JPH1015379A - 強酸の希釈装置 - Google Patents
強酸の希釈装置Info
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- JPH1015379A JPH1015379A JP8170983A JP17098396A JPH1015379A JP H1015379 A JPH1015379 A JP H1015379A JP 8170983 A JP8170983 A JP 8170983A JP 17098396 A JP17098396 A JP 17098396A JP H1015379 A JPH1015379 A JP H1015379A
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- tank
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比重の異なる場合の容量希釈が容易に行える
と共に、不純物を希釈液に含有する蓋然性が小さくバッ
チ処理に適した強酸の希釈装置を提供すること。 【解決手段】 所定濃度の強酸溶液が貯蓄された原液タ
ンク１０から、強酸計量タンク２０に当該強酸溶液を送
液する手段と、この強酸計量タンクに蓄えられた当該強
酸溶液から一定容量Ｖ1を秤量塔４０に送液する手段
と、純水計量タンク３０に蓄えられた純水から、前記強
酸溶液と所定の希釈率となる容量Ｖ2を当該秤量塔４０
に送液する手段とを具備し、この秤量塔に貯蔵された強
酸希釈液を供給することを特徴としている。
と共に、不純物を希釈液に含有する蓋然性が小さくバッ
チ処理に適した強酸の希釈装置を提供すること。 【解決手段】 所定濃度の強酸溶液が貯蓄された原液タ
ンク１０から、強酸計量タンク２０に当該強酸溶液を送
液する手段と、この強酸計量タンクに蓄えられた当該強
酸溶液から一定容量Ｖ1を秤量塔４０に送液する手段
と、純水計量タンク３０に蓄えられた純水から、前記強
酸溶液と所定の希釈率となる容量Ｖ2を当該秤量塔４０
に送液する手段とを具備し、この秤量塔に貯蔵された強
酸希釈液を供給することを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造に用い
て好適な強酸の希釈装置に係り、特にフッ酸のように極
めて腐蝕力の強い強酸を高い精度の希釈率で希釈する装
置に関する。
て好適な強酸の希釈装置に係り、特にフッ酸のように極
めて腐蝕力の強い強酸を高い精度の希釈率で希釈する装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】石油のように、腐蝕性のほとんど無い流
体の混合は、例えば本出願人の提案にかかる特開昭６３
−１１９８４０号公報に開示されているように、汎用の
プロセス制御技術を用いて容易に正確な混合比の液体が
得られる。しかし、近年半導体の製造に伴って、フッ酸
のように極めて腐蝕力の強い強酸を高い精度で希釈する
必要性が高まっている。この場合、半導体という不純物
の存在を極めて忌避する物質に使用される強酸にあって
は、やはり不純物がこの強酸に含まれないように留意す
る必要がある。また、半導体製造という用途では、エッ
チング用の強酸の使用量は、石油精製に比較して格段に
少量ですむため、連続処理を前提としたプロセス制御技
術を適用するのではなく、バッチ処理技術を適用するほ
うが設備が簡便になる。そこで、従来はロードセルを用
いて所望の希釈比の強酸希釈液を得ていた。
体の混合は、例えば本出願人の提案にかかる特開昭６３
−１１９８４０号公報に開示されているように、汎用の
プロセス制御技術を用いて容易に正確な混合比の液体が
得られる。しかし、近年半導体の製造に伴って、フッ酸
のように極めて腐蝕力の強い強酸を高い精度で希釈する
必要性が高まっている。この場合、半導体という不純物
の存在を極めて忌避する物質に使用される強酸にあって
は、やはり不純物がこの強酸に含まれないように留意す
る必要がある。また、半導体製造という用途では、エッ
チング用の強酸の使用量は、石油精製に比較して格段に
少量ですむため、連続処理を前提としたプロセス制御技
術を適用するのではなく、バッチ処理技術を適用するほ
うが設備が簡便になる。そこで、従来はロードセルを用
いて所望の希釈比の強酸希釈液を得ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ロードセルを
用いる重量計測では、比重の異なる場合の容量希釈が難
しくなると共に、メスシリンダーを用いる場合には可能
であった作業者が容量を実時間で目視検査することが困
難になるという課題があった。本発明はこのような課題
を解決したもので、比重の異なる場合の容量希釈が容易
に行えると共に、不純物を希釈液に含有する蓋然性が小
さくバッチ処理に適した強酸の希釈装置を提供すること
を目的とする。
用いる重量計測では、比重の異なる場合の容量希釈が難
しくなると共に、メスシリンダーを用いる場合には可能
であった作業者が容量を実時間で目視検査することが困
難になるという課題があった。本発明はこのような課題
を解決したもので、比重の異なる場合の容量希釈が容易
に行えると共に、不純物を希釈液に含有する蓋然性が小
さくバッチ処理に適した強酸の希釈装置を提供すること
を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明は、所定濃度の強酸溶液が貯蓄された原液タンク１
０から、強酸計量タンク２０に当該強酸溶液を送液する
手段と、この強酸計量タンクに蓄えられた当該強酸溶液
から一定容量Ｖ1を秤量塔４０に送液する手段と、純水
計量タンク３０に蓄えられた純水から、前記強酸溶液と
所定の希釈率となる容量Ｖ2を当該秤量塔４０に送液す
る手段とを具備し、この秤量塔に貯蔵された強酸希釈液
を供給することを特徴としている。
発明は、所定濃度の強酸溶液が貯蓄された原液タンク１
０から、強酸計量タンク２０に当該強酸溶液を送液する
手段と、この強酸計量タンクに蓄えられた当該強酸溶液
から一定容量Ｖ1を秤量塔４０に送液する手段と、純水
計量タンク３０に蓄えられた純水から、前記強酸溶液と
所定の希釈率となる容量Ｖ2を当該秤量塔４０に送液す
る手段とを具備し、この秤量塔に貯蔵された強酸希釈液
を供給することを特徴としている。
【０００５】本発明の構成によれば、強酸計量タンク２
０からは一定容量の強酸溶液が秤量塔４０に送液され
る。純水計量タンク３０からは強酸溶液と混和して所定
の希釈率となる一定容量の純水が秤量塔４０に送液され
る。これにより、秤量塔４０には所定濃度の強酸希釈液
が貯蔵されるので、これを需要側に送っている。ここで
は、計量タンクにより強酸溶液と純水を計量しているの
で、流量計を用いて流量を測定する場合に比較して設備
が安価になる。また、強酸の流れる経路は原液タンク１
０、強酸計量タンク２０並びに秤量塔４０であるが、こ
れらの間は管路を用いて接続できるので、強酸が不純物
によって汚染される蓋然性は少ない。純水の流れる経路
も、純水計量タンク３０並びに秤量塔４０であり、純水
が不純物によって汚染される蓋然性は少ない。
０からは一定容量の強酸溶液が秤量塔４０に送液され
る。純水計量タンク３０からは強酸溶液と混和して所定
の希釈率となる一定容量の純水が秤量塔４０に送液され
る。これにより、秤量塔４０には所定濃度の強酸希釈液
が貯蔵されるので、これを需要側に送っている。ここで
は、計量タンクにより強酸溶液と純水を計量しているの
で、流量計を用いて流量を測定する場合に比較して設備
が安価になる。また、強酸の流れる経路は原液タンク１
０、強酸計量タンク２０並びに秤量塔４０であるが、こ
れらの間は管路を用いて接続できるので、強酸が不純物
によって汚染される蓋然性は少ない。純水の流れる経路
も、純水計量タンク３０並びに秤量塔４０であり、純水
が不純物によって汚染される蓋然性は少ない。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて、本発明を説明
する。図１は本発明の一実施例を示す配管図である。図
において、原料タンク１０には、５％濃度のフッ酸ＨＦ
が貯蔵されている。５％濃度のフッ酸は、半導体製造の
分野では中濃度の溶液と考えられており、例えばシリコ
ン酸化膜ＳiＯ2が１０〜２０秒程度の短時間でエッチン
グされる。原料タンク１０や管路の材料は、耐薬品性の
高い塩化ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、テフロン樹脂
等が用いられている。強酸計量タンク２０は、一回に計
量する容量は400cc程度のものである。純水計量タンク
３０は、一回に計量する容量は3600cc程度のものであ
る。尚、強酸計量タンク２０と純水計量タンク３０の詳
細は後で説明する。秤量塔４０は、１０倍に希釈された
フッ酸ＨＦが貯蔵されるもので、この希釈フッ酸は、半
導体製造の分野では低濃度と考えられている。ここで
は、強酸計量タンク２０から送られるフッ酸と純水計量
タンク３０から送られる純水とが１：９で混和される。
する。図１は本発明の一実施例を示す配管図である。図
において、原料タンク１０には、５％濃度のフッ酸ＨＦ
が貯蔵されている。５％濃度のフッ酸は、半導体製造の
分野では中濃度の溶液と考えられており、例えばシリコ
ン酸化膜ＳiＯ2が１０〜２０秒程度の短時間でエッチン
グされる。原料タンク１０や管路の材料は、耐薬品性の
高い塩化ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、テフロン樹脂
等が用いられている。強酸計量タンク２０は、一回に計
量する容量は400cc程度のものである。純水計量タンク
３０は、一回に計量する容量は3600cc程度のものであ
る。尚、強酸計量タンク２０と純水計量タンク３０の詳
細は後で説明する。秤量塔４０は、１０倍に希釈された
フッ酸ＨＦが貯蔵されるもので、この希釈フッ酸は、半
導体製造の分野では低濃度と考えられている。ここで
は、強酸計量タンク２０から送られるフッ酸と純水計量
タンク３０から送られる純水とが１：９で混和される。
【０００７】続いて、各タンク間の配管並びにバルブの
配置について説明する。加圧窒素ガスＮ2の第一の経路
は、圧力調整器Ｒを介してエアーバルブＡＶ１１、更に
はフィルターＦを介して原料タンク１０に送られ、フッ
酸を原料タンク１０から強酸計量タンク２０に押し上げ
る駆動源として作用する。加圧窒素ガスＮ2は、例えば
２気圧程度に加圧されており、半導体にとって有害なア
ルミニューム、ナトリウム、鉄等を含まない清浄な加圧
源である。加圧窒素ガスＮ2の第二の経路は、圧力調整
器Ｒを介してエアーバルブＡＶ２１、更にはフィルター
Ｆを介して秤量塔４０に送られ、希釈フッ酸を秤量塔４
０から出力配管に送る駆動源として用いられる。原料タ
ンク１０を減圧するために、排気ダクトと接続されるエ
アーバルブＡＶ１２を有している。また秤量塔４０を減
圧するために、排気ダクトと接続されるエアーバルブＡ
Ｖ２２を有している。
配置について説明する。加圧窒素ガスＮ2の第一の経路
は、圧力調整器Ｒを介してエアーバルブＡＶ１１、更に
はフィルターＦを介して原料タンク１０に送られ、フッ
酸を原料タンク１０から強酸計量タンク２０に押し上げ
る駆動源として作用する。加圧窒素ガスＮ2は、例えば
２気圧程度に加圧されており、半導体にとって有害なア
ルミニューム、ナトリウム、鉄等を含まない清浄な加圧
源である。加圧窒素ガスＮ2の第二の経路は、圧力調整
器Ｒを介してエアーバルブＡＶ２１、更にはフィルター
Ｆを介して秤量塔４０に送られ、希釈フッ酸を秤量塔４
０から出力配管に送る駆動源として用いられる。原料タ
ンク１０を減圧するために、排気ダクトと接続されるエ
アーバルブＡＶ１２を有している。また秤量塔４０を減
圧するために、排気ダクトと接続されるエアーバルブＡ
Ｖ２２を有している。
【０００８】純水の入力経路は、バルブＶ３１を介して
洗浄用のハンドシャワー５０に送るものと、ハンドバル
ブＨＶ２、純水フィルターＦ1、エアーバルブＡＶ３
２、逆止弁ＮＲＶ１並びにハンドバルブＨＶ３を介し
て、純水計量タンク３０に至る経路とがある。純水計量
タンク３０から秤量塔４０に純水を滴下する管路には、
エアーバルブＡＶ３３が設けられていると共に、純水計
量タンク３０からドレインに純水を捨てるためにエアー
バルブＡＶ３４が設けられている。
洗浄用のハンドシャワー５０に送るものと、ハンドバル
ブＨＶ２、純水フィルターＦ1、エアーバルブＡＶ３
２、逆止弁ＮＲＶ１並びにハンドバルブＨＶ３を介し
て、純水計量タンク３０に至る経路とがある。純水計量
タンク３０から秤量塔４０に純水を滴下する管路には、
エアーバルブＡＶ３３が設けられていると共に、純水計
量タンク３０からドレインに純水を捨てるためにエアー
バルブＡＶ３４が設けられている。
【０００９】フッ酸を原料タンク１０から強酸計量タン
ク２０に押し上げる管路には、エアーバルブＡＶ１３と
ハンドバルブＨＶ１が設けられている。強酸計量タンク
２０から秤量塔４０にフッ酸を滴下する管路には、エア
ーバルブＡＶ１４が設けられていると共に、強酸計量タ
ンク２０からドレインにフッ酸を捨てるためにエアーバ
ルブＡＶ１５が設けられている。秤量塔４０に蓄えられ
た希釈フッ酸は、逆止弁ＮＲＶ２、ハンドバルブＨＶ
４、純水フィルターＦ2を介して、第一出力にはエアー
バルブＡＶ４１に送られ、第二出力にはエアーバルブＡ
Ｖ４２に送られる。尚、純水フィルターＦ2からドレイ
ンに流れる経路には、ハンドバルブＨＶ５，６が設けら
れている。また、秤量塔４０に蓄えられた希釈フッ酸を
ドレインに捨てるために、ハンドバルブＨＶ７が設けら
れている。
ク２０に押し上げる管路には、エアーバルブＡＶ１３と
ハンドバルブＨＶ１が設けられている。強酸計量タンク
２０から秤量塔４０にフッ酸を滴下する管路には、エア
ーバルブＡＶ１４が設けられていると共に、強酸計量タ
ンク２０からドレインにフッ酸を捨てるためにエアーバ
ルブＡＶ１５が設けられている。秤量塔４０に蓄えられ
た希釈フッ酸は、逆止弁ＮＲＶ２、ハンドバルブＨＶ
４、純水フィルターＦ2を介して、第一出力にはエアー
バルブＡＶ４１に送られ、第二出力にはエアーバルブＡ
Ｖ４２に送られる。尚、純水フィルターＦ2からドレイ
ンに流れる経路には、ハンドバルブＨＶ５，６が設けら
れている。また、秤量塔４０に蓄えられた希釈フッ酸を
ドレインに捨てるために、ハンドバルブＨＶ７が設けら
れている。
【００１０】このように構成された装置の動作を次に説
明する。図２はエアーバルブＡＶの開閉状態を説明する
シーケンス図である。各エアーバルブＡＶは、開閉制御
装置によってシーケンシャルに開閉されている。尚、ハ
ンドバルブＨＶは開閉制御装置の制御対象からは除外さ
れており、手動で開閉を行う。先ず、時刻Ｔ１でエアー
バルブＡＶ１１が開き、原料タンク１０に対するフッ酸
の注入がなされ、必要な量のフッ酸が原料タンク１０に
溜まる時刻Ｔ２にエアーバルブＡＶ１１が閉じる
（）。続いて、時刻Ｔ３でエアーバルブＡＶ１３が開
き、原料タンク１０のフッ酸を強酸計量タンク２０に押
し上げ、規定容量に到達する時刻Ｔ４にエアーバルブＡ
Ｖ１３が閉じる（）。次に、時刻Ｔ５でエアーバルと
ブＡＶ１４が開き、強酸計量タンク２０から秤量塔４０
にフッ酸の滴下が開始され、規定容量Ｖ 1が秤量塔４０
に溜まる時刻Ｔ６にエアーバルブＡＶ１４が閉じる
（）。
明する。図２はエアーバルブＡＶの開閉状態を説明する
シーケンス図である。各エアーバルブＡＶは、開閉制御
装置によってシーケンシャルに開閉されている。尚、ハ
ンドバルブＨＶは開閉制御装置の制御対象からは除外さ
れており、手動で開閉を行う。先ず、時刻Ｔ１でエアー
バルブＡＶ１１が開き、原料タンク１０に対するフッ酸
の注入がなされ、必要な量のフッ酸が原料タンク１０に
溜まる時刻Ｔ２にエアーバルブＡＶ１１が閉じる
（）。続いて、時刻Ｔ３でエアーバルブＡＶ１３が開
き、原料タンク１０のフッ酸を強酸計量タンク２０に押
し上げ、規定容量に到達する時刻Ｔ４にエアーバルブＡ
Ｖ１３が閉じる（）。次に、時刻Ｔ５でエアーバルと
ブＡＶ１４が開き、強酸計量タンク２０から秤量塔４０
にフッ酸の滴下が開始され、規定容量Ｖ 1が秤量塔４０
に溜まる時刻Ｔ６にエアーバルブＡＶ１４が閉じる
（）。
【００１１】また、時刻Ｔ１でエアーバルブＡＶ３２が
開き、純水計量タンク３０に対する純水の注入が開始さ
れ、必要な量の純水が純水計量タンク３０に溜まる時刻
Ｔ７にエアーバルブＡＶ３２が閉じる（）。続いて、
時刻Ｔ８でエアーバルブＡＶ３３が開き、純水計量タン
ク３０から秤量塔４０に純水の滴下が開始され、規定容
量Ｖ2が秤量塔４０に溜まる時刻Ｔ９にエアーバルブＡ
Ｖ３３が閉じる（)。
開き、純水計量タンク３０に対する純水の注入が開始さ
れ、必要な量の純水が純水計量タンク３０に溜まる時刻
Ｔ７にエアーバルブＡＶ３２が閉じる（）。続いて、
時刻Ｔ８でエアーバルブＡＶ３３が開き、純水計量タン
ク３０から秤量塔４０に純水の滴下が開始され、規定容
量Ｖ2が秤量塔４０に溜まる時刻Ｔ９にエアーバルブＡ
Ｖ３３が閉じる（)。
【００１２】秤量塔４０に希釈フッ酸が貯えられると、
時刻Ｔ１０でエアーバルブＡＶ２１が開き、秤量塔４０
に圧縮窒素ガスＮ2が送られる。第１出力から希釈フッ
酸を供給する場合は、時刻Ｔ１０でエアーバルブＡＶ４
１が開いて秤量塔４０の希釈フッ酸が供給され、必要な
量の希釈フッ酸が供給される時刻Ｔ１１にエアーバルブ
ＡＶ４１が閉じる（）。第２出力から希釈フッ酸を供
給する場合は、時刻Ｔ１２でエアーバルブＡＶ４２が開
いて秤量塔４０の希釈フッ酸が供給され、必要な量の希
釈フッ酸が供給される時刻Ｔ１３にエアーバルブＡＶ４
２が閉じる（）。希釈フッ酸を秤量塔４０から供給す
る作業が終了する時刻Ｔ１３には、エアーバルブＡＶ２
１を閉じる（）。
時刻Ｔ１０でエアーバルブＡＶ２１が開き、秤量塔４０
に圧縮窒素ガスＮ2が送られる。第１出力から希釈フッ
酸を供給する場合は、時刻Ｔ１０でエアーバルブＡＶ４
１が開いて秤量塔４０の希釈フッ酸が供給され、必要な
量の希釈フッ酸が供給される時刻Ｔ１１にエアーバルブ
ＡＶ４１が閉じる（）。第２出力から希釈フッ酸を供
給する場合は、時刻Ｔ１２でエアーバルブＡＶ４２が開
いて秤量塔４０の希釈フッ酸が供給され、必要な量の希
釈フッ酸が供給される時刻Ｔ１３にエアーバルブＡＶ４
２が閉じる（）。希釈フッ酸を秤量塔４０から供給す
る作業が終了する時刻Ｔ１３には、エアーバルブＡＶ２
１を閉じる（）。
【００１３】図３は、強酸計量タンク２０の詳細構成図
である。ここでは、強酸計量タンク２０は円筒形をした
もので断面積はＡ1になっている。上位側センサ２２ａ
と下位側センサ２２ｂは対向面に液体が存在するい否か
を検出するスイッチで、例えば静電容量式の非接触式セ
ンサを用いる。上位側センサ２２ａと下位側センサ２２
ｂの取付け位置の差Ｈ1がフッ酸液面の降下液位に対応
している。この強酸計量タンク２０で計量される一回の
フッ酸容量Ｖ1には次の関係が成立している。 Ｖ1＝Ａ1ｘＨ1 (1)
である。ここでは、強酸計量タンク２０は円筒形をした
もので断面積はＡ1になっている。上位側センサ２２ａ
と下位側センサ２２ｂは対向面に液体が存在するい否か
を検出するスイッチで、例えば静電容量式の非接触式セ
ンサを用いる。上位側センサ２２ａと下位側センサ２２
ｂの取付け位置の差Ｈ1がフッ酸液面の降下液位に対応
している。この強酸計量タンク２０で計量される一回の
フッ酸容量Ｖ1には次の関係が成立している。 Ｖ1＝Ａ1ｘＨ1 (1)
【００１４】ここでは、液位を検出するセンサとして、
近接スイッチを用いているので、原料タンク１０からの
フッ酸の受入れや、秤量塔４０へのフッ酸の払出しに際
して液面が平坦であるように維持すると測定が精度良く
行える。そこで、強酸計量タンク２０の原料タンク１０
や秤量塔４０と接続される管路の位置は、強酸計量タン
ク２０の底面に近い部位としている。また、作業者が液
位の観測を容易にできるように、上位側センサ２２ａと
下位側センサ２２ｂの取付け位置を含む区間に、透明な
ガラス管等よりなる目視管２４を併設している。
近接スイッチを用いているので、原料タンク１０からの
フッ酸の受入れや、秤量塔４０へのフッ酸の払出しに際
して液面が平坦であるように維持すると測定が精度良く
行える。そこで、強酸計量タンク２０の原料タンク１０
や秤量塔４０と接続される管路の位置は、強酸計量タン
ク２０の底面に近い部位としている。また、作業者が液
位の観測を容易にできるように、上位側センサ２２ａと
下位側センサ２２ｂの取付け位置を含む区間に、透明な
ガラス管等よりなる目視管２４を併設している。
【００１５】図４は、純水計量タンク３０の詳細構成図
である。ここでは、純水計量タンク３０は円筒形をした
もので断面積はＡ2になっている。上位側センサ３２ａ
と下位側センサ３２ｂは対向面に液体が存在するい否か
を検出するスイッチで、例えば静電容量式の非接触式セ
ンサを用いる。上位側センサ３２ａと下位側センサ３２
ｂの取付け位置の差Ｈ2が純水液面の降下水位に対応し
ている。この純水計量タンク３０で計量される一回の純
水容量Ｖ2には次の関係が成立している。 Ｖ2＝Ａ2ｘＨ2 (2)
である。ここでは、純水計量タンク３０は円筒形をした
もので断面積はＡ2になっている。上位側センサ３２ａ
と下位側センサ３２ｂは対向面に液体が存在するい否か
を検出するスイッチで、例えば静電容量式の非接触式セ
ンサを用いる。上位側センサ３２ａと下位側センサ３２
ｂの取付け位置の差Ｈ2が純水液面の降下水位に対応し
ている。この純水計量タンク３０で計量される一回の純
水容量Ｖ2には次の関係が成立している。 Ｖ2＝Ａ2ｘＨ2 (2)
【００１６】ここでは、液位を検出するセンサとして、
近接スイッチを用いているので、純水の受入れや、秤量
塔４０への純水の払出しに際して液面が平坦であるよう
に維持すると測定が精度良く行える。そこで、純水計量
タンク３０の原料タンク１０や秤量塔４０と接続される
管路の位置は、純水計量タンク３０の底面に近い部位と
している。また、作業者が液位の観測を容易にできるよ
うに、上位側センサ３２ａと下位側センサ３２ｂの取付
け位置を含む区間に、透明なガラス管等よりなる目視管
３４を併設している。
近接スイッチを用いているので、純水の受入れや、秤量
塔４０への純水の払出しに際して液面が平坦であるよう
に維持すると測定が精度良く行える。そこで、純水計量
タンク３０の原料タンク１０や秤量塔４０と接続される
管路の位置は、純水計量タンク３０の底面に近い部位と
している。また、作業者が液位の観測を容易にできるよ
うに、上位側センサ３２ａと下位側センサ３２ｂの取付
け位置を含む区間に、透明なガラス管等よりなる目視管
３４を併設している。
【００１７】なお、上記実施例においては、液位を検出
するセンサとして、近接スイッチを用いているが、本発
明はこれに限定されるものではなく、液面の上側に取り
付けられる超音波式の測距儀や、液面の底面に取り付け
られる圧力計を用いて液位を測定してもよい。また強酸
としてフッ酸を例示したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、硝酸・塩酸・硫酸等の他の酸でも差し支
えない。
するセンサとして、近接スイッチを用いているが、本発
明はこれに限定されるものではなく、液面の上側に取り
付けられる超音波式の測距儀や、液面の底面に取り付け
られる圧力計を用いて液位を測定してもよい。また強酸
としてフッ酸を例示したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、硝酸・塩酸・硫酸等の他の酸でも差し支
えない。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、強
酸計量タンク２０からフッ酸を一定容量Ｖ1を秤量塔４
０に送り、純水計量タンク３０から純水を所定容量Ｖ2
を秤量塔４０に送っているので、秤量塔４０には希釈フ
ッ酸をえることができ、安価な設備価格で比較的精度の
よい混合比が得られ、半導体製造のように歩留り率が原
価に直結する用途では、均質な希釈フッ酸の得られる効
果は大きい。また、各タンクや管路には、耐薬品性の高
い材料を用いているので、フッ酸や純水が不純物に汚染
されることもなく、半導体製造に適している。
酸計量タンク２０からフッ酸を一定容量Ｖ1を秤量塔４
０に送り、純水計量タンク３０から純水を所定容量Ｖ2
を秤量塔４０に送っているので、秤量塔４０には希釈フ
ッ酸をえることができ、安価な設備価格で比較的精度の
よい混合比が得られ、半導体製造のように歩留り率が原
価に直結する用途では、均質な希釈フッ酸の得られる効
果は大きい。また、各タンクや管路には、耐薬品性の高
い材料を用いているので、フッ酸や純水が不純物に汚染
されることもなく、半導体製造に適している。
【図１】本発明の一実施例を示す配管図である。
【図２】エアーバルブＡＶの開閉状態を説明するシーケ
ンス図である。
ンス図である。
【図３】強酸計量タンク２０の詳細構成図である。
【図４】純水計量タンク３０の詳細構成図である。
１０ 原料タンク ２０ 強酸計量タンク ３０ 純水計量タンク ４０ 秤量塔 ＡＶ エアーバルブ ＨＶ ハンドバルブ ＮＲＶ 逆止弁 Ｆ フィルター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｓ 21/306 Ｃ０１Ｂ 7/19 Ａ // Ｃ０１Ｂ 7/19 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ
Claims (1)
- 【請求項１】所定濃度の強酸溶液が貯蓄された原液タン
ク（１０）から、強酸計量タンク（２０）に当該強酸溶
液を送液する手段と、 この強酸計量タンクに蓄えられた当該強酸溶液から一定
容量（Ｖ1)を秤量塔（４０）に送液する手段と、 純水計量タンク（３０）に蓄えられた純水から、前記強
酸溶液と所定の希釈率となる容量（Ｖ2)を当該秤量塔
（４０）に送液する手段と、 を具備し、この秤量塔に貯蔵された強酸希釈液を供給す
ることを特徴とする強酸の希釈装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8170983A JPH1015379A (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 強酸の希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8170983A JPH1015379A (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 強酸の希釈装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1015379A true JPH1015379A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=15914964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8170983A Pending JPH1015379A (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 強酸の希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1015379A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005262129A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Technomate Co Ltd | 液混合装置 |
| JP2009189969A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | 流体の濃度調整方法及び調整装置、並びに該装置を用いた有機性排水の処理機構 |
| CN103398894A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-11-20 | 孙卫国 | 一种可调比例的稀释装置及稀释方法 |
| JP2019069420A (ja) * | 2017-10-10 | 2019-05-09 | 株式会社テクノメイト | 薬液供給装置 |
| US11728188B2 (en) | 2019-08-23 | 2023-08-15 | Kioxia Corporation | Semiconductor manufacturing device |
-
1996
- 1996-07-01 JP JP8170983A patent/JPH1015379A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005262129A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Technomate Co Ltd | 液混合装置 |
| JP2009189969A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | 流体の濃度調整方法及び調整装置、並びに該装置を用いた有機性排水の処理機構 |
| CN103398894A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-11-20 | 孙卫国 | 一种可调比例的稀释装置及稀释方法 |
| JP2019069420A (ja) * | 2017-10-10 | 2019-05-09 | 株式会社テクノメイト | 薬液供給装置 |
| US11728188B2 (en) | 2019-08-23 | 2023-08-15 | Kioxia Corporation | Semiconductor manufacturing device |
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