦クロマトグラフ・
アセンブリ120の好ましい実施例200を図解したも
のである。好ましい実施例において、図解した実施例2
00は、平坦マニホルド210に端部−取付け又は表面
−取付けされた関連流体処理用機能デバイスを含むニュ
ーマチック部202を有する平坦マニホルド210を包
含する。絶縁エンクロージャは、2つの取外し可能カバ
ー228、229のように設け、各々は、平坦マニホル
ド101、及びそこに取り付けられた幾つかの又は全て
の流体処理用機能デバイスを周囲条件から隔離するため
に、好ましくは、平坦マニホルド210の上方及び下方
の主表面210C、210Dのそれぞれの周辺に取付け
ることができる。このように、好ましい実施例200
は、それぞれ、上方及び下方の主表面210C、210
Dに露出されている前面プレート210Aと背面プレー
ト210Bとから成る平坦マニホルド210;ファン軸
221、ファンモータ222、及びファン羽根224を
有するファン220;上方及び下方の主表面210C、
210Dの間のファン220の作動によって空気交換を
可能にする平坦マニホルド210のフロースルー開口2
10T;平坦マニホルド210の端部部分に組み込まれ
ていて、注入口隔壁キャップ203C、注入口チャンネ
ル203A、及び注入口ライナ203Sを有する注入口
部203;流体ライン連結器204A、204B、20
4C、注入口端部205Aと出口端部205Bとを有す
る分離カラム205;検出器部207;カラムカバー2
28及びカラム側面カバー229に配置されたファンモ
ータキャップ/ヒートシンク228C;及びオーブン空
洞カバー229を包含する。平坦マニホルド210に取
り付けられているものは、第一弁231、第二弁23
2、第三弁233、凹所240Rを有する吸気シャッタ
240、凹所241Rを有する排気シャッタ241、及
びそれぞれのリニアシャッタモータ(簡単のため、その
うちの1つリニアモータ261だけを図解)である。リ
ニアモータにより、吸気シャッタ240は吸気口24
2、243、244に関して選択的に位置決めされ、且
つ排気シャッタ241は排気口245、246、247
に関して選択的に位置決めされる。吸気口244と排気
口245は、それぞれ、縦型加熱素子カートリッジ24
8を包含し、それを選択的に動作させてそこを通過する
空気を加熱することができる。
【0027】本発明によって実施された平坦マニホルド
210の好ましい実施例では、前面プレート210Aと
背面プレート210Bは、製造工程中に、一緒に重ね合
わせて接着されるように寸法取りし且つ構成して平坦マ
ニホルド210を形成するものと思ってよい。好ましく
は、前面プレート210Aと背面プレート210Bは、
ステンレス鋼から機械加工し、それぞれが流体流を支持
できるエッチチャンネル210Eの配置を形成できるよ
うエッチングする。即ち、エッチチャンネル210E
は、前面プレート210Aと背面プレート210Bが一
緒に接着されて平坦マニホルド210を形成する時に予
め定められた内部導管の配列を形成する。接着の好まし
い方法は、拡散接着法であり、これは、当分野で一般に
知られており、例えば、USP3,530,568号に
記載されている。しかし、他の実施例では、他の材料と
接着法を用いてよく、且つ(図示されていないが、例え
ば、1つ、2つ、又はそれ以上の)媒介プレートを前面
プレート210Aと背面プレート210Bの中間に設け
て多層形状を形成することも考えられる。複合の内部接
続流路を形成する作業が、通常、多くの別々の配管部分
と、その配管部分をそれを通して取り付けることができ
るブロック様のマニホルドとを使用することを包含する
従来のアプローチとは対照的に、平坦マニホルド210
は、その費用の一部分で且つ最小の労力で在来型のマニ
ホルドに取って代わることができる。エッチチャンネル
をそこに有する平坦マニホルドの設計並びに製造上のさ
らに別の詳細は、Craig等によるUSP5,56
7,868号に見出すことができる。
【0028】平坦マニホルド210は、堅牢、精密で、
耐衝撃性であり、且つ高温環境での操作で影響を受けな
い構造である。意図された平坦マニホルド210は、ド
リル、曲げ、溶接、等を施すことができる。故に、平坦
マニホルド210は、流体流の複雑な配置構成を支配す
るニューマチック流体マニホルドとして機能する上、実
施例200の主要な構造支持部材となるものである。
【0029】前面及び背面プレート210A、210B
の1つ又は両方のエッチチャンネルは、平坦クロマトグ
ラフ・アセンブリ120の操作に必要な一定の流路とし
ての適切な形状寸法を欠くことがある、ということが予
想される。最適のクロマトグラフィーには、試料と接触
している流路は、好ましくは、円形断面を有し且つ化学
的に不活性な側壁を有するものである。エッチチャンネ
ル210Eのある部分の横断面は、チャンネルの深部に
おいてと言うよりはむしろ、プレート表面で浅く且つ多
分幅広く見えることがある。加えて、2つの重ね合わせ
たチャンネルの長手方向の端部は、ある領域で、試料拡
散チャンバーとして作用できる薄い割れ目を定めること
がある。このチャンネルの形状のため、望ましくないバ
ンドの広がりが起こり得るのである。
【0030】本発明の平坦クロマトグラフ・アセンブリ
120は、3つの方法でこの問題を扱えるよう構成され
る。第一に、平坦マニホルド210のエッチチャンネル
の多くは、試料の流れを運ぶべく用いられておらず、従
ってそれらの断面形状は、幾分、不適切であると考えら
れる。第二に、好ましい実施態様200は、平坦マニホ
ルド210のエッチチャンネルを分離カラムとして用い
るよりはむしろ、円形断面の、中空の、融解石英管又は
金属管状カラムのような、在来型の開キャピラリーカラ
ムを分離カラム205として用いる。第三に、試料と接
触しそうなエッチチャンネル210Eの一定部分に、好
ましくは、融解石英キャピラリー管の一部分のような個
別ライナを装着するか、又はフッ化ニッケルのような不
活性材料の拡散コーティングを施す。平坦マニホルド2
10の組立てに先だって前述の対策を講じて、選択した
チャンネルの不活性の程度を高め且つチャンネルの形状
寸法を改善してよい。特に、及び図8に示すように、注
入口近傍のエッチチャンネル203Aは、前面及び背面
プレート210A、210Bを接合する前に、エッチチ
ャンネルに配置される円形断面の、中空の、融解石英管
の断片の形の注入口ライナ203Sを使って強化してよ
い。
【0031】多くの用途では、単一の平坦クロマトグラ
フ・アセンブリ120の範囲内で1つのガス供給部を異
なった複数目的のために使うことがある。例えば、水素
の流れを2つの流路に分割する“T字管”のように形成
したエッチチャンネルに単一の水素源を充当する。次い
で、分割流制御デバイス(例えば、弁231、233)
を取り付けて、各エッチチャンネルにおけるガス流の個
別制御ができるよう一定のエッチチャンネルを制御す
る。例えば、そのような流路は、連結器204Aから供
給される空気又はメークアップガス、連結器204Bか
ら供給されるキャリヤーガス、及び連結器204Cから
供給される検出器ガスを、そのようなガス流を必要とす
る平坦マニホルド210の数カ所に正確に搬送するのに
用いられる。別の例では、入口部203の注入口203
Pにおいて、少量のガスが、分割通気流用に、又は入口
部203の内部部分を周囲環境から密封するのに用いら
れる隔壁表面を横切るように向けられるパージガスとし
て、用いられる。隔壁パージによって、その隔壁から脱
ガスされることがある化合物のどれも分離カラム205
に侵入しないように防御され且つバックグラウンド雑音
なのか又は試料成分なのかを見間違えることが防がれ
る。例えば、水素は、キャリヤーガスとして、隔壁パー
ジ用として、さらに、水素炎イオン化検出器(FID)
の形で構成された検出器部207に使う燃料として用い
てよい。同様に、分離注入の際、入口部203に入る殆
どのキャリヤーガスは、適当なフロー又は圧力制御ハー
ドウェア(図示省略)を利用する分割通気口として作用
するエッチチャンネルを通して換気される。
【0032】図3に示すように、エッチチャンネル21
0Eは、表面取付けした流体処理用機能デバイスの補充
ポートと流体連絡させるのに適した開口を有する表面ポ
ート210Sの方へ向けてよい。あるいは、エッチチャ
ンネル210Eは、インタフェース表面210Fが、入
口部203及び連結器204A、204B、及び204
Cのような、複数の端部取付けした流体処理用機能デバ
イスを受けられるよう配置されている平坦マニホルド2
10の(及び好ましくはニューマチック部202の近傍
における)エッジの方へ向けてよい。(適当な表面取付
け型流体処理用機能デバイスの取付けと操作についての
さらに詳しい説明は、後で、図9と10を参照して説明
する)。
【0033】好ましくは、端部取付け型流体処理用機能
デバイスは、取付具の主軸に沿ってスロット(slo
t)が加工されている全体に円筒状の取付具のように構
成し、その一部分が平坦マニホルド210のエッジ上に
設けられたインタフェース表面210Fと摩擦力で噛み
合うようにする。マニホルドの端部上にスロットを滑ら
せることにより、インタフェース表面204Fと平坦マ
ニホルド210の端部上のインタフェース表面210F
との間で隙間のない摺り合わせが達成される。受け穴2
04Rは、ガス管Tの1つの端部と摩擦で噛み合うよう
に形成してエッチチャンネル210Eへの管Tの内部穴
の間で流体連絡が行われるようにする。一般に重要なこ
とは、管Tの上に連結器204Bをクリンプ(crim
p)し、そして、インタフェース表面210F上にイン
タフェース表面204Fをろう付けするか又はクリンプ
すれば、管T、連結器204B、及びインタフェース表
面210F間の流体連絡を気密になし得る、ということ
を保証することである。あるいは、ろう付けは省略する
ことができ、且つインタフェース表面はダクタイル(d
uctile)表面材料、又は高温セラミック・セメン
トで作成してよく、その結果、気密シールを実現するの
にクリンプだけで十分となる。2つのインタフェース表
面210Fと204Fを十分に重ねれば、ろう付け又は
セメントの場所を、必要なら、エッチチャンネル210
Eの開口から遠ざけることができる。毛管作用のため、
ろう付け材料が密着部品間の限られた空間に且つエッチ
チャンネル210Eへの露出された入口から離れた位置
に保持されることになろう。あるいは、取付部は、定位
置にスポット溶接するか、又はクリンプによって取付け
て気密シールを形成できるであろうフラップ又はタブ
(図示省略)を有するよう組み立ててよい。さらに別の
実施例では、受け穴204Rは、管Tの端部に補充され
ることがあるねじ切りした取付具(図示省略)と噛み合
うようねじ切りしてもよい。
【0034】図4〜5に図解した、本発明の別の特徴で
は、平坦クロマトグラフ・アセンブリ120の好ましい
実施例200も、分離カラム205の温度制御を実行す
る手段を包含する。図4に示すように、好ましい実施例
200が第一モードで操作される時、吸気及び排気シャ
ッタ240、241は、それらの閉位置に設定され、そ
のため、ファンモータ222によるファン220の動作
によって、吸気ポート244と排気ポート245及び各
加熱カートリッジ248を通してオーブン空洞内に空気
の閉回路再循環が引き起こされる。前述のファン220
の動作並びに加熱カートリッジ248経由の制御された
熱の適用は、制御されたオーブン温度プロフィルによる
試料化合物の分離を考慮したものである。オーブン空洞
の急速冷却は図5に図解されており、この場合、好まし
い実施例200は第二モードで示され、ここでは吸気及
び排気シャッタ240、241は開位置に設定され、そ
のため、ファンモータ222によるファン220の動作
によって、カバーの吸気口228V、吸気ポート24
3、244、凹所240R、排気ポート246、24
7、凹所241R、カバーの排気口229Vを介してオ
ーブン空洞中に周囲空気のフロースルー循環が引き起こ
される。この第二のモード中、各加熱カートリッジ24
8は作用しない。第三の操作モードも実施され、この場
合、吸気及び排気シャッタ240、241は、両方と
も、それらの開及び閉位置の間に設定され、その結果、
周囲空気は、オーブン空洞内部で混合され且つ循環され
ることになる。図4の断面図から分かるように、ファン
モータ222とそれに関連した軸受は、ファン220の
回転軸221を支持するのに使われる。従って、ファン
モータ222は、やはりオーブン空洞の極端な温度から
絶縁されているカバー228に固定的に取り付けられ
る。
【0035】図6〜10に示すように、代替構成は、一
定の流体処理用機能デバイスを表面−取付け及び端部−
取付けすることで成し遂げることができる。例えば、弁
231は、表面取付け電磁弁として構成してよく;第二
弁232と第三弁233は、それぞれ、表面取付け比例
弁として作り;フローコントローラ330は、パージ流
コントローラとして構成してよく;そして第一センサー
341は、圧力センサーとして構成してよく、第二セン
サー342は、フローセンサーとして構成してよい。さ
らに、供給取付具260は、供給ライン取付具266の
所で供給ライン(図示省略)からのキャリヤーガスを受
けられるように構成してよい。供給取付具260は、取
付ブロック250の第一横ポート表面252に取付け、
キャリヤーガスの流れをスルーホール261から取付ブ
ロック250におけるエッジ噛み合い面251のポート
(図示省略)の中へ輸送するようにする。供給取付具
は、内部フリット(図示省略)を包含してもよい。即
ち、取付ブロック250は、取付ブロック250におけ
る内部エッジ噛み合い面251上のそれぞれのポートの
所で接続される複数の内部流体搬送通路を包含するよう
構成される。
【0036】図9に図解したように、(パージフローコ
ントローラ330、第一センサー341、及び第二セン
サー342のような)表面−取付け流体処理用機能デバ
イス上の各ポートは、該デバイスを平坦マニホルド21
0に面シールするためのO−リング270が使えるよう
に凹所を設ける。例えば、流体処理用機能デバイス上の
1つ以上の搭載ブロック235、236、237は、取
付ブロック250に面シールしてよい。第一弁231、
第二弁232、及び第三弁233の各弁ブロック面23
7、236、235は、取付ブロック250に締付ける
ことができ、従って、締め具(図示省略)のような、当
分野で既知の適当な手段によって平坦マニホルド210
に面シールされる。キャリヤーガスライン262、及び
検出器ガスライン263は、在来の取付具を介して取付
ブロック250に接続することもできる。取付ブロック
250は、取付ブロック250を通るO−リング及び締
付具のような在来の手段及び平坦マニホルド210にあ
る適当なスルーホールで固定できるよう取付ブロック2
50に締付けてシールしてよい。しかし、本発明の特定
の特徴では、噛合い面251は、準備された平坦マニホ
ルド210の端部インタフェース表面210Fにクリン
プ取付けできるように構成してよい。端部インタフェー
ス表面210Fの凹所又はスルーホールは、取付ブロッ
ク250を幾つかの内部導管の端部方向の開口210E
に芯出しするのに役立つものである。ろう付け又は接着
を適用すれば、取付ブロック250の縦ポート表面25
1は、適当な手段(図示省略)により平坦マニホルド2
10上に締付けもしくはクリンプされる。
【0037】背面プレート210Bにあるノッチ210
Nは、平坦マニホルド210で満たされる特定のニュー
マチック形状を定めるために、前面プレート210A上
に刻まれた幾つかの目印の1つと一致するように製造時
に付けられる。図解した実施例では、ノッチ210N
は、平坦マニホルド210が分離/分離無し(S/S
L)の注入口形態での使用が予定されていることをその
配置で示すことできる。背面プレート210Bに修正が
なされると、他の注入口形態での使用ができるように設
計されている平坦マニホルド210の他の好ましい実施
例が予定されることになる。例えば、分離−分離無し注
入口は、少なくとも3つの異なった内部接続流路を必要
とする。1つはガス源であり、別の1つは隔壁パージ流
路であり、そして三番目は分割通気ラインである。入口
部203は、他の幾つかのディテイル、例えば、分離カ
ラム205への特定接続、又は複数シールを使った注入
口の特定据付け、及び隔壁ホルダーの入口部へのインタ
フェース、を含んでもよい。前面プレート210A及び
背面プレート210Bのうちの1つの構造は、意図され
た形状の全てに共通にしてもよいということ、及び背面
プレート210Bは、満たされるべき形状のタイプに応
じてその構造が変化するということは、本発明の特徴で
ある。このように、この特徴から、前面プレート210
Aはより多用途型の部品となり、従って、部品数が減
り、製造コストが低減されることになる。加えて、ノッ
チ210Nの位置は、平坦マニホルド210が特定の注
入口形態に向くよう適切に形成されたことを保証するた
め、平坦クロマトグラフ・アセンブリ120の組立中に
検知することができる。
【0038】平坦マニホルド210は、1つ以上のデー
タ及び制御信号インタフェースボード320用コネクタ
又はケーブルのような、ある種のメカニカル機能を収容
するための他の様々な物理的特徴を備えることができ
る。簡単な柱から成る隔離絶縁器を、分離カラム205
がその上に配置される平坦マニホルド210の部分に搭
載してよい。横長の開口206を長手方向に分布させ
て、平坦マニホルド210の周辺と加熱素子カートリッ
ジ248が置かれている内部部分との間の熱遮断を実行
する。これらの熱遮断によって、平坦マニホルド210
の内部から露出部分、例えば、ニューマチック部20
2、等への熱の移動が妨げられる。熱遮断はまた、平坦
マニホルド210の一定の部分(例えば、入口部203
及び検出器部207の下にある部分)においてある程度
の局在化加熱をもたらすように配置してもよい。あるい
は、平坦マニホルド210は、内蔵抵抗ヒータ又は触媒
燃料ヒータ(図示省略)を包含して、前述の局在化加熱
ゾーンへ選択的に熱を供給することもできる(触媒燃料
加熱は、Berger等により1994年10月11日
に提出された米国特許出願番号08/320486号に
記載されている)。好ましい実施例200の内部に部品
類を配置し且つ芯出しできるように、探知ホールを設け
る;例えば、絶縁カバー228、229上の各突出部
(図示省略)に平坦マニホルド210を配置するために
設けられるコーナー・ホール211;センサー341、
342を平坦マニホルド210上に配置するのに使用さ
れる突出部341P、342Pを通すことができるスル
ーホール212、等。さらに別の構造要素を、溶接、ボ
ルト、又は別の方法で、平坦マニホルド210に付着さ
せてよい。
【0039】平坦クロマトグラフ・アセンブリは、機能
ブロック・システムとして図1に、及び簡単のため一定
の部品を省いて図2〜10に、図解されていることが分
かるであろう。しかし、平坦クロマトグラフ・アセンブ
リ120は、必要に応じて、及び当分野で周知のよう
に、ここに図解且つ説明されたものに加えて、配線ハー
ネス、追加電気コネクタ、取付又は組立ハードウェア、
及び上述の諸機能に必要な又は補充となるその他の部品
のような、他の部品類を包含するものとする。
【0040】本発明の平坦クロマトグラフ・アセンブリ
200の利点には:上述のコンパクト性、低プロフィル
形状因子;複数の流路がそこに集積された構造支持部材
を備えるための単一平坦マニホルドの使用による(取付
具、弁、センサー、及びその類のような)流体処理用機
能デバイス間の外部接続の削減;極めてコンパクトな低
プロフィル・アセンブリを可能にし、しかも在来のニュ
ーマチック接続の複雑さも困難さもなしに、信頼性があ
り、流体を漏らさない接続をもたらすところの、端部−
取付け又は表面−取付けのどちらもできるように都合よ
く作ることができるところの、平坦マニホルドに接続す
る流体処理用機能デバイスの使用が含まれ;別法では平
坦クロマトグラフ・アセンブリの全体容積を不都合に増
大させるであろう、外部接続の数と複雑さも低減され
る。
【0041】本発明のさらに別の利点は、複数の流体処
理用機能デバイスを、従来技術のシステムで可能である
より低い製造コストで、より小さい容積に組立てること
ができる、ということである。これは、平坦マニホルド
に集積されるエッチチャンネルの使用から得られるもの
で、従って、それ自体、極めてコンパクトであり、様々
な形状と形態の構造に変更できる、平坦マニホルドに多
くの流体の流路が統合されるのである。例えば、平坦マ
ニホルド及び絶縁エンクロージャのようなその関連部品
は、不規則な形の、コンパクトな容積に適合するよう
に、必要なら、湾曲した、折り曲げられた、又は角張っ
た形状に作ってもよい、ということが考えられる。
【0042】このように、多数の流体処理用機能経路
は、慣用の管形パイプ、フェルール(ferrul
e)、及び手動取付具を使って組み立てるにはこれまで
は不可能でないにしても困難であったであろう形のコン
パクトな低プロフィル形状因子に統合することができ
る。また、多流路を得るのに必要とされる接続数を減ら
すことにより、かなりの省コストと信頼性の改善が実現
できる。
【0043】本発明によって提供される表面−取付けニ
ューマチック接続によっても平坦クロマトグラフ・アセ
ンブリの複雑さが軽減され、これは、平坦マニホルド・
アセンブリを配置できる分析器機の製造、組立、修理、
又は改造ステップ中に望まれることである。
【0044】別の利点は、平坦面クロマトグラフ・アセ
ンブリは、在来の分離カラムが使えるよう構成され、従
って、コストを節約し且つ容易な取扱いを実現すること
である。
【0045】さらに別の利点は、オーブン空洞は、従来
技術のクロマトグラフ・システムと比べてその容積を著
しく低減でき、しかもオーブン空洞にアクセスし且つそ
こに配置される在来型分離カラムを取付け又は交換する
諸作業が容易に満足されることである。オーブン空洞
は、さらにコンパクト故、より効率よく加熱でき、従っ
て、平坦クロマトグラフ・アセンブリが消費する動作電
力はより小さいものとなる。意図されたオーブンは、1
00〜300ワットの範囲の、そして好ましくはそれ以
下の電力消費が予測され;オーブンの温度は、50〜2
50℃の範囲であることが予測され;とはいってもこれ
らの範囲は、用途と絶縁エンクロージャの絶縁の程度と
に依存して異なってもよい。
【0046】本発明は、特定の実施例を参照して説明さ
れ且つ図解されてきたが、本明細書の上文に記述され且
つ特許請求の範囲で説明された本発明の原理から逸脱す
ることなく修正及び変更をなし得ることは、熟練した当
業者には認められるであろう。
【0047】以上のように、本発明は、〔1〕クロマト
グラフ(110)であって:流体をその中に流すことが
できるチャンネルを有する平坦ニューマチック・マニホ
ルド(113)を包含する平坦クロマトグラフ・アセン
ブリ(120)と;温調域を確立するヒータ/ファン・
アセンブリ(118A,118B)と;平坦ニューマチ
ック・マニホルド(113)の主表面に隣接して温調域
を定める絶縁エンクロージャ(117,119)と;ニ
ューマチック・マニホルド(113)の選択された流体
保持チャンネルに入口及び出口端が取付けられていて、
前記主表面に隣接し且つ前記温調域内に配置された分離
カラム(114)と;平坦ニューマチック・マニホルド
の内部に設けられた各チャンネルと流体を漏らさずに連
絡するようニューマチック・マニホルド(113)に取
付けられた1つ以上の流体処理用機能デバイスと;を含
んで成り:前記平坦クロマトグラフ・アセンブリがコン
パクト且つ低−プロフィル形状因子を有することを特徴
とし、次のような好ましい実施態様を有する。
【0048】〔2〕流体処理用機能デバイスが、平坦ニ
ューマチック・マニホルド(113)におけるチャンネ
ルのうち一定のものに表面−取付けされることを特徴と
する〔1〕記載のクロマトグラフ。
【0049】〔3〕流体処理用機能デバイスが、平坦ニ
ューマチック・マニホルド(113)におけるチャンネ
ルのうち一定のものに端部−取付けされることを特徴と
する〔1〕記載のクロマトグラフ。
【0050】〔4〕流体処理用機能デバイスが、a)受
動デバイス(111,112A,112B,112C,
112D);b)平坦マニホルド(113)の1つ以上
の選択されたエッチチャンネルにおける流体の流れを制
御するための制御システムからの制御信号に応答して動
作できる能動デバイス(115);及びc)分離カラム
(114)における流体の流れの特性を表す検出信号を
生成するように動作できる信号発生デバイス(108,
124)から成る群から選択されることを特徴とする
〔1〕記載のクロマトグラフ。
【0051】〔5〕平坦マニホルド(113)が、前面
表面(210C)を有する前面プレート(210A)
と、背面表面(210D)を有する背面プレート(21
0B)と、端部表面(210F)とを包含し、且つ選択
された前記チャンネルの1つの所で前記の前面表面(2
10C)、背面表面(210D)、及び端部表面(21
0F)の1つと連絡し;且つ少なくとも1つの流体処理
用機能デバイスがその上にあって前記チャンネルに接続
された少なくとも1つのポートを有し;且つ、選択され
たチャンネルと流体連絡をなすように前面表面(210
C)、背面表面(210D)、及び端部表面(210
F)の1つに前記流体処理用機能デバイスを取付けるた
めの手段を包含すること特徴とする〔1〕記載のクロマ
トグラフ。
【0052】〔6〕平坦マニホルド(113)がそこに
統合されていて、入口部(203)が平坦マニホルドの
端部の所で平坦マニホルド(113)内に統合されてい
ることを特徴とする〔1〕記載のクロマトグラフ。
【0053】〔7〕入口部(203)が、平坦マニホル
ド(113)のチャネル内に配置されたライナ(203
S)をその中に統合し、該ライナ(203S)が平坦マ
ニホルド(113)の端部にある注入口(203P)と
流体連絡を形成することを特徴とする〔1〕記載のクロ
マトグラフ。
【0054】〔8〕温調域がオーブン空洞であり、且つ
ヒータ/ファン・アセンブリが、さらに、ファン(22
0)と;平坦マニホルド(113)に取付けられてい
て、凹所(240R)を有する吸気シャッタ(240)
と、それぞれの凹所(241R)を有する排気シャッタ
(241)と、前記吸気シャッタ(240)及び前記排
気シャッタ(241)を駆動するシャッタ・モータ(2
61)とを包含するシャッタ・アセンブリ(240,2
41)と;を含んで成り:吸気シャッタ(240)は平
坦マニホルド(113)上の吸気口(244)に関して
選択的に位置設定でき且つ排気シャッタ(241)は平
坦マニホルド(113)上の排気口(247)に関して
選択的に位置設定でき、前記吸気口及び排気口は、空気
流をそこを通してそれぞれ吸気及び排気できるようファ
ン(220)とオーブン空洞に関して配置され;吸気口
(244)と排気口(247)は、それぞれ、オーブン
空洞を加熱するためファン(220)によってシャッタ
・アセンブリ(240,241)を通して運ばれる空気
を加熱するべく選択的に作動させ得る縦型加熱素子カー
トリッジ(248)を包含することを特徴とする〔1〕
記載のクロマトグラフ。
【0055】
〔9〕ファン(220)がファン羽根アセ
ンブリ(224)を包含し、且つ分離カラム(114)
及びファン羽根アセンブリ(224)が、それぞれ、平
坦マニホルド(113)の対向する上方及び下方の主表
面(210C,210D)上に且つ前記上方及び下方主
表面間のフロースルー部分に隣接して搭載され、平坦マ
ニホルド(113)のフロースルー部分を通して加熱空
気を交換できるようにしたことを特徴とする〔8〕記載
のクロマトグラフ。
【0056】〔10〕分離カラム(114)が、主表面
上に且つ主表面と平行に配置された流体連結器(112
A,112B,112C,112D)に取付けられ、よ
って平坦クロマトグラフ・アセンブリの全体の厚みを縮
小するようにしたことを特徴とする〔1〕記載のクロマ
トグラフ。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の平面クロマトグラフ・アセンブリを含
むように構成されたクロマトグラフの簡略化ブロック図
である。
【図2】図1のクロマトグラフにおける平坦クロマトグ
ラフ・アセンブリの好ましい実施例の側面斜視図であ
る。
【図3】図2の平坦クロマトグラフ・アセンブリの一部
分の側面斜視図であって、端部−取付けの流体処理用機
能デバイスの実施例を説明するための分解図である。
【図4】図2,図3のクロマトグラフにおける平坦クロ
マトグラフ・アセンブリの好ましい実施例の側面断面図
である。
【図5】図2,図3のクロマトグラフにおける平坦クロ
マトグラフ・アセンブリの他の好ましい実施例の側面断
面図である。
【図6】図2,図3のクロマトグラフにおける使用が望
まれる平坦クロマトグラフ・アセンブリの正面斜視図で
あって、平坦クロマトグラフ・アセンブリの一定の部品
は明確化のため省略されている。
【図7】図2,図3の平坦クロマトグラフ・アセンブリ
の平坦マニホルドに分離カラムの注入口端末を付着させ
る際に使用が望まれる連結器の正面斜視図であって、平
坦クロマトグラフ・アセンブリの一定の部品は明確化の
ため省略されている。
【図8】図7の連結器と図2,図3の平坦クロマトグラ
フ・アセンブリの端部部分に統合される入口部の簡略化
断面図であって、平坦クロマトグラフ・アセンブリの一
定の部品は明確化のため省略されている。
【図9】平坦マニホルドの第一分解部分の側面斜視図で
あって、平坦マニホルドの1つの側面に共通である平坦
マニホルドの一定の表面−取付部品を説明するための図
である。
【図10】平坦マニホルドの第二分解部分の側面斜視図
であって、平坦マニホルドの1つの側面に共通である平
坦マニホルド・アセンブリの一定の端部−取付部品を背
詰めいするための図である。
【符号の説明】
108 センサー 110 クロマトグラフ 111 試料注入口 112A,112B,112C,112D 連結器 113 平坦マニホルド 114 分離カラム 115 弁 117,119 絶縁エンクロージャ 118A,118B ヒータ/ファン・アセンブリ 120 平坦クロマトグラフ・アセンブリ 121 ベント 122 コンピュータ 123A,123B,128 データ・制御ライン 124 検出器 124A,124B ガス源 125 ポート 126 ニューマチック調節器 130 制御部 150 電子制御パネル 158 キーパッド 160 ディスプレイ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クロマトグラフ(110)であって:流
    体をその中に流すことができるチャンネルを有する平坦
    ニューマチック・マニホルド(113)を包含する平坦
    クロマトグラフ・アセンブリ(120)と;温調域を確
    立するヒータ/ファン・アセンブリ(118A,118
    B)と;平坦ニューマチック・マニホルド(113)の
    主表面に隣接して温調域を定める絶縁エンクロージャ
    (117,119)と;ニューマチック・マニホルド
    (113)の選択された流体保持チャンネルに入口及び
    出口端が取付けられていて、前記主表面に隣接し且つ前
    記温調域内に配置された分離カラム(114)と;平坦
    ニューマチック・マニホルドの内部に設けられた各チャ
    ンネルと流体を漏らさずに連絡するようニューマチック
    ・マニホルド(113)に取付けられた1つ以上の流体
    処理用機能デバイスと;を含んで成り:前記平坦クロマ
    トグラフ・アセンブリがコンパクト且つ低−プロフィル
    形状因子を有することを特徴とするクロマトグラフ。
JP9299443A 1996-10-22 1997-10-16 クロマトグラフ Pending JPH10132795A (ja)

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