JPH10135517A - Surface type optical element and method of manufacturing the same - Google Patents

Surface type optical element and method of manufacturing the same

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JPH10135517A
JPH10135517A JP28813496A JP28813496A JPH10135517A JP H10135517 A JPH10135517 A JP H10135517A JP 28813496 A JP28813496 A JP 28813496A JP 28813496 A JP28813496 A JP 28813496A JP H10135517 A JPH10135517 A JP H10135517A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光素子の実装面積を光素子チップ自体の面積
近くまで削減した小型高密度実装する面型光素子および
その製造方法を提供する。 【解決手段】 光素子チップ1をマトリクス状に形成し
た半導体ウェハ8をダイシングして形成した光素子2を
具備し、低損失ガラスウェハ7をダイシングして形成さ
れ光素子2に貼り付けられた低損失ガラスウェハ片7’
を具備し、光素子2のダイシング端面に露出した光素子
チップ1に対する電気信号入出力用電極4の電極断面1
0を具備し、電極断面10に接続して光素子2のダイシ
ング端面および裏面にかけて成膜形成された半田付け電
極40を具備する面型光素子およびその製造方法。
[PROBLEMS] To provide a small-sized and high-density surface-type optical device in which the mounting area of the optical device is reduced to near the area of the optical device chip itself, and a method of manufacturing the same. SOLUTION: An optical element 2 is formed by dicing a semiconductor wafer 8 in which optical element chips 1 are formed in a matrix, and a low-loss glass wafer 7 is formed by dicing and bonded to an optical element 2. Lost glass wafer piece 7 '
The electrode section 1 of the electric signal input / output electrode 4 with respect to the optical element chip 1 exposed on the dicing end face of the optical element 2
0, and a surface-type optical element including a soldering electrode 40 formed on the dicing end face and the back surface of the optical element 2 by being connected to the electrode cross section 10 and a method of manufacturing the same.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、面型光素子およ
びその製造方法に関し、特に、小型高密度実装する面型
光素子およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a planar optical device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a small-sized and high-density surface optical device and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】面型光素子の従来例を図6を参照して説
明する。発光ダイオード、面発光レーザ、フォトダイオ
ード、OEICは面型光素子に分類される発光素子であ
る。図6において、1はパッケージされていないベアの
光素子チップを示す。3は光素子チップ1の発光面を示
す。この光素子チップ1は、プリント基板60に対して
接着剤14により直接接着せしめられている。そして、
光素子チップ1を駆動発光せしめる電極4はボンディン
グワイヤ13を介してプリント配線6に引き出されて接
続している。11はボンディングワイヤ13を含む光素
子チップ1全体を包囲する枠板である。12は枠板11
内に充填されてボンディングワイヤ13および光素子チ
ップ1全体を埋設する透明合成樹脂を示す。
2. Description of the Related Art A conventional example of a planar optical device will be described with reference to FIG. Light emitting diodes, surface emitting lasers, photodiodes, and OEICs are light emitting devices that are classified as surface type optical devices. In FIG. 6, reference numeral 1 denotes a bare optical element chip that is not packaged. Reference numeral 3 denotes a light emitting surface of the optical element chip 1. The optical element chip 1 is directly adhered to the printed board 60 by the adhesive 14. And
The electrode 4 for driving and emitting light from the optical element chip 1 is drawn out and connected to the printed wiring 6 via the bonding wire 13. Reference numeral 11 denotes a frame plate that surrounds the entire optical element chip 1 including the bonding wires 13. 12 is a frame plate 11
Shown is a transparent synthetic resin that fills the inside and embeds the bonding wires 13 and the entire optical element chip 1.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】パッケージしていない
光素子チップ1をプリント基板60に高密度に実装する
には、光素子チップ1をプリント基板60に直接接着す
るのであるが、光素子チップ1とボンディングワイヤ1
3を保護する上において、光素子チップ1およびボンデ
ィングワイヤ13を囲う枠板11およびこれに充填され
る透明合成樹脂を必要とする。従って、光素子チップ1
は、枠板11まで含めると全体として光素子チップ1自
体よりもかなり広い実装面積を占有する欠点を有するも
のとなる。
In order to mount an unpackaged optical element chip 1 on a printed board 60 at a high density, the optical element chip 1 is directly bonded to the printed board 60. And bonding wire 1
In order to protect the optical element 3, a frame plate 11 surrounding the optical element chip 1 and the bonding wires 13 and a transparent synthetic resin to be filled therein are required. Therefore, the optical element chip 1
Has a drawback that when it includes the frame plate 11, it occupies a much larger mounting area than the optical element chip 1 itself.

【0004】この発明は、上述の欠点を解消した光素子
の実装面積を光素子チップ自体の面積近くまで削減した
小型高密度実装する面型光素子およびその製造方法を提
供するものである。
An object of the present invention is to provide a small-sized and high-density surface-type optical device in which the mounting area of the optical device, which has solved the above-mentioned disadvantages, is reduced to near the area of the optical device chip itself, and a manufacturing method thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】光素子チップ1をマトリ
クス状に形成した半導体ウェハ8をダイシングして形成
した光素子2を具備し、低損失ガラスウェハ7をダイシ
ングして形成され光素子2に貼り付けられた低損失ガラ
スウェハ片7’を具備し、光素子2のダイシング端面に
露出した光素子チップ1に対する電気信号入出力用電極
4の電極断面10を具備し、電極断面10に接続して光
素子2のダイシング端面および裏面にかけて成膜形成さ
れた半田付け電極40を具備する面型光素子を構成し
た。
An optical element is formed by dicing a semiconductor wafer on which optical element chips are formed in a matrix. The optical element is formed by dicing a low-loss glass wafer. It has an attached low-loss glass wafer piece 7 ′, and has an electrode cross section 10 of the electric signal input / output electrode 4 for the optical element chip 1 exposed on the dicing end face of the optical element 2, and is connected to the electrode cross section 10. Thus, a surface-type optical device having a soldering electrode 40 formed on the dicing end surface and the back surface of the optical device 2 was formed.

【0006】そして、低損失ガラスウェハ7はファイバ
オプティックプレートにより構成した面型光素子を構成
した。また、先の面型光素子において、光素子2の半田
付け電極40をプリント基板60に半田付けした面型光
素子を構成した。ここで、光素子2の光素子チップ1を
半導体ウェハ8にマトリクス状に形成し、半導体ウェハ
8に低損失ガラスウェハ7を貼り付け、光素子チップ1
に対する電気信号入出力用電極4を横切って半導体ウェ
ハ8および低損失ガラスウェハ7をダイシングして光素
子2を切り出し、光素子2のダイシング端面に露出した
電極断面10に接続して半田付け電極40を光素子2の
ダイシング端面および裏面にかけて成膜形成する面型光
素子の製造方法を構成した。
[0006] The low-loss glass wafer 7 constituted a surface-type optical element constituted by a fiber optic plate. Further, in the above-mentioned surface optical device, a surface optical device in which the soldering electrode 40 of the optical device 2 was soldered to the printed circuit board 60 was formed. Here, the optical element chips 1 of the optical element 2 are formed in a matrix on the semiconductor wafer 8, and the low-loss glass wafer 7 is attached to the semiconductor wafer 8.
The semiconductor wafer 8 and the low-loss glass wafer 7 are diced across the electrical signal input / output electrode 4 to cut out the optical element 2 and connected to the electrode section 10 exposed on the dicing end face of the optical element 2 to form a solder electrode 40. Is formed on the dicing end face and the back face of the optical element 2 to form a surface type optical element.

【0007】そして、低損失ガラスウェハ7としてファ
イバオプティックプレートを貼り付る面型光素子の製造
方法を構成した。また、先の面型光素子の製造方法にお
いて、更に、光素子2の半田付け電極40をプリント基
板60に半田付けする面型光素子の製造方法を構成し
た。
Then, a method of manufacturing a surface-type optical element in which a fiber optic plate is adhered as the low-loss glass wafer 7 is configured. Further, in the above-described method for manufacturing a surface-type optical element, a method for manufacturing a surface-type optical element in which the soldering electrode 40 of the optical element 2 is soldered to the printed circuit board 60 is further configured.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図3の実
施例を参照して説明する。図3(a)において、7は透
明ガラスウェハであり、8は光素子チップ1をマトリク
ス状に形成した半導体ウェハである。図3(b)は半導
体ウェハ8に対して透明ガラスウェハ7を貼り付けたと
ころを示している。光素子チップ1は光が入出力するも
のであるところから、貼り付けに使用される接着剤14
としては透明接着剤が使用される。この透明ガラスウェ
ハおよび透明接着剤は利用する光の波長域において透明
或いは低損失であることを意味しており、可視光に対し
て透明であるという意味のものではない。赤外光を入出
力する光素子チップ1の場合、透明ガラスウェハの代わ
りにSiウェハを使用することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to the embodiment shown in FIG. 3A, reference numeral 7 denotes a transparent glass wafer, and reference numeral 8 denotes a semiconductor wafer on which the optical element chips 1 are formed in a matrix. FIG. 3B shows a state where the transparent glass wafer 7 is attached to the semiconductor wafer 8. Since the optical element chip 1 is for inputting and outputting light, the adhesive 14 used for bonding is used.
Is used as a transparent adhesive. The transparent glass wafer and the transparent adhesive mean that they are transparent or have low loss in the wavelength range of light to be used, but do not mean that they are transparent to visible light. In the case of the optical element chip 1 that inputs and outputs infrared light, a Si wafer can be used instead of the transparent glass wafer.

【0009】図3(c)を参照するに、互いに貼り合せ
た透明ガラスウェハ7および半導体ウェハ8をダイシン
グして、各光素子2の単位に分離する。9はこの場合の
ダインシング切断部を示す。なお、7’は透明ガラスウ
ェハをダイシングして切り出した素の透明ガラスウェハ
片を示す。図3(d)はダイシングして分離された1単
位の光素子2を示す。ここで、ダイシングの刃が半導体
ウェハ8の光素子チップ1に対する電気信号入出力用の
電極4のパターンを横切る様に設計すれば、光素子2の
ダイシング端面には切断された電極4の電極断面10が
露出形成される。
Referring to FIG. 3C, the transparent glass wafer 7 and the semiconductor wafer 8 bonded to each other are diced and separated into units of the respective optical elements 2. Reference numeral 9 denotes a dicing cutting portion in this case. Reference numeral 7 'denotes a piece of a transparent glass wafer cut out by dicing the transparent glass wafer. FIG. 3D shows one unit of the optical element 2 separated by dicing. Here, if the dicing blade is designed to cross the pattern of the electrode 4 for inputting / outputting an electric signal to / from the optical element chip 1 of the semiconductor wafer 8, the dicing end face of the optical element 2 has a cut electrode section of the cut electrode 4. 10 is exposed.

【0010】次いで、図3(e)を参照するに、この電
極断面10に接続して半田付け電極40を光素子2のダ
イシング端面および裏面にかけて成膜形成する。この電
極形成は、メタルマスクを使用したAu蒸着或いはスパ
ッタにより容易に実施することができる。なお、図3
(e)は電極4’を省略して示してあるが、これは実質
上図1に等しい。
Next, referring to FIG. 3E, a soldering electrode 40 is formed on the dicing end face and the back face of the optical element 2 by connecting to the electrode section 10. This electrode formation can be easily performed by Au evaporation or sputtering using a metal mask. Note that FIG.
(E) omits the electrode 4 ', which is substantially equivalent to FIG.

【0011】図1は面型光素子を示し、図2は光素子2
のダイシング端面に形成される半田付け電極40とプリ
ント配線6とを半田5により半田付けして光素子2をプ
リント基板60に対して取り付けた状態を示す。プリン
ト基板60のプリント配線6にクリーム半田を塗布して
この上に光素子2設置した後、プリント基板60全体を
加熱して半田を溶融することにより、光素子2のプリン
ト基板60の取付を実施することができる。
FIG. 1 shows a planar optical device, and FIG.
5 shows a state in which the soldering electrode 40 formed on the dicing end surface and the printed wiring 6 are soldered with the solder 5 to attach the optical element 2 to the printed circuit board 60. After applying cream solder to the printed wiring 6 of the printed circuit board 60 and installing the optical element 2 thereon, the printed circuit board 60 is mounted by heating the entire printed circuit board 60 to melt the solder. can do.

【0012】ここで、この発明の他の実施例を図4およ
び図5を参照して説明する。他の実施例は、先の実施例
において透明ガラスウェハ7の代わりに図5に示される
ファイバオプティックプレートFOPを使用したものに
相当する。図5を参照するに、(a)はFOPの斜視図
およびFOPの一部の厚さ方向に切断した断面を示す。
(b)は(a)のFOPの一部を水平方向に切断した断
面を示す。FOPは素の光ファイバ多数本を束ねて引き
延ばした結果のものをスライスして構成されたものであ
り、この様な断面形状のものとなる。即ち、80は光が
伝播する屈折率の大なる芯ガラスであるコアであり、9
0はコア80を包囲するコア80より屈折率の小なるク
ラッドである被覆ガラスである。33は光が伝播するコ
ア80相互間に介在する光吸収体ガラスである。なお、
クラッド90は極端に拡大して示されているが、実際は
コア80を極く薄く被覆しているものに過ぎず、コア8
0がFOP全体の殆どを占めている。現在市販されてい
るFOPのコア径は3μm程度である。FOPの一方の
端面に入射した光は図示される通りに平行なコア内を全
反射しながら伝播して他端に到達する。この様に、FO
Pは単なる透明ガラスウェハとは異なり、光の拡散を抑
制する作用をして拡散光による結合効率の低下と光の干
渉を防止している。
Here, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The other embodiment is equivalent to the previous embodiment using the fiber optic plate FOP shown in FIG. 5A shows a perspective view of the FOP and a cross section of a part of the FOP cut in a thickness direction.
(B) shows a cross section obtained by cutting a part of the FOP of (a) in the horizontal direction. The FOP is formed by slicing a result obtained by bundling and stretching a number of elementary optical fibers, and has such a cross-sectional shape. That is, reference numeral 80 denotes a core which is a core glass having a large refractive index through which light propagates.
Numeral 0 is a coating glass which is a clad surrounding the core 80 and having a smaller refractive index than the core 80. 33 is a light absorber glass interposed between the cores 80 through which light propagates. In addition,
Although the cladding 90 is shown in an extremely enlarged scale, it is actually only a very thin coating of the core 80, and
0 occupies most of the whole FOP. The core diameter of currently commercially available FOP is about 3 μm. The light incident on one end face of the FOP propagates while being totally reflected in the parallel cores as shown in FIG. Like this, FO
P is different from a mere transparent glass wafer in that it acts to suppress the diffusion of light, thereby preventing a reduction in coupling efficiency and light interference due to diffused light.

【0013】このFOPは、上述した通り、光ファイバ
を束ねて延伸したものをウェハ状にスライスした部品で
あり、光を拡散させることなく、断面の表から裏へ導く
作用を有するものである。従って、透明ガラスウェハ7
の代わりにFOPを使用することにより、先の実施例の
場合と比較して、光素子2から入出力する光の拡散が抑
制されるので、光素子2をプリント基板60に対して実
装後、光素子2を光ファイバその他の光学素子と結合さ
せる場合、より高い結合効率を得ることができる。これ
は、図4(b)に示される如くに低損失ガラスウェハ7
としてFOPを使用すると、光15はその端面の発光面
3にほぼ等しい面積から入出力されるのに対して、図4
(a)に示される如くに低損失ガラスウェハ7を使用す
ると、発光面3と比較して遥かに広い面積から入出力さ
れることから容易に理解することができる。
As described above, the FOP is a component obtained by slicing an optical fiber bundle and extending it into a wafer, and has a function of guiding light from the front to the back of a cross section without diffusing light. Therefore, the transparent glass wafer 7
By using the FOP instead of the above, the diffusion of light input / output from the optical element 2 is suppressed as compared with the case of the previous embodiment. When the optical element 2 is coupled to an optical fiber or another optical element, higher coupling efficiency can be obtained. This is because a low-loss glass wafer 7 as shown in FIG.
When FOP is used as the light source, the light 15 is input and output from an area approximately equal to the light emitting surface 3 at the end face, while FIG.
When the low-loss glass wafer 7 is used as shown in (a), it can be easily understood from input and output from a much larger area than the light emitting surface 3.

【0014】[0014]

【発明の効果】以上の通りであって、この発明に依れ
ば、光素子の光素子チップに透明ガラスウェハを貼り付
けて、これにより光素子チップを保護しているので、プ
リント基板に対して光素子を実装した後においても、透
明合成樹脂に埋設保護する構成は必要とされない。
As described above, according to the present invention, a transparent glass wafer is attached to an optical element chip of an optical element, thereby protecting the optical element chip. Even after the optical element is mounted, there is no need to provide a configuration for burying and protecting the optical element in a transparent synthetic resin.

【0015】そして、光素子のダイシング端面から裏面
にかけて成膜形成した半田付け電極を利用して光素子を
プリント基板に半田付け固定するので、光素子の電極の
導出に格別のボンディングワイヤは不要であり、光素子
自体とほぼ同様の実装面積でプリント基板に対する光素
子の固定をすることができる。また、透明ガラスウェハ
の代りにFOPを使用することにより、光素子から入出
力する光の拡散が抑制されるので、光素子をプリント基
板に対して実装後、光素子を光ファイバその他の光学素
子と結合させる場合、より高い結合効率を得ることがで
きる。
Since the optical element is soldered and fixed to the printed circuit board using the soldering electrode formed from the dicing end face to the back face of the optical element, no special bonding wire is required to lead out the electrode of the optical element. In addition, the optical element can be fixed to the printed circuit board with almost the same mounting area as the optical element itself. Also, by using an FOP instead of a transparent glass wafer, the diffusion of light input and output from the optical element is suppressed. Therefore, after the optical element is mounted on a printed circuit board, the optical element is replaced with an optical fiber or other optical element. In the case of binding, higher binding efficiency can be obtained.

【0016】結局、この発明は、透明ガラスウェハを光
素子に貼り付けて光素子表面を保護し、光素子のダイシ
ング端面に半田付け用電極を形成することにより、プリ
ント基板に対して実装面積を極小化して光素子を実装す
ることがができる。
After all, according to the present invention, a transparent glass wafer is attached to an optical element to protect the surface of the optical element, and a soldering electrode is formed on a dicing end face of the optical element, so that a mounting area with respect to a printed circuit board is reduced. The optical element can be mounted with miniaturization.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明による光素子の斜視図。FIG. 1 is a perspective view of an optical element according to the present invention.

【図2】この発明による光素子の実装状態を説明する斜
視図。
FIG. 2 is a perspective view illustrating a mounted state of an optical element according to the present invention.

【図3】この発明による光素子の製造工程を説明する
図。
FIG. 3 is a diagram illustrating a manufacturing process of the optical element according to the present invention.

【図4】実施例の出射光パターンの違いを示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a difference in an emitted light pattern according to the embodiment.

【図5】FOPの構造を示す図。FIG. 5 is a diagram showing the structure of an FOP.

【図6】面型光素子の従来例の実装状態を説明する斜視
図。
FIG. 6 is a perspective view illustrating a mounting state of a conventional example of a surface-type optical element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光素子チップ 2 光素子 3 発光面 4、4'電極 5 半田 6 プリント配線 7 透明ガラスウェハ 7’透明ガラスウェハ片 8 半導体ウェハ 9 ダインシング切断部 10 電極断面 11 枠板 12 透明樹脂 13 ボンディングワイヤ 14 接着剤 15 出射光 16 FOP 33 光吸収体ガラス 40 半田付け電極 60 プリント基板 80 コア 90 被覆ガラス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical element chip 2 Optical element 3 Light emitting surface 4, 4 'electrode 5 Solder 6 Printed wiring 7 Transparent glass wafer 7' Transparent glass wafer piece 8 Semiconductor wafer 9 Dicing cutting part 10 Electrode cross section 11 Frame plate 12 Transparent resin 13 Bonding wire 14 Adhesive 15 Outgoing light 16 FOP 33 Light absorber glass 40 Soldering electrode 60 Printed circuit board 80 Core 90 Coated glass

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光素子チップをマトリクス状に形成した
半導体ウェハをダイシングして形成した光素子を具備
し、 低損失ガラスウェハをダイシングして形成され光素子に
貼り付けられた低損失ガラスウェハ片を具備し、 光素子のダイシング端面に露出した光素子チップに対す
る電気信号入出力用電極の電極断面を具備し、 電極断面に接続して光素子のダイシング端面および裏面
にかけて成膜形成された半田付け電極を具備することを
特徴とする面型光素子。
1. A low-loss glass wafer piece provided with an optical element formed by dicing a semiconductor wafer having optical element chips formed in a matrix, formed by dicing a low-loss glass wafer, and attached to the optical element. An electrode cross section of an electrode for electric signal input / output with respect to an optical element chip exposed on a dicing end face of the optical element; and a soldering film formed on the dicing end face and the back face of the optical element by connecting to the electrode cross section. A surface type optical element comprising an electrode.
【請求項2】 請求項1に記載される面型光素子におい
て、 低損失ガラスウェハはファイバオプティックプレートに
より構成したことを特徴とする面型光素子。
2. The surface-type optical device according to claim 1, wherein the low-loss glass wafer is constituted by a fiber optic plate.
【請求項3】 請求項1および請求項2の何れかに記載
される面型光素子において、 光素子の半田付け電極をプリント基板に半田付けしたこ
とを特徴とする面型光素子。
3. The surface optical device according to claim 1, wherein a soldering electrode of the optical device is soldered to a printed circuit board.
【請求項4】 光素子の光素子チップを半導体ウェハに
マトリクス状に形成し、 半導体ウェハに低損失ガラスウェハを貼り付け、 光素子チップに対する電気信号入出力用電極を横切って
半導体ウェハおよび低損失ガラスウェハをダイシングし
て光素子を切り出し、 光素子のダイシング端面に露出した電極断面に接続して
半田付け電極を光素子のダイシング端面および裏面にか
けて成膜形成することを特徴とする面型光素子の製造方
法。
4. An optical element chip of an optical element is formed in a matrix on a semiconductor wafer, a low-loss glass wafer is attached to the semiconductor wafer, and the semiconductor wafer and the low-loss element are traversed across electrodes for inputting and outputting electric signals to and from the optical element chip. A surface-type optical element characterized in that an optical element is cut out by dicing a glass wafer and connected to an electrode cross section exposed at the dicing end face of the optical element, and a soldering electrode is formed over the dicing end face and the rear face of the optical element. Manufacturing method.
【請求項5】 請求項4に記載される面型光素子の製造
方法において、 低損失ガラスウェハとしてファイバオプティックプレー
トを貼り付ることを特徴とする面型光素子の製造方法。
5. The method for manufacturing a surface-type optical device according to claim 4, wherein a fiber optic plate is attached as a low-loss glass wafer.
【請求項6】 請求項4および請求項5の何れかに記載
される面型光素子の製造方法において、 更に、光素子の半田付け電極をプリント基板に半田付け
することを特徴とする面型光素子の製造方法。
6. The method of manufacturing a surface type optical device according to claim 4, further comprising: soldering a soldering electrode of the optical device to a printed circuit board. A method for manufacturing an optical element.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003218447A (en) * 2002-01-22 2003-07-31 Agilent Technol Inc Positioning method for parallel optical system connection device
CN105551376A (en) * 2014-10-30 2016-05-04 程君 Manufacturing method of composite LED glass basal panel
JP2017059742A (en) * 2015-09-18 2017-03-23 株式会社デンソー Light emitting device

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