JPH10161315A

JPH10161315A - アルカリ可溶性感光性樹脂組成物

Info

Publication number: JPH10161315A
Application number: JP8325508A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Fujiyama; 毅藤山; Nobuyuki Furukawa; 信之古川
Original assignee: Nippon Steel Corp; Nippon Steel Chemical Co Ltd
Current assignee: Nippon Steel Corp; Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Priority date: 1996-12-05
Filing date: 1996-12-05
Publication date: 1998-06-19

Abstract

(57)【要約】【課題】耐熱性、耐酸素プラズマ性、段差被覆性、電
気絶縁性、ビアホール導通性、および耐クラック性に優
れ、アルカリ水溶液による現像（リンス）が可能なレジ
スト樹脂組成物を得る。【解決手段】（メタ）アクリロキシ基含有ラダー型ポ
リオルガノシルセスキオキサンとカルボキシル基含有
（メタ）アクリレート化合物と（メタ）アクリレート化
合物及び光重合開始剤を必須成分として含有してなるア
ルカリ可溶性感光性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

【０００２】本発明は、アルカリ可溶性感光性樹脂組成
物に関し、特にラダー型シリコーンが本来有する耐熱
性、電気絶縁性、耐酸素プラズマ性、低硬化収縮性など
の特性を維持したアルカリ水溶液可溶性の新規レジスト
材料等に適した組成物に関するものである。

【０００３】

【従来の技術】半導体素子、磁気バブルメモリ素子、表
面波フィルター素子など微細パターンを持つ電子回路素
子の形成には薄膜形成技術と写真食刻技術が多用されて
いる。すなわち、電解めっき法、真空蒸着法、スパッタ
法などの物理的方法あるいは化学気相成長法などの化学
的方法で被処理基板上に導電層、絶縁層などの薄膜を形
成した後、スピンコート法などでレジスト材を被覆し、
これにマスクを通じて紫外線の照射を行って感光せし
め、露光部が現像液に対して溶解度の差を生じるのを利
用してレジストパターンを形成させる。このレジストパ
ターンをマスクに用いて、ウェットエッチング或いはド
ライエッチングを行って被加工基板上に微細な導体パタ
ーンや絶縁層パターンを形成している。

【０００４】ところでラダー型シリコーンは、その優れ
た耐熱性、耐酸素プラズマ性、低粘度故の段差被覆性
（平坦性）、電気絶縁性、および無機ＳＯＧ（spin on
glass）より残存ＯＨ基が少ないことによるビアホール
導通性や、堆積膜との熱膨張係数差に起因する耐クラッ
ク性を薄膜形成能により回避できるなどの利点から、層
間絶縁膜材料、なかでも高段差を持つ基板上に精度よく
微細パターンを形成する二層構造レジスト法の上層レジ
スト層として利用しようとする多くの提案がなされてい
る。それら研究開発の内容を見ると最も一般的なものは
加熱硬化させたラダー型シリコーン樹脂膜の上層部にク
レゾールノボラック系のポジ型レジストなどの感光性レ
ジスト膜を形成させ、露光後フッ酸や有機溶剤による湿
式エッチングまたはプラズマエッチングするものであっ
て、例えば特公昭60−58592号公報、特開平2−222537号
公報、特開平5−190790号公報などに開示されている。

【０００５】また半導体素子製造プロセスの簡略化が望
まれる中、ラダー型シリコーンと感光性化合物の均一混
合体をレジスト樹脂組成物として用いる方法も提案され
てきている。例えば特開昭62−211641号公報では、アジ
ド、ビスアジド化合物およびヨードホルムあるいはＯ−
ナフトキノンジアジド誘導体とラダー型シリコーン樹脂
の混合体をネガ型レジストとして用いるものであり、特
開昭60−25061号公報では、ラダー型シリコーンと芳香
族アジド化合物および芳香族スルホニルアジド化合物と
の混合組成物をレジスト樹脂組成物として用いる方法で
ある。

【０００６】さらにプロセスを大幅に簡略化させる方法
として分子内（末端）に感光性官能基を有する光重合性
ラダーシリコーンをレジスト樹脂に用いる方法が特開昭
60−108842号公報に、ラダーシリコーンの末端に導入し
たジオキシピリミジン誘導体基の光二量化反応を用いた
レジスト樹脂が特開平1−118834号公報に提案されてい
る。しかし、これらの方法も含めて上述した方法等は殆
どがドライエッチング法もしくはトルエン、キシレン、
イソプロパノール、メチルイソブチルケトンのごとき有
機溶剤をリンス処理に用いる湿式エッチング法である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、液晶
組立物の透明電極用基材の現像（リンス）工程において
作業環境性、廃液処理、製造プロセスコストの低減など
の観点より、有機溶剤を用いないアルカリ水溶液現像型
の湿式エッチング方式が主流になりつつあることを考え
ると、半導体素子及び電子回路基板素子分野においても
それに適したレジスト材料の要求が今後高まっていくこ
とが予想される。有機アルカリ水溶液現像型としては、
フェノール性水酸基を分子内側鎖に有するラダーシリコ
ーン重合体と感光性溶解阻害剤であるＯ−キノンジアジ
ド類や1.2−ナフトキノンジアジド類の混合体を電子線
レジスト材料として用いる特開昭63−101426号公報、特
開昭63−90534号公報、特開昭63−316458号公報等が開
示されているのみである。

【０００８】本発明の目的は、現像（リンス）工程での
プロセス簡略化と作業環境性の改善という観点より、
解像度が高くラダー型シリコーンが本来有する耐熱性、
電気絶縁性、耐酸素プラズマ性、低硬化収縮性などの特
性を維持したアルカリ水溶液可溶性の新規レジスト材料
等に適した組成物を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の（メ
タ）アクリロキシ基を側鎖に有するラダー型シリコーン
とアルカリ可溶性のカルボキシル基を有する多官能価
（メタ）アクリレートモノマーまたはオリゴマーからな
るレジスト材料組成物が、その目的に適合しうることを
見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。

【００１０】すなわち、本発明は必須成分として、必須
成分として、（Ａ）下記一般式（I）

【化７】（式中、Ｒ₁は炭素数が1〜4のアルキル基，アリール基
または炭素数 5 以上の脂環式を含む１価の非置換、置
換炭化水素基のいずれかであり、Ｒ₁は同種でもよく、
異種でもよい。Ｒ₂は下記一般式（II）で示される（メ
タ）アクリロキシ結合を少なくとも１つ含む基である。
Ｒ₃はＲ₁またはＲ₂が示すものと同一の基であり、ｌ，
ｍは重合度を示し１以上の整数である。）

【化８】（式中、Ｒ₄は水素原子またはメチル基、Ｒ₅は炭素数1
〜18の非置換又は置換のｎ＋１価相当の炭化水素基を示
し、ｎは1〜3の整数である。）で示される光又は熱によ
り架橋結合を形成する（メタ）アクリロキシ官能性ラダ
ー型ポリオルガノシルセスキオキサン、（Ｂ）下記一般
式（III）

【化９】（式中Ｒ₆は水素原子またはメチル基であり、Ｒ₇は少な
くとも１つのカルボキシル基を含有する多価有機基であ
り、ｋは１〜４の整数である。）で示されるアルカリ水
溶液可溶性のカルボキシル基含有多官能（メタ）アクリ
レートモノマーもしくはそのオリゴマー、或いはカルボ
キシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合
体、（Ｃ）（メタ）アクリル酸エステル或いは多官能価
（メタ）アクリル酸エステルのモノマーまたはオリゴマ
ーおよび（Ｄ）光重合開始剤、を含有することを特徴と
するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物である。

【００１１】以下、本発明の各成分（Ａ）〜（Ｄ）を詳
しく説明する。本発明における（Ａ）成分は、下記一般
式（I）で示される（メタ）アクリロキシ官能性ラダー
型ポリオルガノシルセスキオキサンである。

【化１０】ここで、（Ｉ）式中Ｒ₁がアルキル基である場合には、
メチル、エチル、プロピル、ブチル基のいずれかであ
り、アリール基である場合はフェニル、ナフチルなどの
いずれかであり、炭素数5以上の脂環式を含む1価の非置
換、置換炭化水素基の場合は、シクロヘキシル基、2，3
−ジヒドロインデニル基、イソボルニル基、ジシクロペ
ンチル基などのいずれかであり、これらＲ₁は同種でも
よく、異種の混合体でもよい。

【００１２】また、Ｒ₂は下記一般式（II）で示される
（メタ）アクリロキシ基を少なくとも１つ含む基であ
る。

【化１１】ここで、式中、Ｒ₄は水素原子またはメチル基、Ｒ₅は炭
素数1〜18の非置換、置換の二価の炭化水素基を示し、
メチル、エチル、プロピル、フェニル、ジシクロペンチ
ルなどを示し、ｎは1〜3の整数である。

【００１３】また、Ｒ₃はＲ₁とＲ₂のどちらでもよく、
ｌ，ｍは重合度を示し１以上の整数である。（Ａ）成分
の置換基Ｒ₁とＲ₂において、Ｒ₁とＲ₂のモル比が 20〜9
5：80〜5が好ましい。（メタ）アクリロキシ基を含むＲ
₂のモル比が 5 未満の場合は紫外線硬化性が低く、
（Ｂ）や（Ｃ）成分との相溶性が低下し不透明な塗膜が
得られたり、フィッシュアイが生じるなどして均一な塗
膜が得られず好ましくない。また、Ｒ₂のモル比が 80を
越える場合は、紫外線硬化性は良好になるが、得られる
塗膜の硬度及び可とう性等が欠けるようになり好ましく
ない。

【００１４】（Ａ）成分の数平均分子量ＭwはＧＰＣ等
の測定方法により容易に測定されるが、1000〜100000の
範囲が好ましい。一般に分子量Ｍnが1000未満のラダー
型ポリオルガノシルセスキオキサンは、熱・光硬化後の
硬化収縮が大きく、また高分子論文集、Vol.52,No.1,p
p.25−32(1995)に記載されている様にラダー構造の欠陥
に基づくシラノール基を多く含むことから感光性樹脂組
成物とした時の液の保存安定性に問題が生じたり、本来
ラダー型シリコーンが有する耐熱性、耐酸素プラズマ
性、低粘度、ビアホール導通性に問題が生じるようにな
り、ラダー型シリコーンの特長が活かされず好ましくな
い。逆に分子量Ｍnが100000を越える場合は、粘性が高
くなり過ぎて薄膜にしずらくなるなどの欠点を有し好ま
しくない。

【００１５】（Ａ）成分として使用される（メタ）アク
リロキシ官能性ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサ
ンは、下記一般式（IV）と（V）で示される化合物を特
開昭50−111198号公報や Polymer Preprint Japan Vol.
29, No.1 p.73 に記載されているように、有機溶媒中で
水を添加することで加水分解し、酸又は塩基の共存下で
縮重合反応させることによって製造することができる。

【化１２】（式中、Ｒ₄、Ｒ₅及びｎは、前述の一般式（II）と同じ
ものを示し、Ｘは炭素数が1〜4からなるアルコキシル基
またはハロゲン原子である。）一般式（IV）で示される化合物は例えば 3−イソシアナ
ートプロピルトリエトキシシランとモノヒドロキシ化合
物であるペンタエリスリトールトリアクリレートとの付
加反応より、ｎ=3でＸがエトキシ基の化合物が得られ、
不飽和基含有化合物ジシクロペンテニルアクリレートと
トリクロロシランのハイドロシリレーション反応より、
ｎ=1でＸが塩素原子の化合物が容易に合成される。

【００１６】

【化１３】（式中Ｒ₁は前述の一般式（I）と同じものを示し、アル
キル基である場合には、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル基のいずれかであり、アリール基である場合はフェ
ニル、ナフチルなどのいずれかであり、炭素数5以上の
脂環式を含む1価の非置換、置換炭化水素基の場合は、
シクロヘキシル基、2，3−ジヒドロインデニル基、イソ
ボルニル基、ジシクロペンチル基などのいずれかであ
る。Ｘは炭素数が1〜4からなるアルコキシル基またはハ
ロゲン原子である。）これら（IV）と（V）のモル比は１０〜７０：９０〜３
０の範囲で水と酸の共存下に縮合させた後、共存する水
を除去することにより製造することができる。

【００１７】上記一般式（IV）で示される（メタ）アク
リロキシ基（ここで、（メタ）アクリロキシ基は本明細
書においてはアクリロキシ基又はメタクリロキシ基又は
両者を指す。他の場合も同じ）を有する化合物の例とし
てｎ=1の場合は、（メタ）アクリロキシメチルトリクロ
ロシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリメトキシシ
ラン、（メタ）アクリロキシメチルトリエトキシシラ
ン、β−（メタ）アクリロキシエチルトリクロロシラ
ン、β−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラ
ン、β−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルルトリクロロシ
ラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルルトリメトキ
シシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルルトリエ
トキシシラン、（メタ）アクリロキシジシクロペンチル
トリクロロシラン、（メタ）アクリロキシジシクロペン
チルトリメトキシシラン、（メタ）アクリロキシジシク
ロペンチルトリエトキシシラン、（メタ）アクリロキシ
フェニルトリクロロシラン、（メタ）アクリロキシフェ
ニルトリメトキシシラン、（メタ）アクリロキシフェニ
ルトリエトキシシラン等が挙げられる。

【００１８】またｎ=2の場合は、1，2−ジ（メタ）アク
リロキシプロポキシエチルトリメトキシシラン、1，2−
ジ（メタ）アクリロキシプロポキシプロピルトリメトキ
シシラン、1，2−ジ（メタ）アクリロキシプロポキシエ
チルトリエトキシシラン、1，2−ジ（メタ）アクリロキ
シプロポキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ
る。更にｎ=3の場合は、ペンタエリスリオキシカルボニ
ルトリエトキシシリルアミド等が挙げられるが、本発明
ではこれに限られるものではない。

【００１９】上記一般式（V）で示される化合物の例と
しては、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリクロロ
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、プロピルトリクロロシラン、プロピルトリメ
トキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルト
リクロロシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルト
リエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
ナフチルトリクロロシラン、ナフチルトリメトキシシラ
ン、ナフチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリ
クロロシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シ
クロヘキシルトリエトキシシラン、2，3−ジヒドロイン
デニルトリクロロシラン、2，3−ジヒドロインデニルト
リメトキシシラン、2，3−ジヒドロインデニルトリエ
トキシシラン、イソボルニルトリクロロシラン、イソボ
ルニルトリメトキシシラン、イソボルニルトリエトキシ
シラン、ジシクロペンチルトリクロロシラン、ジシクロ
ペンチルトリメトキシシラン、ジシクロペンチルトリエ
トキシシラン、トルイルトリクロロシラン、トルイルト
リメトキシシラン、トルイルトリエトキシシラン等が挙
げられるがこれらに限定されるものではない。

【００２０】本発明の感光性樹脂中の（Ａ）成分の含有
量は、(A)＋(B)＋(C) を100wt%とした時に 5〜90wt%が
好ましい。5wt%未満の場合は、本来ラダー型シリコーン
が有する耐熱性、耐酸素プラズマ性、低粘度、ビアホー
ル導通性に問題が生じるようになり、感光性樹脂中のラ
ダー型シリコーンの特徴が活かされず好ましくない。逆
に、90wt%以上の場合にはアルカリ現像性に乏しく、ガ
ラス等の基板への密着性に欠けスカムを生じるなどの問
題を生じ好ましくない。

【００２１】本発明における（Ｂ）成分は、下記一般式
（III）

【化１４】（式中Ｒ₆は水素原子またはメチル基であり、Ｒ₇は少な
くとも1つのカルボキシル基を含有する多価有機基を示
し、ｋは１〜４の整数である。）で示されるカルボキシ
シル基含有の多官能（メタ）アクリレートモノマーもし
くはそのオリゴマー、あるいはカルボキシル基を有する
（メタ）アクリル酸エステル共重合体から選ばれたカル
ボキシル基含有アルカリ可溶性成分である。

【００２２】ここで一般式（III）のＲ₇はｋ価の有機基
を示し、例えば多価アルコールと多価カルボン酸とで構
成される（但しカルボキシル基を２つ以上含有する場合
は異なる炭素原子に結合する）エステルの残基が好まし
い。即ち一般式（III）の具体的な化合物としては、多
価アルコール（ビスフェノール類含む）から一旦誘導さ
れるグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸類の反応
により得られるエポキシ（メタ）アクリレート類と芳香
族あるいは脂肪族多価カルボン酸類を反応して得られる
エステル化合物及びそのオリゴマー類、または多価アル
コールの一部のヒドロキシル基と（メタ）アクリル酸類
とを反応することによって得られるヒドロキシル基含有
（メタ）アクリレートエステル類と芳香族あるいは脂肪
族多価カルボン酸類を反応して得られるエステル化合物
及びオリゴマー類、あるいはグリシジル（メタ）アクリ
レートと芳香族あるいは脂肪族多価カルボン酸類を反応
して得られるエステル化合物及びそのオリゴマー類等で
ある。

【００２３】より具体的には（Ｂ）成分として下記化学
式（VI）〜（VIII）で示される化合物やオリゴマーなど
が挙げられるがこれに限定されるものではない。なお式
（VII）中、ｉは500以下の自然数である。）

【化１５】

【化１６】

【化１７】

【００２４】また、カルボキシル基を有する（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体とは、（メタ）アクリル酸エ
ステル（ここで本明細書においてはアクリル酸エステル
およびメタクリル酸エステルの両者を指す。他の場合も
同じ）とカルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸等
の単量体とを共重合させることによって、重合体の一部
にカルボキシル基を導入したものである。

【００２５】ここで（メタ）アクリル酸エステルとカル
ボキシル基を有する単量体の共重合割合は、（メタ）ア
クリル酸エステル５〜 95重量部に対して、カルボ
キシル基を有する単量体95〜 5重量部であり、共重合は
ラジカル重合法等、従来公知の方法で行われる。これら
成分（Ｂ）の化合物は１種類でもよく、２種以上のもの
を併用してもかまわない。

【００２６】ここで（メタ）アクリル酸エステルとして
は、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エ
チル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸
ブチル、（メタ）アクリル酸2−ヒドロキシエチル、
（メタ）アクリル酸2−エチルヘキシル、（メタ）アク
リル酸オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メ
タ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸シク
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸メチルシクロヘキシ
ル、（メタ）アクリル酸（イソ）ボルニル、（メタ）ア
クリル酸アダマンチル、フェノールEO変性（メタ）アク
リレート、ノニルフェノールEO変性（メタ）アクリレー
ト、2−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレ
ート、Ｎ−ビニル−2−ピロリドン等が挙げられるがこ
れらに限定されるものでない。これらの（メタ）アクリ
ル酸エステルは、2種以上併用してもよい。

【００２７】また、カルボキシル基を有する単量体の代
表例としては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、2−
（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−（メ
タ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−（メタ）
アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−
（メタ）アクリロイルオキシエチルマレイン酸、無水マ
レイン酸、フマル酸等が挙げられるがこれらに限定され
るものでない。

【００２８】この（Ｂ）成分の化合物中のカルボキシル
基は、本発明において２つの効果をもたらす。１つは、
（Ａ）成分であるラダー型シリコーン樹脂と（Ｃ）成分
である（メタ）アクリ酸エステルのモノマーあるいはオ
リゴマーの相溶化促進であり、もう1つはアルカリ水溶
液への溶解性である。故に感光性樹脂中の（Ｂ）成分の
添加量すなわちカルボキシル基の数は、感光性樹脂の均
一性、特に（Ａ）成分と（Ｃ）成分の相溶性並びに感光
性樹脂の現像性に大きく影響を及ぼす。

【００２９】すなわち、感光性樹脂中の（Ｂ）成分の含
有量は、(A)＋(B)＋(C) を100wt%とした時に5〜80wt%が
好ましい。5wt%未満の場合は、感光性樹脂組成物が均一
にならかったり、現像性が乏しく、活性光が当たってい
ない部分の残膜やスカムが著しく多く生じるなどの問題
を生じ好ましくない。逆に、80wt%以上の場合には、均
一な感光性樹脂組成物は得られるが露光における現像マ
ージンが非常に狭くなりハンドリングが困難となった
り、生成したレジストパターンの耐アルカリ性が著しく
弱くなり好ましくない。また、現像後に塗膜中に残存し
ているカルボキシル基は、適当な温度により加熱するこ
とで、塗膜中のラダーシリコーンが有するアルコキシシ
リル基やシラノール基と反応させることで耐アルカリ性
を向上させることもできる。

【００３０】本発明における（Ｃ）成分は、前記（Ａ）
（Ｂ）成分以外の（メタ）アクリル酸エステルあるいは
多官能（メタ）アクリル酸エステルのモノマーまたはオ
リゴマーであり、塗膜中の（メタ）アクリル基の架橋密
度に起因する現像（リンス）過程における未露光部の溶
解速度に影響を及ぼすとともに、反応性希釈剤として働
き生成したパターン形成塗膜の硬度、可とう性を左右す
る成分であるため、感光性樹脂中に (A)＋(B)＋(C) を1
00wt%とした時に 5〜90 wt%添加するのが好ましい。5wt
%未満の場合は、露光部、未露光部の現像過程において
溶解度差がつきにくく、明瞭なパターンが得られないな
どの問題を生じ好ましくない。逆に、90wt%以上の場合
には、アルカリ水溶液中への溶解性が乏しく現像性に欠
け、明瞭なパターンが得られない。また得られる塗膜は
脆く、ガラス等への基板への密着性に欠ける。

【００３１】（Ｃ）成分として用いることができる（メ
タ）アクリ酸エステルについては前述（〔００２５〕の
欄）したものと同様で、（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸アリ
ル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸2
−ヒドロキシエル、（メタ）アクリル酸2−エチルヘ
キシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリ
ル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メ
タ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸メ
チルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（イソ）ボル
ニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、フェノールEO
変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールEO変性
（メタ）アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトー
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−2−ピロリドン
等が挙げられるがこれらに限定されるものでない。

【００３２】また、いくつかの多官能価（メタ）アクリ
レートモノマー及びオリゴマーについては以下のもの
を含む。1，6−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、1，4−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、テトラエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジ
（メタ）アクリレート、1，3−ブチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリイソプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ビスフェノール Aジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシトリ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
エトキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、ジートリメチロー
ルプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、イソシアヌール酸 EO 変性トリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパン EO 変性トリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパン PO 変性トリ（メ
タ）アクリレート、各種ウレタン多価（メタ）アクリレ
ート及び各種エステル多価（メタ）アクリレートなどが
挙げられるがこれらに限定されるものではなく、また、
これら多官能価（メタ）アクリレートモノマーあるいは
オリゴマーは、東亜合成（株）、日本化薬（株）から市
販されている。

【００３３】本発明における（Ｄ）成分である光重合開
始剤としては、従来公知とされている種々のものを使用
することができ、具体的にはアセトフェノン、プロピオ
フェノン、ベンゾフェノン、キサントール、フルオレノ
ン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アンスラキノン3
−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、
4、4’−ジメトキシベンゾフェノン等が例示されるがこ
れらはチバガイギー社より市販されている。これらの光
重合開始剤は一種類を単独で、もしくは二種類以上を混
合して使用することができるがこれらに限定されるもの
ではない。本発明においてこれら光重合開始剤の（Ｄ）
成分は（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分の合計量100重量部
に対して0.1〜15重量部の範囲で配合されるのが好まし
く、更に好ましくは1〜10重量部である。1重量部未満の
場合は、架橋反応が不十分で現像による明瞭なパターン
が得られない。また得られる塗膜表面にタックが生じ好
ましくない。逆に、10重量部以上の場合には、得られる
塗膜の重合度が減少し、耐熱性が不十分等の問題が生じ
好ましくない。

【００３４】また、本発明においては上記の光重合開始
剤である（Ｄ）成分と共に光開始剤の効率を上げるため
に光開始剤と一緒に用いる物質である酸素抑制剤や３級
アミン等のいわゆる増感助剤も加えることができる。３
級アミンとしては脂肪族、芳香族の各種３級アミンが使
用可能であり、N−ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、N−メチルジエタノールアミン、トリエチル
アミン、P−ジメチルアミノ安息香酸エチルが、また酸
素抑制剤としては 2−エチルヘキシル−P−ジメチルが
例示される。本発明においてこれら増感助剤、酸素抑制
剤は（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分の合計量100重量部に
対して0.1〜15重量部の範囲で配合されるのが好まし
く、更に好ましくは1〜10重量部である。

【００３５】なお、本発明の感光性樹脂組成物には硬化
物の物性の改質あるいは硬化物の用途に応じて種々の物
質や化合物を配合して硬化させることができる。これら
の添加物としては熱重合防止剤としてハイドロキノン、
P−メトキシフェノール等、着色顔料としてフタロシア
ニン銅、フタロシアニングリーン、ジメチルキナクリド
ン、チタンホワイト等、増粘剤としてシリカ、炭酸カル
シウム、カオリン、クレー、コロイダルシリカ等、各種
の紫外線吸収剤、酸化防止剤等、更に本発明の組成物の
特徴を損なわない範囲で、使用目的に応じ通常の市販の
ジオルガノポリシロキサン等を添加してもよい。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を説明す
る。本発明の感光性樹脂組成物は、前記した必須成分
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）成分を所定の割合で均
一に混合することにより得られる。本発明の感光性樹脂
組成物は、シリコンウエハー、金属、セラミックス、プ
ラスチックスなどの各種基材に対して密着性が良好であ
り、そのまま被覆硬化し得るが、必要に応じて市販のシ
ランカップリング剤を併用することで密着性をさらに高
めることもできる。これらの各種基材に塗布するに際し
ては、無溶剤状態でもよいが、塗布作業に適するよう
に、溶剤で希釈して使用してもよい。

【００３７】この場合の溶剤としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、エチレングリコールなど
のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ア
セト酢酸エチルエステルなどのエステル類、エチレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテートなどのエーテル類等及びそれらの混合
物が挙げられる。この場合は塗布後、活性光を照射する
前にプレキュアーとして溶剤の沸点以下の温度で溶剤を
蒸発する工程が設けられる。

【００３８】本発明の感光性樹脂組成物を、シリコンウ
エハー、金属、セラミックス、プラスチックスなどの各
種基材に塗布する方法としては、スピンコート法、フロ
ーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、電
着塗装法、ロールコート法、刷毛塗り法等の公知の各種
の方法を採用することができる。また本発明の感光性樹
脂組成物を硬化させるに際して使用される活性光源とし
ては、電子線、紫外線があるが、その場合基材及び塗膜
を加熱した状態で露光してもかまわない。また、紫外線
源としては、紫外線蛍光灯、水銀灯、キセノン灯、炭素
アーク灯、メタルハライド灯等があり、その照射量は適
宜選定し得る。

【００３９】本発明の感光性樹脂組成物を現像するため
露光させ、未露光部をアルカリ水溶液で洗い流すリンス
工程で用いられる現像液は、アルカリ水溶液であれば特
に限定されないが、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどの無機化合物
を適当な濃度に溶解させた水溶液あるいはジエタノール
アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、N−メチルモノエタノールアミンなどのアルカノー
ルアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドな
どの有機物を適当な濃度に溶解させた水溶液が用いられ
る。

【００４０】本発明の感光性樹脂組成物においては、感
光性官能基として（メタ）アクリロキシ基を側鎖に有し
たラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンとカルボキ
シル基を有する多官能価（メタ）アクリレートモノマー
及びオリゴマー、及び（メタ）アクリ酸エステルモノマ
ーあるいはオリゴマー、光重合開始剤等を組み合わせ使
用するために易硬化性で、活性光の照射により均一でか
つ基材への密着性に優れた収縮の少ない平坦な硬化皮膜
が得られ、ラダー型ポリオルガノシルセスキオキサンの
特長である耐熱性、段差被覆性、電気絶縁性、ビアホー
ル導通性、および耐クラック性を保持するだけでなく、
現像（リンス）工程での作業環境上有利なアルカリ水溶
液による現像が可能になり、解像度の高いレジストパタ
ーンが得られる。

【００４１】

【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明する。実施例１（Ａ）成分の合成 3リットルビーカーに炭酸水素ナトリウム 177重量部と
蒸留水 2000重量部を仕込み溶解させた。これにクロロ
ホルム750ｍｌに溶解させたγ−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシラン 37 重量部とフェニルトリクロロシ
ラン120重量部を氷冷下（２℃以下）、激しく攪拌しな
がら滴下した。滴下終了後、氷冷下２時間及び室温にて
2時間十分に攪拌し静置させる。二相に分離した溶液の
下相（クロロホルム相）を 3リットルの分液ロートに入
れ、20％食塩水溶液 750ｍｌにて 3回、水洗を行う。そ
の後溶液中のクロロホルムを室温にてエバポレーターを
用いて留去させ、加水分解物である粘稠性の液体140重
量部を得た。次にこの加水分解物140重量部と1，4−ジ
オキサン560重量部とモレキュラーシーブ（4Å）28重量
部及び水酸化カリウム0.15重量部、ハイドロキノン0.15
重量部を1リットル 3つ口フラスコに仕込み、窒素気流
中 16時間加熱還流を行った。反応終了後、モレキュラ
ーシーブをろ別し、1、4−ジオキサンを留去することに
より、メタアクリロキシ基含有フェニルシルセスキオキ
サン（メタクリロキシ基/フェニル基=1モル/1モル）87
重量部（収率90％）を得た。このメタクリロキシ基含有
フェニルシルセスキオキサンのＧＰＣ（ゲルパーミュエ
ーションクロマトグラフィー）測定を行ったところ分子
量30000であった。また、図1の赤外吸収スペクトルに示
したように 1030 と 1150 ｃｍ^-1にダブレットのSi−O
−Si伸縮振動が帰属されラダー構造を有していることが
わかった。

【００４２】（Ｂ）成分の合成一方ビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリレート（大
阪有機化学工業（株）製Ｖ＃540）50重量部と無水フタ
ル酸30重量部とトルエン80重量部、及びトリメチルアン
モニウムブロマイド0.5重量部を 3つ口フラスコに仕込
み、窒素気流中、5時間還流することにより下記構造式
（IX）のビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリレート
無水フタル酸付加体 72重量部（収率90％）を得た。

【化１８】

【００４３】上記（Ａ）成分のメタアクリロキシ基含有
フェニルシルセスキオキサン（メタクリロキシ基/フェ
ニル基=1モル/1モル）60重量部と（Ｂ）成分のビスフェ
ノールＡ−ジエポキシ−アクリレート無水フタル酸付加
体20重量部と（Ｃ）成分のポリエステルアクリレート
（東亜合成（株）製M−9050）20重量部及び（Ｄ）成分
の光重合開始剤としての 1−ヒドロキシ−シクロヘキシ
ル−フェニル−ケトン（日本チバガイギー製イルガキュ
アー184）5重量部をプロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート100重量部に溶解し、厚さ 1ｍｍのガ
ラス基板にスピンコート（膜厚1ミクロン）した後 80℃
にてプレキュアーし、50ｍｊの紫外線光により露光させ
た。0.4ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液にてリンスし、2
00℃にてポストべークすることでアスペクト比 1.0の10
ミクロンの線幅を有するパターンを得た。

【００４４】実施例２（Ａ）成分の合成 2リットルビーカーに炭酸水素ナトリウム95重量部と蒸
留水1300重量部を仕込み溶解させた。これにクロロホル
ム500ｍｌに溶解させたγ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン22重量部とフェニルトリクロロシラン
26重量部とメチルトリクロロシラン37重量部を氷冷下
（2℃以下）、激しく攪拌しながら滴下した。滴下終了
後、氷冷下２時間及び室温にて２時間十分に攪拌し、静
置させる。二相に分離した溶液の下相（クロロホルム
相）を1リットルの分液ロートに入れ、20％食塩水溶液4
00ｍｌにて3回、水洗を行う。その後溶液中のクロロホ
ルムを室温にてエバポレーターを用いて留去させ、加水
分解物である粘稠性の液体40重量部を得た。次にこの加
水分解物40重量部と1、4−ジオキサン90重量部とモレキ
ュラーシーブ（4Å）8重量部及び水酸化カリウム0.04重
量部、ハイドロキノン0.04重量部を１リットル 3つ口フ
ラスコに仕込み、窒素気流中 16時間加熱還流を行っ
た。反応終了後、モレキュラーシーブをろ別し、1、4−
ジオキサンを留去することにより、メタクリロキシ基含
有フェニル−メチルシルセスキオキサン（メタクリロキ
シ基/フェニル基/メチル基=0.75モル/2モル/1モル）30
重量部（収率60％）を得た。

【００４５】（Ｂ）成分の合成一方、イソボルニルメタクリレート130重量部とメタク
リル酸 50重量部をキシレン100重量部中に溶解し、キシ
レン100重量部とアゾビスイソブチロニトリル 2重量部
の溶液を 90℃にて滴下することでラジカル重合反応を
行い、ヘキサン中で再沈操作を行うことで数平均分子量
50000の 50モル％イソボルニルメタクリレート・50モル
％メタクリル酸共重合体200重量部を収率（85％）で得
た。上記（Ａ）成分のメタアクリロキシ基含有フェニル
−メチルシルセスキオキサン（メタクリロキシ基/フェ
ニル基/メチル基=0.75モル/2モル/1モル）10重量部と
（Ｂ）成分の 50モル％イソボルニルメタクリレート・50
モル％メタクリル酸共重合体60重量部、（Ｃ）成分のジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート30重量部及び
（Ｄ）成分の光重合開始剤としての、2−メチル−1−
（4−（メチルチオ）フェニル）−2−モンフォリンプロ
パン−1（日本チバガイギー社製イルガキュアー907）5
重量部をエチレングリコールジメチルエーテル100重量
部に溶解し、厚さ 1ｍｍのガラス基板にスピンコート
（膜厚2ミクロン）した後80℃にてプレキュアーし、20
ｍｊの紫外線光により露光させた。0.4ｗｔ％のジエタ
ノールアミン水溶液にてリンスし、200℃にてポストべ
ークすることでアスペクト比1.0の10ミクロンの線幅を
有する高解像度パターンを得た。

【００４６】実施例３（Ａ）成分の合成 500 ミリリットルの 3つ口フラスコにペンタエリスリト
ールトリアクリレート100重量部と 3−イソシアナート
プロピルトリエトキシシラン 83重量部、ハイドロキノ
ン0.1重量部及びトルエン300重量部を仕込み、空気吹き
込み下、90℃で加熱攪拌することで下記構造式（X）の
化合物を合成し、1Ｈ−ＮＭＲにて同定した（図2参
照）。

【化１９】 3リットルビーカーに炭酸水素ナトリウム 84重量部と蒸
留水 2040重量部を仕込み溶解させた。これにクロロホ
ルム750ｍｌに溶解させた上記化合物（X）180重量部と
フェニルトリクロロシラン 70重量部を氷冷下（2℃以
下）、激しく攪拌しながら滴下した。滴下終了後、氷冷
下 2時間及び室温にて 2時間十分に攪拌し、静置させ
る。二相に分離した溶液の下相（クロロホルム相）を 3
リットルの分液ロートに入れ、20％食塩水溶液 750ｍｌ
にて3回、水洗を行う。その後溶液中のクロロホルムを
室温にてエバポレーターを用いて留去させ、加水分解物
である粘稠性の液体 157重量部を得た。次にこの加水分
解物 157重量部と1、4−ジオキサン 630重量部とモレキ
ュラーシーブ（4Å） 31重量部及び水酸化カリウム 0.1
6重量部、ハイドロキノン 0.16重量部を 1リットルの 3
つ口フラスコに仕込み、窒素気流中 8時間加熱還流を行
った。反応終了後、モレキュラーシーブをろ別し、1、4
−ジオキサンを留去することにより、多価メタクリロキ
シ基含有フェニルシルセスキオキサン200重量部を得
た。

【００４７】（Ｂ）成分の合成一方、ビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリレート
（大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃540）50重量部とピロ
メリット酸無水物 15重量部とトルエン 80重量部、及び
トリメチルアンモニウムブロマイド 0.5重量部を 3つ口
フラスコに仕込み、窒素気流中、5時間還流することに
より、数平均分子量 Mn 20000の下記構造式（XI）のビ
スフェノールＡ−ジエポキシ−アクリレートピロメリッ
ト酸エステルオリゴマー50重量部を得た。

【化２０】上記（Ａ）成分の多価メタクリロキシ基含有フェニルシ
ルセスキオキサン 30重量部と（Ｂ）成分のビスフェノ
ールＡ−ジエポキシ−アクリレートピロメリット酸エス
テルオリゴマー30重量部、（Ｃ）成分のメタクリル酸メ
チル5重量部、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレ
ート（東亜合成（株）製Ｍ−315）35重量部及び（Ｄ）
成分の光重合開始剤としての、2−メチル−1−（4−
（メチルチオ）フェニル）−2−モンフォリンプロパン
−1（日本チバガイギー社製イルガキュアー907）5重量
部をエチレングリコールジメチルエーテル100重量部に
溶解し、厚さ1ｍｍのガラス基板にスピンコート（膜厚1
ミクロン）した後80℃にてプレキュアーし、10ｍｊの紫
外線光により露光させた。0.4ｗｔ％のジエタノールア
ミン水溶液にてリンスし、200℃にてポストべークする
ことでアスペクト比1.0の15ミクロンの線幅を有するパ
ターンを得た。

【００４８】比較例１ 3リットルビーカーに炭酸水素ナトリウム177重量部と蒸
留水2000重量部を仕込み溶解させた。これにクロロホル
ム750ｍｌに溶解させたフェニルトリクロロシラン150重
量部を氷冷下（2℃以下）、激しく攪拌しながら滴下し
た。滴下終了後、氷冷下2時間及び室温にて2時間十分に
攪拌し、静置させる。二相に分離した溶液の下相（クロ
ロホルム相）を3リットルの分液ロートに入れ、20％食
塩水溶液750ｍｌにて3回、水洗を行う。その後溶液中の
クロロホルムを室温にてエバポレーターを用いて留去さ
せ、加水分解物である粘稠性の液体95重量部を得た。次
にこの加水分解物95重量部と1、4−ジオキサン380重量
部とモレキュラーシーブ（４Å）１９重量部及び水酸化
カリウム0.1重量部、ハイドロキノン0.1重量部を1リッ
トル3つ口フラスコに仕込み、窒素気流中16時間加熱還
流を行った。反応終了後、モレキュラーシーブをろ別
し、1、4−ジオキサンを留去することにより、数分子量
Mn 4000のアクリル基を有しないフェニルシルセスキオ
キサン72重量部（収率80％）を得た。これは赤外吸収ス
ペクトの測定より1030と1150ｃｍ^-1にダブレットのSi−
O−Si伸縮振動が帰属されラダー構造を有していること
がわかった。

【００４９】上記のアクリル基を有しないフェニルシル
セスキオキサン60重量部、実施例1において合成した
（Ｂ）成分のビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリレ
ート無水フタル酸付加体 20重量部と（Ｃ）成分のポリ
エステルアクリレート（東亜合成（株）製M−9050）20
重量部及び（Ｄ）成分の光重合開始剤 1−ヒドロキシ−
シクロヘキシル−フェニル−ケトン（日本チバガイギー
（株）製イルガキュアー184）5重量部をプロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート100重量部に溶解
し、厚さ1ｍｍのガラス基板にスピンコート（膜厚1ミク
ロン）した後80℃にてプレキュアーし、50ｍｊの紫外線
光により露光させたが、コーティング溶液の相溶性が悪
くフィッシュアイが生じた。また、0.4ｗｔ％のジエタ
ノールアミン水溶液にてリンスを行ったが、明瞭なパタ
ーンは得られず、多量のスカムが生じ塗膜のガラスへの
密着性が欠けていた。

【００５０】比較例２（Ａ）成分の合成 3リットルビーカーに炭酸水素ナトリウム95重量部と蒸
留水1360重量部を仕込み溶解させた。これにクロロホル
ム500ｍｌに溶解させたγ−メタクリロキシプロピルト
リクロロシラン61重量部とメチルトリクロロシラン35重
量部を氷冷下（2℃以下）、激しく攪拌しながら滴下し
た。滴下終了後、氷冷下2時間及び室温にて2時間十分に
攪拌し、静置させる。二相に分離した溶液の下相（クロ
ロホルム相）を 3リットルの分液ロートに入れ、20％食
塩水溶液750ｍｌにて3回、水洗を行う。その後溶液中の
クロロホルムを室温にてエバポレーターを用いて留去さ
せ、加水分解物である粘稠性の液体 38重量部を得た。
次にこの加水分解物 38重量部と1、4−ジオキサン150重
量部とモレキュラーシーブ（4Å）8重量部及び水酸化カ
リウム 0.04重量部、ハイドロキノン 0.04重量部を1リ
ットル 3つ口フラスコに仕込み、窒素気流中 16時間加
熱還流を行った。反応終了後、モレキュラーシーブをろ
別し、1、4−ジオキサンを留去することにより、メタア
クリロキシ基含有メチルシルセスキオキサン（メタクリ
ロキシ基/メチル基=1モル/1モル）60重量部（収率90
％）を得た。このメタアクリロキシ基含有メチルシルセ
スキオキサンのＧＰＣ（ゲルパーミュエーションクロマ
トグラフィー）測定を行ったところ分子量10000であっ
た。

【００５１】上記（Ａ）成分の、メタクリロキシ基含有
メチルシルセスキオキサン20重量部、（Ｃ）成分のジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、
（Ｄ）成分の光重合開始剤 2−メチル−1−（4−（メチ
ルチオ）フェニル）−2−モンフォリンプロパン−1（日
本チバガイギー社製イルガキュアー907）5重量部をエチ
レングリコールジメチルエーテル100重量部に溶解し、
厚さ1ｍｍのガラス基板にスピンコート（膜厚2ミクロ
ン）した後 80℃にてプレキュアーし、20ｍｊの紫外線
光を照射させた。しかし、（Ｂ）成分のカルボキシル基
含有成分を含んでいないために、0.4ｗｔ％のジエタノ
ールアミン水溶液への溶解性が乏しく良好なパターンが
得られなかった。

【００５２】

【発明の効果】本発明によれば、基材への密着性に優
れ、硬化時の収縮が少なく、適当な硬度及び可とう性を
有し、透明でアルカリ水溶液による現像・リンスが可能
な硬化皮膜が得られ、耐熱性、段差被覆性、電気絶縁
性、ビアホール導通性、および耐クラック性等の特性を
有しているため、画像コントラスト及び断面形状に優れ
たレジストパターンが形成される。このため、ＩＣない
しＬＳＩの半導体素子、特に二層構造レジストプロセス
の上層レジスト材料及び電子回路素子用の耐熱性層間絶
縁膜やメモリー用α線遮断保護膜として、また加えて
（フィルム）液晶組立物の透明電極用基材や、現在その
基材として使用されているガラス、プラスチックへの塗
膜形成物としての用途および各種耐熱性材料あるいはプ
ラスチック光ファイバーやプラスチックハードコート、
耐熱接着剤、ソーラーシステム用器具などの機能材料と
して好適に使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の（Ａ）成分であるメタアクリロキシ
基含有フェニルシルセスキオキサン（メタクリロキシ基
/フェニル基=1モル/1モル）の赤外吸収スペクトルであ
る。

【図２】実施例３における化合物（X）の1Ｈ−ＮＭＲチ
ャートである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】必須成分として、（Ａ）下記一般式
（I）【化１】（式中、Ｒ₁は炭素数が1〜4のアルキル基，アリール基
または炭素数 5 以上の脂環式を含む１価の非置換、置
換炭化水素基のいずれかであり、Ｒ₁は同種でもよく、
異種でもよい。Ｒ₂は下記一般式（II）で示される（メ
タ）アクリロキシ結合を少なくとも１つ含む基である。
Ｒ₃はＲ₁またはＲ₂が示すものと同一の基であり、ｌ，
ｍは重合度を示し１以上の整数である。）【化２】（式中、Ｒ₄は水素原子またはメチル基、Ｒ₅は炭素数1
〜18の非置換又は置換のｎ＋１価相当の炭化水素基を示
し、ｎは1〜3の整数である。）で示される光又は熱によ
り架橋結合を形成する（メタ）アクリロキシ官能性ラダ
ー型ポリオルガノシルセスキオキサン、（Ｂ）下記一般
式（III）【化３】（式中Ｒ₆は水素原子またはメチル基であり、Ｒ₇は少な
くとも１つのカルボキシル基を含有する多価有機基であ
り、ｋは１〜４の整数である。）で示されるアルカリ水
溶液可溶性のカルボキシル基含有多官能（メタ）アクリ
レートモノマーもしくはそのオリゴマー、或いはカルボ
キシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合
体、（Ｃ）（メタ）アクリル酸エステル或いは多官能価
（メタ）アクリル酸エステルのモノマーまたはオリゴマ
ー、および（Ｄ）光重合開始剤、を含有することを特徴
とするアルカリ可溶性感光性樹脂組成物。
【請求項２】一般式（I）におけるＲ₁とＲ₂のモル比
が20〜95：80〜5である請求項１記載のアルカリ可溶性
感光性樹脂組成物。
【請求項３】（Ａ）成分の数平均分子量が1000〜1000
00である請求項１又は請求項２記載のアルカリ可溶性感
光性樹脂組成物。
【請求項４】（Ｂ）成分は下記構造式（VI),(VII),(V
III) 【化４】【化５】【化６】で示される化合物の内から選ばれたものである請求項１
記載のアルカリ可溶性感光性樹脂組成物。
【請求項５】（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）を100wt% とし
たときの（Ａ）成分が 5〜90 wt%、（Ｂ）成分が 5〜8
0wt%、（Ｃ）成分が 5〜90 wt% であり、かつ、（Ｄ）成
分が（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分の合計量 100重量部に
対して 0.1〜15重量部の範囲で含有されている請求項１
〜３のいずれかに記載のアルカリ可溶性感光性樹脂組成
物。