JPH10151431A - 厨芥処理装置 - Google Patents
厨芥処理装置Info
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- JPH10151431A JPH10151431A JP8314018A JP31401896A JPH10151431A JP H10151431 A JPH10151431 A JP H10151431A JP 8314018 A JP8314018 A JP 8314018A JP 31401896 A JP31401896 A JP 31401896A JP H10151431 A JPH10151431 A JP H10151431A
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Abstract
解活動が活発に行われる最適な環境を現出して厨芥処理
を行わせる。 【解決手段】 培養基材と好気性バクテリアとを撹拌羽
根と換気装置とを備えた生ごみ処理槽内に入れ、当該生
ごみ処理槽内に生ごみを投入して撹拌し、好気性バクテ
リアによって生ごみを分解処理して減量する厨芥処理機
において、処理槽内の培養基材の温度を測定する槽内温
度センサ29aと、処理槽内の培養基材の水分率を測定
する水分率センサ76と、処理槽内を加熱するヒータ
6、6aと、槽内温度センサ29aによって測定された
培養基材温度と水分率センサ76によって測定された培
養基材の水分率とから、前記ヒータ6,6aによる加熱
状態と撹拌羽根による撹拌状態とを制御するCPU70
とを備え、このCPU70は、好気性バクテリアの発酵
分解活動が活発になるようにファジィ理論に基づいてヒ
ータ6,6aと撹拌羽根を駆動するモータ10とを制御
する。
Description
発生する厨芥を、好気性バクテリアを利用し効率よく分
解処理する厨芥処理装置に関する。
下、「生ごみ」ともいう。)を分解処理し、減量する技
術は、例えば培養基材の温度を検出して加熱制御するも
の(特開平6−190353号公報、特開平6−142
634号公報など)、培養基材温度の時間的変化によっ
てバクテリアの寿命を判定するもの(特開平8−112
8号公報)、培養基材の水分を検出し、その水分値に応
じて含水率を制御するもの(特開平7−251146号
公報)、撹拌手段の負荷に応じて加熱手段への通電時間
を制御するもの(特開平7−265843号公報)、撹
拌手段の負荷に応じて保水量が多くなったと判断して加
熱を撹拌を繰り返すもの(特開平7−265843号公
報)などのように多種多様にわたって種々のものが知ら
れている。
はいずれもあらかじめ設定された閾値に基づいて加熱制
御を行ったり、培養基材の撹拌を開始するときの最低温
度と撹拌を停止するときの最高温度との温度差や、撹拌
部材が培養基材を撹拌しているときの温度上昇勾配、も
しくは、撹拌部材が培養基材の撹拌を停止しているとき
に低下する温度勾配などを検出して寿命を判定するよう
に構成されている。いずれにしても、所定の温度を基準
として、あるいは温度変化を検出して加熱制御を行った
り、所定の水分率を基準として撹拌制御や加熱制御を行
ったり、培養基材の寿命を判定したりしている。
低温度と最高温度との差などを基準に行われ、言わば、
バクテリアの活動状態を点的に検出して制御を行ってい
た。また、培養基材温度の時間的変化を検出するものも
あるが、これはあくまでバクテリアの寿命を判定するた
めのパラメータとして使用されており、この時間的変化
に基づいて温度制御や水分率の制御を行うようには配慮
されていなかった。
を行うと、バクテリアの活動状態の傾向を全くつかむこ
とができず、どうしても後追い制御になってしまってい
た。このように後追い制御になると、所定の制御を行っ
てもバクテリアの発酵分解活動が立ち上がるまで時間が
かかり、効率的にバクテリアの発酵分解活動を促すこと
ができず、したがって、厨芥処理に時間がかかる結果と
なっていた。
温度制御を行い、あるいは水分率を検出して温度および
/または撹拌制御を行うように構成されており、温度と
水分率の両者を勘案して生ごみ処理槽内のバクテリアの
繁殖活動を活発に行わせるための環境制御を行うように
はなっていないので、バクテリアの発酵分解活動を促す
環境をすぐに作り出すことはできなかった。
みてなされたもので、その第1の目的は、生ごみ投入か
らの時間をパラメータとする温度変化のパターンによっ
てバクテリアの発酵分解活動の動向をつかみ、バクテリ
アの発酵分解活動が不活発になる前に温度制御を行って
効率的に厨芥の分解処理を行うことができる厨芥処理装
置を提供することにある。
してバクテリアの発酵分解活動が活発に行われる最適な
環境を現出することができる厨芥処理装置を提供するこ
とにある。
め、第1の手段は、例えばおがくず及びもみがらの少な
くともいずれかを含む培養基材と好気性バクテリアとを
撹拌羽根と換気装置とを備えた生ごみ処理槽内に入れ、
当該生ごみ処理槽内に生ごみを投入して撹拌し、好気性
バクテリアによって生ごみを分解処理して減量する厨芥
処理装置において、前記処理槽内の培養基材の温度を測
定する温度測定手段と、前記生ごみ処理槽内を加熱する
加熱手段と、前記処理槽内の蓋を開閉して生ごみを投入
した時を起点として前記温度測定手段によって測定され
た基材の温度の時間的変化パターンがあらかじめ設定し
た時間経過に対応した温度変化パターンから外れたとき
に、前記好気性バクテリアの発酵分解活動が活発になる
ように前記加熱手段を制御する制御手段とを備えている
ことを特徴としている。
応した温度変化パターンに代えて、予め設定した時間経
過に対応した温度差変化パターンをとって制御すること
もできる。
の外周面に貼り付けられた面状コードヒータからなるメ
インヒータおよび補助ヒータから構成するとよく、前記
制御手段は、前記メインヒータおよび/または補助ヒー
タのいずれか、または両方の作動状態を制御して所望の
加熱状態を得るようにするとよい。
れた温度によって前記好気性バクテリアの発酵分解活動
が低調な状態にあるものと判断したときに、その旨警告
する手段をさらに設け、ユーザに環境状態の悪化を報知
できるようにすることもできる。
厨芥処理装置において、前記処理槽内の培養基材の温度
を測定する温度測定手段と、前記処理槽内の培養基材の
水分率を測定する水分率測定手段と、前記生ごみ処理槽
内を加熱する加熱手段と、前記温度測定手段によって測
定された培養基材温度と前記水分率測定手段によって測
定された培養基材の水分率とから、前記加熱手段による
加熱状態と前記撹拌装置による撹拌状態とを制御する制
御手段とを備え、前記制御手段は、前記好気性バクテリ
アの発酵分解活動が活発になるように制御することを特
徴としている。
として培養基材の温度が低い状態、普通の状態および高
い状態の少なくとも3つの状態を設定するとともに、前
記撹拌状態として培養基材の水分率が少ない状態、普通
の状態および多い状態の少なくとも3つの状態を設定
し、培養基材の温度が低いほど加熱手段の加熱時間を長
く、培養基材の水分率が多いほど撹拌時間を長くするよ
うにこれらの状態に応じて加熱状態と撹拌状態をファジ
イ理論に基づいて制御するようにするとよい。
施の形態について説明する。
理装置の全体構成を示す斜視図、図2は図1の縦断図、
図3は図2のA−A線断面図、図4は面状コードヒータ
の構成を断面して示す斜視図である。
1は、内部に生ごみ処理槽3が形成された筐体2と、生
ごみ処理槽3の中央部で水平方向に取り付けられた回転
軸5に回転可能に設けられた撹拌羽根4と、生ごみ処理
槽3の外周部に貼付された面状コードヒータ6と、これ
らの動作を制御する制御装置7とから基本的に構成され
ている。
され、円筒形の中央部で一対の軸受8に前記回転軸5が
支持されている。回転軸5の一端は図3に示すように生
ごみ処理槽3から突出し、その突出した部分に従動側の
プーリ9が回転軸5と一体に回転するように軸着され、
回転軸5の生ごみ処理槽3内に位置する部分には、3枚
の撹拌羽根4が円周方向に等角度、軸方向に等間隔に立
設されている。前記従動側プーリ9と筐体2の底部に固
定されたモータ10の回転軸に軸着された駆動側のプー
リ11との間にはベルト12が掛け渡され、モータ10
の動力を回転軸5に伝達できるようになっている。な
お、プーリ9,11とベルト12に代えてスプロケット
とチェーンを使用することもできる。
フィルタ13a,14aを備えた吸気口13と排気口1
4とが設けられ、排気口14には換気用のファン15が
設置されている。このファン15は図示しないモータに
よって駆動され、新鮮な空気を吸気口13から処理槽3
内に導入し、排気口14から処理槽3内のガス、例えば
炭酸ガスや発酵に伴う臭気を含んだガスなどを筐体2外
に排出する。また、筐体2の上端面には生ごみ処理槽3
の上部に連通する生ごみ投入口16が開設され、内蓋1
7と外蓋18とによって前記投入口16は二重に蓋され
る。なお、蓋の密閉度を確保するため、内蓋17と外蓋
18には、それぞれの受け面との間をシールするパッキ
ンが設けられている。また、投入口16の裏面に当たる
部分には、各種の動作制御を行う制御装置7が設けられ
ている。
めの排出口19が設けられている。排出口19は、通
常、把手20を有する引出し式のシャッタ21で遮蔽さ
れており、把手20に手を掛けてシャッタ21を引き出
すと、処理槽3の内容物は排出口19から排出路22に
落ち込むので、これを掻き出すことにより筐体2から外
に取り出すことができる。
ている。培養基材23はリグニン、セルローズ、ヘミセ
ルローズ等の生分解性の悪いものを主成分とするもの
で、具体的には、おがくず、もみがら、稲のわら等を裁
断して使用している。この培養基材は、その一粒一粒が
多孔質で空隙を有し、かつ粒形が複雑で、でこぼこして
いて粒と粒との間に大きな空隙が形成されるようなもの
である。
照)が連動しており、外蓋18を所定の角度開けると、
ドアスイッチ77が開放され、制御装置7がこれに従っ
てモータ5の電源を切ることによって、撹拌羽根4が止
まるよう構成されている。
れているポリプロピレン樹脂で成形し、その外周面には
広い面積に渡って前記面状コードヒータ6,6aが接着
され、そのさらに表面を断熱発泡体シート24,24a
によってカバーしている。面状コードヒータ6,6aは
図4に示すように細いコイル状に巻かれた発熱線25
を、テトロンのコード26を芯としてその外周に螺旋状
に巻き付け、その上を絶縁皮膜27でコーデングしコー
ド状にしたものをアルミニウムのシート28の上に這わ
せるようにして接着したものである。なお、この面状コ
ードヒータ6,6aは図示しないサーミスタにより発熱
温度を監視し、前記制御装置7内に組み込まれた温度制
御装置により、その発熱温度を所定の設定値に保つこと
ができるようになっている。
なる前記培養基材23が入っているが、この面状コード
ヒータ6,6aを広い面積にわたって処理槽3の外周面
に貼り付けることにより均一に加熱することができるよ
うになっている。なお、29aは処理槽3内の培養基材
23の温度を測定する温度センサである。
タ10、ファン15の駆動用モータなどの電気部品は、
後述のように前記制御装置7内のマイコンによってオ
ン、オフの動作タイミングや、動作の継続時間などが制
御される。また面状コードヒータ6,6aは処理槽3の
全体を保温するために同時にオン、オフ制御される場合
と、6をメインヒータ、6aを補助ヒータとして、各々
別個に独立してオン、オフ制御する場合とがある。
いては、処理槽3内の基材23の水分率を40〜60%
に調節し、好気性バクテリアを投入して撹拌し、好気性
バクテリアが繁殖するための温床をつくる。あとは毎日
ふたを開け閉めして処理槽3内に生ごみを投入するだけ
で良い。また、処理槽3内は、制御装置7によって所定
の時間毎に自動的に撹拌と換気とを交互に繰り返す。こ
れにより、生ごみは基材23と共に撹拌されることによ
り砕かれ、ギザギザな基材23の粒に擦られて摩耗し、
その表面に好気性バクテリアが付着し、好気性バクテリ
アは生ごみを餌として食べ、繁殖する。そして、生ごみ
は発酵し、バラバラに分解され、大部分は水蒸気と炭酸
ガスとなり発散される。また固形分として植物の養分と
なる低分子量化された分解生成物、すなわち堆肥が培養
基材23の中に残される。発生ガスの中には微量ではあ
るが悪臭の原因となるアンモニア、トリメチルアミン等
のガスも含まれる。これらの水蒸気や炭酸ガス、その他
のガス類は、換気の段階で前記ファン15によって処理
槽3から装置外に放出され、この動作が断続的に自動運
転によって続けられる。
により時間の長短はあるが、3ヵ月から6ヵ月続くと、
生ごみの分解生成物が蓄積し、あるいは、発酵基材23
の摩耗、吸水等が原因となって通気性の悪化と水分率の
増大とから、発酵基材23が粘性を帯び、ベトベト、ジ
ュクジュクしてくる。このような状態になると、好気性
バクテリアの繁殖に適さなくなり、発酵分解活動が低調
になって発酵基材23の温度が低下してくる。そして、
発酵基材23内は次第に嫌気性バクテリアの働きが強く
なってきて腐敗臭も出てくる。従って発酵基材23の温
度を測定することによって、基材23が現在バクテリア
の繁殖と発酵分解活動に適する状態かどうかを検知する
ことができる。
基材23の温度をモニタしておき、あらかじめ設定した
閾値に達するとヒータ6,6aに通電し、さらにはオ
ン、オフ制御して処理槽3内の基材温度を発酵分解活動
に最適な温度にするとよい。しかし、この方法では、設
定した閾値の大小によって制御状態が異なってくる。そ
こで、本実施形態では、あらかじめ生ごみを投入したか
らの時間の経過をパラメータとする温度変化パターンを
記憶しておき、このパターンから外れたとき、もしくは
このパターンに対して所定幅以上はずれたとき、前記ヒ
ータ6および/または6aを通電制御して、前記温度変
化パターンに温度変化を合わせるようにする。
成を図5に示す。この制御装置7は、CPU70と、C
PU70に対してバス80を介して接続されたROM7
1、RAM72、ROMテーブル73、メインスイッチ
74、警報装置75、温度センサ29a,29b、ヒー
タ6,6a、水分率センサ76、ドアスイッチ77、お
よびモータドライバ78から基本的に構成されている。
なお、図では、種々のメッセージを表示する操作表示装
置79を付設し、温度センサとして処理槽3内の温度を
測定する槽内温度センサ29aと外気温を測定する外気
温センサ29bとを備えた例である。
どり、ROM71にはCPU70のプログラムなどのス
タティックな情報が格納され、RAM72はCPU70
のワークエリアとして機能するとともに、CPU70に
よって処理すべきデータなどダイナミックな情報が格納
される。ROMテーブル73には、時間をパラメータに
とった温度変化パターンなどの基準となるパターンがテ
ーブルの形で格納されている。なお、このパターンは外
気温度や培養基材23の量などに応じて複数用意されて
いる。
オン操作することによって厨芥処理装置1が作動を始め
る。警報装置75は、槽内温度センサ29aや後述の水
分率センサ76の測定結果により、CPU70が培養基
材23の状態がバクテリアの発酵分解活動に適さない状
態になったと判断したときに、ブザーやランプによって
その旨報知するためのもので、操作表示装置79を付設
したときには、前記報知に加えて、警報内容をメッセー
ジで表示するように構成することもできる。
槽3の内側面に設けられ、培養基材23の温度を測定
し、外気温センサ29bは筐体2の外面に設けられ、外
気温を測定する。水分率センサ76は、ここでは培養基
材23の電気伝導度の変化から培養基材23の水分の含
有率を求める電気伝導度センサが使用されている。
の水分率の変化に対応して変化するセンシングし易い物
理量に置き換えて、間接的に測定することが可能であ
る。そこで、前記電気伝導度センサに代えて、例えば、
培養基材23を撹拌するのに要する回転トルクの変化、
回転トルクの変化に対応して変化する撹拌羽根駆動用の
モータ10の電流値や回転数、あるいは駆動用モータ1
0の電源OFF時に起こる進相用コンデンサの端子電圧
の波形変化等や、培養基材23そのもののpH(ペーハ
ー)、等も利用できる。勿論赤外線の照射時に水分量に
よる吸収量が変化することを利用した赤外線水分測定セ
ンサーも利用できる。
変化は、これを駆動するモータ10の回転数変化を引き
起こすので、モータ10の回転軸に永久磁石を固定し、
この回転数変化をホール素子を利用して捕らえるエンコ
ーダー式回転数センサで水分率を測定することができ
る。この回転数センサは回転不能状態を検知するロック
センサとしても使えるので有用である。また、回転羽根
4を回すのに要するトルクの変化は、モータ10として
進相コンデンサを利用した誘導モータを使用すると、モ
ータ10のスイッチを切ったときにその進相コンデンサ
の端子に発生する逆起電圧の減衰特性、例えば上記逆起
電圧の減衰時間、または逆起電圧が消滅するまでの電圧
波形の山数等で知ることができる。なお、これらの具体
的構成は特に図示しないが、従来公知の汎用の電子回路
技術を用いて計測することができる。
放されたときに、開放信号をCPU70に出力するもの
で、CPU70はこの信号が入力されると、モータ10
の駆動を制御するモータドライバ78にその旨通知し
て、モータ10が回転しているときにはモータ10を停
止させる。
から構成され、キー入力により生ごみの量を入力した
り、前述の温度パターンによる処理や、後述の温度と水
分率を考慮した処理などのモードを選択したりすること
ができ、表示としては、前述のように警報を発したとき
の警報の内容や、処理すべき厨芥が量的に少なくなった
ときに厨芥の投入を促したり、培養基材23の寿命を表
示により知らせたりすることができる。
水分率が減少したときに有効である。すなわち、少家族
で生ごみの投入量が少なかったり、旅行などで生ごみを
投入しないで空運転を続けた場合等には、培養基材23
の水分率が低下し、パサパサに乾燥してくる。こうなる
とバクテリアの繁殖が困難になり、菌は胞子化したり死
滅してしまう。このような状態になると、生ごみのバク
テリアによる分解処理が行われなくなり、厨芥処理装置
1が生ごみ乾燥機と化して、処理槽3内には干乾びた生
ごみが蓄積する。そして、培養基材23は磨耗して微粉
化し再使用できなくなってしまう。このときは、水分を
投入して水分率を上げねばならないが、従来はユーザの
勘にたよっていたので、失敗することも多かったが、表
示により水分の補充を促すとともに、培養基材3の水分
率も表示するようにすれば、従来のようにユーザの勘に
たよることなく、適切な水分の補充が行える。なお、こ
のような機能を有する操作表示装置79がなくとも、厨
芥の処理が行えることは当然である。
6aの2個設けられているが、これは、寒冷地向けの生
ごみ処理装置に適するように一方をメインヒータ、他方
を補助ヒータとしたもので、冬期等に外気の温度が所定
の温度まで低下した時、メインヒータ6を作動させて保
温するように構成するとともに、槽内温度センサ29a
によって培養基材23の温度を検出して、前記温度変化
パターンから外れないようにしてバクテリアの発酵分解
活動が活発に行われるように制御するものである。その
際、外気温センサ29bによって外気の温度と培養基材
23の温度を勘案して制御することも可能であり、この
ように制御する方が、より効率のよい処理が行える。
投入した時を起点として、培養基材の温度の時間的変化
パターンをみた時に、予め設定した時間経過に対応した
温度変化パターンから外れた時、バクテリアの発酵分解
活動が低調な状態にあるものと判断して、発酵分解処理
と水分の蒸発促進のための保温ヒータ6,6aを作動さ
せるようにすることもできる。このように制御すれば、
培養基材23の温度変化が一日のあいだに、一定のリズ
ムで変化することに基づき、この一定のリズムと比較す
ることにより、より精度の高い基材状態の判断が可能と
なり、さらに効率のよい処理が可能となる。
間的変化パターンをみる代わりに、あらかじめ設定した
生ごみ投入からの時間経過に対応した温度差変化パター
ンを見てもよい。
パターンもしくは温度差の変化パターンをモニタして温
度制御を行っているが、発酵分解状態は前述のように発
酵基材23の温度と水分率に依存しており、両者を監視
し、両者が適切な範囲にあるように温度と水分率を制御
すれば、さらに効率的に厨芥物の処理が可能となる。以
下、温度と水分率の両者をパラメータとして厨芥処理を
行う例について説明する。なお、厨芥処理装置自体は図
1ないし図5を参照した前記実施形態における厨芥処理
装置1と同等なので、重複する説明は省略する。
率の両者をパラメータとしてファジイ推論に基づいて厨
芥処理を行うもので、培養基材23の水分率は水分率セ
ンサ76によって検出され、培養基材23の温度は槽内
温度センサ29aによって検出され、これらの検出値に
基づいて、図5のCPU70によって行われファジィ推
論が実行される。その際、基材温度と水分率に応じて下
記のように制御される。
ールを示したもので、本実施形態のファジィ推論ルール
は、「培養基材の温度が低いときには、好気性バクテリ
アの繁殖が不活発で、培養基材の温度が高いときには、
好気性バクテリアの繁殖が活発である。また、培養基材
の水分率が少ないとき、および多いときには好気性バク
テリアの繁殖が困難で、培養基材の水分率が適切なとき
に、好気性バクテリアの繁殖が活発である。」といった
培養基材23の繁殖分解活動についての一般的な認識に
基づいている。なお、この推論ルールにおける基材の水
分率の「少ない」、「普通」、「多い」という定性的な
概念、および基材温度の「低い」、「普通」、「高い」
という定性的な概念は例えば図6(a)および(b)に
一例として示すようなメンバーシップ関数によって定量
的に表され、これらの関数に基づいて、公知のファジィ
理論によって最も最適なバクテリアの繁殖分解条件にな
るように、言い換えれば、最も最短の時間で処理できる
厨芥処理条件になるよう処理槽内の環境の最適化が図ら
れる。メンバシップ関数は、あらかじめROM71に格
納され、CPU70は格納されたメンバシップ関数を参
照してファジィ制御を行う。
ンバシップ関数を設定して温度および撹拌制御を行って
いるが、ファジィ推論を使用しなくとも、あらかじめ基
材の水分率および基材の温度の種々のパターンをROM
テーブル77に格納しておき、このパターンに基づいて
発酵分解活動が活発に行われるような最適環境になるよ
うに温度と撹拌制御を行うように設定することもでき
る。
て生ごみを投入した時を起点として前記温度測定手段に
よって測定された基材の温度の時間的変化パターンが予
め設定した時間経過に対応した温度変化パターンから外
れたときに、もしくは温度差変化パターンから外れたと
きに前記加熱手段を制御して所望の加熱状態を得るよう
にしたので、実際の生ごみの投入に即応した発酵分解活
動の促進環境を整えることができ、これによって効率的
に厨芥の分解処理を行うことが可能になる。
材の温度と水分率を勘案して発酵分解活動に際して最適
な促進環境を整えることができるので、より効率的な厨
芥の分解処理が可能になる。
構成を示す斜視図である。
ブロック図である。
メンバシップ関数の一例を示す図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 培養基材と好気性バクテリアとを撹拌羽
根と換気装置とを備えた生ごみ処理槽内に入れ、当該生
ごみ処理槽内に生ごみを投入して撹拌し、好気性バクテ
リアによって生ごみを分解処理して減量する厨芥処理機
において、 前記処理槽内の培養基材の温度を測定する温度測定手段
と、 前記生ごみ処理槽内を加熱する加熱手段と、 前記処理槽内の蓋を開閉して生ごみを投入した時を起点
として前記温度測定手段によって測定された基材の温度
の時間的変化パターンがあらかじめ設定した時間経過に
対応した温度変化パターンから所定量外れたときに、前
記好気性バクテリアの発酵分解活動が活発になるように
前記加熱手段を制御する制御手段と、を備えていること
を特徴とする厨芥処理装置。 - 【請求項2】 前記予め設定した時間経過に対応した温
度変化パターンに代えて、予め設定した時間経過に対応
した温度差変化パターンとしたことを特徴とする請求項
1記載の厨芥処理装置。 - 【請求項3】 前記加熱手段が、前記生ごみ処理槽の外
周面に貼り付けられた面状コードヒータからなるメイン
ヒータおよび補助ヒータから構成されていることを特徴
とする請求項1記載の厨芥処理装置。 - 【請求項4】 前記メインヒータおよび/または補助ヒ
ータのいずれか、または両方の作動状態を制御して所望
の加熱状態を得ることを特徴とする請求項3記載の厨芥
処理装置。 - 【請求項5】 前記温度測定手段によって測定された温
度によって前記好気性バクテリアの発酵分解活動が低調
な状態にあるものと判断したときに、その旨警告する手
段をさらに備えていることを特徴とする請求項1ないし
4のいずれか1項に記載の厨芥処理装置。 - 【請求項6】 培養基材と好気性バクテリアとを撹拌羽
根と換気装置とを備えた生ごみ処理槽内に入れ、当該生
ごみ処理槽内に生ごみを投入して撹拌し、好気性バクテ
リアによって生ごみを分解処理して減量する厨芥処理機
において、 前記処理槽内の培養基材の温度を測定する温度測定手段
と、 前記処理槽内の培養基材の水分率を測定する水分率測定
手段と、 前記生ごみ処理槽内を加熱する加熱手段と、 前記温度測定手段によって測定された培養基材温度と前
記水分率測定手段によって測定された培養基材の水分率
とから、前記好気性バクテリアの発酵分解活動が活発に
なるよう前記加熱手段による加熱状態と前記撹拌装置に
よる撹拌状態とを制御する制御手段と、を備えているこ
とを特徴とする厨芥処理装置。 - 【請求項7】 前記制御手段は、前記加熱状態として培
養基材の温度が低い状態、普通の状態および高い状態の
少なくとも3つの状態を設定するとともに、前記撹拌状
態として培養基材の水分率が少ない状態、普通の状態お
よび多い状態の少なくとも3つの状態を設定し、培養基
材の温度が低いほど加熱手段の加熱時間を長く、培養基
材の水分率が多いほど撹拌時間を長くするようにこれら
の状態に応じて加熱状態と撹拌状態をファジイ理論に基
づいて制御することを特徴とする請求項6記載の厨芥処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8314018A JPH10151431A (ja) | 1996-11-25 | 1996-11-25 | 厨芥処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8314018A JPH10151431A (ja) | 1996-11-25 | 1996-11-25 | 厨芥処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10151431A true JPH10151431A (ja) | 1998-06-09 |
Family
ID=18048220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8314018A Withdrawn JPH10151431A (ja) | 1996-11-25 | 1996-11-25 | 厨芥処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10151431A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002079214A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-19 | Sanyo Electric Co Ltd | 生ごみ処理装置 |
| CN114951238A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-30 | 美都生态环境科技(天津)有限公司 | 一种减量比率高的厨余垃圾处理工艺 |
| CN116329231A (zh) * | 2021-12-23 | 2023-06-27 | 深圳市筑梦空间科技有限公司 | 用于厨余垃圾处理装置的加热组件及厨余垃圾处理装置 |
-
1996
- 1996-11-25 JP JP8314018A patent/JPH10151431A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002079214A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-19 | Sanyo Electric Co Ltd | 生ごみ処理装置 |
| CN116329231A (zh) * | 2021-12-23 | 2023-06-27 | 深圳市筑梦空间科技有限公司 | 用于厨余垃圾处理装置的加热组件及厨余垃圾处理装置 |
| CN114951238A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-30 | 美都生态环境科技(天津)有限公司 | 一种减量比率高的厨余垃圾处理工艺 |
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