JPH1014876A - 眼屈折力測定装置 - Google Patents
眼屈折力測定装置Info
- Publication number
- JPH1014876A JPH1014876A JP8172716A JP17271696A JPH1014876A JP H1014876 A JPH1014876 A JP H1014876A JP 8172716 A JP8172716 A JP 8172716A JP 17271696 A JP17271696 A JP 17271696A JP H1014876 A JPH1014876 A JP H1014876A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- eye
- light beam
- optical system
- fundus
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Eye Examination Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】眼底の血管や疾患等に起因する誤測定を防止す
ることができる眼屈折力測定装置を提供する。 【解決手段】パターン光束投影光学系４０により被検眼
Ｅの屈折力を測定するためのリング状のパターン光束を
その光路中に設けた光軸偏向プリズム４９により光軸Ｏ
１を偏向させた状態で眼底Ｅｒに投影し、受光光学系５
０により眼底Ｅｒで反射された偏向状態の反射光束に基
づくパターン像を光軸偏向プリズム４９によって光軸Ｏ
１上に復帰偏向させた後に受光素子Ｓに受光させて被検
眼Ｅの屈折力を測定する。
ることができる眼屈折力測定装置を提供する。 【解決手段】パターン光束投影光学系４０により被検眼
Ｅの屈折力を測定するためのリング状のパターン光束を
その光路中に設けた光軸偏向プリズム４９により光軸Ｏ
１を偏向させた状態で眼底Ｅｒに投影し、受光光学系５
０により眼底Ｅｒで反射された偏向状態の反射光束に基
づくパターン像を光軸偏向プリズム４９によって光軸Ｏ
１上に復帰偏向させた後に受光素子Ｓに受光させて被検
眼Ｅの屈折力を測定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被検眼を固視・雲
霧させるための視標を眼底に投影する視標投影光学系
と、被検眼の前眼部を観察する観察光学系と、被検眼の
屈折力を測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に
投影するパターン光束投影光学系と、眼底から反射され
た光束を受光素子に受光させる受光光学系とを備えた眼
屈折力測定装置に関する。
霧させるための視標を眼底に投影する視標投影光学系
と、被検眼の前眼部を観察する観察光学系と、被検眼の
屈折力を測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に
投影するパターン光束投影光学系と、眼底から反射され
た光束を受光素子に受光させる受光光学系とを備えた眼
屈折力測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、パターン光束投影光学系によ
り被検眼の屈折力を測定するためのリング状のパターン
光束を被検眼の眼底に投影し、受光光学系により眼底で
反射された反射光束に基づくパターン像を受光素子に受
光させて被検眼の屈折力を測定する眼屈折力測定装置が
知られている。
り被検眼の屈折力を測定するためのリング状のパターン
光束を被検眼の眼底に投影し、受光光学系により眼底で
反射された反射光束に基づくパターン像を受光素子に受
光させて被検眼の屈折力を測定する眼屈折力測定装置が
知られている。
【０００３】このような眼屈折力測定装置では、図６に
示すように、パターン像１´は、被検眼が正視眼（±０
ｄｉｏｐｔｅｒ）であった場合には受光素子上に略真
円なリング状で且つ所定の大きさのパターン像として結
像され、被検眼が遠視であった場合には正視眼のときよ
りも大きく結像され、被検眼が近視であった場合には正
視眼のときよりも小さく結像される。
示すように、パターン像１´は、被検眼が正視眼（±０
ｄｉｏｐｔｅｒ）であった場合には受光素子上に略真
円なリング状で且つ所定の大きさのパターン像として結
像され、被検眼が遠視であった場合には正視眼のときよ
りも大きく結像され、被検眼が近視であった場合には正
視眼のときよりも小さく結像される。
【０００４】そして、受光素子上に結像されたパターン
像１´の像幅中心位置Ｐ１，Ｐ２をピーク位置を検出
し、この検出されたピーク位置に基づいてパターン像１
´の中心間距離Ｌ（Ｐ１，Ｐ２間距離）を算出すること
で屈折力等を求める。
像１´の像幅中心位置Ｐ１，Ｐ２をピーク位置を検出
し、この検出されたピーク位置に基づいてパターン像１
´の中心間距離Ｌ（Ｐ１，Ｐ２間距離）を算出すること
で屈折力等を求める。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
眼屈折力測定装置にあっては、例えば、図７に示すよう
に、被検眼の眼底に投影されたパターン光束１上の中心
間距離測定位置上に血管や疾患（傷）２等が存在してい
た場合、その疾患２に相当する部分がピーク位置として
得られ、実際の像幅中心位置Ｐ１とはズレた像幅中心位
置Ｐ１´を検出して乱視眼であると誤測定してしまうと
いう問題があった。
眼屈折力測定装置にあっては、例えば、図７に示すよう
に、被検眼の眼底に投影されたパターン光束１上の中心
間距離測定位置上に血管や疾患（傷）２等が存在してい
た場合、その疾患２に相当する部分がピーク位置として
得られ、実際の像幅中心位置Ｐ１とはズレた像幅中心位
置Ｐ１´を検出して乱視眼であると誤測定してしまうと
いう問題があった。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あって、眼底の血管や疾患等に起因する誤測定を防止す
ることができる眼屈折力測定装置を提供することを目的
とする。
あって、眼底の血管や疾患等に起因する誤測定を防止す
ることができる眼屈折力測定装置を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】その目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明は、被検眼を固視・雲霧させ
るための視標を眼底に投影する視標投影光学系と、被検
眼の前眼部を観察する観察光学系と、被検眼の屈折力を
測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に投影する
パターン光束投影光学系と、眼底から反射された光束を
受光素子に受光させる受光光学系とを備えた眼屈折力測
定装置において、前記パターン光束投影光学系と前記受
光光学系とは光学系の一部を共用しており、前記パター
ン光束投影光学系の光軸に対してパターン光束を偏向し
て眼底に投影させるための偏向部材が前記各光学系の共
用部分に挿入されることを要旨とする。
め、請求項１に記載の発明は、被検眼を固視・雲霧させ
るための視標を眼底に投影する視標投影光学系と、被検
眼の前眼部を観察する観察光学系と、被検眼の屈折力を
測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に投影する
パターン光束投影光学系と、眼底から反射された光束を
受光素子に受光させる受光光学系とを備えた眼屈折力測
定装置において、前記パターン光束投影光学系と前記受
光光学系とは光学系の一部を共用しており、前記パター
ン光束投影光学系の光軸に対してパターン光束を偏向し
て眼底に投影させるための偏向部材が前記各光学系の共
用部分に挿入されることを要旨とする。
【０００８】請求項２に記載の発明は、前記偏向部材
は、被検眼の瞳とほぼ共役な位置に挿入されることを要
旨とする。
は、被検眼の瞳とほぼ共役な位置に挿入されることを要
旨とする。
【０００９】請求項３に記載の発明は、前記偏向部材
は、前記パターン投影光学系の光軸を中心として回転可
能であることを要旨とする。
は、前記パターン投影光学系の光軸を中心として回転可
能であることを要旨とする。
【００１０】また、請求項４に記載の発明は、被検眼の
屈折力を測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に
投影するパターン光束投影光学系と、眼底から反射され
たパターン光束を受光素子に受光させる受光光学系とを
備えた眼屈折力測定装置において、前記パターン光束投
影光学系の光路中に設けられてその光軸に対してパター
ン光束を偏向して眼底に投影する第一偏向部材と、前記
受光光学系の光路中に設けられてその光軸上に眼底から
反射されたパターン反射光束を偏向させる第二偏向部材
とを備えていることを要旨とする。
屈折力を測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に
投影するパターン光束投影光学系と、眼底から反射され
たパターン光束を受光素子に受光させる受光光学系とを
備えた眼屈折力測定装置において、前記パターン光束投
影光学系の光路中に設けられてその光軸に対してパター
ン光束を偏向して眼底に投影する第一偏向部材と、前記
受光光学系の光路中に設けられてその光軸上に眼底から
反射されたパターン反射光束を偏向させる第二偏向部材
とを備えていることを要旨とする。
【００１１】請求項５に記載の発明は、前記各偏向部材
は、被検眼の瞳とほぼ共役な位置に挿入されることを要
旨とする。
は、被検眼の瞳とほぼ共役な位置に挿入されることを要
旨とする。
【００１２】請求項６に記載の発明は、前記各偏向部材
は、各光軸を中心として同期して回転可能であることを
ことを要旨とする。
は、各光軸を中心として同期して回転可能であることを
ことを要旨とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の眼屈折力測定装置
の実施の形態を図面に基づいて説明する。
の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１４】図１は本発明の眼屈折力測定装置に適用さ
れた光学系の説明図である。この図１において、１０は
被検眼Ｅを固視・雲霧させるために視標を眼底Ｅｒに投
影する視標投影光学系、２０は被検眼Ｅの前眼部Ｅｆを
観察する観察光学系、３０は照準スケールを受光素子Ｓ
に投影するスケール投影光学系、４０は被検眼Ｅの屈折
力を測定するためのパターン光束を眼底Ｅｒに投影する
パターン光束投影光学系、５０は眼底Ｅｒから反射され
た光束を受光素子Ｓに受光させる受光光学系である。
れた光学系の説明図である。この図１において、１０は
被検眼Ｅを固視・雲霧させるために視標を眼底Ｅｒに投
影する視標投影光学系、２０は被検眼Ｅの前眼部Ｅｆを
観察する観察光学系、３０は照準スケールを受光素子Ｓ
に投影するスケール投影光学系、４０は被検眼Ｅの屈折
力を測定するためのパターン光束を眼底Ｅｒに投影する
パターン光束投影光学系、５０は眼底Ｅｒから反射され
た光束を受光素子Ｓに受光させる受光光学系である。
【００１５】視標投影光学系１０は、光源１１、コリメ
ータレンズ１２、視標板１３、リレーレンズ１４、ミラ
ー１５、リレーレンズ１６、ダイクロイックミラー１
７、ダイクロイックミラー１８、対物レンズ１９を備え
ている。
ータレンズ１２、視標板１３、リレーレンズ１４、ミラ
ー１５、リレーレンズ１６、ダイクロイックミラー１
７、ダイクロイックミラー１８、対物レンズ１９を備え
ている。
【００１６】光源１１から出射された可視光は、コリメ
ータレンズ１２によって平行光束とされた後、視標板１
３を透過する。視標板１３には被検眼Ｅを固視・雲霧さ
せるためのターゲットが設けられている。そのターゲッ
ト光束は、リレーレンズ１４を透過してミラー１５に反
射され、リレーレンズ１６を経てダイクロイックミラー
１７に反射されて装置本体の主光軸Ｏ１に導かれ、ダイ
クロイックミラー１８を透過した後、対物レンズ１９を
経て被検眼Ｅに導かれる。
ータレンズ１２によって平行光束とされた後、視標板１
３を透過する。視標板１３には被検眼Ｅを固視・雲霧さ
せるためのターゲットが設けられている。そのターゲッ
ト光束は、リレーレンズ１４を透過してミラー１５に反
射され、リレーレンズ１６を経てダイクロイックミラー
１７に反射されて装置本体の主光軸Ｏ１に導かれ、ダイ
クロイックミラー１８を透過した後、対物レンズ１９を
経て被検眼Ｅに導かれる。
【００１７】尚、光源１１，コリメータレンズ１２，視
標板１３は、被検眼Ｅを固視・雲霧させるために、視標
投影光学系１０の光軸Ｏ２に沿って移動可能となるよう
にユニット化されている。
標板１３は、被検眼Ｅを固視・雲霧させるために、視標
投影光学系１０の光軸Ｏ２に沿って移動可能となるよう
にユニット化されている。
【００１８】観察光学系２０は、光源２１、対物レンズ
１９、ダイクロイックミラー１８、リレーレンズ２２、
絞り２３、ミラー２４、リレーレンズ２５、ダイクロイ
ックミラー２６、結像レンズ２７、受光素子Ｓを有す
る。
１９、ダイクロイックミラー１８、リレーレンズ２２、
絞り２３、ミラー２４、リレーレンズ２５、ダイクロイ
ックミラー２６、結像レンズ２７、受光素子Ｓを有す
る。
【００１９】光源２１から出射された光束は、被検眼Ｅ
の前眼部Ｅｆをダイレクトに照明する。前眼部Ｅｆに反
射された光束は、対物レンズ１９を経てダイクロイック
ミラー１８に反射され、リレーレンズ２２を透過すると
同時に絞り２３を通過し、ミラー２４に反射された後、
リレーレンズ２５及びダイクロイックミラー２６を透過
して結像レンズ２７により受光素子Ｓに結像される。
の前眼部Ｅｆをダイレクトに照明する。前眼部Ｅｆに反
射された光束は、対物レンズ１９を経てダイクロイック
ミラー１８に反射され、リレーレンズ２２を透過すると
同時に絞り２３を通過し、ミラー２４に反射された後、
リレーレンズ２５及びダイクロイックミラー２６を透過
して結像レンズ２７により受光素子Ｓに結像される。
【００２０】スケール投影光学系３０は、光源３１、照
準スケールを設けたコリメータレンズ３２、リレーレン
ズ３３、ダイクロイックミラー１８、リレーレンズ２
２、絞り２３、ミラー２４、リレーレンズ２５、ダイク
ロイックミラー２６、結像レンズ２７、受光素子Ｓを有
する。
準スケールを設けたコリメータレンズ３２、リレーレン
ズ３３、ダイクロイックミラー１８、リレーレンズ２
２、絞り２３、ミラー２４、リレーレンズ２５、ダイク
ロイックミラー２６、結像レンズ２７、受光素子Ｓを有
する。
【００２１】光源３１から出射された光束は、コリメー
タレンズ３２を透過する際に照準スケール光束（平行光
束）とされた後、リレーレンズ３３，ダイクロイックミ
ラー１８，リレーレンズ２２，絞り２３を経てミラー２
４に反射され、リレーレンズ２５，ダイクロイックミラ
ー２６を経て結像レンズ２７によって受光素子Ｓに結像
される。
タレンズ３２を透過する際に照準スケール光束（平行光
束）とされた後、リレーレンズ３３，ダイクロイックミ
ラー１８，リレーレンズ２２，絞り２３を経てミラー２
４に反射され、リレーレンズ２５，ダイクロイックミラ
ー２６を経て結像レンズ２７によって受光素子Ｓに結像
される。
【００２２】受光素子Ｓには、例えば、２次元のエリア
ＣＣＤ等が用いられ、図示しないモニタに観察光学系２
０によって導かれた前眼部像が表示されると共に照準ス
ケールに基づく像が表示される。検者は、このモニタに
表示された前眼部像が照準スケール像に近付くように被
検眼Ｅと装置本体との上下左右方向のアライメント操作
を行う。また、前後方向のアライメント操作を行う。
尚、アライメント操作終了後の屈折力測定時には、光源
２１，３１を消灯するか、ダイクロイックミラー１８か
らダイクロイックミラー２６に至る光路中にシャッター
等を設けて受光素子Ｓへの受光が阻止される。
ＣＣＤ等が用いられ、図示しないモニタに観察光学系２
０によって導かれた前眼部像が表示されると共に照準ス
ケールに基づく像が表示される。検者は、このモニタに
表示された前眼部像が照準スケール像に近付くように被
検眼Ｅと装置本体との上下左右方向のアライメント操作
を行う。また、前後方向のアライメント操作を行う。
尚、アライメント操作終了後の屈折力測定時には、光源
２１，３１を消灯するか、ダイクロイックミラー１８か
らダイクロイックミラー２６に至る光路中にシャッター
等を設けて受光素子Ｓへの受光が阻止される。
【００２３】パターン光束投影光学系４０は、光源４
１、コリメータレンズ４２、円錐プリズム４３、リング
指標板４４、リレーレンズ４５、ミラー４６、リレーレ
ンズ４７、穴空きプリズム４８、偏向部材としての光軸
偏向プリズム４９、ダイクロイックミラー１７、ダイク
ロイックミラー１８、対物レンズ１９を備えている。な
お、光源４１とリング指標板４４とは光学的に共役であ
り、リング指標板４４と被検眼Ｅの瞳孔Ｅｐとは光学的
に共役な位置に配置されている。
１、コリメータレンズ４２、円錐プリズム４３、リング
指標板４４、リレーレンズ４５、ミラー４６、リレーレ
ンズ４７、穴空きプリズム４８、偏向部材としての光軸
偏向プリズム４９、ダイクロイックミラー１７、ダイク
ロイックミラー１８、対物レンズ１９を備えている。な
お、光源４１とリング指標板４４とは光学的に共役であ
り、リング指標板４４と被検眼Ｅの瞳孔Ｅｐとは光学的
に共役な位置に配置されている。
【００２４】光源４１から出射された光束は、コリメー
タレンズ４２によって平行光束とされ、円錐プリズム４
３を透過してリング指標板４４に導かれ、このリング指
標板４４に形成されたリング状のパターン部分を透過し
てパターン光束となる。パターン光束は、リレーレンズ
４５を透過した後、ミラー４６に反射されリレーレンズ
４７を透過して穴空きプリズム４８によって主光軸Ｏ１
に沿って反射され、光軸偏向プリズム４９によって主光
軸Ｏ１とはズレた斜め状態に偏向された状態でダイクロ
イックミラー１７，１８を透過した後、対物レンズ１９
により眼底Ｅｒに結像される。
タレンズ４２によって平行光束とされ、円錐プリズム４
３を透過してリング指標板４４に導かれ、このリング指
標板４４に形成されたリング状のパターン部分を透過し
てパターン光束となる。パターン光束は、リレーレンズ
４５を透過した後、ミラー４６に反射されリレーレンズ
４７を透過して穴空きプリズム４８によって主光軸Ｏ１
に沿って反射され、光軸偏向プリズム４９によって主光
軸Ｏ１とはズレた斜め状態に偏向された状態でダイクロ
イックミラー１７，１８を透過した後、対物レンズ１９
により眼底Ｅｒに結像される。
【００２５】光軸偏向プリズム４９は、主光軸Ｏ１を軸
線として高速回転（矢印参照）されており、この高速回
転により眼底Ｅｒに投影されるパターン光束は、図２に
示すように、主光軸Ｏ１を中心として偏心状態で周回す
る。
線として高速回転（矢印参照）されており、この高速回
転により眼底Ｅｒに投影されるパターン光束は、図２に
示すように、主光軸Ｏ１を中心として偏心状態で周回す
る。
【００２６】受光光学系５０は、対物レンズ１９、ダイ
クロイックミラー１８，１７、光軸偏向プリズム４９、
穴空きプリズム４８の穴部４８ａ、リレーレンズ５１、
ミラー５２、リレーレンズ５３、ミラー５４、合焦レン
ズ５５、ミラー５６、ダイクロイックミラー２６、結像
レンズ２７、受光素子Ｓを有する。
クロイックミラー１８，１７、光軸偏向プリズム４９、
穴空きプリズム４８の穴部４８ａ、リレーレンズ５１、
ミラー５２、リレーレンズ５３、ミラー５４、合焦レン
ズ５５、ミラー５６、ダイクロイックミラー２６、結像
レンズ２７、受光素子Ｓを有する。
【００２７】尚、合焦レンズ５５は、光源４１，コリメ
ータレンズ４２，円錐プリズム４３，リング指標板４４
と一体に各光学系４０，５０の光軸Ｏ３，Ｏ４に沿って
移動可能となっている。
ータレンズ４２，円錐プリズム４３，リング指標板４４
と一体に各光学系４０，５０の光軸Ｏ３，Ｏ４に沿って
移動可能となっている。
【００２８】パターン光束投影光学系４０によって眼底
Ｅｒに導かれ、この眼底Ｅｒで反射された反射光束は、
対物レンズ１９に集光され、ダイクロイックミラー１
８，１７を透過して光軸偏向プリズム４９に導かれ、光
束逆進の原理により光軸偏向プリズム４９を透過した際
には主光軸Ｏ１を中心とした同じ部分から穴空きプリズ
ム４８の穴部４８ａへと導き、この穴部４８ａを通過す
る。
Ｅｒに導かれ、この眼底Ｅｒで反射された反射光束は、
対物レンズ１９に集光され、ダイクロイックミラー１
８，１７を透過して光軸偏向プリズム４９に導かれ、光
束逆進の原理により光軸偏向プリズム４９を透過した際
には主光軸Ｏ１を中心とした同じ部分から穴空きプリズ
ム４８の穴部４８ａへと導き、この穴部４８ａを通過す
る。
【００２９】穴部４８ａを通過したパターン反射光束
は、リレーレンズ５１を透過してミラー５２に反射さ
れ、リレーレンズ５３を透過してミラー５４に反射さ
れ、合焦レンズ５５を透過してミラー５６並びにダイク
ロイックミラー２６に反射され、結像レンズ２７によっ
て受光素子Ｓにパターン像が結像される。
は、リレーレンズ５１を透過してミラー５２に反射さ
れ、リレーレンズ５３を透過してミラー５４に反射さ
れ、合焦レンズ５５を透過してミラー５６並びにダイク
ロイックミラー２６に反射され、結像レンズ２７によっ
て受光素子Ｓにパターン像が結像される。
【００３０】上記の構成においては、先ず、各光源１
１，２１，３１を点灯させて被検眼Ｅを固視させると共
に被検眼Ｅと装置本体とのアライメント操作を行い、ア
ライメントが完了した時点で各光源１１，２１，３１を
消灯すると共に光源４１を点灯する。
１，２１，３１を点灯させて被検眼Ｅを固視させると共
に被検眼Ｅと装置本体とのアライメント操作を行い、ア
ライメントが完了した時点で各光源１１，２１，３１を
消灯すると共に光源４１を点灯する。
【００３１】光源４１から出射された照明光束は、リン
グ指標板４４を透過することによりリング状のパターン
光束となり、光軸偏向プリズム４９へと導かれる。
グ指標板４４を透過することによりリング状のパターン
光束となり、光軸偏向プリズム４９へと導かれる。
【００３２】光軸偏向プリズム４９は、図示しない高速
回転装置によって光軸Ｏ１を軸線として高速回転してお
り、光軸Ｏ１から偏向した状態（図２参照）で眼底Ｅｒ
にパターン像４４´を結像させる。
回転装置によって光軸Ｏ１を軸線として高速回転してお
り、光軸Ｏ１から偏向した状態（図２参照）で眼底Ｅｒ
にパターン像４４´を結像させる。
【００３３】眼底Ｅｒで反射された反射光束は、光軸偏
向プリズム４９へと導かれ、図３に示すように、光束逆
進の原理により再び光軸Ｏ１を中心としたパターン像４
４″として受光素子Ｓに結像される。
向プリズム４９へと導かれ、図３に示すように、光束逆
進の原理により再び光軸Ｏ１を中心としたパターン像４
４″として受光素子Ｓに結像される。
【００３４】検者が図示しない測定実行スイッチによ
り、眼底Ｅｒに投影された周回中の任意の位置で結像さ
れたパターン像４４´に基づく受光素子Ｓ上でのパター
ン像４４″をフレームメモリ等の記憶媒体に複数記憶さ
せる。
り、眼底Ｅｒに投影された周回中の任意の位置で結像さ
れたパターン像４４´に基づく受光素子Ｓ上でのパター
ン像４４″をフレームメモリ等の記憶媒体に複数記憶さ
せる。
【００３５】例えば、図４（Ａ）〜（Ｆ）に示すよう
に、眼底Ｅｒ上において光軸Ｏ１からリング中心Ｏ１´
がズレたパターン像４４´に対応したものを受光素子Ｓ
上でパターン像４４″として記憶媒体に記憶した場合、
図４（Ａ），（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ）に図示した状態で
は、その検出されるピーク位置Ｑ１，Ｑ２は実際の像幅
中心位置と一致しているが、図４（Ｂ），（Ｃ）に図示
した状態では疾患２の影響によりピーク位置Ｑ３，Ｑ４
が実際の像幅中心位置からズレた位置にある。
に、眼底Ｅｒ上において光軸Ｏ１からリング中心Ｏ１´
がズレたパターン像４４´に対応したものを受光素子Ｓ
上でパターン像４４″として記憶媒体に記憶した場合、
図４（Ａ），（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ）に図示した状態で
は、その検出されるピーク位置Ｑ１，Ｑ２は実際の像幅
中心位置と一致しているが、図４（Ｂ），（Ｃ）に図示
した状態では疾患２の影響によりピーク位置Ｑ３，Ｑ４
が実際の像幅中心位置からズレた位置にある。
【００３６】これらのピーク位置Ｑ１，Ｑ３，Ｑ４を記
憶回数とで平均化することで、図３のグラフに示すよう
に、実際の像幅中心位置に接近したピーク位置Ｑ１´を
算出することができ、このピーク位置Ｑ１´とピーク位
置Ｑ２の位置情報に基づいて幅中心間距離を算出するこ
とで眼屈折力を測定（測定方法は公知であるため省略す
る。）することができる。
憶回数とで平均化することで、図３のグラフに示すよう
に、実際の像幅中心位置に接近したピーク位置Ｑ１´を
算出することができ、このピーク位置Ｑ１´とピーク位
置Ｑ２の位置情報に基づいて幅中心間距離を算出するこ
とで眼屈折力を測定（測定方法は公知であるため省略す
る。）することができる。
【００３７】ところで、上記実施の形態１では、偏向部
材として光軸偏向プリズム４９を用いたが、例えば、図
５（Ａ）に示すように、独立及び同期回転可能な２つの
プリズム４９ａ，４９ｂを有するロータリプリズム４９
´を偏向部材として用い、例えば、図５（Ｂ）に示すよ
うに、一方のプリズム４９ｂを光軸Ｏ１を軸線として回
転させた状態でロータリプリズム４９´全体を光軸Ｏ１
を軸線として回転してもよい。
材として光軸偏向プリズム４９を用いたが、例えば、図
５（Ａ）に示すように、独立及び同期回転可能な２つの
プリズム４９ａ，４９ｂを有するロータリプリズム４９
´を偏向部材として用い、例えば、図５（Ｂ）に示すよ
うに、一方のプリズム４９ｂを光軸Ｏ１を軸線として回
転させた状態でロータリプリズム４９´全体を光軸Ｏ１
を軸線として回転してもよい。
【００３８】この際、プリズム４９ａ，４９ｂの独立し
た回転量によって光軸Ｏ１に対する出射角度のズレを調
整変更することができるため、光軸偏向プリズム４９を
用いた場合よりも一層適合範囲の広いものとすることが
できる。
た回転量によって光軸Ｏ１に対する出射角度のズレを調
整変更することができるため、光軸偏向プリズム４９を
用いた場合よりも一層適合範囲の広いものとすることが
できる。
【００３９】このように、本発明の実施の形態によれ
ば、パターン像４４´の周回軌跡上において疾患２に影
響され得る範囲は影響されない範囲に比べて極僅かであ
る。すなわち、例示した疾患２の場合であれば図４
（Ｂ），（Ｃ）に示した範囲の軌跡上でり、その他の範
囲は正常眼と同様であるといえるため、記憶媒体へのピ
ーク位置の記憶回数を増やすほど疾患２に影響されない
部分の眼底情報を取り込む可能性が高く、その幅中心間
距離の測定結果を平均化することにより、疾患２の存在
によるズレを無視することができるほど信頼性の高い測
定結果を得ることができる。
ば、パターン像４４´の周回軌跡上において疾患２に影
響され得る範囲は影響されない範囲に比べて極僅かであ
る。すなわち、例示した疾患２の場合であれば図４
（Ｂ），（Ｃ）に示した範囲の軌跡上でり、その他の範
囲は正常眼と同様であるといえるため、記憶媒体へのピ
ーク位置の記憶回数を増やすほど疾患２に影響されない
部分の眼底情報を取り込む可能性が高く、その幅中心間
距離の測定結果を平均化することにより、疾患２の存在
によるズレを無視することができるほど信頼性の高い測
定結果を得ることができる。
【００４０】この際、眼底Ｅｒ上の疾患２等の存在位置
は被検者毎に異なる。従って、単にズレた位置（偏向さ
せた位置）にパターン像４４´を投影しただけでは、そ
のズレた位置に疾患２等が存在している可能性があり、
測定結果が誤測定となってしまう虞がある。しかしなが
ら、本発明ではパターン像を回転させ複数回の記録媒体
への記録を行っているので、疾患２に影響を受けたパタ
ーン像４４″を取り込む可能性が少なくなり、測定結果
の信頼性を高くすることができる。
は被検者毎に異なる。従って、単にズレた位置（偏向さ
せた位置）にパターン像４４´を投影しただけでは、そ
のズレた位置に疾患２等が存在している可能性があり、
測定結果が誤測定となってしまう虞がある。しかしなが
ら、本発明ではパターン像を回転させ複数回の記録媒体
への記録を行っているので、疾患２に影響を受けたパタ
ーン像４４″を取り込む可能性が少なくなり、測定結果
の信頼性を高くすることができる。
【００４１】尚、パターン像４４´は、光軸Ｏ１からズ
レた位置に投影されているが、被検眼Ｅと装置本体とは
アライメント操作を行うことによって一定関係を維持し
ているので、測定データの信頼性を阻害することはな
い。
レた位置に投影されているが、被検眼Ｅと装置本体とは
アライメント操作を行うことによって一定関係を維持し
ているので、測定データの信頼性を阻害することはな
い。
【００４２】なお、上記実施の形態では、光軸偏向プリ
ズム４９がパターン光束投影光学系４０と受光光学系５
０の共用部分に挿入されているが、本発明はこれに限ら
れず、例えば、各光学系の非共用部分に同じ型の光軸偏
向プリズムを１つずつ配置すると共に、この両光軸偏向
プリズムの回転角度が常に一致するようにすれば、同様
の作用効果が得られる。
ズム４９がパターン光束投影光学系４０と受光光学系５
０の共用部分に挿入されているが、本発明はこれに限ら
れず、例えば、各光学系の非共用部分に同じ型の光軸偏
向プリズムを１つずつ配置すると共に、この両光軸偏向
プリズムの回転角度が常に一致するようにすれば、同様
の作用効果が得られる。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の眼屈折力
測定装置にあっては、パターン光束投影光学系と受光光
学系の光路にその光軸を偏向させるための偏向部材を設
けたことにより、眼底の血管や疾患等に起因する誤測定
を防止することができる。
測定装置にあっては、パターン光束投影光学系と受光光
学系の光路にその光軸を偏向させるための偏向部材を設
けたことにより、眼底の血管や疾患等に起因する誤測定
を防止することができる。
【図１】本発明の実施の形態１に係わる眼屈折力測定装
置を示し、光学系の説明図である。
置を示し、光学系の説明図である。
【図２】同じく、眼底に結像されているパターン像の状
態を表す説明図である。
態を表す説明図である。
【図３】同じく、受光素子に結像されたパターン像とピ
ーク位置との関係を表す説明図である。
ーク位置との関係を表す説明図である。
【図４】同じく、（Ａ）〜（Ｆ）は、眼底に結像された
パターン像を任意に記憶させた例とそのパターン像に対
応するピーク位置との関係を表す説明図である。
パターン像を任意に記憶させた例とそのパターン像に対
応するピーク位置との関係を表す説明図である。
【図５】同じく、偏向部材の変形例を示し、（Ａ）は光
束無偏向状態のロータリプリズムの説明図、（Ｂ）は光
束偏向状態のロータリプリズムの説明図である。
束無偏向状態のロータリプリズムの説明図、（Ｂ）は光
束偏向状態のロータリプリズムの説明図である。
【図６】従来の眼屈折力測定装置によって受光素子に結
像されたパターン像とピーク位置との関係を示す説明図
である。
像されたパターン像とピーク位置との関係を示す説明図
である。
【図７】従来の眼屈折力測定装置によって受光素子に結
像されたパターン像上に疾患が存在していた場合のピー
ク位置との関係を示す説明図である。
像されたパターン像上に疾患が存在していた場合のピー
ク位置との関係を示す説明図である。
Ｅ…被検眼 Ｅｒ…眼底 Ｅｆ…前眼部 Ｓ…受光素子 Ｏ１…光軸 １０…視標投影光学系 ２０…観察光学系 ４０…パターン光束投影光学系 ４９…光軸偏向プリズム（偏向部材） ５０…受光光学系
Claims (6)
- 【請求項１】被検眼の屈折力を測定するためのパターン
光束を被検眼の眼底に投影するパターン光束投影光学系
と、眼底から反射されたパターン反射光束を受光素子に
受光させる受光光学系とを備えた眼屈折力測定装置にお
いて、 前記パターン光束投影光学系と前記受光光学系とは光学
系の一部を共用しており、前記パターン光束投影光学系
の光軸に対してパターン光束を偏向して眼底に投影させ
るための偏向部材が前記各光学系の共用部分に挿入され
ることを特徴とする眼屈折力測定装置。 - 【請求項２】前記偏向部材は、被検眼の瞳とほぼ共役な
位置に挿入されることを特徴とする請求項１に記載の眼
屈折力測定装置。 - 【請求項３】前記偏向部材は、前記パターン投影光学系
の光軸を中心として回転可能であることを特徴とする請
求項２に記載の眼屈折力測定装置。 - 【請求項４】被検眼の屈折力を測定するためのパターン
光束を被検眼の眼底に投影するパターン光束投影光学系
と、眼底から反射されたパターン光束を受光素子に受光
させる受光光学系とを備えた眼屈折力測定装置におい
て、 前記パターン光束投影光学系の光路中に設けられてその
光軸に対してパターン光束を偏向して眼底に投影する第
一偏向部材と、前記受光光学系の光路中に設けられてそ
の光軸上に眼底から反射されたパターン反射光束を偏向
させる第二偏向部材とを備えていることを特徴とする眼
屈折力測定装置。 - 【請求項５】前記各偏向部材は、被検眼の瞳とほぼ共役
な位置に挿入されることを特徴とする請求項４に記載の
眼屈折力測定装置。 - 【請求項６】前記各偏向部材は、各光軸を中心として同
期して回転可能であることを特徴とする請求項５に記載
の眼屈折力測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8172716A JP3071693B2 (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 眼屈折力測定装置 |
| US08/887,264 US5886780A (en) | 1996-07-03 | 1997-07-02 | Refractometer with deflecting element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8172716A JP3071693B2 (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 眼屈折力測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1014876A true JPH1014876A (ja) | 1998-01-20 |
| JP3071693B2 JP3071693B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=15947015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8172716A Expired - Fee Related JP3071693B2 (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 眼屈折力測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3071693B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002014827A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Kabushiki Kaisha Topcon | Apparatus for measuring refractive power |
| JP2011072593A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Nidek Co Ltd | 眼屈折力測定装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7677727B2 (en) | 2007-09-03 | 2010-03-16 | Nidek, Co., Ltd. | Eye refractive power measurement apparatus |
-
1996
- 1996-07-03 JP JP8172716A patent/JP3071693B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002014827A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Kabushiki Kaisha Topcon | Apparatus for measuring refractive power |
| US6844925B2 (en) | 2000-08-11 | 2005-01-18 | Kabushiki Kaisha Topcon | Apparatus for measuring refractive power |
| JP2011072593A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Nidek Co Ltd | 眼屈折力測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3071693B2 (ja) | 2000-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11813022B2 (en) | Ophthalmic apparatus, controlling method thereof, and recording medium | |
| US5202708A (en) | Apparatus for photographic retroillumination image on eyeground | |
| US6588902B2 (en) | Ophthalmic apparatus | |
| US9649027B2 (en) | Device for reliably determining biometric measurement variables of the whole eye | |
| US7416301B2 (en) | Eye refractive power measurement apparatus | |
| US7160288B2 (en) | Ophthalmic apparatus | |
| JPS63267331A (ja) | 非接触式眼圧計 | |
| JPS6216088B2 (ja) | ||
| US6192269B1 (en) | Ophthalmological measurement apparatus | |
| JP3071693B2 (ja) | 眼屈折力測定装置 | |
| US5781275A (en) | Eye refractometer and eye refractive power measuring apparatus for electro-optically measuring the refractive power of the eye | |
| US5886780A (en) | Refractometer with deflecting element | |
| JP3576656B2 (ja) | 眼科器械用位置合わせ検出装置 | |
| US6607272B1 (en) | Retinal blood flow measuring apparatus using a laser beam | |
| JPS6153053B2 (ja) | ||
| JPH07255674A (ja) | 被測定眼寸法測定装置 | |
| JPS59144436A (ja) | 眼科装置 | |
| JP3639658B2 (ja) | 眼科検査用光束偏向装置 | |
| JP3312700B2 (ja) | 眼科装置 | |
| JPS59230535A (ja) | 眼科用測定装置 | |
| JP2962588B2 (ja) | 眼測定装置 | |
| JPH01265938A (ja) | 非接触式眼圧計 | |
| JPH11346997A (ja) | 眼屈折力測定装置 | |
| JP2003024288A (ja) | 眼底血流計 | |
| JPH0554325B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090526 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100526 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110526 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120526 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130526 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140526 Year of fee payment: 14 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |