JPH10140257A - 塩素浸出電解採取法によるニッケルの湿式精錬方法 - Google Patents

塩素浸出電解採取法によるニッケルの湿式精錬方法

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JPH10140257A
JPH10140257A JP8294905A JP29490596A JPH10140257A JP H10140257 A JPH10140257 A JP H10140257A JP 8294905 A JP8294905 A JP 8294905A JP 29490596 A JP29490596 A JP 29490596A JP H10140257 A JPH10140257 A JP H10140257A
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nickel
leaching
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oxygen
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JP8294905A
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Susumu Makino
進 牧野
Masato Sugimoto
誠人 杉本
Kimitatsu Yano
仁美樹 矢野
Tomoshi Matsumoto
智志 松本
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 塩素浸出電解採取法で吹き込みに用いる塩素
の一部に代え、安価な空気などを使用し、経済性を図り
つつ、ニッケル硫化物から効率よくニッケルを浸出して
回収するニッケルの湿式精錬方法を提供する。 【解決手段】 反応槽1a、1b、1cでニッケル硫化
物と塩化物水溶液とのスラリーに塩素を吹き込んでニッ
ケルを浸出させる際に、電解槽9で発生した塩素を吹き
込みに循環使用すると共に、塩素吹き込みにより生成し
た酸の存在下で、塩素の一部に代えて又は不足する塩素
の補充として、空気又は酸素富化空気若しくは工業用酸
素を反応槽1cに吹き込んでニッケルを浸出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ニッケル、コバル
ト、銅、銅より卑な金属及び硫黄を含むマット、硫化物
精鉱、電解スライムなどから、塩素浸出電解採取法によ
りニッケルを金属として回収するニッケルの湿式精錬方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ニッケル、コバルト、銅、銅より
卑な金属及び硫黄を含むマット、硫化物精鉱、及び電解
スライムなどから、ニッケル等の有価金属を回収する方
法の一つに、塩素浸出電解採取法による湿式精錬方法が
ある。
【0003】この塩素浸出電解採取法では、例えば特公
平7−91599号公報に記載されるように、ニッケル
を含有した粉状硫化物を、一価銅イオンを含む塩化物水
溶液と撹拌混合してスラリーとし、このスラリーに塩素
を吹き込むことにより、銅イオンのレドックスカップル
(Cu2+/Cu+)を介在させた固液反応によってニッ
ケルなどの金属を浸出させる。
【0004】上記浸出工程で得られた浸出液は、順次脱
銅電解工程に送り、銅を電解採取して浸出工程に循環さ
せる。また、浸出液の残渣からは硫黄の回収が行われ
る。浸出工程を循環した浸出液は、更に塩素を吹き込み
ながらpHを調節することにより鉄やコバルトなどの不
純物金属を共沈させる浄液工程を経た後、電解により電
気ニッケルを回収する。
【0005】上記電解工程においては、カソード側に目
的金属であるニッケルを電着させて回収することがで
き、アノード側では塩素イオンが酸化されて塩素ガスが
発生する。この電解工程で発生した塩素ガスは回収さ
れ、通常は前記の浸出工程及び浄液工程に循環して再利
用され、この操作が連続して繰り返し行われる。従っ
て、塩素は酸化と還元を繰り返しながら、工程内を循環
する。
【0006】このとき、電解工程で発生した塩素ガスの
全量がニッケルのみを浸出するのに使用されるのであれ
ば、塩素は酸化還元を繰り返しながらロスなく工程内を
循環し、電解工程で回収される電気ニッケル量と浸出工
程で浸出されるニッケル量との釣り合いがとれ、連続し
た各工程内のニッケル濃度が一定となる。
【0007】しかし、実際には塩素はニッケル以外の金
属を浸出したり、浄液工程で不純物金属を酸化したりす
るので、電解工程で発生した塩素ガスのみで浸出工程に
必要な塩素を賄うことはできない。この塩素の不足量
は、原料となるマツトなどの不純物含有量にもよるが、
通常は5%程度、最大で10%程度にまで達するため、
不足の塩素を補うために系外より塩素ガスを補充し、各
工程内のニッケル量を一定に保つ必要がる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記のごとく、塩素浸
出電解採取法によるニッケルの湿式精錬においては、浸
出工程に用いる塩素として電解工程で発生する塩素ガス
を利用できるが、その場合でもロスにより発生する塩素
の不足分を系外から補充し、連続した各工程内のニッケ
ル量を一定に保つ必要があった。
【0009】その場合、系外から補充する塩素は、主
に、ボンベに入った液体塩素、食塩電解などから得られ
る塩素ガスなどであり、そのためランニングコストや設
備的な投資が増大してしまうという欠点があった。
【0010】本発明は、このような従来の事情に鑑み、
塩素浸出電解採取法に用いる塩素の一部に代え、例えば
系外から補充する塩素に代えて、安価な空気などのガス
を浸出工程での吹き込みに使用し、経済性を図りつつ、
ニッケル硫化物から効率よくニッケルを浸出して、回収
することができるニッケルの湿式精錬方法を提供するこ
とを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、ニッケルを含有した粉状硫化物と一価銅
イオンを含む塩化物水溶液とのスラリーに、塩素を吹き
込むことによりニッケルを浸出させる浸出工程と、得ら
れた浸出液の電解によりニッケルを回収する電解工程と
を含む、塩素浸出電解採取法によるニッケルの湿式精錬
方法において、前記塩素吹き込みにより生成された酸の
存在下で、塩素の一部に代えて空気又は酸素富化空気若
しくは工業用酸素を吹き込みながらニッケルを浸出する
ことを特徴とするニッケルの湿式精錬方法を提供するも
のである。
【0012】特に、前記塩素浸出電解採取法の電解工程
から発生した塩素を浸出工程での塩素吹き込みに循環使
用すると共に、浸出工程での塩素の不足量を空気又は酸
素富化空気若しくは工業用酸素の吹き込みにより補うこ
とを特徴とする。
【0013】尚、本発明において適用可能な原料は、具
体的には、ニッケルを主成分とし、コバルト又は銅の片
方又は両方と、硫黄とを含むニッケルマット、硫化物精
鉱、及び電解スライムなどである。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明においては、浸出工程で吹
き込む塩素の一部に代えて、空気又は酸素富化空気、若
しくは工業用酸素を使用する。空気中の酸素などが塩素
に代替し得るのは、ニッケル硫化物の浸出反応が以下に
示す酸素の化学的性質と反応機構とによって進行するか
らである。
【0015】空気中の酸素による、酸(H+)の存在下
での、酸化反応と酸化還元電位(25℃)は、下記化学
式1に示す通りである:
【化1】O2+4H++4e-=2H2O E(V)=1.23−0.059pH+0.015logP
2 よって、例えばpH=0、PO2=0.2atmの場合、
空気中の酸素の酸化還元電位E(V)=1.22である。
【0016】一方、ニッケルの浸出に利用される塩素の
酸化反応と酸化還元電位は、下記化学式2の通りであ
る:
【化2】Cl2+2e-=2Cl-;E(V)=1.36
【0017】従って、空気中の酸素は、塩素より若干劣
るものの、酸の存在下において高い酸化力を有している
ことが分かる。尚、酸素の酸化力はpHと酸素分圧によ
って変化し、より低いpHである酸性度の高い領域ほ
ど、あるいは、より高い酸素分圧になるほど、高い酸化
還元電位を示す。
【0018】一方、浸出工程において塩素ガスがニッケ
ル硫化物を浸出する反応は、本来固気反応であるが、塩
化浴中に銅イオンのレドックスカップル(Cu2+/Cu
+)を介在させることで、固液反応によってニッケルの
浸出をスムースに行わせることができる。
【0019】即ち、塩素ガスは勿論のこと、pHが0付
近で空気又は酸素を吹き込む際に、1価の銅イオンが存
在すれば、この1価の銅イオンは2価まで酸化される。
酸化された銅イオンCu2+は、ニッケルなどの硫化物に
比べるとまだ酸化力を有するので、このCu2+とニッケ
ル硫化物との固液反応によりニッケル硫化物の浸出が進
行する。
【0020】ところで、上記化学式1で示したとおり、
酸素はH+を消費しながら電子を受け取るので、酸素に
よる酸化反応が起こるためには酸が必要である。また、
酸の活量が大きいほど浸出反応が進み易くなる。従っ
て、効率よくニッケルの浸出反応を起こさせるために
は、空気の吹き込みは酸が存在する条件下で行わなけれ
ばならない。
【0021】酸素による酸化反応に必要な酸は、別途添
加することも可能であるが、浸出工程での塩素の吹き込
みにより生成する酸、例えば硫黄の一部が酸化されて生
成する硫酸を利用することができる。即ち、塩素吹き込
みにより通常は硫黄の2〜3%程度が酸化されるが、こ
の硫黄の酸化反応によって生成した硫酸のH+と空気中
の酸素により、ニッケルの浸出反応を起すことができ
る。
【0022】
【実施例】以下に原料としてニッケルマットを用いた本
発明の実施例を説明する。図1はこの方法の実施に用い
た装置の一例を示す概略図であり、マットからニッケル
等の金属を浸出するための第1、第2、第3の反応槽1
a、1b、1cと、浸出液と残渣を分離するための濾過
装置7と、残渣を濾過した後の浸出液から不純物金属を
除去する浄液装置8と、浄液後の浸出液を電解して電気
ニッケルを回収する電解槽9とを備えている。
【0023】第1、第2、第3の反応槽1a、1b、1
cは、いずれも撹拌手段6を備え、相互にオーバーフロ
ー管5a、5bにより接続されている。また、第1反応
槽1aは原料であるニッケルマットのスラリーを供給す
るための原料供給口2と、塩素吹き込み管3aを備え、
第2反応槽1bは塩素吹き込み管3b、及び第3反応槽
1cは空気吹き込み管4をそれぞれ備えている。尚、濾
過装置7、浄液装置8及び電解槽9は、従来から使用さ
れている通常のものと変わりがない。
【0024】上記装置を用いて、本発明の塩素浸出電解
採取法によるニッケルの湿式精錬方法により、以下のご
とくニッケルマットからニッケルを金属として回収し
た。まず、原料のニッケルマットは粉砕して、通常のご
とく使用済み電解廃液と浸出液の一部とで調整した銅を
一価銅イオン(Cu+)として含む塩化物水溶液と混合
し、スラリーとした。
【0025】このスラリーを原料供給口2から第1反応
槽1aに供給し、第2反応槽1b及び第3反応槽1cに
順にオーバーフローさせながら、塩素又は空気の吹き込
むことにより、ニッケル、コバルト、銅及び銅より卑な
金属の大部分を浸出させた。このとき、第1反応槽1a
で硫黄が塩素により酸化されて硫酸が生成するので、第
3反応槽1cでも硫酸のH+と空気中の酸素により浸出
反応が起こる。
【0026】第3反応槽1cからオーバーフローしたス
ラリーは、濾過装置7で残渣を分離し、浄液装置8で更
に塩素を吹き込んで鉄やコバルトなどの不純物金属を分
離した後、電解槽9に供給した。電解槽9では、カソー
ドにニッケルを電着させて回収し、アノード側で発生す
る塩素ガスの全量を回収して、第1及び第2反応槽1
a、1bの塩素吹き込み管3a、3bに供給すると共
に、浄液工程での塩素の吹き込みに使用した。尚、図1
には、電解槽9から浄液装置8への塩素の供給は図示し
ていない。
【0027】上記の浸出工程において、各反応槽1a、
1b、1cでのオーバーフロー量を500リットル/分
とし、溶液の酸化還元単位が300〜500mV(Ag
/AgCl)となるように塩素又は空気を吹き込んだ。
塩素の吹き込み量は、容積30m3の第1反応槽1aで
3.5t/hr、容積30m3の第2反応槽1bで0.8
t/hrとした。また、容積20m3の第3反応槽1c
への空気の吹き込み量は5Nm3/分とした。第3反応
槽1cからオーバーフローした浸出後のスラリーを濾過
し、得られた浸出液の分析値を原料マットの組成と共に
表1に示した。
【0028】
【表1】
【0029】比較のため、上記と同様の装置を使用し、
ただし第3反応槽1cには空気の代わりにボンベから液
体塩素を吹き込んで、同一組成のニッケルマットからニ
ッケルの浸出を行った。各反応槽における塩素の吹き込
み量は、第1反応槽1aが3.2t/hr、第2反応槽
1bが0.9t/hr、及び第3反応槽1cが0.5t/
hrとし、その他の条件は前記実施例と同様とした。こ
の操業において第3反応槽1cよりオーバーフローした
浸出後のスラリーを濾過し、得られた浸出液の分析値を
表2に示した。
【0030】
【表2】
【0031】表1(本発明例)及び表2(従来例)から
分かるように、浸出工程で吹き込む塩素の一部を硫酸の
+と空気中の酸素で代替しても、浸出反応は何ら問題
なく進行し、塩素のみの場合と同一レベルまで目的金属
を浸出できた。
【0032】尚、上記実施例では、塩素の一部に代えて
空気を吹き込む場合を述べたが、酸素富化空気や工業用
酸素を用いても同等又はそれ以上の効果が得られること
は言うまでもない。また、空気は第3反応槽にのみ吹き
込んだが、反応槽に酸が存在していれば、いずれの反応
槽に吹き込んでも、あるいは全ての反応槽に塩素と共に
吹き込んでも、同様の効果を得ることができる。
【0033】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ニッケルを含有
した粉状硫化物を原料とし、該原料から高純度ニッケル
を回収する塩素浸出電解採取法において、浸出工程での
吹き込みに使用する塩素の一部に代えて、液中に塩素吹
き込みにより生成した酸が存在する条件の下で、塩素よ
りもコストの安い空気又は酸素富化空気若しくは工業用
酸素を代替使用することができる。
【0034】従って、電解工程で発生する塩素を浸出工
程の吹き込みに循環利用する場合にも、ロスにより発生
する吹き込み用塩素の不足分を系外から補充することな
く、安価な空気などのガスを吹き込んでニッケルを浸出
することができ、経済性を図りつつ、効率よくニッケル
を浸出して回収することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例で使用したニッケルの湿式精錬
装置の概略図である。
【符号の説明】
1a 第1反応槽 1b 第2反応槽 1c 第3反応槽 2 原料供給口 3a、3b 塩素吹き込み管 4 空気吹き込み管 5a、5b オーバーフロー管 6 撹拌手段 7 濾過装置 8 浄液装置 9 電解槽

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ニッケルを含有した粉状硫化物と一価銅
    イオンを含む塩化物水溶液とのスラリーに、塩素を吹き
    込むことによりニッケルを浸出させる浸出工程と、得ら
    れた浸出液の電解によりニッケルを回収する電解工程と
    を含む、塩素浸出電解採取法によるニッケルの湿式精錬
    方法において、前記塩素吹き込みにより生成された酸の
    存在下で、塩素の一部に代えて空気又は酸素富化空気若
    しくは工業用酸素を吹き込みながらニッケルを浸出する
    ことを特徴とするニッケルの湿式精錬方法。
  2. 【請求項2】 前記電解工程から発生した塩素を浸出工
    程での塩素吹き込みに循環使用すると共に、浸出工程で
    の塩素の不足量を空気又は酸素富化空気若しくは工業用
    酸素の吹き込みにより補うことを特徴とする、請求項1
    に記載のニッケルの湿式精錬方法。
JP8294905A 1996-11-07 1996-11-07 塩素浸出電解採取法によるニッケルの湿式精錬方法 Pending JPH10140257A (ja)

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