JPH10142555A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JPH10142555A JPH10142555A JP8309975A JP30997596A JPH10142555A JP H10142555 A JPH10142555 A JP H10142555A JP 8309975 A JP8309975 A JP 8309975A JP 30997596 A JP30997596 A JP 30997596A JP H10142555 A JPH10142555 A JP H10142555A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 特に外気温の変動や大気圧の変動や露光エネ
ルギーの吸収などに起因して発生する投影光学系のディ
ストーションを簡素な機構で良好に随時補正する。 【解決手段】 投影光学系（ＰＬ）は、対向する面が互
いに相補的な曲面形状を有する少なくとも２つの光学部
材からなり且つ全体として実質的に無屈折力の補正光学
部材（１）を備えている。そして、補正光学部材を構成
する少なくとも２つの光学部材の対向する面の間隔を投
影光学系の光軸（ＡＸ）に沿って変化させることによっ
て、投影光学系のディストーションを補正する。
ルギーの吸収などに起因して発生する投影光学系のディ
ストーションを簡素な機構で良好に随時補正する。 【解決手段】 投影光学系（ＰＬ）は、対向する面が互
いに相補的な曲面形状を有する少なくとも２つの光学部
材からなり且つ全体として実質的に無屈折力の補正光学
部材（１）を備えている。そして、補正光学部材を構成
する少なくとも２つの光学部材の対向する面の間隔を投
影光学系の光軸（ＡＸ）に沿って変化させることによっ
て、投影光学系のディストーションを補正する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は投影露光装置に関
し、特に半導体製造用の投影露光装置における収差補正
に関する。
し、特に半導体製造用の投影露光装置における収差補正
に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば半導体素子の製造に用いられる
投影露光装置では、マスクに形成されたパターンを投影
光学系を介して感光材料が塗布された基板（ウエハ、ガ
ラスプレートなど）上に投影露光する。近年、転写すべ
きパターンの微細化につれて、投影光学系に対して非常
に高い光学性能が要求されている。
投影露光装置では、マスクに形成されたパターンを投影
光学系を介して感光材料が塗布された基板（ウエハ、ガ
ラスプレートなど）上に投影露光する。近年、転写すべ
きパターンの微細化につれて、投影光学系に対して非常
に高い光学性能が要求されている。
【０００３】特に、投影光学系にディストーションが残
存している場合、２回目以降の重ね焼きの際の重ね合わ
せ精度を高めることができない。したがって、投影露光
装置において、投影光学系の残存ディストーションの補
正が非常に重要である。このようなディストーション
は、投影光学系の製造誤差や、装置の稼働中における外
気温の変動や、クリーンルーム内の大気圧の変動や、露
光動作中におけるレンズの露光エネルギーの吸収などに
起因して発生する。
存している場合、２回目以降の重ね焼きの際の重ね合わ
せ精度を高めることができない。したがって、投影露光
装置において、投影光学系の残存ディストーションの補
正が非常に重要である。このようなディストーション
は、投影光学系の製造誤差や、装置の稼働中における外
気温の変動や、クリーンルーム内の大気圧の変動や、露
光動作中におけるレンズの露光エネルギーの吸収などに
起因して発生する。
【０００４】従来の投影露光装置では、投影光学系を構
成するレンズ間の空気間隔を変化させたり、レンズ間に
形成された気密室の内圧を変化させたり、パターンが形
成されているマスクを光軸方向に移動させることによっ
て、投影露光装置の設置時に投影光学系の製造誤差に起
因するディストーションを調整している。
成するレンズ間の空気間隔を変化させたり、レンズ間に
形成された気密室の内圧を変化させたり、パターンが形
成されているマスクを光軸方向に移動させることによっ
て、投影露光装置の設置時に投影光学系の製造誤差に起
因するディストーションを調整している。
【０００５】ところで、外気温の変動や大気圧の変動や
露光エネルギーの吸収のような露光条件の経時変動に起
因するディストーションは、投影光学系の製造誤差に起
因するディストーションよりも量的に大きく発生し、光
軸からの距離に依存して投影倍率の変化する回転対称な
ディストーションである。投影光学系に回転対称なディ
ストーションが存在する場合、四角のパターンが、たと
えば樽型のパターンや糸巻き型のパターンとなって投影
露光される。本発明の出願人による出願にかかる特開平
６−２０１９９２号公報には、複数の気密室の内圧変化
を組み合わせて露光エネルギーの吸収による投影光学系
のディストーションを補正する技術が開示されている。
露光エネルギーの吸収のような露光条件の経時変動に起
因するディストーションは、投影光学系の製造誤差に起
因するディストーションよりも量的に大きく発生し、光
軸からの距離に依存して投影倍率の変化する回転対称な
ディストーションである。投影光学系に回転対称なディ
ストーションが存在する場合、四角のパターンが、たと
えば樽型のパターンや糸巻き型のパターンとなって投影
露光される。本発明の出願人による出願にかかる特開平
６−２０１９９２号公報には、複数の気密室の内圧変化
を組み合わせて露光エネルギーの吸収による投影光学系
のディストーションを補正する技術が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般に、投影光学系を
構成するレンズ間の空気間隔を変化させたり、レンズ間
に形成された気密室の内圧を変化させることによって投
影光学系のディストーションを補正する従来技術では、
可動部分が多くなり、駆動機構が複雑になりがちであ
る。また、投影光学系の瞳収差を利用してマスクを光軸
方向に移動させることによって投影光学系のディストー
ションを補正する従来技術では、投影光学系の瞳収差の
形状と相似の形状を有するディストーションしか補正す
ることができない。その結果、補正すべきディストーシ
ョンの形状が瞳収差の形状とほぼ相似でない場合、良好
な補正を行うことができない。
構成するレンズ間の空気間隔を変化させたり、レンズ間
に形成された気密室の内圧を変化させることによって投
影光学系のディストーションを補正する従来技術では、
可動部分が多くなり、駆動機構が複雑になりがちであ
る。また、投影光学系の瞳収差を利用してマスクを光軸
方向に移動させることによって投影光学系のディストー
ションを補正する従来技術では、投影光学系の瞳収差の
形状と相似の形状を有するディストーションしか補正す
ることができない。その結果、補正すべきディストーシ
ョンの形状が瞳収差の形状とほぼ相似でない場合、良好
な補正を行うことができない。
【０００７】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、特に外気温の変動や大気圧の変動や露光エネ
ルギーの吸収などに起因して発生する投影光学系のディ
ストーションを簡素な機構で良好に随時補正することの
できる投影露光装置を提供することを目的とする。
のであり、特に外気温の変動や大気圧の変動や露光エネ
ルギーの吸収などに起因して発生する投影光学系のディ
ストーションを簡素な機構で良好に随時補正することの
できる投影露光装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、第１物体を照明するための照明
光学系と、該照明光学系によって照明された前記第１物
体の像を第２物体上に投影するための投影光学系とを備
えた投影露光装置において、前記投影光学系は、対向す
る面が互いに相補的な曲面形状を有する少なくとも２つ
の光学部材からなり且つ全体として実質的に無屈折力の
補正光学部材を備え、前記補正光学部材を構成する少な
くとも２つの光学部材の対向する面の間隔を前記投影光
学系の光軸に沿って変化させることによって、前記投影
光学系のディストーションを補正することを特徴とする
投影露光装置を提供する。この場合、前記投影光学系の
第１物体側の開口数は、第２物体側の開口数よりも小さ
く、前記補正光学部材は、前記投影光学系の内部におい
ては第１物体側に配置されていることが好ましい。
に、本発明においては、第１物体を照明するための照明
光学系と、該照明光学系によって照明された前記第１物
体の像を第２物体上に投影するための投影光学系とを備
えた投影露光装置において、前記投影光学系は、対向す
る面が互いに相補的な曲面形状を有する少なくとも２つ
の光学部材からなり且つ全体として実質的に無屈折力の
補正光学部材を備え、前記補正光学部材を構成する少な
くとも２つの光学部材の対向する面の間隔を前記投影光
学系の光軸に沿って変化させることによって、前記投影
光学系のディストーションを補正することを特徴とする
投影露光装置を提供する。この場合、前記投影光学系の
第１物体側の開口数は、第２物体側の開口数よりも小さ
く、前記補正光学部材は、前記投影光学系の内部におい
ては第１物体側に配置されていることが好ましい。
【０００９】本発明の好ましい態様によれば、前記補正
光学部材は、第１物体側から順に、第１光学部材と第２
光学部材とからなり、前記第１光学部材の第１物体側の
面および前記第２光学部材の第２物体側の面は前記光軸
にほぼ垂直な平面状に形成され、前記第１光学部材の第
２物体側の面と前記第２光学部材の第１物体側の面とは
互いに相補的な曲面形状を有し、前記第１光学部材の第
２物体側の面と前記第２光学部材の第１物体側の面との
間隔を変化させることによって、前記投影光学系のディ
ストーションを補正する。
光学部材は、第１物体側から順に、第１光学部材と第２
光学部材とからなり、前記第１光学部材の第１物体側の
面および前記第２光学部材の第２物体側の面は前記光軸
にほぼ垂直な平面状に形成され、前記第１光学部材の第
２物体側の面と前記第２光学部材の第１物体側の面とは
互いに相補的な曲面形状を有し、前記第１光学部材の第
２物体側の面と前記第２光学部材の第１物体側の面との
間隔を変化させることによって、前記投影光学系のディ
ストーションを補正する。
【００１０】また、本発明の好ましい態様によれば、前
記補正光学部材は、第１物体側から順に、第１光学部材
と第２光学部材と第３光学部材とからなり、前記第１光
学部材の第１物体側の面および前記第３光学部材の第２
物体側の面は前記光軸にほぼ垂直な平面状に形成され、
前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学部材
の第１物体側の面とは互いに相補的な第１の曲面形状を
有し、前記第２光学部材の第２物体側の面と前記第３光
学部材の第１物体側の面とは、互いに相補的で且つ前記
第１の曲面形状とは実質的に異なる第２の曲面形状を有
し、前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学
部材の第１物体側の面との間隔および前記第２光学部材
の第２物体側の面と前記第３光学部材の第１物体側の面
との間隔をそれぞれ変化させることによって、前記投影
光学系のディストーションを補正することを特徴とする
請求項１または２に記載の投影露光装置。
記補正光学部材は、第１物体側から順に、第１光学部材
と第２光学部材と第３光学部材とからなり、前記第１光
学部材の第１物体側の面および前記第３光学部材の第２
物体側の面は前記光軸にほぼ垂直な平面状に形成され、
前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学部材
の第１物体側の面とは互いに相補的な第１の曲面形状を
有し、前記第２光学部材の第２物体側の面と前記第３光
学部材の第１物体側の面とは、互いに相補的で且つ前記
第１の曲面形状とは実質的に異なる第２の曲面形状を有
し、前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学
部材の第１物体側の面との間隔および前記第２光学部材
の第２物体側の面と前記第３光学部材の第１物体側の面
との間隔をそれぞれ変化させることによって、前記投影
光学系のディストーションを補正することを特徴とする
請求項１または２に記載の投影露光装置。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明では、対向する面が互いに
相補的な曲面形状を有する少なくとも２つの光学部材か
らなり且つ全体として実質的に無屈折力の補正光学部材
が投影光学系の内部に設けられている。具体的には、た
とえば、第１物体であるマスク側から順に配置された第
１光学部材と第２光学部材とから補正光学部材を構成す
ることができる。この場合、第１光学部材のマスク側の
面および第２光学部材のウエハ（第２物体）側の面は、
光軸にほぼ垂直な平面状に形成されている。また、第１
光学部材と第２光学部材との対向面、すなわち第１光学
部材のウエハ側の面と第２光学部材のマスク側の面とは
互いに相補的な曲面形状を有する。
相補的な曲面形状を有する少なくとも２つの光学部材か
らなり且つ全体として実質的に無屈折力の補正光学部材
が投影光学系の内部に設けられている。具体的には、た
とえば、第１物体であるマスク側から順に配置された第
１光学部材と第２光学部材とから補正光学部材を構成す
ることができる。この場合、第１光学部材のマスク側の
面および第２光学部材のウエハ（第２物体）側の面は、
光軸にほぼ垂直な平面状に形成されている。また、第１
光学部材と第２光学部材との対向面、すなわち第１光学
部材のウエハ側の面と第２光学部材のマスク側の面とは
互いに相補的な曲面形状を有する。
【００１２】したがって、実施例において詳述するよう
に、第１光学部材と第２光学部材との対向面の間隔を変
化させることによって、補正光学部材の所定位置に入射
した主光線のウエハに対する入射位置すなわち結像位置
を対向面の曲面形状に応じて変化させることができる。
こうして、本発明では、補正すべきディストーションの
性状に応じた曲面形状を有する補正光学部材の対向面の
間隔を適宜変化させることにより、たとえば外気温の変
動や大気圧の変動や露光エネルギーの吸収などに起因し
て発生する投影光学系のディストーションを簡素な機構
で良好に随時補正することができる。
に、第１光学部材と第２光学部材との対向面の間隔を変
化させることによって、補正光学部材の所定位置に入射
した主光線のウエハに対する入射位置すなわち結像位置
を対向面の曲面形状に応じて変化させることができる。
こうして、本発明では、補正すべきディストーションの
性状に応じた曲面形状を有する補正光学部材の対向面の
間隔を適宜変化させることにより、たとえば外気温の変
動や大気圧の変動や露光エネルギーの吸収などに起因し
て発生する投影光学系のディストーションを簡素な機構
で良好に随時補正することができる。
【００１３】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説
明する。図１は、本発明の実施例にかかる投影露光装置
の構成を概略的に示す図である。図２は、図１の補正光
学部材１の構成を概略的に示す図である。図１におい
て、投影光学系ＰＬの物体面には所定の回路パターンが
形成された投影原版としてのマスク（第１物体）Ｍが配
置されており、投影光学系ＰＬの像面には感光性基板と
してのウエハ（第２物体）Ｗが配置されている。ここ
で、マスクＭはマスクステージＭＳ上に保持されてお
り、ウエハＷは投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直な面内
において二次元的に移動可能に構成されたウエハステー
ジＷＳ上に保持されている。
明する。図１は、本発明の実施例にかかる投影露光装置
の構成を概略的に示す図である。図２は、図１の補正光
学部材１の構成を概略的に示す図である。図１におい
て、投影光学系ＰＬの物体面には所定の回路パターンが
形成された投影原版としてのマスク（第１物体）Ｍが配
置されており、投影光学系ＰＬの像面には感光性基板と
してのウエハ（第２物体）Ｗが配置されている。ここ
で、マスクＭはマスクステージＭＳ上に保持されてお
り、ウエハＷは投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直な面内
において二次元的に移動可能に構成されたウエハステー
ジＷＳ上に保持されている。
【００１４】また、マスクＭの上方には、マスクＭを均
一照明するための照明光学系ＩＳが配置されている。照
明光学系ＩＳの内部には、たとえばｉ線(365nm) の光を
供給する水銀ランプのような光源が配置されている。照
明光学系ＩＳから供給される光は、マスクＭを照明し、
投影光学系ＰＬの瞳位置（開口絞りＡＳの位置）には照
明光学系ＩＳ中の光源の像が形成される。すなわち、照
明光学系ＩＳは、マスクＭをケーラー照明のもとで均一
照明する。そして、投影光学系ＰＬにより、ケーラー照
明されたマスクＭのパターン像がウエハＷ上に形成され
る。こうして、ウエハステージＷＳをひいてはウエハＷ
を二次元的に駆動しながら露光動作を繰り返すことによ
り、ウエハＷの各露光領域にマスクＭのパターンを投影
露光（転写）することができる。
一照明するための照明光学系ＩＳが配置されている。照
明光学系ＩＳの内部には、たとえばｉ線(365nm) の光を
供給する水銀ランプのような光源が配置されている。照
明光学系ＩＳから供給される光は、マスクＭを照明し、
投影光学系ＰＬの瞳位置（開口絞りＡＳの位置）には照
明光学系ＩＳ中の光源の像が形成される。すなわち、照
明光学系ＩＳは、マスクＭをケーラー照明のもとで均一
照明する。そして、投影光学系ＰＬにより、ケーラー照
明されたマスクＭのパターン像がウエハＷ上に形成され
る。こうして、ウエハステージＷＳをひいてはウエハＷ
を二次元的に駆動しながら露光動作を繰り返すことによ
り、ウエハＷの各露光領域にマスクＭのパターンを投影
露光（転写）することができる。
【００１５】なお、投影光学系ＰＬは、一対の光学部材
２および３からなる補正光学部材１を備えている。図２
を参照すると、マスク側（図中上側）に配置された光学
部材２のマスク側の面２ａおよびウエハ側（図中下側）
に配置された光学部材３のウエハ側の面３ｂは、投影光
学系ＰＬの光軸ＡＸに対して垂直な平面状に形成されて
いる。また、光学部材２のウエハ側の面２ｂと光学部材
３のマスク側の面３ａとは光軸ＡＸに沿って所定の間隔
を隔て、互いに相補的な曲面形状を有する。すなわち、
光学部材２と光学部材３とを光軸ＡＸに沿って互いに接
近させると、対向する２つの面すなわち面２ｂと面３ａ
とが全面に亘って互いに当接するように構成されてい
る。したがって、補正光学部材１は、光学部材２と光学
部材３との間隔に依存することなく、全体として無屈折
力である。
２および３からなる補正光学部材１を備えている。図２
を参照すると、マスク側（図中上側）に配置された光学
部材２のマスク側の面２ａおよびウエハ側（図中下側）
に配置された光学部材３のウエハ側の面３ｂは、投影光
学系ＰＬの光軸ＡＸに対して垂直な平面状に形成されて
いる。また、光学部材２のウエハ側の面２ｂと光学部材
３のマスク側の面３ａとは光軸ＡＸに沿って所定の間隔
を隔て、互いに相補的な曲面形状を有する。すなわち、
光学部材２と光学部材３とを光軸ＡＸに沿って互いに接
近させると、対向する２つの面すなわち面２ｂと面３ａ
とが全面に亘って互いに当接するように構成されてい
る。したがって、補正光学部材１は、光学部材２と光学
部材３との間隔に依存することなく、全体として無屈折
力である。
【００１６】図３は、図２の補正光学部材１の作用を説
明する図であって、（ａ）は２つの光学部材の間隔が小
さい場合を、（ｂ）は２つの光学部材の間隔が大きい場
合をそれぞれ示している。なお、図３では、簡単のため
に、光軸ＡＸと平行に進む主光線に着目して補正光学部
材１の作用を説明している。図３（ａ）に示すように、
光学部材２の入射平面２ａに垂直に入射した主光線は、
光学部材２の内部を光軸ＡＸと平行に進行した後、射出
曲面２ｂにおいて正の屈折作用を受け、射出曲面２ｂか
ら光軸ＡＸに近づくように射出される。射出曲面２ｂか
ら射出された光線は、光学部材３の入射曲面３ａに入射
し、入射曲面３ａにおいて負の屈折作用を受ける。この
とき、上述したように、射出曲面２ｂと入射曲面３ａと
が相補的に形成されているため、入射曲面３ａを介した
光線は光軸ＡＸと平行な状態に戻る。こうして、光学部
材３の光学部材３の内部を光軸ＡＸと平行に進行した平
行光線は、射出平面３ｂから光軸ＡＸと平行に射出され
る。
明する図であって、（ａ）は２つの光学部材の間隔が小
さい場合を、（ｂ）は２つの光学部材の間隔が大きい場
合をそれぞれ示している。なお、図３では、簡単のため
に、光軸ＡＸと平行に進む主光線に着目して補正光学部
材１の作用を説明している。図３（ａ）に示すように、
光学部材２の入射平面２ａに垂直に入射した主光線は、
光学部材２の内部を光軸ＡＸと平行に進行した後、射出
曲面２ｂにおいて正の屈折作用を受け、射出曲面２ｂか
ら光軸ＡＸに近づくように射出される。射出曲面２ｂか
ら射出された光線は、光学部材３の入射曲面３ａに入射
し、入射曲面３ａにおいて負の屈折作用を受ける。この
とき、上述したように、射出曲面２ｂと入射曲面３ａと
が相補的に形成されているため、入射曲面３ａを介した
光線は光軸ＡＸと平行な状態に戻る。こうして、光学部
材３の光学部材３の内部を光軸ＡＸと平行に進行した平
行光線は、射出平面３ｂから光軸ＡＸと平行に射出され
る。
【００１７】したがって、図３（ａ）に示す状態では、
光軸ＡＸから距離ｄ0 だけ離れて光軸ＡＸに対して平行
に光学部材２の入射平面２ａに入射した光線は、光軸Ａ
Ｘから距離（ｄ0 −Ａ）だけ離れて光軸ＡＸに対して平
行に光学部材３の射出平面３ｂから射出される。一方、
たとえば光学部材２を光軸ＡＸに沿ってマスク側へ所定
距離だけ移動させた場合、図３（ｂ）に示すように、光
学部材２の射出曲面２ｂと光学部材３の入射曲面３ａと
の間隔が広がる。その結果、図３（ｂ）に示す状態で
は、光軸ＡＸから距離ｄ0 だけ離れて光軸ＡＸに対して
平行に光学部材２の入射平面２ａに入射した光線は、光
軸ＡＸから距離（ｄ0 −Ｂ）（ただし、Ａ＜Ｂ）だけ離
れて光軸ＡＸに対して平行に光学部材３の射出平面３ｂ
から射出される。
光軸ＡＸから距離ｄ0 だけ離れて光軸ＡＸに対して平行
に光学部材２の入射平面２ａに入射した光線は、光軸Ａ
Ｘから距離（ｄ0 −Ａ）だけ離れて光軸ＡＸに対して平
行に光学部材３の射出平面３ｂから射出される。一方、
たとえば光学部材２を光軸ＡＸに沿ってマスク側へ所定
距離だけ移動させた場合、図３（ｂ）に示すように、光
学部材２の射出曲面２ｂと光学部材３の入射曲面３ａと
の間隔が広がる。その結果、図３（ｂ）に示す状態で
は、光軸ＡＸから距離ｄ0 だけ離れて光軸ＡＸに対して
平行に光学部材２の入射平面２ａに入射した光線は、光
軸ＡＸから距離（ｄ0 −Ｂ）（ただし、Ａ＜Ｂ）だけ離
れて光軸ＡＸに対して平行に光学部材３の射出平面３ｂ
から射出される。
【００１８】このように、補正光学部材１では、たとえ
ばピエゾ素子を用いた適当な駆動系によって光学部材２
および光学部材３のうちの少なくとも一方を光軸ＡＸに
沿って移動させて光学部材２と光学部材３との間隔を変
化させることにより、光学部材２の入射平面２ａの所定
位置に入射した主光線のウエハＷに対する入射位置すな
わち結像位置を対向面の曲面形状に応じて変化させるこ
とができる。換言すれば、補正すべきディストーション
の性状に応じて光学部材２の射出曲面２ｂおよび光学部
材３の入射曲面３ａの曲面形状を決定するとともに、補
正すべきディストーションの大きさに応じて光学部材２
と光学部材３との間隔を決定することにより、投影光学
系のディストーションを良好に補正することができる。
ばピエゾ素子を用いた適当な駆動系によって光学部材２
および光学部材３のうちの少なくとも一方を光軸ＡＸに
沿って移動させて光学部材２と光学部材３との間隔を変
化させることにより、光学部材２の入射平面２ａの所定
位置に入射した主光線のウエハＷに対する入射位置すな
わち結像位置を対向面の曲面形状に応じて変化させるこ
とができる。換言すれば、補正すべきディストーション
の性状に応じて光学部材２の射出曲面２ｂおよび光学部
材３の入射曲面３ａの曲面形状を決定するとともに、補
正すべきディストーションの大きさに応じて光学部材２
と光学部材３との間隔を決定することにより、投影光学
系のディストーションを良好に補正することができる。
【００１９】前述したように、外気温の変動や大気圧の
変動や露光エネルギーの吸収などに起因して発生するデ
ィストーションは、光軸からの距離に依存して投影倍率
の変化する回転対称なディストーションである。なお、
外気温の変動と発生するディストーションとの関係、大
気圧の変動と発生するディストーションとの関係、およ
び露光エネルギーの吸収と発生するディストーションと
の関係を、実験や計算により予め求めることができる。
換言すれば、外気温の変動に起因して発生するディスト
ーションの性状、大気圧の変動に起因して発生するディ
ストーションの性状、および露光エネルギーの吸収に起
因して発生するディストーションの性状を予め知ること
ができる。
変動や露光エネルギーの吸収などに起因して発生するデ
ィストーションは、光軸からの距離に依存して投影倍率
の変化する回転対称なディストーションである。なお、
外気温の変動と発生するディストーションとの関係、大
気圧の変動と発生するディストーションとの関係、およ
び露光エネルギーの吸収と発生するディストーションと
の関係を、実験や計算により予め求めることができる。
換言すれば、外気温の変動に起因して発生するディスト
ーションの性状、大気圧の変動に起因して発生するディ
ストーションの性状、および露光エネルギーの吸収に起
因して発生するディストーションの性状を予め知ること
ができる。
【００２０】したがって、実際に発生しているディスト
ーションを直接測定することなく、外気温の変動や大気
圧の変動や露光エネルギーの吸収などを測定することに
より、発生しているであろうディストーションを予想す
ることができる。すなわち、たとえば投影光学系の鏡筒
の近傍または鏡筒内部に設けられた温度センサーの出力
に基づいて、外気温の変動に起因して発生するディスト
ーションを随時求めることができる。また、たとえば投
影露光装置に装備された気圧計の出力に基づいて、大気
圧の変動に起因して発生するディストーションを随時求
めることができる。さらに、たとえば直接測定された吸
収エネルギー量に基づいて、あるいは露光動作から推測
された吸収エネルギー量に基づいて、露光エネルギーの
吸収に起因して発生するディストーションを随時求める
ことができる。
ーションを直接測定することなく、外気温の変動や大気
圧の変動や露光エネルギーの吸収などを測定することに
より、発生しているであろうディストーションを予想す
ることができる。すなわち、たとえば投影光学系の鏡筒
の近傍または鏡筒内部に設けられた温度センサーの出力
に基づいて、外気温の変動に起因して発生するディスト
ーションを随時求めることができる。また、たとえば投
影露光装置に装備された気圧計の出力に基づいて、大気
圧の変動に起因して発生するディストーションを随時求
めることができる。さらに、たとえば直接測定された吸
収エネルギー量に基づいて、あるいは露光動作から推測
された吸収エネルギー量に基づいて、露光エネルギーの
吸収に起因して発生するディストーションを随時求める
ことができる。
【００２１】以下、補正すべきディストーションの性状
と補正光学部材１の互いに相補的な曲面形状との関係に
ついて説明する。前述したように、外気温の変動や大気
圧の変動や露光エネルギーの吸収などに起因して発生す
るディストーションは、光軸からの距離に依存して投影
倍率の変化する回転対称なディストーションである。し
たがって、補正すべきディストーションＤの性状は、光
軸からの距離ｒをパラメータとして次の式（１）で表さ
れる。
と補正光学部材１の互いに相補的な曲面形状との関係に
ついて説明する。前述したように、外気温の変動や大気
圧の変動や露光エネルギーの吸収などに起因して発生す
るディストーションは、光軸からの距離に依存して投影
倍率の変化する回転対称なディストーションである。し
たがって、補正すべきディストーションＤの性状は、光
軸からの距離ｒをパラメータとして次の式（１）で表さ
れる。
【数１】 Ｄ（ｒ）＝ａ0 ＋ａ1 ｒ＋ａ2 ｒ2 ＋ａ3 ｒ3 ＋・・・＋ａn ｒn ＝Σａi ｒi （ｉ＝０〜ｎ） （１） ここで、ａi （ｉ＝０〜ｎ）は、多項式の各係数であ
る。
る。
【００２２】ディストーション補正量Ｄ（ｒ）は、補正
光学部材１の互いに相補的な曲面の勾配に依存する。換
言すれば、式（１）は、補正光学部材１において所要の
曲面の勾配すなわち１階微分値に相当する。したがっ
て、補正光学部材１において所要の曲面Ｓは、式（１）
を積分することによって得られ、次の式（２）で表され
る。
光学部材１の互いに相補的な曲面の勾配に依存する。換
言すれば、式（１）は、補正光学部材１において所要の
曲面の勾配すなわち１階微分値に相当する。したがっ
て、補正光学部材１において所要の曲面Ｓは、式（１）
を積分することによって得られ、次の式（２）で表され
る。
【数２】 Ｓ（ｒ）＝ａ0 ｒ＋（１／２）ａ1 ｒ2 ＋（１／３）ａ2 ｒ3 ＋（１／４）ａ3 ｒ4 ＋・・・＋｛１／（ｎ＋１）｝ａn ｒn+1 ＝ Σ｛１／（ｉ＋１）｝ａi ｒi+1 （ｉ＝０〜ｎ） （２） ただし、式（２）において、定数項は不要につき省略さ
れている。
れている。
【００２３】本実施例では、補正光学部材１を構成する
２つの光学部材２と３との対向曲面は、補正すべきディ
ストーションの性状に対応して形成されている。したが
って、光学部材２および光学部材３のうちの少なくとも
一方を光軸ＡＸに沿って移動させて光学部材２と光学部
材３との間隔を変化させることにより、外気温の変動に
起因して発生するディストーション、大気圧の変動に起
因して発生するディストーション、および露光エネルギ
ーの吸収に起因して発生するディストーションのうちの
少なくとも１つのディストーションを簡素な機構で良好
に随時補正することができる。
２つの光学部材２と３との対向曲面は、補正すべきディ
ストーションの性状に対応して形成されている。したが
って、光学部材２および光学部材３のうちの少なくとも
一方を光軸ＡＸに沿って移動させて光学部材２と光学部
材３との間隔を変化させることにより、外気温の変動に
起因して発生するディストーション、大気圧の変動に起
因して発生するディストーション、および露光エネルギ
ーの吸収に起因して発生するディストーションのうちの
少なくとも１つのディストーションを簡素な機構で良好
に随時補正することができる。
【００２４】前述したように、光学部材２と光学部材３
との間隔の変化に依存することなく、補正光学部材１は
全体として常に無屈折力である。したがって、光学部材
２と光学部材３との間隔を変化させてディストーション
を補正しても、投影光学系ＰＬの他の光学性能に影響を
及ぼすことがない。また、本実施例では、補正光学部材
１を投影光学系ＰＬの内部においてマスク側に配置して
いる。これは、投影光学系ＰＬのマスク側の開口数がウ
エハ側の開口数よりも小さく、光束の細い箇所に補正光
学部材１を配置する方が補正の自由度が大きくなるから
である。しかしながら、補正光学部材１を投影光学系Ｐ
Ｌ内の任意の位置に配置しても本発明が成立することは
いうまでもない。
との間隔の変化に依存することなく、補正光学部材１は
全体として常に無屈折力である。したがって、光学部材
２と光学部材３との間隔を変化させてディストーション
を補正しても、投影光学系ＰＬの他の光学性能に影響を
及ぼすことがない。また、本実施例では、補正光学部材
１を投影光学系ＰＬの内部においてマスク側に配置して
いる。これは、投影光学系ＰＬのマスク側の開口数がウ
エハ側の開口数よりも小さく、光束の細い箇所に補正光
学部材１を配置する方が補正の自由度が大きくなるから
である。しかしながら、補正光学部材１を投影光学系Ｐ
Ｌ内の任意の位置に配置しても本発明が成立することは
いうまでもない。
【００２５】図４は、本実施例の補正光学部材の第１変
形例を示す図である。図４の第１変形例では、補正光学
部材１が３つの光学部材２、３および４から構成されて
いる。なお、マスク側（図中上側）に配置された光学部
材２のマスク側の面２ａおよびウエハ側（図中下側）に
配置された光学部材４のウエハ側の面４ｂは、投影光学
系ＰＬの光軸ＡＸに対して垂直な平面状に形成されてい
る。また、光学部材２のウエハ側の面２ｂと光学部材３
のマスク側の面３ａとが互いに相補的な第１の曲面形状
を有し、光学部材３のウエハ側の面３ｂと光学部材４の
マスク側の面４ａとが互いに相補的な第２の曲面形状を
有する。したがって、補正光学部材１は、光学部材２と
光学部材３との間隔および光学部材３と光学部材４との
間隔に依存することなく、全体として無屈折力である。
なお、第１の曲面形状と第２の曲面形状とは実質的に異
なっている。
形例を示す図である。図４の第１変形例では、補正光学
部材１が３つの光学部材２、３および４から構成されて
いる。なお、マスク側（図中上側）に配置された光学部
材２のマスク側の面２ａおよびウエハ側（図中下側）に
配置された光学部材４のウエハ側の面４ｂは、投影光学
系ＰＬの光軸ＡＸに対して垂直な平面状に形成されてい
る。また、光学部材２のウエハ側の面２ｂと光学部材３
のマスク側の面３ａとが互いに相補的な第１の曲面形状
を有し、光学部材３のウエハ側の面３ｂと光学部材４の
マスク側の面４ａとが互いに相補的な第２の曲面形状を
有する。したがって、補正光学部材１は、光学部材２と
光学部材３との間隔および光学部材３と光学部材４との
間隔に依存することなく、全体として無屈折力である。
なお、第１の曲面形状と第２の曲面形状とは実質的に異
なっている。
【００２６】第１変形例では、光学部材２と光学部材３
との対向曲面は、補正すべき第１のディストーションの
性状に対応して形成されている。また、光学部材３と光
学部材４との対向曲面は、補正すべき第２のディストー
ションの性状に対応して形成されている。したがって、
光学部材２と光学部材３との間隔および光学部材３と光
学部材４との間隔をそれぞれ変化させることにより、外
気温の変動に起因して発生するディストーション、大気
圧の変動に起因して発生するディストーション、および
露光エネルギーの吸収に起因して発生するディストーシ
ョンのうちの少なくとも２つのディストーションを簡素
な機構で良好に随時補正することができる。
との対向曲面は、補正すべき第１のディストーションの
性状に対応して形成されている。また、光学部材３と光
学部材４との対向曲面は、補正すべき第２のディストー
ションの性状に対応して形成されている。したがって、
光学部材２と光学部材３との間隔および光学部材３と光
学部材４との間隔をそれぞれ変化させることにより、外
気温の変動に起因して発生するディストーション、大気
圧の変動に起因して発生するディストーション、および
露光エネルギーの吸収に起因して発生するディストーシ
ョンのうちの少なくとも２つのディストーションを簡素
な機構で良好に随時補正することができる。
【００２７】図５は、本実施例の補正光学部材の第２変
形例を示す図である。図５の第２変形例では、一対の光
学部材２および３からなる第１の補正光学部材と一対の
光学部材４および５からなる第２の補正光学部材とを備
えている。なお、第１の補正光学部材において、マスク
側（図中上側）に配置された光学部材２のマスク側の面
２ａおよびウエハ側（図中下側）に配置された光学部材
３のウエハ側の面３ｂは、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに
対して垂直な平面状に形成されている。また、第２の補
正光学部材において、ウエハ側に配置された光学部材５
のウエハ側の面５ｂおよびマスク側に配置された光学部
材４のマスク側の面４ａは、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ
に対して垂直な平面状に形成されている。
形例を示す図である。図５の第２変形例では、一対の光
学部材２および３からなる第１の補正光学部材と一対の
光学部材４および５からなる第２の補正光学部材とを備
えている。なお、第１の補正光学部材において、マスク
側（図中上側）に配置された光学部材２のマスク側の面
２ａおよびウエハ側（図中下側）に配置された光学部材
３のウエハ側の面３ｂは、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに
対して垂直な平面状に形成されている。また、第２の補
正光学部材において、ウエハ側に配置された光学部材５
のウエハ側の面５ｂおよびマスク側に配置された光学部
材４のマスク側の面４ａは、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ
に対して垂直な平面状に形成されている。
【００２８】さらに、第１の補正光学部材において、光
学部材２のウエハ側の面２ｂと光学部材３のマスク側の
面３ａとが互いに相補的な曲面形状を有する。また、第
２の補正光学部材において、光学部材４のウエハ側の面
４ｂと光学部材５のマスク側の面５ａとが互いに相補的
な曲面形状を有する。したがって、第１の補正光学部材
は光学部材２と光学部材３との間隔に依存することなく
全体として無屈折力であり、第２の補正光学部材は光学
部材４と光学部材５との間隔に依存することなく全体と
して無屈折力である。
学部材２のウエハ側の面２ｂと光学部材３のマスク側の
面３ａとが互いに相補的な曲面形状を有する。また、第
２の補正光学部材において、光学部材４のウエハ側の面
４ｂと光学部材５のマスク側の面５ａとが互いに相補的
な曲面形状を有する。したがって、第１の補正光学部材
は光学部材２と光学部材３との間隔に依存することなく
全体として無屈折力であり、第２の補正光学部材は光学
部材４と光学部材５との間隔に依存することなく全体と
して無屈折力である。
【００２９】第２変形例では、第１の補正光学部材の光
学部材２と光学部材３との対向曲面は、光軸ＡＸに関し
て回転非対称な形状を有する。したがって、光学部材２
と光学部材３との間隔を変化させることにより、光軸Ａ
Ｘに関して回転非対称なディストーション成分を補正す
ることができる。一方、第２の補正光学部材の光学部材
４と光学部材５との対向曲面は、光軸ＡＸに関して回転
対称な形状を有する。したがって、光学部材４と光学部
材５との間隔を変化させることにより、光軸ＡＸに関し
て回転対称なディストーション成分を補正することがで
きる。したがって、第２変形例では、光学部材２と光学
部材３との間隔および光学部材４と光学部材５との間隔
をそれぞれ変化させることにより、外気温の変動や大気
圧の変動や露光エネルギーの吸収に起因して発生するデ
ィストーションを回転非対称な成分を含めて良好に随時
補正することができる。
学部材２と光学部材３との対向曲面は、光軸ＡＸに関し
て回転非対称な形状を有する。したがって、光学部材２
と光学部材３との間隔を変化させることにより、光軸Ａ
Ｘに関して回転非対称なディストーション成分を補正す
ることができる。一方、第２の補正光学部材の光学部材
４と光学部材５との対向曲面は、光軸ＡＸに関して回転
対称な形状を有する。したがって、光学部材４と光学部
材５との間隔を変化させることにより、光軸ＡＸに関し
て回転対称なディストーション成分を補正することがで
きる。したがって、第２変形例では、光学部材２と光学
部材３との間隔および光学部材４と光学部材５との間隔
をそれぞれ変化させることにより、外気温の変動や大気
圧の変動や露光エネルギーの吸収に起因して発生するデ
ィストーションを回転非対称な成分を含めて良好に随時
補正することができる。
【００３０】なお、上述の実施例および変形例では、外
気温の変動や大気圧の変動や露光エネルギーの吸収に起
因して発生するディストーションの補正を例にとって本
発明を説明している。しかしながら、投影光学系の瞳位
置における光源像の大きさまたは形状の変更、すなわち
照明光学系ＩＳにおける開口形状の変更に伴って発生す
るディストーションを本発明により補正することもでき
る。具体的は、照明光学系ＩＳにおける開口形状の大き
さを変更すると、いわゆるσ値（照明光学系の開口数と
投影光学系の開口数との比）が変化するが、このσ値の
変化に伴って発生するディストーションを本発明により
補正することができる。また、照明光学系ＩＳにおける
開口形状をたとえば円形形状から輪帯状に変更するとデ
ィストーションが発生するが、この種のディストーショ
ンも本発明により補正することができる。このように、
本発明によれば、様々な性状のディストーションを簡素
な機構で良好に随時補正することができる。
気温の変動や大気圧の変動や露光エネルギーの吸収に起
因して発生するディストーションの補正を例にとって本
発明を説明している。しかしながら、投影光学系の瞳位
置における光源像の大きさまたは形状の変更、すなわち
照明光学系ＩＳにおける開口形状の変更に伴って発生す
るディストーションを本発明により補正することもでき
る。具体的は、照明光学系ＩＳにおける開口形状の大き
さを変更すると、いわゆるσ値（照明光学系の開口数と
投影光学系の開口数との比）が変化するが、このσ値の
変化に伴って発生するディストーションを本発明により
補正することができる。また、照明光学系ＩＳにおける
開口形状をたとえば円形形状から輪帯状に変更するとデ
ィストーションが発生するが、この種のディストーショ
ンも本発明により補正することができる。このように、
本発明によれば、様々な性状のディストーションを簡素
な機構で良好に随時補正することができる。
【００３１】また、上述の実施例および変形例では、１
つの補正光学部材が２つの光学部材または３つの光学部
材からなる例、および２つの光学部材からなる１つの補
正光学部材を備えた例を説明している。しかしながら、
１つの補正光学部材を構成する光学部材の数および補正
光学部材の数について、本発明が上述の実施例および変
形例に限定されないことはいうまでもない。したがっ
て、それぞれ２つの光学部材からなる３つの補正光学部
材を用いて、外気温の変動に起因して発生するディスト
ーション、大気圧の変動に起因して発生するディストー
ション、および露光エネルギーの吸収に起因して発生す
るディストーションをそれぞれ補正することができる。
また、４つの光学部材からなる１つの補正光学部材を用
いて、外気温の変動に起因して発生するディストーショ
ン、大気圧の変動に起因して発生するディストーショ
ン、および露光エネルギーの吸収に起因して発生するデ
ィストーションをそれぞれ補正することもできる。
つの補正光学部材が２つの光学部材または３つの光学部
材からなる例、および２つの光学部材からなる１つの補
正光学部材を備えた例を説明している。しかしながら、
１つの補正光学部材を構成する光学部材の数および補正
光学部材の数について、本発明が上述の実施例および変
形例に限定されないことはいうまでもない。したがっ
て、それぞれ２つの光学部材からなる３つの補正光学部
材を用いて、外気温の変動に起因して発生するディスト
ーション、大気圧の変動に起因して発生するディストー
ション、および露光エネルギーの吸収に起因して発生す
るディストーションをそれぞれ補正することができる。
また、４つの光学部材からなる１つの補正光学部材を用
いて、外気温の変動に起因して発生するディストーショ
ン、大気圧の変動に起因して発生するディストーショ
ン、および露光エネルギーの吸収に起因して発生するデ
ィストーションをそれぞれ補正することもできる。
【００３２】
【効果】以上説明したように、本発明の投影露光装置で
は、特に外気温の変動や大気圧の変動や露光エネルギー
の吸収などに起因して発生する投影光学系のディストー
ションを簡素な機構で良好に随時補正することができ
る。その結果、本発明の投影露光装置では、複数のパタ
ーンを常に所望の重ね合わせ精度で投影露光することが
できる。
は、特に外気温の変動や大気圧の変動や露光エネルギー
の吸収などに起因して発生する投影光学系のディストー
ションを簡素な機構で良好に随時補正することができ
る。その結果、本発明の投影露光装置では、複数のパタ
ーンを常に所望の重ね合わせ精度で投影露光することが
できる。
【図１】本発明の実施例にかかる投影露光装置の構成を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
【図２】図１の補正光学部材１の構成を概略的に示す図
である。
である。
【図３】図２の補正光学部材１の作用を説明する図であ
って、（ａ）は２つの光学部材の間隔が小さい場合を、
（ｂ）は２つの光学部材の間隔が大きい場合をそれぞれ
示している。
って、（ａ）は２つの光学部材の間隔が小さい場合を、
（ｂ）は２つの光学部材の間隔が大きい場合をそれぞれ
示している。
【図４】本実施例の補正光学部材の第１変形例を示す図
である。
である。
【図５】本実施例の補正光学部材の第２変形例を示す図
である。
である。
ＩＳ 照明光学系 Ｍ マスク ＭＳ マスクステージ ＰＬ 投影光学系 ＡＳ 開口絞り Ｗ ウエハ ＷＳ ウエハステージ ＡＸ 光軸 １ 補正光学部材 ２〜５ 各光学部材
Claims (4)
- 【請求項１】 第１物体を照明するための照明光学系
と、該照明光学系によって照明された前記第１物体の像
を第２物体上に投影するための投影光学系とを備えた投
影露光装置において、 前記投影光学系は、対向する面が互いに相補的な曲面形
状を有する少なくとも２つの光学部材からなり且つ全体
として実質的に無屈折力の補正光学部材を備え、 前記補正光学部材を構成する少なくとも２つの光学部材
の対向する面の間隔を前記投影光学系の光軸に沿って変
化させることによって、前記投影光学系のディストーシ
ョンを補正することを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項２】 前記投影光学系の第１物体側の開口数
は、第２物体側の開口数よりも小さく、 前記補正光学部材は、前記投影光学系の内部においては
第１物体側に配置されていることを特徴とする請求項１
に記載の投影露光装置。 - 【請求項３】 前記補正光学部材は、第１物体側から順
に、第１光学部材と第２光学部材とからなり、 前記第１光学部材の第１物体側の面および前記第２光学
部材の第２物体側の面は前記光軸にほぼ垂直な平面状に
形成され、 前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学部材
の第１物体側の面とは互いに相補的な曲面形状を有し、 前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学部材
の第１物体側の面との間隔を変化させることによって、
前記投影光学系のディストーションを補正することを特
徴とする請求項１または２に記載の投影露光装置。 - 【請求項４】 前記補正光学部材は、第１物体側から順
に、第１光学部材と第２光学部材と第３光学部材とから
なり、 前記第１光学部材の第１物体側の面および前記第３光学
部材の第２物体側の面は前記光軸にほぼ垂直な平面状に
形成され、 前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学部材
の第１物体側の面とは互いに相補的な第１の曲面形状を
有し、 前記第２光学部材の第２物体側の面と前記第３光学部材
の第１物体側の面とは、互いに相補的で且つ前記第１の
曲面形状とは実質的に異なる第２の曲面形状を有し、 前記第１光学部材の第２物体側の面と前記第２光学部材
の第１物体側の面との間隔および前記第２光学部材の第
２物体側の面と前記第３光学部材の第１物体側の面との
間隔をそれぞれ変化させることによって、前記投影光学
系のディストーションを補正することを特徴とする請求
項１または２に記載の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8309975A JPH10142555A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8309975A JPH10142555A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10142555A true JPH10142555A (ja) | 1998-05-29 |
| JPH10142555A5 JPH10142555A5 (ja) | 2004-12-24 |
Family
ID=17999630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8309975A Pending JPH10142555A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10142555A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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