JPH10158704A - ガリウム微粒子の製造方法 - Google Patents
ガリウム微粒子の製造方法Info
- Publication number
- JPH10158704A JPH10158704A JP32277096A JP32277096A JPH10158704A JP H10158704 A JPH10158704 A JP H10158704A JP 32277096 A JP32277096 A JP 32277096A JP 32277096 A JP32277096 A JP 32277096A JP H10158704 A JPH10158704 A JP H10158704A
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- JP
- Japan
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- gallium
- nozzle
- fine particles
- melt
- coolant
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- Pending
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体製造に用いる添加物として適し
た、重量が微量でかつ均一なガリウム微粒子の製造方法
の提供を課題とする。 【解決手段】 ガリウム融液を、ノズルよりノズル下方
に設置された流動状態の冷却剤中にガリウム融液を滴下
させて微粒子を得るに際し、ノズル近傍のガリウム融液
に不活性ガスを吹き付ける。そして、冷却剤としては０
℃以下にしたアルコール類を用いる。
た、重量が微量でかつ均一なガリウム微粒子の製造方法
の提供を課題とする。 【解決手段】 ガリウム融液を、ノズルよりノズル下方
に設置された流動状態の冷却剤中にガリウム融液を滴下
させて微粒子を得るに際し、ノズル近傍のガリウム融液
に不活性ガスを吹き付ける。そして、冷却剤としては０
℃以下にしたアルコール類を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造用添加
物であるガリウム微粒子の製造方法に関する。
物であるガリウム微粒子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体の電気特性を決定するた
めに各種の添加物が用いられている。このような半導体
用であること、微量の添加量であることなどが要求され
ることから、高純度で、重量が微量でかつ均一な粒状
物、あるいは粉状物が用いられている。
めに各種の添加物が用いられている。このような半導体
用であること、微量の添加量であることなどが要求され
ることから、高純度で、重量が微量でかつ均一な粒状
物、あるいは粉状物が用いられている。
【０００３】従来、このような添加物は固形状母原料を
粉砕し結晶片にして整粒することや、溶融した原料を適
当な容器に鋳造して製造している。
粉砕し結晶片にして整粒することや、溶融した原料を適
当な容器に鋳造して製造している。
【０００４】しかし、固形状母原料を粉砕して結晶片に
した場合、整粒しても得られる結晶片ごとの重量のばら
つきが大きく、添加用としては必ずしも適したものが得
られていない。
した場合、整粒しても得られる結晶片ごとの重量のばら
つきが大きく、添加用としては必ずしも適したものが得
られていない。
【０００５】また、溶融した原料を適当な容器に鋳造す
る場合には生産性が極めて悪いという問題がある。
る場合には生産性が極めて悪いという問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものであり、半導体製造
に用いる添加物として適した、重量が微量でかつ均一な
ガリウム微粒子の製造方法の提供を課題とする。
題点を解決するためになされたものであり、半導体製造
に用いる添加物として適した、重量が微量でかつ均一な
ガリウム微粒子の製造方法の提供を課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の方法は、ガリウム融液を、ノズルよりノズル下方に
設置された冷却剤中にガリウム融液を滴下させて微粒子
を得るに際し、ノズル近傍のガリウム融液に不活性ガス
を吹き付けるものであり、好ましくは冷却剤を流動状態
におく、具体的には冷却剤を攪拌、または冷却剤を収納
した容器自体を回転等させるものである。また、冷却剤
としては０℃以下にしたアルコール類を用いることが好
ましい。
明の方法は、ガリウム融液を、ノズルよりノズル下方に
設置された冷却剤中にガリウム融液を滴下させて微粒子
を得るに際し、ノズル近傍のガリウム融液に不活性ガス
を吹き付けるものであり、好ましくは冷却剤を流動状態
におく、具体的には冷却剤を攪拌、または冷却剤を収納
した容器自体を回転等させるものである。また、冷却剤
としては０℃以下にしたアルコール類を用いることが好
ましい。
【０００８】なお、本発明の具体化においては下端にノ
ズルを有する容器内に融液を貯めても良く、容器内の融
液をテフロンチューブなどを経由して定量ポンプ等で汲
み出し、該チューブの吐出端をノズルとしても良い。
ズルを有する容器内に融液を貯めても良く、容器内の融
液をテフロンチューブなどを経由して定量ポンプ等で汲
み出し、該チューブの吐出端をノズルとしても良い。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の方法において、ノズルよ
りガリウム融液を滴下させるのは、ノズルの径を変える
ことにより所望の径のガリウム微粒子を得ることが可能
だからである。また、場合によっては下端にノズルを有
する容器内にガリウム融液を入れ、この容器に圧力をか
ければノズルの径を極めて小さくでき、微細なガリウム
粒子を得ることが可能である。
りガリウム融液を滴下させるのは、ノズルの径を変える
ことにより所望の径のガリウム微粒子を得ることが可能
だからである。また、場合によっては下端にノズルを有
する容器内にガリウム融液を入れ、この容器に圧力をか
ければノズルの径を極めて小さくでき、微細なガリウム
粒子を得ることが可能である。
【００１０】本発明の方法で、ノズル近傍の融体に不活
性ガスを吹き付けるのは融体の表面層の粘度を高くし、
あるいは表層を固化し、冷却剤中にガリウムが侵入した
場合のショックによる変形や割れの発生を防止するため
である。また、不活性ガスを吹き付けることによりガリ
ウム融液の液切れが良くなり、結果的に粒径が小さくな
る。
性ガスを吹き付けるのは融体の表面層の粘度を高くし、
あるいは表層を固化し、冷却剤中にガリウムが侵入した
場合のショックによる変形や割れの発生を防止するため
である。また、不活性ガスを吹き付けることによりガリ
ウム融液の液切れが良くなり、結果的に粒径が小さくな
る。
【００１１】冷却剤中に侵入したガリウムは固化する
が、この際の冷却剤の温度は、その目的より、ガリウム
の融点２９．８℃未満であれば良い。しかし、ガリウム
結晶を安定的に得るためには冷却剤の温度は０℃以下と
することが好ましく、そのためには融点が０℃以下の溶
媒を用いることが好ましい。具体的にはアルコール類を
冷却剤とすると簡便である。
が、この際の冷却剤の温度は、その目的より、ガリウム
の融点２９．８℃未満であれば良い。しかし、ガリウム
結晶を安定的に得るためには冷却剤の温度は０℃以下と
することが好ましく、そのためには融点が０℃以下の溶
媒を用いることが好ましい。具体的にはアルコール類を
冷却剤とすると簡便である。
【００１２】また、冷却剤は落下してくるガリウム微粒
子が重なり合わないように流動していることが好まし
い。冷却剤を攪拌するか冷却剤を収納した冷却槽自体を
回転等させることにより容易にこの目的は達成できる。
子が重なり合わないように流動していることが好まし
い。冷却剤を攪拌するか冷却剤を収納した冷却槽自体を
回転等させることにより容易にこの目的は達成できる。
【００１３】なお、原料ガリウムを容器中で溶解し精製
して高純度の融体をえて、これを滴下しても良いが、純
度９９．９９９９％以上のガリウム結晶を用いて融体を
得たほうが簡便である。
して高純度の融体をえて、これを滴下しても良いが、純
度９９．９９９９％以上のガリウム結晶を用いて融体を
得たほうが簡便である。
【００１４】
【実施例】次に実施例を用いて本発明をさらに説明す
る。
る。
【００１５】（実施例１）純度９９．９９９９％のガリ
ウムをテフロン製容器に入れ、３５℃に加温して溶融し
た。内径１ｍｍのテフロンチューブの一端をガリウム融
液中に入れ、送液ポンプを経由して他の一端を冷却槽の
直上に設置した。この一端の近傍に窒素ガスの吹き出し
口を設けた。窒素ガスとテフロンチューブ出口との距離
は１０ｍｍとし、送液ポンプの送液量は３ミリリットル
／分、窒素ガスの流量は１０リットル／分とした。
ウムをテフロン製容器に入れ、３５℃に加温して溶融し
た。内径１ｍｍのテフロンチューブの一端をガリウム融
液中に入れ、送液ポンプを経由して他の一端を冷却槽の
直上に設置した。この一端の近傍に窒素ガスの吹き出し
口を設けた。窒素ガスとテフロンチューブ出口との距離
は１０ｍｍとし、送液ポンプの送液量は３ミリリットル
／分、窒素ガスの流量は１０リットル／分とした。
【００１６】なお、冷却剤として−２０℃のエタノール
を使用し、冷却槽を３０ｒｐｍで回転した。
を使用し、冷却槽を３０ｒｐｍで回転した。
【００１７】得られたガリウム結晶粒を任意に５０個抜
き取り重量を測定した。平均重量は０．０５ｇ，最大重
量０．０６ｇ、最小重量０．０４ｇ、標準偏差は０．０
０３６で粒径のそろったものであった。
き取り重量を測定した。平均重量は０．０５ｇ，最大重
量０．０６ｇ、最小重量０．０４ｇ、標準偏差は０．０
０３６で粒径のそろったものであった。
【００１８】（比較例１）窒素ガスを用いない以外は実
施例１と同様にしてガリウム結晶粒を得た。
施例１と同様にしてガリウム結晶粒を得た。
【００１９】得られたガリウム結晶粒を任意に５０個抜
き取り重量を測定した。平均重量は０．１３ｇ，最大重
量０．１９ｇ、最小重量０．０９ｇ、標準偏差は０．０
２１８であり、粒径は不揃いであつかいにくいものとな
っていた。
き取り重量を測定した。平均重量は０．１３ｇ，最大重
量０．１９ｇ、最小重量０．０９ｇ、標準偏差は０．０
２１８であり、粒径は不揃いであつかいにくいものとな
っていた。
【００２０】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ノズル先端近傍
で落下するガリウム融体粒に不活性ガスを吹き当て、表
面層の粘度を上げ、あるいは固化させるため、所望の径
で大きさと形状の揃ったガリウム微粒子が容易にかつ安
価に製造できる。
で落下するガリウム融体粒に不活性ガスを吹き当て、表
面層の粘度を上げ、あるいは固化させるため、所望の径
で大きさと形状の揃ったガリウム微粒子が容易にかつ安
価に製造できる。
Claims (5)
- 【請求項１】 ガリウム融液を、ノズルよりノズル下
方に設置された冷却剤中にガリウム融液を滴下させて微
粒子を得るに際し、ノズル近傍のガリウム融液に不活性
ガスを吹き付けることを特徴とするガリウム微粒子の製
造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の方法において、流動状
態の冷却剤中にガリウム融液を滴下する製造方法。 - 【請求項３】 ０℃以下にしたアルコール類を冷却剤
として用いる請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 下端にノズルを有する容器を用い、該
ノズルよりガリウム融液を滴下する請求項１〜３記載の
何れかの方法。 - 【請求項５】 ガリウム融液をテフロンチューブなど
を用いて定量ポンプ等で汲み出し、該チューブの吐出端
をノズルとし、該ノズルよりガリウム融液を滴下する請
求項１〜３記載の何れかの方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32277096A JPH10158704A (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | ガリウム微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32277096A JPH10158704A (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | ガリウム微粒子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10158704A true JPH10158704A (ja) | 1998-06-16 |
Family
ID=18147456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32277096A Pending JPH10158704A (ja) | 1996-12-03 | 1996-12-03 | ガリウム微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10158704A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103157799A (zh) * | 2011-12-15 | 2013-06-19 | 广东先导稀材股份有限公司 | 镓粒的制备方法 |
| CN111659897A (zh) * | 2020-06-23 | 2020-09-15 | 楚雄川至电子材料有限公司 | 一种高纯镓粒生产工艺方法 |
| CN113102763A (zh) * | 2021-04-12 | 2021-07-13 | 清远先导材料有限公司 | 一种高纯镓粒的制备方法 |
-
1996
- 1996-12-03 JP JP32277096A patent/JPH10158704A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103157799A (zh) * | 2011-12-15 | 2013-06-19 | 广东先导稀材股份有限公司 | 镓粒的制备方法 |
| CN103157799B (zh) * | 2011-12-15 | 2015-07-29 | 广东先导稀材股份有限公司 | 镓粒的制备方法 |
| CN111659897A (zh) * | 2020-06-23 | 2020-09-15 | 楚雄川至电子材料有限公司 | 一种高纯镓粒生产工艺方法 |
| CN111659897B (zh) * | 2020-06-23 | 2021-07-06 | 楚雄川至电子材料有限公司 | 一种高纯镓粒生产工艺方法 |
| CN113102763A (zh) * | 2021-04-12 | 2021-07-13 | 清远先导材料有限公司 | 一种高纯镓粒的制备方法 |
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