JPH101428A

JPH101428A - 歯磨組成物および歯磨

Info

Publication number: JPH101428A
Application number: JP15374396A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Nakagawa; 善典中川; Kinji Onoda; 金児小野田
Original assignee: SHIKEN KK
Current assignee: SHIKEN KK
Priority date: 1996-06-14
Filing date: 1996-06-14
Publication date: 1998-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】液状であっても半導体光触媒作用を発揮しや
すい歯磨組成物を提供する事。【解決手段】歯磨組成物中の酸化チタン（ＴｉＯ₂）
Ｎ型半導体をキサンタンガムにより分散させてある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ₂）Ｎ型半導体を分散剤により分散させてある歯磨組
成物あるいはその歯磨組成物を利用する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の歯磨組成物は、このような歯磨
組成物は、前記酸化チタン（ＴｉＯ₂）Ｎ型半導体によ
る半導体光触媒作用に基づき、歯垢を形成するグルコン
酸を分解する作用を利用し、う歯（虫歯）予防効果を発
揮する歯磨組成物として知られている。また、従来、こ
の種の歯磨組成物には、分散剤としてカルボキシメチル
セルロースナトリウム（ＣＭＣ−Ｎａ）を用いられてい
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、酸化チタン
（ＴｉＯ₂）Ｎ型半導体は、水中に分散しにくい微粒子
状のものであり、上述した従来の歯磨組成物によれば、
長期使用によっては、前記酸化チタン（ＴｉＯ₂）Ｎ型
半導体の粒子等、固形成分が次第に固液分離して沈殿し
てしまうような場合があった。このように粒子が沈殿す
る現象は、粘性の高いペースト状の歯磨組成物では問題
になりにくいのであるが、前記歯磨組成物の粘性が低い
ような場合に特に顕著に見られ、液状の歯磨組成物につ
いては、前記粒子が沈殿することにより前記半導体光触
媒作用が発揮できなくなり、虫歯予防効果が低下する、
粒子の凝集により、口腔内での使用感が著しく低下する
等の問題点があった。そのため、液状の前記歯磨組成
物は長期使用に適さず、粘性の高いペースト状のものと
して使用せざるを得ず、例えば、ポンプ式で歯磨組成物
を供給する容器で半導体光触媒作用を発揮する歯磨組成
物を利用することが出来ないという現状があった。

【０００４】従って、本発明の目的は、上記欠点に鑑
み、液状であっても半導体光触媒作用を発揮しやすい歯
磨組成物を提供する事にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、酸化チタ
ン（ＴｉＯ₂）を含む固形成分を歯磨組成物中に分散さ
せる場合に、キサンタンガムを用いると、長期にわたっ
て分散性良く、かつ、液状歯磨として利用可能でかつ適
度な流動性を示す粘度の歯磨組成物を調製することがで
きるという新知見を得た。本発明は、この新知見による
ものであって、〔構成１〕前記目的を達成するための本発明の歯磨組成
物の特徴手段は、酸化チタン（ＴｉＯ₂）Ｎ型半導体を
分散剤により分散させてある歯磨組成物において、前記
分散剤がキサンタンガムとすることにあり、シリカを主
成分とする研磨剤を含有するとともに、その含有量が、
全体の０．１ｗｔ％〜５ｗｔ％であることが望ましく、
前記酸化チタン（ＴｉＯ₂）含有量が全体の０．０１ｗ
ｔ％〜５ｗｔ％であるとともに、キサンタンガム含有量
が全体の０．５ｗｔ％〜５ｗｔ％であれば好ましく粘度
は２００００００ｃｐｓ以下であればさらに好ましい。

【０００６】〔作用効果〕つまり、本発明の歯磨組成物
は、分散剤としてキサンタンガムを含有しているから、
一般的に水中への分散性に乏しいことが知られている酸
化チタンを含有しているにもかかわらず、前記酸化チタ
ンを良好に分散させることができ、固液分離しにくく、
長期にわたって酸化チタンを歯磨組成物中に分散させて
おくことができるようになった。そこで、酸化チタンの
光触媒反応活性を維持させることができしかも歯磨剤と
して適度な流動性を有する液状の歯磨組成物を調製する
ことができ、虫歯予防効果の高い歯磨組成物を、粘度の
高いペースト状のものとしてだけでなく、流動性の高い
液状のものとしても提供することができるようになっ
た。そのため、前記歯磨組成物をポンプで供給可能にす
る歯磨としても提供することができるようになり多様性
に富む形態での歯磨組成物利用が可能となる。尚、研磨
剤成分としてはシリカを全体の０．１ｗｔ％〜５ｗｔ％
含有させておくことにより研磨力を発揮させながらも、
酸化チタンの分散性にも悪影響を与えにくく、かつ、研
磨剤成分自体も固液分離しにくいので、固形成分の分散
性を高く維持できる。前記酸化チタンは、含有量が全体
の０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％であるときに高い虫歯予防
性能を発揮するとともに、凝集しやすくはなりにくく、
その酸化チタン等の固形成分にあわせてキサンタンガム
を全体の０．５ｗｔ％〜５ｗｔ％含有させてあればポン
プ供給容易な２００万ｃｐｓ以下の粘度に設定しやすい
ので好ましい。

【０００７】〔構成２〕本発明の歯磨の特徴構成は、図
１〜３を参照すると、容器２に対して出退自在なノズル
４を設け、前記ノズル４の押し込み操作により、内部に
収容した流体を容器２外に吐出可能にするポンプ機構５
を設け、その容器２に前記歯磨組成物３を収容したこと
にある。

【０００８】尚、図１〜３は単に参酌のみに利用したも
のであって、本発明は図面に限定されるものではない。〔作用効果〕つまり、先の歯磨組成物を容器内に収容す
るとともに、その容器に前記ノズルの押し込み操作によ
り、内部に収容した流体を容器外に吐出可能にするポン
プ機構を設けてあり、かつ、前記歯磨組成物はポンプ機
構による押し出し容易な２００万ｃｐｓ以下の粘度に設
定容易であるとともに、その設定によっても虫歯予防の
機能を損ないにくく、かつ、固液分離しにくく分散性の
高い状態で流動性の高いものとできるから、前記容器内
に収容した歯磨組成物を容易に歯磨に供することがで
き、前記歯磨組成物の性能を損なうことなく利便性良く
利用できるようになる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１〜３に示すように、本発明の
歯磨１は、樹脂製の容器２内に歯磨組成物３を収容して
構成してある。前記歯磨１は有底筒状の容器２の口部２
ａに、容器２に対して出退自在なノズル４を設け、前記
ノズル４の押し込み操作により、内部に収容した流体を
容器外に吐出可能にするポンプ機構５を設けてある。

【００１０】つまり、前記歯磨は、図３〜５に示すよう
に、歯磨組成物３をノズル空間７に収容した状態でノズ
ル４を押下すれば、逆止弁機構６が働くとともに、押下
管８により圧力を受け、前記歯磨組成物を、前記ポンプ
機構５の狭隙を通して吐出口９から前記歯磨組成物Ａを
吐出することができる（図４参照）とともに、押下され
たノズル４は逆止弁機構６のバネ力によって押し上げら
れるとともに、前記押下管８の上昇に伴ってキャップ１
０と押下管８との間を通じて前記容器２内にエア流入を
行うとともに、前記容器２内から前記ノズル空間７に歯
磨組成物３を吸引する（図５参照）構成になっている。
尚、通常時は前記押下管８とキャップ１０との間は気密
に保たれている（図３参照）。この容器の歯磨組成物押
し出し量は。一回あたり０．２１ｍｌであった（管径
３．７ｍｍ）。

【００１１】前記歯磨組成物は、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ₂）Ｎ型半導体をキサンタンガムにより分散させてあ
る歯磨組成物であり、例えば、表１に示す組成物を用い
る。

【００１２】

【表１】酸化チタン（日本アエロジルＰ−２５）０．１（％）（Ｎ型半導体）シリカ（デグサＳｉｄｅｎｔ９）５．０（研磨剤）グリチルリチン酸ジカリウム０．２フッ化ナトリウム０．１１イソプロピルメチルフェノール（大阪化成ビオゾール）０．０５グリセリン２５．０キサンタンガム１．５（分散剤）ラウリル硫酸ナトリウム１．５エタノール１．０塩化ナトリウム１．０香料０．４精製水残部

【００１３】このような歯磨組成物は、冷暗所、あるい
は、室温下で約６ヵ月放置保存したものの固液分離する
ことなく、かつ、前記容器からのポンプ供給に支障をき
たさない良好な安定性を示すことが分かった。尚、この
歯磨組成物について、４０００ｒｐｍの高速で２０分の
遠心分離テストを行ったが、固液分離は見られなかっ
た。

【００１４】

【実施例】先の歯磨組成物に替え、キサンタンガム含有
量の異なる歯磨組成物を調製し、その安定性及び粘度を
調べた。

【００１５】

【表２】酸化チタン（日本アエロジルＰ−２５）０．１（％）（Ｎ型半導体）シリカ（デグサＳｉｄｅｎｔ９）０．３（研磨剤）グリチルリチン酸ジカリウム０．２イソプロピルメチルフェノール（大阪化成ビオゾール）０．０５グリセリン３０．０キサンタンガム２．０（分散剤）ラウリル硫酸ナトリウム１．５エタノール１．０塩化ナトリウム１．０香料０．４精製水残部

【００１６】この歯磨組成物についても、室温及び冷暗
所で６カ月間保存したが、酸化チタンを含む固形成分の
凝集、固液分離は見られず、かつ、前記容器からのポン
プ供給に支障をきたさない良好な安定性を示すことが分
かった。

【００１７】〔比較例〕先の歯磨組成物に替え、キサン
タンガムをＣＭＣ−Ｎａに変更した歯磨組成物を調製
し、その安定性を調べた。その結果、表３のようにな
り、ＣＭＣ−Ｎａを利用した場合には、比較的高濃度に
加えてあったとしても数日のうちには固液分離し、長期
使用に耐えにくいことがわかった。一方本発明の歯磨組
成物は、６カ月にわたる長期の使用にも十分耐えること
がわかる。

【００１８】

【表３】

【００１９】また、表１の組成物のうちキサンタンガム
の含有量を種々に変更したものを作成して粘度、押し出
し易さ（ポンプ供給の容易性）、保形性、固液分離性を
調べたところ表４のようになった。尚、押し出しとある
ものは先の歯磨の容器から、ポンプ供給を行う際の供給
しやすさに対する評価であって、Ａは、容易に供給でき
る状態、Ｂは、供給できるが、供給量が一定しない状
態、Ｃは、供給量が一定しないのみならず、ノズルの動
きが緩慢になる状態を示し、保形性とあるのは、歯ブラ
シを用いて使用する場合に、垂れることなく適量を歯ブ
ラシ上に供給できるかどうかに関する評価であってＡ
は、垂れることなく供給できるもの、Ｂは、歯ブラシ上
から流動してしまうものを示し、固液分離とあるもの
は、放置後固液分離が見られるか否かを示すものであ
る。

【００２０】

【表４】

【００２１】表４より、キサンタンガムの含有量を０．
５％以上としておけば、酸化チタン等固形成分の分離が
起きにくく、かつ、キサンタンガムの含有量を５％以下
としておくことでポンプ供給容易な粘度に調製できるこ
とがわかり、さらに、保形性等、使用上からは、１〜２
％程度が特に好ましいことが分かる。また、粘度と、押
し出し易さとの間には一義的な関係はなく、例えば、酸
化チタンや、キサンタンガムを含まない歯磨組成物であ
れば、固形成分の種類・量によって６３万ｃｐｓ程度の
粘度でポンプ供給が困難な状態になることもあるが、上
述の組成物においては、粘度が２００万ｃｐｓ程度以下
であれば、ポンプ供給が可能であると予想でき、より好
ましくは、保形性等、使用上から１２万〜７０万ｃｐｓ
程度が特に好ましいと考えられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】歯磨の全体斜視図

【図２】ポンプ機構の分解斜視図

【図３】ポンプ機構の縦断側面図

【図４】ポンプ機構の作用説明図

【図５】ポンプ機構の作用説明図

【符号の説明】

２容器３歯磨組成物４ノズル５ポンプ機構

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸化チタン（ＴｉＯ₂）Ｎ型半導体を分
散剤により分散させてある歯磨組成物であって、前記分
散剤がキサンタンガムである歯磨組成物。
【請求項２】シリカを主成分とする研磨剤を含有する
とともに、その含有量が、全体の０．１ｗｔ％〜５ｗｔ
％である請求項１に記載の歯磨組成物。
【請求項３】前記酸化チタン（ＴｉＯ₂）含有量が全
体の０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％であるとともに、キサン
タンガム含有量が全体の０．５ｗｔ％〜５ｗｔ％である
請求項１〜２のいずれかに記載の歯磨組成物。
【請求項４】粘度が２００００００ｃｐｓ以下である
請求項１〜３のいずれかに記載の歯磨組成物。
【請求項５】容器に対して出退自在なノズルを設け、
前記ノズルの押し込み操作により、内部に収容した流体
を容器外に吐出可能にするポンプ機構を設け、その容器
に請求項１〜４記載の歯磨組成物を収容してある歯磨。