JPH10135175A5 - - Google Patents
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- JPH10135175A5 JPH10135175A5 JP1996289462A JP28946296A JPH10135175A5 JP H10135175 A5 JPH10135175 A5 JP H10135175A5 JP 1996289462 A JP1996289462 A JP 1996289462A JP 28946296 A JP28946296 A JP 28946296A JP H10135175 A5 JPH10135175 A5 JP H10135175A5
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- cleaning
- tank
- wafer
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- cleaning tank
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Description
【発明の名称】ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薬液を洗浄液として使用するウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法に関し、特に、洗浄槽浸漬時におけるウエハへのパーティクル付着を防止するものである。
【発明の属する技術分野】
本発明は、薬液を洗浄液として使用するウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法に関し、特に、洗浄槽浸漬時におけるウエハへのパーティクル付着を防止するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したオーバーフロー方式の洗浄装置13では、洗浄液15が洗浄槽1の下方から上方に向けて流れるため、特に、過酸化水素水を混合した洗浄液を用いて疎水性ウエハを酸洗浄した場合、洗浄液中に発生した気泡が洗浄槽1の下方から上方に向けて浮上し、気泡とともに浮上した異物がウエハに付着する問題があった。
また、洗浄液15の比重より重い異物は、洗浄液15の流れによっては洗浄槽1から外槽3へオーバーフローするに至らず、洗浄槽底部の淀みの中に滞留してしまい、ウエハへの再付着を生じさせる問題を包含していた。
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、ウエハへの気泡の付着をなくすことができるとともに、洗浄液より比重の重い異物の洗浄槽底部での滞留を防止することのできるウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法の提供を目的とするものである。
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したオーバーフロー方式の洗浄装置13では、洗浄液15が洗浄槽1の下方から上方に向けて流れるため、特に、過酸化水素水を混合した洗浄液を用いて疎水性ウエハを酸洗浄した場合、洗浄液中に発生した気泡が洗浄槽1の下方から上方に向けて浮上し、気泡とともに浮上した異物がウエハに付着する問題があった。
また、洗浄液15の比重より重い異物は、洗浄液15の流れによっては洗浄槽1から外槽3へオーバーフローするに至らず、洗浄槽底部の淀みの中に滞留してしまい、ウエハへの再付着を生じさせる問題を包含していた。
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、ウエハへの気泡の付着をなくすことができるとともに、洗浄液より比重の重い異物の洗浄槽底部での滞留を防止することのできるウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法の提供を目的とするものである。
【0007】
請求項1記載のウエハ洗浄装置では、洗浄液が洗浄槽内で上方から下方に向かって流れ、洗浄液の比重より重い異物が、洗浄槽の排液口から排出され、フィルタによって捕捉される。また、洗浄液で発生した気泡は、洗浄液が外槽から洗浄槽へオーバーフローする際、浮力により洗浄液表面へ浮き上がり、大気中に逃がされる。これによって、洗浄槽内では、気泡の除去された洗浄液のみがウエハに接触することとなる。
また、請求項2記載のウエハ洗浄装置では、洗浄液が第一洗浄槽で下方から上方に向かって流れ、第二洗浄槽で上方から下方に向かって流れる。このことから、第一洗浄槽では、洗浄液の比重より軽い異物が除去され、第二洗浄槽では、洗浄液の比重より重い異物が排液口から排出され、フィルタによって捕捉される。また、洗浄液に発生した気泡は、洗浄液が第一洗浄槽から第二洗浄槽へオーバーフローする際、除去される。
さらに請求項4乃至請求項14記載のウエハ洗浄方法は上記ウエハ洗浄装置において、上方に開口部が設けられ、かつ底部に排液口が設けられた洗浄槽が準備され、この洗浄槽内には洗浄液が供給されるものであって、斯る洗浄液中に当該ウエハを浸漬させるとともに前記排液口から排出された前記洗浄液をフィルタにより濾過し、この濾過した洗浄液を前記開口部から前記洗浄槽内に供給することを主たる特徴とするものである。
請求項1記載のウエハ洗浄装置では、洗浄液が洗浄槽内で上方から下方に向かって流れ、洗浄液の比重より重い異物が、洗浄槽の排液口から排出され、フィルタによって捕捉される。また、洗浄液で発生した気泡は、洗浄液が外槽から洗浄槽へオーバーフローする際、浮力により洗浄液表面へ浮き上がり、大気中に逃がされる。これによって、洗浄槽内では、気泡の除去された洗浄液のみがウエハに接触することとなる。
また、請求項2記載のウエハ洗浄装置では、洗浄液が第一洗浄槽で下方から上方に向かって流れ、第二洗浄槽で上方から下方に向かって流れる。このことから、第一洗浄槽では、洗浄液の比重より軽い異物が除去され、第二洗浄槽では、洗浄液の比重より重い異物が排液口から排出され、フィルタによって捕捉される。また、洗浄液に発生した気泡は、洗浄液が第一洗浄槽から第二洗浄槽へオーバーフローする際、除去される。
さらに請求項4乃至請求項14記載のウエハ洗浄方法は上記ウエハ洗浄装置において、上方に開口部が設けられ、かつ底部に排液口が設けられた洗浄槽が準備され、この洗浄槽内には洗浄液が供給されるものであって、斯る洗浄液中に当該ウエハを浸漬させるとともに前記排液口から排出された前記洗浄液をフィルタにより濾過し、この濾過した洗浄液を前記開口部から前記洗浄槽内に供給することを主たる特徴とするものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るウエハ洗浄装置並びに洗浄方法の好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明に係るウエハ洗浄装置の第一実施形態を示す概略構成図である。
上面の開口した洗浄槽21の下部には漏斗状の底部23を形成してあり、底部23の中央は排液口25となっている。この実施形態では、底部23の表面に排液案内部29を設けてある。排液案内部29は、上面31をすり鉢状に形成してあり、この上面の中央に排液口25へ連通する中央排液口33を開口するとともに、上面31の縁部に同じく排液口25へ連通する複数の外側排液口35を開口してある。
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るウエハ洗浄装置並びに洗浄方法の好適な実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明に係るウエハ洗浄装置の第一実施形態を示す概略構成図である。
上面の開口した洗浄槽21の下部には漏斗状の底部23を形成してあり、底部23の中央は排液口25となっている。この実施形態では、底部23の表面に排液案内部29を設けてある。排液案内部29は、上面31をすり鉢状に形成してあり、この上面の中央に排液口25へ連通する中央排液口33を開口するとともに、上面31の縁部に同じく排液口25へ連通する複数の外側排液口35を開口してある。
【0011】
次に、このように構成した洗浄装置51とそれを用いた洗浄方法の作用を説明する。
洗浄装置51の洗浄槽21には、例えば、塩酸、過酸化水素、水などの混合洗浄液53を満たしてある。この洗浄槽21内にウエハWがその円周上の3点を固定した状態で例えば縦置き(浸漬)される。そして循環ポンプ39を駆動すると、洗浄液53は底部23の排液案内部29に設けた中央排液口33及び外側排液口35を介して排液口25へと吸い込まれる。
次に、このように構成した洗浄装置51とそれを用いた洗浄方法の作用を説明する。
洗浄装置51の洗浄槽21には、例えば、塩酸、過酸化水素、水などの混合洗浄液53を満たしてある。この洗浄槽21内にウエハWがその円周上の3点を固定した状態で例えば縦置き(浸漬)される。そして循環ポンプ39を駆動すると、洗浄液53は底部23の排液案内部29に設けた中央排液口33及び外側排液口35を介して排液口25へと吸い込まれる。
【0015】
このように上述の洗浄装置51による洗浄方法では、洗浄槽21の外周に外槽45を設け、外槽45に供給した洗浄液53を洗浄槽21にオーバーフローさせて供給するようにしたので、洗浄液53で発生した気泡が外槽45から洗浄槽21へオーバーフローする際、洗浄液表面へ浮き上がり、洗浄液53から除去されることとなる。この結果、洗浄槽21内において、気泡を除去した洗浄液53のみをウエハWに接触させることができ、気泡の接触により生じるウエハWへの異物の付着を防止することができる。
このように上述の洗浄装置51による洗浄方法では、洗浄槽21の外周に外槽45を設け、外槽45に供給した洗浄液53を洗浄槽21にオーバーフローさせて供給するようにしたので、洗浄液53で発生した気泡が外槽45から洗浄槽21へオーバーフローする際、洗浄液表面へ浮き上がり、洗浄液53から除去されることとなる。この結果、洗浄槽21内において、気泡を除去した洗浄液53のみをウエハWに接触させることができ、気泡の接触により生じるウエハWへの異物の付着を防止することができる。
【0017】
次に、本発明に係るウエハ洗浄装置とその洗浄方法の第二実施形態を図2に基づき説明する。図2は本発明に係るウエハ洗浄装置の第二実施形態を示す概略構成図である。
この洗浄装置61は、上面の開口した第一洗浄槽63と第二洗浄槽65とを一体化させてあり、第一洗浄槽63の周壁67を第二洗浄槽65の周壁69より高く形成してある。また、第一洗浄槽63と第二洗浄槽65との上面開口外周には外槽71を設けてあり、外槽71の周壁73は第一洗浄槽63の周壁67と略同等かそれ以上の高さに形成してある。
次に、本発明に係るウエハ洗浄装置とその洗浄方法の第二実施形態を図2に基づき説明する。図2は本発明に係るウエハ洗浄装置の第二実施形態を示す概略構成図である。
この洗浄装置61は、上面の開口した第一洗浄槽63と第二洗浄槽65とを一体化させてあり、第一洗浄槽63の周壁67を第二洗浄槽65の周壁69より高く形成してある。また、第一洗浄槽63と第二洗浄槽65との上面開口外周には外槽71を設けてあり、外槽71の周壁73は第一洗浄槽63の周壁67と略同等かそれ以上の高さに形成してある。
【0019】
次に、このように構成した洗浄装置61とそれを用いた洗浄方法の作用を説明する。
第一洗浄槽63と第二洗浄槽65には、例えば、塩酸、過酸化水素、水などの混合洗浄液53を満たしてある。この各洗浄槽63、65内に、ウエハWが例えばその円周上を固定されて縦置き状に浸漬される。そして循環ポンプ39を駆動すると、洗浄液53は第一洗浄槽63の給液口79から第一洗浄槽63内に流入し、第一洗浄槽63の上部開口からオーバーフローする。第一洗浄槽63からオーバーフローした洗浄液53は、直接第二洗浄槽65へ流入するか又は外槽71を経由して第二洗浄槽65へ流入し、第二洗浄槽65の底部75に設けた排液口25へ吸い込まれる。
次に、このように構成した洗浄装置61とそれを用いた洗浄方法の作用を説明する。
第一洗浄槽63と第二洗浄槽65には、例えば、塩酸、過酸化水素、水などの混合洗浄液53を満たしてある。この各洗浄槽63、65内に、ウエハWが例えばその円周上を固定されて縦置き状に浸漬される。そして循環ポンプ39を駆動すると、洗浄液53は第一洗浄槽63の給液口79から第一洗浄槽63内に流入し、第一洗浄槽63の上部開口からオーバーフローする。第一洗浄槽63からオーバーフローした洗浄液53は、直接第二洗浄槽65へ流入するか又は外槽71を経由して第二洗浄槽65へ流入し、第二洗浄槽65の底部75に設けた排液口25へ吸い込まれる。
【0026】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項1に係るウエハ洗浄装置並びにそれによる洗浄方法によれば、洗浄槽の外周に外槽を設け、外槽に供給した洗浄液を洗浄槽にオーバーフローさせて供給するようにしたので、洗浄液が洗浄槽へオーバーフローする際、気泡が洗浄液表面へ浮き上がり、洗浄液から除去されることとなる。この結果、気泡を除去した洗浄液のみをウエハに接触させることができ、気泡の接触により生じるウエハへの異物の付着を防止することができる。また、洗浄液が洗浄槽内の上方から下方に向かって流れることになり、洗浄液の比重より重い異物をフィルタによって捕捉することができる。この結果、比重の重い異物が洗浄槽底部の淀みの中に滞留せず、ウエハへの再付着を防止することができる。
また、請求項2に係るウエハ洗浄装置並びにそれを用いた洗浄方法によれば、第一洗浄槽と第二洗浄槽とを一体化させ、第一洗浄槽からオーバーフローさせた洗浄液を、第二洗浄槽の底部から排液してフィルタを通過させて再び第一洗浄槽の底部から供給するようにしたので、オーバーフローによって気泡が除去できるとともに、洗浄液が下方から上方に向かって流れる第一洗浄槽では、比重の軽い異物が除去でき、洗浄液が上方から下方に向かって流れる第二洗浄槽では、比重の重い異物を除去することができる。
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項1に係るウエハ洗浄装置並びにそれによる洗浄方法によれば、洗浄槽の外周に外槽を設け、外槽に供給した洗浄液を洗浄槽にオーバーフローさせて供給するようにしたので、洗浄液が洗浄槽へオーバーフローする際、気泡が洗浄液表面へ浮き上がり、洗浄液から除去されることとなる。この結果、気泡を除去した洗浄液のみをウエハに接触させることができ、気泡の接触により生じるウエハへの異物の付着を防止することができる。また、洗浄液が洗浄槽内の上方から下方に向かって流れることになり、洗浄液の比重より重い異物をフィルタによって捕捉することができる。この結果、比重の重い異物が洗浄槽底部の淀みの中に滞留せず、ウエハへの再付着を防止することができる。
また、請求項2に係るウエハ洗浄装置並びにそれを用いた洗浄方法によれば、第一洗浄槽と第二洗浄槽とを一体化させ、第一洗浄槽からオーバーフローさせた洗浄液を、第二洗浄槽の底部から排液してフィルタを通過させて再び第一洗浄槽の底部から供給するようにしたので、オーバーフローによって気泡が除去できるとともに、洗浄液が下方から上方に向かって流れる第一洗浄槽では、比重の軽い異物が除去でき、洗浄液が上方から下方に向かって流れる第二洗浄槽では、比重の重い異物を除去することができる。
Claims (14)
- 洗浄槽と、
該洗浄槽の底部に設けた排液口と、
前記洗浄槽の上面開口外周に設けてあり洗浄液を前記洗浄槽へオーバーフローさせる外槽と、
前記排液口と該外槽とを連通させる循環配管と、
該循環配管に順次介装する循環ポンプ及びフィルタと
を具備したことを特徴とするウエハ洗浄装置。 - 第一洗浄槽と、
該第一洗浄槽の底部に設けた給液口と、
該第一洗浄槽からオーバーフローした洗浄液を受ける外槽と、
該外槽からオーバーフローした洗浄液を受ける第二洗浄槽と、
該第二洗浄槽の底部に設けた排液口と、
前記給液口と該排液口とを連通させる循環配管と、
該循環配管に順次介装する循環ポンプ及びフィルタと
を具備したことを特徴とするウエハ洗浄装置。 - 前記洗浄液より比重の軽い異物を捕捉するフィルタを前記外槽に設けたことを特徴とする請求項2記載のウエハ洗浄装置。
- 上方に開口部が設けられ、かつ、底部に排液口が設けられた洗浄槽を準備し、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給し、
前記洗浄液中にウエハを浸漬させ、
前記排液口から排出された前記洗浄液をフィルタによって濾過し、
前記濾過した洗浄液を前記開口部から前記洗浄槽内に供給することを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項4記載のウエハ洗浄方法において、
前記洗浄槽の周囲から中央に向かって傾斜面を有する前記底部を備えた前記洗浄槽を準備することを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項4又は請求項5記載のウエハ洗浄方法において、
前記フィルタによって、前記洗浄液よりも比重の重い異物が捕捉されることを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項4から請求項6のいずれか一つに記載されたウエハ洗浄方法において、
前記洗浄液は、前記洗浄槽の前記開口部側から前記排液口側に向かって流れることを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項4から請求項7のいずれか一つに記載されたウエハ洗浄方法において、
前記洗浄液として、過酸化水素水の混合した洗浄液を用いることを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 上方に開口部が設けられ、かつ、底部に給液口が設けられた第1の洗浄槽と、上方に開口部が設けられ、かつ、底部に排液口が設けられた第2の洗浄槽とを準備し、
前記第1及び第2の洗浄槽内に洗浄液を供給し、
前記第1及び第2の洗浄槽内にそれぞれウエハを浸漬させ、
前記第2の洗浄槽の前記排液口から排出された前記洗浄液をフィルタによって濾過し、
前記濾過した洗浄液を前記給液口を介して前記第1の洗浄槽内に供給し、
前記第1の洗浄槽の前記開口部から前記第2の洗浄槽に前記洗浄液を供給することを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項9記載のウエハ洗浄方法において、
前記第2の洗浄槽の周囲から中央に向かって傾斜面を有する前記底部を備えた前記第2の洗浄槽を準備することを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項9又は請求項10記載のウエハ洗浄方法において、
前記フィルタによって、前記洗浄液よりも比重の重い異物が捕捉されること特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項9から請求項11のいずれか一つに記載されたウエハ洗浄方法において、
前記洗浄液は、前記第2の洗浄槽の前記開口部側から前記排液口側に向かって流れることを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項9から請求項11のいずれか一つに記載されたウエハ洗浄方法において、
前記洗浄液は、前記第1の洗浄槽の前記給液口側から前記開口部側に向かって流れることを特徴とするウエハ洗浄方法。 - 請求項9から請求項13のいずれか一つに記載されたウエハ洗浄方法において、
前記洗浄液として、過酸化水素水の混合した洗浄液を用いることを特徴とするウエハ洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28946296A JP3898257B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28946296A JP3898257B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10135175A JPH10135175A (ja) | 1998-05-22 |
| JPH10135175A5 true JPH10135175A5 (ja) | 2004-10-21 |
| JP3898257B2 JP3898257B2 (ja) | 2007-03-28 |
Family
ID=17743590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28946296A Expired - Fee Related JP3898257B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3898257B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040041763A (ko) * | 2002-11-11 | 2004-05-20 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 세정시스템 및 그 방법 |
| JP2008093529A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Nidec Sankyo Corp | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| KR100821831B1 (ko) * | 2006-11-22 | 2008-04-14 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 웨이퍼 가이드 버블 제거 시스템를 갖춘 케미칼 순환 장치 |
| CN101620982B (zh) | 2008-07-02 | 2011-07-06 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 晶圆清洗方法和清洗装置 |
| JP2010225832A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP6494536B2 (ja) * | 2016-01-12 | 2019-04-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理装置の洗浄方法 |
| CN112349629B (zh) * | 2020-10-30 | 2023-12-22 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 清洗槽组件和半导体清洗设备 |
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1996
- 1996-10-31 JP JP28946296A patent/JP3898257B2/ja not_active Expired - Fee Related
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