JPH10160930A - ペリクル光学素子 - Google Patents
ペリクル光学素子Info
- Publication number
- JPH10160930A JPH10160930A JP33636596A JP33636596A JPH10160930A JP H10160930 A JPH10160930 A JP H10160930A JP 33636596 A JP33636596 A JP 33636596A JP 33636596 A JP33636596 A JP 33636596A JP H10160930 A JPH10160930 A JP H10160930A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- optical element
- pellicle
- multilayer film
- polymer substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多層膜の膜応力による歪みがなく、高精度な
平面を有するペリクル光学素子を得る。 【解決手段】 高分子基体１は樹脂をフィルム状に引き
延ばして形成したもので、高分子基体１をペリクル枠２
に接着剤３を用いて接着する。このペリクル枠２に高い
面精度を保って固定された高分子基体１の表面に、薄膜
形成装置により、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とが
交互に積層された多層膜を形成し、その膜応力を、１．
５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2よりも小さくする。多層膜の膜
応力を１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2よりも小さく抑える
と、薄い高分子基体上に多層膜を形成しても、ペリクル
光学素子には膜応力による歪みが発生せず、高精度な平
面が保たれる。
平面を有するペリクル光学素子を得る。 【解決手段】 高分子基体１は樹脂をフィルム状に引き
延ばして形成したもので、高分子基体１をペリクル枠２
に接着剤３を用いて接着する。このペリクル枠２に高い
面精度を保って固定された高分子基体１の表面に、薄膜
形成装置により、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とが
交互に積層された多層膜を形成し、その膜応力を、１．
５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2よりも小さくする。多層膜の膜
応力を１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2よりも小さく抑える
と、薄い高分子基体上に多層膜を形成しても、ペリクル
光学素子には膜応力による歪みが発生せず、高精度な平
面が保たれる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビームスプリッタ
やダイクロイックミラーなどに用いられるペリクル光学
素子に係り、特に平面性の高いペリクル光学素子に関す
る。
やダイクロイックミラーなどに用いられるペリクル光学
素子に係り、特に平面性の高いペリクル光学素子に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ビームスプリッタやダイクロイッ
クミラーには、所定のコーティングを表面に施したガラ
ス製のものや、所定のコーティングを表面に施した樹脂
フィルム（ペリクルと呼ばれる。）製のものがある。ビ
ームスプリッタ、ダイクロイックミラーなど光学素子上
に成膜される薄膜には、高屈折率を有する物質と低屈折
率を有する物質とを交互に積層した多層膜が知られてい
る。高屈折率物質としては、酸化チタン、酸化ジルコニ
ウム、五酸化タンタルなどが挙げられ、また、低屈折率
物質としては、酸化珪素、弗化マグネシウムなどが挙げ
られる。これらの物質は、通常、電子線蒸着（ＥＢ蒸
着）、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方
法により基材に成膜される。
クミラーには、所定のコーティングを表面に施したガラ
ス製のものや、所定のコーティングを表面に施した樹脂
フィルム（ペリクルと呼ばれる。）製のものがある。ビ
ームスプリッタ、ダイクロイックミラーなど光学素子上
に成膜される薄膜には、高屈折率を有する物質と低屈折
率を有する物質とを交互に積層した多層膜が知られてい
る。高屈折率物質としては、酸化チタン、酸化ジルコニ
ウム、五酸化タンタルなどが挙げられ、また、低屈折率
物質としては、酸化珪素、弗化マグネシウムなどが挙げ
られる。これらの物質は、通常、電子線蒸着（ＥＢ蒸
着）、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方
法により基材に成膜される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ビームスプリッタは入
射光線束を二分割して一部を透過し、もう一部を反射す
る光学素子であり、ダイクロイックミラーは入射する可
視光の一部の波長範囲を反射し、残りを透過する光学素
子である。つまり、ビームスプリッタも、ダイクロイッ
クミラーも共に透過と反射の機能を持った光学素子であ
る。反射機能の観点から、これらの光学素子の表面に
は、高精度の平面が要求される。殊に、一度光学素子で
分離した光を再び合成する光学系（シュリーレン光学系
など）に用いる場合、高い平面性が要求される。
射光線束を二分割して一部を透過し、もう一部を反射す
る光学素子であり、ダイクロイックミラーは入射する可
視光の一部の波長範囲を反射し、残りを透過する光学素
子である。つまり、ビームスプリッタも、ダイクロイッ
クミラーも共に透過と反射の機能を持った光学素子であ
る。反射機能の観点から、これらの光学素子の表面に
は、高精度の平面が要求される。殊に、一度光学素子で
分離した光を再び合成する光学系（シュリーレン光学系
など）に用いる場合、高い平面性が要求される。
【０００４】高精度の平面を形成するには、光学素子の
基体として、ガラスが有利である。しかし、ガラスの基
体は、フィルムのように薄く製作するのは困難であり、
どうしても厚くなるため、材質の屈折率による光路長の
変化が大きく、問題となる。一方、ペリクルを用いた光
学素子（以下ペリクル光学素子という。）は、厚さを非
常に薄くできる点で有利であり、ビームスプリッタなど
を多数用いる光学系では、全体の光学設計を簡略化する
ためにも高精度の平面を有するペリクル光学素子が求め
られている。
基体として、ガラスが有利である。しかし、ガラスの基
体は、フィルムのように薄く製作するのは困難であり、
どうしても厚くなるため、材質の屈折率による光路長の
変化が大きく、問題となる。一方、ペリクルを用いた光
学素子（以下ペリクル光学素子という。）は、厚さを非
常に薄くできる点で有利であり、ビームスプリッタなど
を多数用いる光学系では、全体の光学設計を簡略化する
ためにも高精度の平面を有するペリクル光学素子が求め
られている。
【０００５】しかしながら、上記ＥＢ蒸着等の成膜法で
多層膜を形成したペリクル光学素子には、歪みが発生
し、面精度がでなかった。これは、ペリクル光学素子の
場合、成膜する基体（ペリクル）の厚さが薄いため、多
層膜の膜応力によって面精度が悪化するからである。一
般的に、酸化チタンは引っ張りの膜応力を持ち、酸化珪
素は圧縮の膜応力を有する。例えば、従来のＥＢ蒸着法
による薄膜の膜応力の値は、酸化チタンで１〜３×１０
9ｄｙｎ／ｃｍ2の引っ張り応力、酸化珪素で１〜２×１
０9ｄｙｎ／ｃｍ2の圧縮応力である。このとき、これら
の膜応力を相殺して膜応力の小さい多層膜を製作するこ
とが試みられたが、１０9ｄｙｎ／ｃｍ2のオーダーの膜
応力が残ってしまい、歪みが発生した。
多層膜を形成したペリクル光学素子には、歪みが発生
し、面精度がでなかった。これは、ペリクル光学素子の
場合、成膜する基体（ペリクル）の厚さが薄いため、多
層膜の膜応力によって面精度が悪化するからである。一
般的に、酸化チタンは引っ張りの膜応力を持ち、酸化珪
素は圧縮の膜応力を有する。例えば、従来のＥＢ蒸着法
による薄膜の膜応力の値は、酸化チタンで１〜３×１０
9ｄｙｎ／ｃｍ2の引っ張り応力、酸化珪素で１〜２×１
０9ｄｙｎ／ｃｍ2の圧縮応力である。このとき、これら
の膜応力を相殺して膜応力の小さい多層膜を製作するこ
とが試みられたが、１０9ｄｙｎ／ｃｍ2のオーダーの膜
応力が残ってしまい、歪みが発生した。
【０００６】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたもので、高精度な平面を有するペリクル
光学素子を提供することを目的とする。
鑑みてなされたもので、高精度な平面を有するペリクル
光学素子を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、高分子基体上に形成される多層膜の膜応
力を、１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2以下としたペリクル
光学素子である。
に、本発明は、高分子基体上に形成される多層膜の膜応
力を、１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2以下としたペリクル
光学素子である。
【０００８】多層膜の膜応力を１．５×１０5ｄｙｎ／
ｃｍ2よりも小さく抑えると、薄い高分子基体上に多層
膜を形成しても、ペリクル光学素子には膜応力による歪
みが発生せず、高精度な平面が保たれる。例えば、面精
度が干渉縞１０本程度に保たれた薄い高分子基体上に１
×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2程度の膜応力の多層膜を成膜し、
成膜後のペリクル光学素子の干渉縞をフィゾー干渉法に
より測定しても、成膜前と同等の面精度が得られる。従
って、一度分離した光を再び合成して像を得るようなシ
ュリーレン光学系などに好適である。
ｃｍ2よりも小さく抑えると、薄い高分子基体上に多層
膜を形成しても、ペリクル光学素子には膜応力による歪
みが発生せず、高精度な平面が保たれる。例えば、面精
度が干渉縞１０本程度に保たれた薄い高分子基体上に１
×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2程度の膜応力の多層膜を成膜し、
成膜後のペリクル光学素子の干渉縞をフィゾー干渉法に
より測定しても、成膜前と同等の面精度が得られる。従
って、一度分離した光を再び合成して像を得るようなシ
ュリーレン光学系などに好適である。
【０００９】また本発明は、上記多層膜が、波長５００
ｎｍで２．１０〜２．２０の屈折率を有した酸化チタン
と１．４９〜１．５１の屈折率を有した酸化珪素とを交
互に積層した多層膜であるペリクル光学素子である。
ｎｍで２．１０〜２．２０の屈折率を有した酸化チタン
と１．４９〜１．５１の屈折率を有した酸化珪素とを交
互に積層した多層膜であるペリクル光学素子である。
【００１０】高精度の面精度を有した高分子基体上の光
学膜においては、その膜応力と屈折率に相関があるとの
知見が得られた。すなわち、ＥＢ蒸着法やイオンプレー
ティング法で成膜された従来の酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2）、酸化珪素（ＳｉＯ2）の屈折率はそれぞれ、波長
５００ｎｍで２．４８，１．４７であり、また、膜応力
の値は、酸化チタンで１〜３×１０9ｄｙｎ／ｃｍ2の引
っ張り応力、酸化珪素で１〜２×１０9ｄｙｎ／ｃｍ2の
圧縮応力であった。これに対し、本発明では、波長５０
０ｎｍで２．１０〜２．２０の屈折率を有した酸化チタ
ンと１．４９〜１．５１の屈折率を有した酸化珪素の多
層膜の膜応力は、約０．５〜１．５×１０5ｄｙｎ／ｃ
ｍ2の引っ張り応力であり、従来の膜応力と比べて極め
て小さく、概ね従来の１／１００００以下であることが
わかった。この理由は、現状では明確ではないが、高分
子基体を加熱せず極めて低い温度にて成膜したこと、さ
らに酸素分圧を成膜中に変化させたことにより、膜応力
が極めて低い多層膜が得られたと考えられる。なお、本
発明の薄膜の屈折率が従来と大きく異なるので、光学特
性を持たせるために、多層膜の層数は１３層以上とする
のが好ましい。
学膜においては、その膜応力と屈折率に相関があるとの
知見が得られた。すなわち、ＥＢ蒸着法やイオンプレー
ティング法で成膜された従来の酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2）、酸化珪素（ＳｉＯ2）の屈折率はそれぞれ、波長
５００ｎｍで２．４８，１．４７であり、また、膜応力
の値は、酸化チタンで１〜３×１０9ｄｙｎ／ｃｍ2の引
っ張り応力、酸化珪素で１〜２×１０9ｄｙｎ／ｃｍ2の
圧縮応力であった。これに対し、本発明では、波長５０
０ｎｍで２．１０〜２．２０の屈折率を有した酸化チタ
ンと１．４９〜１．５１の屈折率を有した酸化珪素の多
層膜の膜応力は、約０．５〜１．５×１０5ｄｙｎ／ｃ
ｍ2の引っ張り応力であり、従来の膜応力と比べて極め
て小さく、概ね従来の１／１００００以下であることが
わかった。この理由は、現状では明確ではないが、高分
子基体を加熱せず極めて低い温度にて成膜したこと、さ
らに酸素分圧を成膜中に変化させたことにより、膜応力
が極めて低い多層膜が得られたと考えられる。なお、本
発明の薄膜の屈折率が従来と大きく異なるので、光学特
性を持たせるために、多層膜の層数は１３層以上とする
のが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
を用いて説明する。図１は、本発明のペリクル光学素子
の一実施形態を示す断面図である。高分子基体１は樹脂
をフィルム状に引き延ばして形成したもので、高分子基
体１は高い面精度を保ってペリクル枠２に接着剤３を用
いて接着固定される。このペリクル枠２に固定された高
分子基体１の表面に、薄膜形成装置により、高屈折率の
薄膜と低屈折率の薄膜とが交互に積層された多層膜を形
成し、その膜応力を、１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2より
も小さくなるように設定する。
を用いて説明する。図１は、本発明のペリクル光学素子
の一実施形態を示す断面図である。高分子基体１は樹脂
をフィルム状に引き延ばして形成したもので、高分子基
体１は高い面精度を保ってペリクル枠２に接着剤３を用
いて接着固定される。このペリクル枠２に固定された高
分子基体１の表面に、薄膜形成装置により、高屈折率の
薄膜と低屈折率の薄膜とが交互に積層された多層膜を形
成し、その膜応力を、１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2より
も小さくなるように設定する。
【００１２】図２は、ペリクル光学素子に多層膜を成膜
するための薄膜形成装置を示す概略構成図である。この
薄膜形成装置は、蒸発源を載置する蒸発源保持手段４
と、基板５を支持する回転可能な基板ホルダー６と、基
板５の上に形成された薄膜の膜厚を測定する水晶振動子
からなる膜厚モニター７と、蒸発源からの蒸発粒子が基
板５に到達するのを防ぐシャッター８と、蒸発源を加熱
する電子銃９と、これらの構成要素が設置される空間を
真空状態にするための真空容器１０とを備えている。
するための薄膜形成装置を示す概略構成図である。この
薄膜形成装置は、蒸発源を載置する蒸発源保持手段４
と、基板５を支持する回転可能な基板ホルダー６と、基
板５の上に形成された薄膜の膜厚を測定する水晶振動子
からなる膜厚モニター７と、蒸発源からの蒸発粒子が基
板５に到達するのを防ぐシャッター８と、蒸発源を加熱
する電子銃９と、これらの構成要素が設置される空間を
真空状態にするための真空容器１０とを備えている。
【００１３】蒸発源保持手段４は図示省略の水冷機構を
有し、複数種類の蒸発物を載置できるように複数の凹部
１１からなる蒸発源保持部と、各凹部１１の蒸発物に選
択的に電子線１４が照射されるように保持部を回転させ
る選択手段とが設けられている。真空容器１０には、容
器内に反応ガスを供給する反応ガス供給口１２と、容器
内を所望の真空状態にするための排気手段が接続される
排気口１３とが設けられている。反応ガス供給口１２に
は反応ガスを真空容器１０内に導くための反応ガス供給
手段が接続されている。また、排気口１３に接続される
排気手段は、油拡散ポンプ、油回転ポンプ、補助バル
ブ、粗引きバルブ、メインバルブ等から構成される。
有し、複数種類の蒸発物を載置できるように複数の凹部
１１からなる蒸発源保持部と、各凹部１１の蒸発物に選
択的に電子線１４が照射されるように保持部を回転させ
る選択手段とが設けられている。真空容器１０には、容
器内に反応ガスを供給する反応ガス供給口１２と、容器
内を所望の真空状態にするための排気手段が接続される
排気口１３とが設けられている。反応ガス供給口１２に
は反応ガスを真空容器１０内に導くための反応ガス供給
手段が接続されている。また、排気口１３に接続される
排気手段は、油拡散ポンプ、油回転ポンプ、補助バル
ブ、粗引きバルブ、メインバルブ等から構成される。
【００１４】成膜に際しては、基板５として、高分子基
体１を保持したペリクル枠２を基板ホルダー６に取り付
け、各凹部１１に収容された高屈折率物質と低屈折率物
質とに交互に選択的に電子線１４を照射して加熱蒸発さ
せ、高分子基体１上に薄膜を蒸着させて多層膜を形成す
る。なお、成膜方法としては、上記実施形態の電子線加
熱蒸着に限らず、抵抗加熱蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどを用いてもよい。
体１を保持したペリクル枠２を基板ホルダー６に取り付
け、各凹部１１に収容された高屈折率物質と低屈折率物
質とに交互に選択的に電子線１４を照射して加熱蒸発さ
せ、高分子基体１上に薄膜を蒸着させて多層膜を形成す
る。なお、成膜方法としては、上記実施形態の電子線加
熱蒸着に限らず、抵抗加熱蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどを用いてもよい。
【００１５】
【実施例】次に、本発明の具体的な実施例を述べる。 （実施例１）図２の薄膜形成装置を用いてペリクル光学
素子上に多層膜（酸化珪素／酸化チタンの１３層膜）を
成膜した実施例１について説明する。高分子基体１とし
て、図１に示すように、ペリクル枠２に接着剤３で保持
したポリエチレンテレフタレート（厚さ２５μｍ、縞１
０本の面精度）を使用した。この高分子基体１を保持し
たペリクル枠２を基板ホルダー６に取り付ける。蒸発源
保持手段４の凹部１１には、酸化チタン（ＴｉＯ2）と
酸化珪素（ＳｉＯ2）をそれぞれ載置する。排気手段に
よって真空容器１０内の圧力が８×１０-6Ｔｏｒｒにな
るまで排気した後、反応ガス供給口１２より酸素ガス
（Ｏ2）を導入し、真空容器１０内の圧力を２×１０-4
Ｔｏｒｒにする。蒸発源保持手段４の凹部１１の酸化チ
タンに電子銃９より発生させた電子線１４を当てて蒸発
させ、高分子基体１に薄膜状の酸化チタンを形成させ
る。なお、薄膜の形成中は、膜厚モニター７によって薄
膜の膜厚と成膜レート（蒸発速度）を測定できるので、
所定の膜厚になった時点で成膜を止める。こうして多層
膜の第１層目が高分子基体１上に形成される。
素子上に多層膜（酸化珪素／酸化チタンの１３層膜）を
成膜した実施例１について説明する。高分子基体１とし
て、図１に示すように、ペリクル枠２に接着剤３で保持
したポリエチレンテレフタレート（厚さ２５μｍ、縞１
０本の面精度）を使用した。この高分子基体１を保持し
たペリクル枠２を基板ホルダー６に取り付ける。蒸発源
保持手段４の凹部１１には、酸化チタン（ＴｉＯ2）と
酸化珪素（ＳｉＯ2）をそれぞれ載置する。排気手段に
よって真空容器１０内の圧力が８×１０-6Ｔｏｒｒにな
るまで排気した後、反応ガス供給口１２より酸素ガス
（Ｏ2）を導入し、真空容器１０内の圧力を２×１０-4
Ｔｏｒｒにする。蒸発源保持手段４の凹部１１の酸化チ
タンに電子銃９より発生させた電子線１４を当てて蒸発
させ、高分子基体１に薄膜状の酸化チタンを形成させ
る。なお、薄膜の形成中は、膜厚モニター７によって薄
膜の膜厚と成膜レート（蒸発速度）を測定できるので、
所定の膜厚になった時点で成膜を止める。こうして多層
膜の第１層目が高分子基体１上に形成される。
【００１６】次に、蒸発源保持手段４を回転させ、同様
にして、凹部１１に収容された酸化珪素に電子線１４を
照射して酸化珪素を蒸着する。この様にして、高分子基
体１上に、第１層と第１３層に膜厚λ／８の酸化チタ
ン、第２層から第１２層までは膜厚λ／４の酸化珪素と
酸化チタンとが交互に積層された、１３層の多層膜を形
成した（ここで、λはペリクル光学素子の使用波長）。
成膜時の高分子基体１の温度は８５℃以下（基体は無加
熱）、成膜速度は酸化チタンが０．３ｎｍ／秒、酸化珪
素が０．５ｎｍ／秒であった。
にして、凹部１１に収容された酸化珪素に電子線１４を
照射して酸化珪素を蒸着する。この様にして、高分子基
体１上に、第１層と第１３層に膜厚λ／８の酸化チタ
ン、第２層から第１２層までは膜厚λ／４の酸化珪素と
酸化チタンとが交互に積層された、１３層の多層膜を形
成した（ここで、λはペリクル光学素子の使用波長）。
成膜時の高分子基体１の温度は８５℃以下（基体は無加
熱）、成膜速度は酸化チタンが０．３ｎｍ／秒、酸化珪
素が０．５ｎｍ／秒であった。
【００１７】多層膜の各層の屈折率（波長５００ｎｍの
光に対する）はそれぞれ酸化チタンが２．１７、酸化珪
素が１．４９であり、通常のものとは異なり、酸化チタ
ンはかなり低くなっていた。本実施例の膜応力は０．５
〜１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2で、ペリクル光学素子の
面精度は１λ以下と、成膜前と同等、もしくはそれ以下
の値を示した。
光に対する）はそれぞれ酸化チタンが２．１７、酸化珪
素が１．４９であり、通常のものとは異なり、酸化チタ
ンはかなり低くなっていた。本実施例の膜応力は０．５
〜１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2で、ペリクル光学素子の
面精度は１λ以下と、成膜前と同等、もしくはそれ以下
の値を示した。
【００１８】さらに、本実施例では、高分子基体１を加
熱していないため、高分子基体１及び接着剤３の成膜時
の温度を熱変形温度以下に保持でき、高分子基体１自体
が変形し面精度を悪化させたり、接着剤３が面張力に耐
えられずペリクル光学素子の面精度を維持することがで
きなくなることを防止できる。また、高分子基体１を加
熱していないが、基体１と多層膜との密着性には問題が
なかった。
熱していないため、高分子基体１及び接着剤３の成膜時
の温度を熱変形温度以下に保持でき、高分子基体１自体
が変形し面精度を悪化させたり、接着剤３が面張力に耐
えられずペリクル光学素子の面精度を維持することがで
きなくなることを防止できる。また、高分子基体１を加
熱していないが、基体１と多層膜との密着性には問題が
なかった。
【００１９】この実施例１の成膜条件で得られたペリク
ル光学素子（ダイクロイックミラー）の分光特性を図３
に示す。図中、Ａは青色光を反射し、緑色光を透過する
光学素子として作製したダイクロイックミラーの分光特
性であり、Ｂは緑色光を反射し、赤色光を透過する光学
素子として作製したダイクロイックミラーの分光特性で
ある。
ル光学素子（ダイクロイックミラー）の分光特性を図３
に示す。図中、Ａは青色光を反射し、緑色光を透過する
光学素子として作製したダイクロイックミラーの分光特
性であり、Ｂは緑色光を反射し、赤色光を透過する光学
素子として作製したダイクロイックミラーの分光特性で
ある。
【００２０】また、実施例１の多層膜の環境試験を行っ
た。環境試験としては、耐熱試験（温度６０℃で１時間
加熱）、耐湿試験（温度６０℃，湿度１００ＨＲ％の下
で１時間放置）および耐寒試験（温度−１０℃，湿度３
０ＨＲ％の下で３時間放置）を行った。環境試験の前後
での面精度に大きな変化はないことがわかった。
た。環境試験としては、耐熱試験（温度６０℃で１時間
加熱）、耐湿試験（温度６０℃，湿度１００ＨＲ％の下
で１時間放置）および耐寒試験（温度−１０℃，湿度３
０ＨＲ％の下で３時間放置）を行った。環境試験の前後
での面精度に大きな変化はないことがわかった。
【００２１】更に、実施例１で作製したペリクル光学素
子を液晶プロジェクターのシュリーレン光学系に組み込
み、従来のガラス製のものと比較したところ、同様の光
学性能を示した。本実施例のペリクル光学素子と従来の
ガラス製光学素子の解像度を、上記光学系における反射
率解像度チャートを用い比較した。その結果、ＲＧＢ各
色調においても従来のガラス製のものと同等の解像度
（約７０ｌｐ／ｍｍ）を示した。さらに、ガラス製の光
学素子は、光の入射角を４５°とした場合、縦解像度と
横解像度に非点収差の影響と思われる大きな差が確認さ
れたが、一方、本実施例のペリクル光学素子には、入射
角度による解像度の差は確認されなかった。さらに、本
実施例のペリクル光学素子の耐光性（１ｋＷのＸｅラン
プで１０分間照射）を調べた結果、照射前後での変化は
ほとんどなく、良好な結果が得られた。
子を液晶プロジェクターのシュリーレン光学系に組み込
み、従来のガラス製のものと比較したところ、同様の光
学性能を示した。本実施例のペリクル光学素子と従来の
ガラス製光学素子の解像度を、上記光学系における反射
率解像度チャートを用い比較した。その結果、ＲＧＢ各
色調においても従来のガラス製のものと同等の解像度
（約７０ｌｐ／ｍｍ）を示した。さらに、ガラス製の光
学素子は、光の入射角を４５°とした場合、縦解像度と
横解像度に非点収差の影響と思われる大きな差が確認さ
れたが、一方、本実施例のペリクル光学素子には、入射
角度による解像度の差は確認されなかった。さらに、本
実施例のペリクル光学素子の耐光性（１ｋＷのＸｅラン
プで１０分間照射）を調べた結果、照射前後での変化は
ほとんどなく、良好な結果が得られた。
【００２２】（比較例１）実施例１と同一の高分子基体
１、薄膜形成装置を用い、１３層の酸化チタン／酸化珪
素の多層膜を成膜した。この時の酸化チタン、酸化珪素
の屈折率はそれぞれ波長５００ｎｍで２．４０、１．４
７であった。上記多層膜を積層したペリクル光学素子の
面精度をフィゾー干渉法で測定したところ、成膜前の面
精度とは大きく異なり、縞５０本（Ｐ‐Ｖ値）であっ
た。このペリクル光学素子を実施例１と同様に液晶プロ
ジェクターのシュリーレン光学系に組み込み、反射型解
像度チャートにて評価したところ、縦・横方向解像度と
も３０（１ｐ／ｍｍ）以下と悪く、上記液晶プロジェク
ターに使用することはできなかった。
１、薄膜形成装置を用い、１３層の酸化チタン／酸化珪
素の多層膜を成膜した。この時の酸化チタン、酸化珪素
の屈折率はそれぞれ波長５００ｎｍで２．４０、１．４
７であった。上記多層膜を積層したペリクル光学素子の
面精度をフィゾー干渉法で測定したところ、成膜前の面
精度とは大きく異なり、縞５０本（Ｐ‐Ｖ値）であっ
た。このペリクル光学素子を実施例１と同様に液晶プロ
ジェクターのシュリーレン光学系に組み込み、反射型解
像度チャートにて評価したところ、縦・横方向解像度と
も３０（１ｐ／ｍｍ）以下と悪く、上記液晶プロジェク
ターに使用することはできなかった。
【００２３】（比較例２）実施例１と同一の高分子基体
１、薄膜形成装置を用い、１３層の酸化チタン／酸化珪
素の多層膜を成膜した。この時の基体温度は１３０℃で
あった。上記多層膜を積層したペリクル光学素子の面精
度を測定したところ、成膜前の面精度とは大きく異な
り、干渉縞の本数が測定できないほどであった。このペ
リクル光学素子を実施例１と同様に液晶プロジェクター
のシュリーレン光学系に組み込み、反射型解像度チャー
トにて評価したところ、縦・横方向解像度とも極めて悪
く（測定不可能）、上記液晶プロジェクターに使用する
ことはできなかった。さらに、ペリクル枠に保持されて
いたポリエチレンテレフタレートのフィルムが―部剥離
するなど問題が生じた。
１、薄膜形成装置を用い、１３層の酸化チタン／酸化珪
素の多層膜を成膜した。この時の基体温度は１３０℃で
あった。上記多層膜を積層したペリクル光学素子の面精
度を測定したところ、成膜前の面精度とは大きく異な
り、干渉縞の本数が測定できないほどであった。このペ
リクル光学素子を実施例１と同様に液晶プロジェクター
のシュリーレン光学系に組み込み、反射型解像度チャー
トにて評価したところ、縦・横方向解像度とも極めて悪
く（測定不可能）、上記液晶プロジェクターに使用する
ことはできなかった。さらに、ペリクル枠に保持されて
いたポリエチレンテレフタレートのフィルムが―部剥離
するなど問題が生じた。
【００２４】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
多層膜の膜応力を１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2以下に小
さく抑えているため、薄い高分子基体上に多層膜を形成
しても、ペリクル光学素子には膜応力による歪みが発生
せず、高精度の平面を有し、所望の光学特性を備えたペ
リクル光学素子が得られる。
多層膜の膜応力を１．５×１０5ｄｙｎ／ｃｍ2以下に小
さく抑えているため、薄い高分子基体上に多層膜を形成
しても、ペリクル光学素子には膜応力による歪みが発生
せず、高精度の平面を有し、所望の光学特性を備えたペ
リクル光学素子が得られる。
【図１】本発明に係るペリクル光学素子の一実施形態を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図２】図１のペリクル光学素子の高分子基体に多層膜
を成膜する際に使用した薄膜形成装置の概略構成図であ
る。
を成膜する際に使用した薄膜形成装置の概略構成図であ
る。
【図３】実施例１で作成した１３層多層膜の分光特性を
示すグラフである。
示すグラフである。
１ 高分子基体 ２ ペリクル枠 ３ 接着剤 ４ 蒸発源保持手段 ５ 基板 ６ 基板ホルダー ７ 膜厚モニター ８ シャッター ９ 電子銃 １０ 真空容器 １１ 凹部 １２ 反応ガス供給口 １３ 排気口 １４ 電子線
Claims (2)
- 【請求項１】 高分子基体上に多層膜を形成したペリク
ル光学素子において、前記多層膜の膜応力が１．５×１
０5ｄｙｎ／ｃｍ2以下であることを特徴とするペリクル
光学素子。 - 【請求項２】 前記多層膜が、波長５００ｎｍで２．１
０〜２．２０の屈折率を有した酸化チタンと１．４９〜
１．５１の屈折率を有した酸化珪素とを交互に積層した
多層膜であることを特徴とする請求項１記載のペリクル
光学素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33636596A JPH10160930A (ja) | 1996-12-02 | 1996-12-02 | ペリクル光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33636596A JPH10160930A (ja) | 1996-12-02 | 1996-12-02 | ペリクル光学素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10160930A true JPH10160930A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=18298389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33636596A Pending JPH10160930A (ja) | 1996-12-02 | 1996-12-02 | ペリクル光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10160930A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007163311A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Japan Science & Technology Agency | 光学素子及び光学素子製造方法 |
| WO2013065715A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズ |
| JP2013097159A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Hoya Corp | 眼鏡レンズ |
-
1996
- 1996-12-02 JP JP33636596A patent/JPH10160930A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007163311A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Japan Science & Technology Agency | 光学素子及び光学素子製造方法 |
| WO2013065715A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズ |
| JP2013097159A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Hoya Corp | 眼鏡レンズ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9459379B2 (en) | Optical member and method for producing same | |
| US8094270B2 (en) | Thin-film optical retarders | |
| JP3387204B2 (ja) | 偏光板、偏光板の製造方法および液晶表示装置 | |
| US20060139757A1 (en) | Anti-reflective coating for optical windows and elements | |
| US20030035211A1 (en) | Light-polarizing film | |
| CN110095833A (zh) | 相位差补偿元件、液晶显示装置及投射型图像显示装置 | |
| US5172269A (en) | Anti-reflection film for plastic optical component | |
| JPH10160930A (ja) | ペリクル光学素子 | |
| JP2006171328A (ja) | 位相差補償素子、光変調システム、液晶表示装置及び液晶プロジェクタ | |
| JP2002055212A (ja) | プリズムとそれを用いた光学装置 | |
| JPH0462363B2 (ja) | ||
| US6262847B1 (en) | Optical element, method for producing optical element, and optical system having the optical element | |
| Chauvineau et al. | Description and performance of mirrors and multilayers for the extreme ultraviolet imaging telescope of the SOHO mission | |
| CN112817070B (zh) | 一种平面光学元件的面形修正方法 | |
| JPS6222121B2 (ja) | ||
| JP3497236B2 (ja) | 高精度光学部品用反射防止膜 | |
| Sebag et al. | LSST reflective coating studies | |
| CN101180574B (zh) | 前表面镜 | |
| JP2003131010A (ja) | 光学部品、光学ユニット及びこれを用いた映像表示装置 | |
| JPH04233501A (ja) | 投射型表示装置の波長フィルタ及びその製造装置 | |
| JPS5926704A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP3352172B2 (ja) | プラスチック製光学部品の光学薄膜およびその成膜方法 | |
| JPH06148409A (ja) | 裏面反射鏡 | |
| JPH08106093A (ja) | 液晶ライトバルブ | |
| KR20060105469A (ko) | 광학 보상판 및 이를 사용한 반사형 액정 프로젝터 |