JPH10161323A - 無機金属層及び光学干渉構造を組み込んだ薄膜イメージング記録構成 - Google Patents

無機金属層及び光学干渉構造を組み込んだ薄膜イメージング記録構成

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JPH10161323A
JPH10161323A JP9223642A JP22364297A JPH10161323A JP H10161323 A JPH10161323 A JP H10161323A JP 9223642 A JP9223642 A JP 9223642A JP 22364297 A JP22364297 A JP 22364297A JP H10161323 A JPH10161323 A JP H10161323A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 視覚的な校正に有用な対照を示すことがで
き、しかも親水性と耐久性を備えたリソグラフ印刷プレ
ートに有用な構造の提供。 【解決手段】 リソグラフ印刷プレートとして有用な構
造体は、非常に薄い適用レベルにおいても親水性と実質
的な耐久性の両者を示す、無機金属層12を含む。これら
の材料はイメージング放射線を吸収して融除され、それ
によって化学的な現像なしに直接的なイメージングを行
うことを容易にする。これらはまた光学干渉構造18を形
成するのにも有用であり、この光学干渉構造は色をもた
らすことに加えて、以前と同様にイメージング放射線を
吸収し、イメージングパルスに応答して融除される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル印刷装置
及び方法に関し、より詳しくは、デジタル制御されたレ
ーザ出力を用いて印刷機上又は機外でイメージング（イ
メージ形成）可能なリソグラフ印刷プレート又は部材の
構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第5,339,737号及び第5,379,698
号は、その開示の全体をここでの参照によって本明細書
に取り入れるものであるが、レーザ放電によって作動す
るイメージング装置（例えば米国特許第5,385,092号及
び米国特許出願第08/376,776号参照）について用いるた
めの、種々のリソグラフ印刷プレートの構造を開示して
いる。これらの中には、印刷に際して湿潤溶液、即ち湿
し水を用いる「湿式」プレートや、インクが直接に適用
される「乾式」プレートが含まれる。
【０００３】特に、上記の米国特許第5,379,698号に開
示されたレーザイメージング可能なプレートは、薄膜金
属の融除層を用いており、これはイメージングパルスに
曝露されると、出力レベルが比較的低い場合であって
も、蒸発及び／又は溶融するものである。イメージング
されていない残りの層は、典型的には高分子組成又は厚
みのある金属組成からなる硬くて丈夫なものであり、プ
レートが商業印刷の苛酷な状況に耐えうるようにすると
共に、適切な有効寿命を持つことを可能にする。
【０００４】こうしたプレートの一般的な実施形態の一
つでは、プレート構造は、インク又はインク忌避液体と
いった印刷液体に対する親和性（又は反発性）に基づい
て選ばれた第一の層、即ち最上層を含む。第一の層の下
には薄膜金属層が配置されており、これはイメージング
放射線（例えば赤外線、即ち「ＩＲ」）に応答して融除
される。この金属層の下側には、強く頑丈な基体があ
り、これは第一の層のそれとは逆の、インク又はインク
忌避液体に対する親和性（又は反発性）によって特徴付
けられる。イメージングパルスによって薄膜金属層、即
ち放射線吸収性の第二の層を融除すると、最上層もまた
弱化される。下側の層に対する係止が破砕されることに
より、最上層はイメージング後に行われるクリーニング
工程で簡単に除去されるようになる。今一度述べれば、
これによって、イメージング放射線に未曝露の第一の層
のそれとは異なるインク又はインク忌避液体に対する親
和性（又は反発性）を有する、イメージスポットが生成
されることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これらのタイプのプレ
ートが非常に有利であるのは、環境汚染物質を回避して
いる点にある。これは、融除生成物がサンドイッチ構造
内に閉じ込められるからである。レーザパルスは最上層
も基体も破壊しないので、融除されたイメージング層の
破片はこれらの間に保持される。これは、表面層がレー
ザエッチングによって完全に焼去される、従来技術によ
る種々の手法とは対照的である。例えば米国特許第4,05
4,094号及び第4,214,249号を参照されたい。空中に飛散
される副生物を回避することに加えて、サンドイッチさ
れた融除層をベースとするプレートは低パワーでイメー
ジング可能である。なぜなら融除層は印刷表面として作
用するものではなく、従って特に耐久性を有する必要が
ないからである。耐久性のある層は概して厚みがあり及
び／又は溶解しにくく、かなりのエネルギー入力のみに
応答して融除される。しかしながらこうした利点の代償
として、上述したイメージング後のクリーニング工程が
必要とされる。
【０００６】加えて、こうしたサンドイッチされた融除
層を用いる手法は通常、高分子からなる最上層コーティ
ングを必要とするが、これは在来の印刷プレートよりも
耐久性が劣る。例えば、在来の写真露光タイプの湿式プ
レートは、何十万回にも及ぶ印像に耐えることのでき
る、嵩高なアルミニウム製の表面を用いている。これに
対し、サンドイッチされた融除層を用いたプレートは、
融除層へとレーザ放射線を通過させる高分子製の最上層
を用いている。ポリビニルアルコールなどの親水性ポリ
マーは、金属のような耐久性を有するものではない。
【０００７】サンドイッチされた融除層が金属である場
合にも、困難が生じうる。まず、イメージング放射線の
反射、吸収、及び透過の間に、微妙なバランスが確定さ
れねばならない。金属は本来的に、放射線を反射する傾
向を示す。しかしながら、低パワーでのイメージングの
ために必要とされる僅かな堆積厚みにおいては、金属層
は放射線を幾らか吸収し（これが融除機構をもたら
す）、または幾らかを透過させる。こうした層の厚みを
増大させると、レーザパワーに対する要求も増大する
が、これは材料が付加されることのみによってではな
く、イメージング放射線の反射が増すことにも基づくも
のである。これらを総合すると、厚みの上限が帰結とし
て得られ、この上限により、イメージング金属層の厚み
を増大させてプレートの耐久性を増大させる行き方が制
限されることになる。
【０００８】さらにまた、金属／非金属の組み合わせ
（例えば金属酸化物）をベースとする薄膜イメージング
層は、可撓性の高分子基体上に堆積された場合に、剛性
を示しうる。剛性というものもまた、層の厚みと共に増
大し、過度に厚い金属／非金属層は、破断に対して弱く
なる。例えば、こうした層の上に熱硬化性コーティング
が適用された場合など、加熱や冷却の結果として、破断
を導く寸法的な応力が生成しうる。このようにして損傷
を受けたイメージング層を有する印刷プレートは耐久性
に劣り、またイメージ品質が損なわれる恐れもある。
【０００９】サンドイッチされた融除層を有するプレー
トに関して生起しうる別の種類の問題点は、イメージン
グされた領域をイメージングされていない領域から視覚
的に識別可能かどうかという点に関する。基体が透明で
ある場合、レーザ曝露を受けていない領域の銀白金属様
の外観は、印刷プレートの下側にある表面（例えばプレ
ートシリンダ又は検査テーブル）と対照をなさず、イメ
ージングされた領域を簡単に見分けることができない。
同様の困難性は、構造体即ちプレートの下側に何がある
かとは無関係に、例えば米国特許第5,339,737号及び199
5年５月４日に出願され「寸法安定な基部支持体を備え
たレーザイメージング可能なリソグラフ印刷部材」と題
する米国特許出願第08/433,994号（その開示の全体をこ
こでの参照によって本明細書に取り入れる）にアウトラ
インが示されているようなある種の構造体については生
じうる。特に、上記のような構造体は、金属製の支持体
に対してラミネート（積層）して、寸法安定性をもたら
すと共に、透過されたイメージング放射線を薄膜金属層
へと反射し戻すようにすることができる。しかしなが
ら、基体とラミネート用の接着剤が共に透明であるとす
ると、イメージングの後にも変わらずに残っている金属
製の支持体は、薄膜金属層と殆ど対照をなさない可能性
が大きい。
【００１０】また上記の米国特許出願第08/433,994号に
も記載されているように、薄膜金属イメージング層は、
ラミネートなしに金属製の基部支持体上に用いることも
できる。熱伝導性のある金属支持体は、薄膜金属層の下
側に直接に配置された場合はイメージングエネルギーを
散逸させるが、米国特許出願第08/433,994号は、熱を薄
膜金属層に集中させ、基部支持体に対する熱伝達及び損
失を防止する（又は少なくとも遅延させる）構造につい
て詳述している。これを達成するために、断熱層がイメ
ージング層と熱伝導性のある基部支持体の間に介在され
るのである。この場合も、断熱層が透明な高分子材料か
ら製造されると仮定すると、薄膜金属層と金属基部支持
体との間の対照は極めて小さい。
【００１１】印刷業者はこれまで、視覚検査を容易にす
るために、プレートのイメージングされた領域とイメー
ジングされていない領域との間の対照を利用してきた。
典型的には、印刷機のオペレータはまず全体的なパター
ンを用いて、プレートが現在の作業に対応しているか、
また順次連続するプレートシリンダ上にある一連のプレ
ートが相互に対応しているかどうかを確認する。オペレ
ータは次いで、プレートの対照をなしている領域をより
厳密に検査して、印刷機を運転する前に、全体的なイメ
ージングが適切であること、及び重要なディテールが存
在していることを検証することができる。対照が存在せ
ず、或いは低レベルである場合には、印刷機のオペレー
タがプレートを調べることによってこれらの識別及び検
査作業を行うことは困難又は不可能となる。印刷機のオ
ペレータが試し刷りを行ってプレートイメージの直接的
な視覚化を得ることは可能であるが、これは特にコンピ
ュータ対プレートという状況の下では、時間に無駄の多
い作業である。
【００１２】従って、視覚的に隣接している色調の類似
したプレート層の間に対照を与える構成に対するニーズ
が存在している。この問題に対する一つの解決策は、本
出願人に対して譲渡された、1995年７月27日出願の米国
特許出願第08/508,330号に記載されている。そこに開示
された構成は、インク反発層（単数又は複数）からイン
ク受容層（単数又は複数）を観察によって識別させる着
色剤を含んでいるが、この着色剤はイメージングパルス
の作用に対して実質的に干渉しない。一つの実施形態に
おいては、印刷部材は最上層と、薄膜金属イメージング
層と、イメージング放射線を反射し薄膜金属層と色調が
異なる物質（分散された顔料、例えば硫酸バリウム）を
含む高分子基体からなる。この着色剤は、基体の高分子
マトリックス中に化学的に一体化され、分散され、又は
溶解されている。或いはまた、最上層がイメージング処
理の結果として除去されることから、着色剤を基体では
なく（又はそれに加えて）この最上層に配置することも
可能である。
【００１３】別の実施形態においては、最上層と、薄膜
金属イメージング層と、高分子基体とからなる構造体
が、イメージング層と色調の類似した金属基部支持体に
対してラミネートされる。この実施形態の最初のバージ
ョンでは、着色剤は基体層に配置され、基部支持体が未
吸収のイメージング放射線を反射した場合に、それが着
色剤を含有する基体を通って薄膜金属イメージング層へ
と、大した吸収なしに戻されるようになっている。別の
バージョンでは、着色剤はラミネート用の接着剤中に配
置される。この二番目のバージョンは、品質管理の目的
で、接着剤層の均一性を観察することを可能にする点で
有利である。実際、プレートのイメージングされた領域
とイメージングされない領域の間に視覚的な対照が必要
でない（或いは恐らくは望ましくなくさえある）ような
用途においてさえも、周囲光の下では不可視であるが特
別な条件の下では観察可能な染料（例えば紫外線の下で
蛍光を発する）を、接着剤層内に配置しておくことがで
きる。この実施形態のさらに別のバージョンでは、着色
剤は上述したように、最上層に配置される。着色剤は染
料、顔料、或いはこれらの組み合わせからなることがで
きる。
【００１４】対照は、視覚的な校正以外にも有用な場合
がある。例えば、異なる色を用いて各種の記録媒体を識
別することが可能であり、また装飾のために、或いは純
正品などの認証の手段として用いることもできる。これ
らの目的のためには、染料や顔料単体の場合よりも複雑
な色特性を有するようにされた、対照を示す媒体を用い
ることが望ましい。
【００１５】
【課題を解決するための手段】第一の側面において、本
発明はリソグラフ印刷プレートの表面層として、ある種
の無機金属材料を用いる。これらの材料は親水性であ
り、また同時に非常に耐久性があり、湿式プレート構成
にとって望ましいものである。実際、本発明の無機金属
材料は、堆積厚みが非常に僅かな場合でも、満足できる
耐久性を示す。その結果、イメージング処理によって生
成される破片の量は最小限のものとなり、またそれらの
破片は傾向として不揮発性である。こうした無機金属層
は、真空コーティング技術によって好適に適用されう
る。またこれらの層は、例えばレーザイメージング放射
線によって容易に除去可能であり、それが有する親水性
は、薄い水応答性の保護膜を適用することによって保持
されうる。或いはまた、無機金属材料は、別個の親水性
層又は親油性層の下側に一体化された層として作用する
こともできる。
【００１６】本発明のこの側面の変形例においては、無
機金属層は光学干渉構造の一部として作用し、幅広い範
囲の視覚的特性をもたらすことができる。例えば、こう
した構造は層同士の間での対照をもたらし、また他の手
段によって簡単には真似ることのできない色の変動をも
たらす。
【００１７】より一般的に言えば、光学干渉構造には、
光を通過させ、特定の波長を選択的に強化し及び／又は
打ち消す（例えば光が屈折率の異なる媒体の間を通過し
た場合に生ずる反射を排除するために）構成や、特定の
波長（通常は可視色）を強調するような仕方で入射光を
反射する構成が含まれる。後者の場合、色は見る角度と
共に、特徴的な仕方で変化する。
【００１８】反射光学干渉構造には通常、反射性金属層
と、その上の透明な誘電材料の層と、この誘電層の上側
にある半反射性金属層とが含まれる。入射光がこの光学
干渉構造の半反射性金属層に当たると、光の幾らかは反
射されるが幾らかはこの層と下側の誘電層を共に通過す
る。光線のうち透過された部分は次いで最下層の金属層
によって反射され、誘電層を通って再度透過される。こ
の反射光の幾らかは半反射性の最上層を介して通過さ
れ、この最上層によって最初に反射された光に対して建
設的に又は破壊的に干渉する。誘電層の厚みは、最上層
の金属層と最下層の金属層によって反射された光が一緒
になった場合に、ある選択された波長は建設的な干渉を
受けるが他の波長はある程度の破壊的な干渉を受けるよ
うに選ばれる。より具体的には、誘電層の厚みは所望と
する波長の１／４（四半波長）の小さな偶数倍であり、
誘電層の材料の屈折率によって生ずる波長のシフトを見
込んだものである。従って、白色光線を用いて反射光学
干渉構造、即ち反射干渉フィルタを観察した場合、これ
は強い特徴的な色を反射する。（本明細書で用いる用語
「四半波」は、四半波長の偶数倍に等しい材料厚みを意
味するように用いられる。） 模造防止手段として有用であることが判明している、こ
うした干渉構造の一つの光学的特性は、この構造から反
射される色が、誘電層を介して通過される光の光路長に
依存しているということである。その結果、観察される
色は入射光の角度と共に変化する。このような構造を、
この干渉構造、即ちフィルタに対して垂直に入射する光
の下で観察した場合には、ある特定の色（例えば青）が
見える。しかしながら、入射及び反射の角度がより鋭角
である場合には、誘電層を通る光路長の合計はより長
い。その結果、この干渉構造をすれすれの入射により近
い角度で観察した場合には、より波長の長い色（例えば
紫）が観察される。入射角に対する色のこのような複合
的依存性は、干渉構造、つまり干渉フィルタそれ自体を
再現することなしには模造することができない。
【００１９】本発明の別の側面によれば、無機金属層を
必ずしも含まない光学干渉構造が用いられて、色調が類
似した記録層同士の間での対照がもたらされる。ここで
考察される手法は、ピーク波長が変動する放射線によっ
てイメージング可能な種々の記録構造体の何れに対して
も適用可能なものである。より詳しくは、この発明は米
国特許第5,385,092号に記載されたような固体ダイオー
ドレーザを用いて、１μ秒を超えるパルス時間、通常は
５−13μ秒、所望の場合にはより長いパルス時間でイメ
ージング可能なリソグラフ印刷プレートに適したもので
ある。この発明はまた、数ナノ秒又はそれ以下のパルス
時間でもって、高強度レーザを用いてイメージング可能
なリソグラフ印刷プレートにも適している。本明細書に
おいて、用語「プレート」は、インク及び／又は湿し液
に対して異なる親和性を示す領域によって画定されるイ
メージを記録することのできる、どのようなタイプの印
刷部材又は印刷表面をも対象とするものである。適切な
構造に含まれるものとしては印刷機のプレートシリンダ
上に装着される在来の平坦なリソグラフ印刷プレートが
あるが、シリンダ（例えばプレートシリンダのロール表
面）、エンドレスベルト、或いはその他の構成もまた含
まれうる。「フォトマスク」という用語は、感光性記録
媒体（典型的には露光タイプの印刷プレート）と化学放
射線源の間に置かれる非透明画を意味している。露光の
間、フォトマスクは記録媒体の非イメージング部分に照
射が届かないようにする。用語「校正シート」又は「校
正」は、イメージングされていないバックグラウンドと
対照をなすようにプレートイメージをレンダリング、表
現することによって、イメージングされた印刷プレート
の試し刷り、下刷りをもたらす媒体を意味している。
【００２０】この発明の全ての構成は、レーザ放射線を
吸収して融除される層を用いている。一般には、好まし
いイメージング波長は赤外領域にあり、好ましくは近赤
外領域にある。ここで用いた「近赤外」という用語は、
最大波長λmaxが700から1500nmの範囲内にあるイメージ
ング放射線を意味している。この発明の一つの重要な特
徴は、イメージング放射線源としての固体レーザ（一般
に半導体ダイオードレーザと呼ばれ、砒化ガリウムアル
ミニウム化合物をベースとするデバイスや、単結晶レー
ザなどが含まれ（例えばNd：ＹＡＧ及びNd：ＹＬＦ）、
これらはそれ自体がダイオードレーザ又はランプから供
給を受けている）に関連したその有用性にある。これら
は明らかに経済的で便利であり、種々のイメージングデ
バイスについて用いることができる。近赤外放射線を用
いると、広範囲の有機及び無機吸収材料を用いることが
できるようになる。
【００２１】この構造にはまた、寸法安定な基部支持体
（通常はラミネートして適用される）、イメージング放
射線を融除層内に集中させる反射層、及び構造的な堅固
さを助長するための層を備えることもできる。
【００２２】以上の議論は、添付図面を参照して行う以
下の本発明の詳細な説明から、より容易に理解されうる
ものである。なお図面とそこに示されている部材は必ず
しも縮尺通りではない。
【００２３】
【発明の実施の形態】最初に図１を参照すると、本発明
の第一の実施形態が示されている。そこに示された構造
は、その最も基本的な形態において、基体10と表面層12
を含んでいる。基体10は、強く、安定で、可撓性である
ことが好ましく、高分子フィルムや紙又は金属シートか
らなることができる。ポリエステルフィルム（好ましい
実施形態では米国デラウェア州ウィルミントンのE.I. d
uPont de Nemours Co.により市販されているMYLARとい
う商品名のフィルム、或いは米国デラウェア州ウィルミ
ントンのICI Filmsにより市販されているMELINEXという
商品名のフィルム）は有用な例をもたらす。ポリエステ
ルフィルムの好ましい厚みは0.007インチ（約0.18ミ
リ）であるが、より薄いフィルムやより厚いフィルムも
有効に用いることができる。
【００２４】紙製の基体には一般に、高分子物質が「含
浸」されて、耐水性、寸法安定性及び強度が付与され
る。好ましい金属基体はアルミニウムである。理想的に
は、アルミニウムは研磨されて、上側にある何らかの光
学干渉層を貫通する全てのイメージング放射線を反射す
る。また反射性金属の基体10に代えて、イメージング放
射線（例えばＩＲ）を放射する顔料を含む層を用いるこ
ともできる。ＩＲ反射性物質として用いるのに適した材
料は、米国デラウェア州ウィルミントンのICI Filmsに
より市販されているWhite 329というフィルムであり、
これは白色顔料としてＩＲ反射性の硫酸バリウムを用い
ている。好ましい厚みは0.007インチ（約0.18ミリ）で
あるが、この構造体が後述のように金属支持体上にラミ
ネートされる場合には0.002インチ（約0.05ミリ）であ
る。
【００２５】層12は非常に薄い（50−500Å、チタンの
場合の好ましい例は300Å）金属の層であり、空気に曝
露されると表面に自然酸化膜12ｓを生ずる場合もある。
この層はＩＲ放射線に応答して融除される。この金属又
はその表面の酸化物は親水性を示し、この構造体をリソ
グラフ印刷プレートとして用いるための基礎をもたら
す。層12と酸化膜12ｓを融除によりイメージに関して除
去すると、下側にある層10が露出され、この層は疎水性
であると共に親油性である。従って、層12と酸化膜12ｓ
は湿し水を受容するが、層10は湿し水を拒絶してインク
を受容する。それゆえイメージ造作に親水性金属が残存
するのを回避するためには、層12を完全に融除すること
が重要である。
【００２６】層12の金属は、ｄ−ブロックの（遷移）金
属、アルミニウム、インジウム、又はスズの少なくとも
一つである。混合物の場合、金属は合金又は金属間化合
物として存在する。この場合にも、より活性である金属
表面上に酸化膜が発現すると、親水性の改良につながる
表面形態が生成される。こうした酸化は金属層の両方の
表面において生成しうるものであり、従ってまた、基体
10（又は他の下側層）に対する層12の接着性に影響を及
ぼしうる。基体10はまた、層12に対する接着性を改良す
るために、種々の手法によって処理されることができ
る。例えば、酸素を含む作用ガス（例えばアルゴン／酸
素の混合ガス）でフィルム表面をプラズマ処理すると、
フィルム表面に酸素が付加される結果となり、かくして
この表面を層12の金属（単数又は複数）と反応性のもの
にすることによって、接着性の改良が図られる。酸素は
しかし、プラズマ処理を上首尾に行う上で必要なもので
はない。他の適切な作用ガスには、純アルゴン、純窒
素、及びアルゴン／窒素混合物などがある。例えばBern
ierら、ACS Symposium Series 440, Metallization ofP
olymers, p.147 (1990)を参照されたい。
【００２７】層12／酸化膜12ｓの親水性、耐久性、貯蔵
寿命、及び耐スクラッチ性は、アラビアゴム又は市販の
プレート仕上げ剤に見られるゴム化（gumming）剤と、
湿し水による処理を通じて改善することができる。特
に、米国ニュージャージー州オークランドのVarn Produ
cts Companyにより市販されているTRUE BLUEという商品
名のプレートクリーニング剤とVARN TOTALという商品名
の湿し水が、この目的に適している。また同様に、米国
ニュージャージー州ソマービルのHoechst CelaneseのPr
inting Products Divisionから市販されているFPC製
品、米国イリノイ州レークブラフのRosos Chemical Co.
から市販されているG-7A-"V"-COMBという商品名の湿し
水、米国フロリダ州ハリウッドのAllied Photo Offset
Supply Corp.により市販されているVANISHという商品名
のプレートクリーナー及びスクラッチリムーバー、並び
にやはりAllied社から市販されているPOLY-PLATEという
商品名のプレートクリーニング溶液も適したものであ
る。好適なその他の物質は、主成分として平均分子量約
8000のポリエチレングリコールを含むものである。やは
り有用である別の仕上げ材料は、非常に薄い層として適
用されるポリビニルアルコールなどの化学種である。仕
上げ処理の結果は、仕上げ層13として示されている。
【００２８】層12が部分的に反射性である場合は、この
構造体に対して２つの付加的な層14、16を追加すること
ができ、これらは層12と組み合わせられた場合に、光学
干渉構造18を形成する。層12が燃焼すると、これらの中
間層14、16は焼去される。層14は誘電体からなる四半波
スペーサであり、その厚みは前述したように、対象とす
る波長に依存する。厚みが0.05から0.9μmであると、対
照用の可視色が生成される。この層は通常は高分子から
なり、好ましくはポリアクリレートからなる。好ましい
ポリアクリレートには、多官能性アクリレート、或いは
単官能性ポリアクリレートと多官能性ポリアクリレート
の混合物があり、これはモノマーを真空蒸着した後に電
子ビーム又は紫外線（ＵＶ）で硬化することによって適
用されうる。
【００２９】層16は反射層であり、例えば50−500Åの
範囲内の厚みを有する（或いは、所与のレーザパワー出
力と完全な融除の必要性に鑑みて可能であるならば、よ
り厚い）アルミニウムである。他にも、反射層の材料と
してはチタン、クロム、ステンレススチール、スズ、又
は亜鉛を用いることができる。層12、14及び16は全て、
真空条件下で堆積可能である。特に、層12及び16は真空
蒸着又はスパッタリング（例えばアルゴンでの）によっ
て堆積可能である。層16の場合は、プラズマ処理された
ポリエステル基体10の上に、真空スパッタリングするこ
とが好ましい。層14は真空蒸着により適用可能である。
例えば米国特許第4,842,893号及び第5,032,461号（これ
らの開示の全体をここでの参照によって本明細書に取り
入れる）に記載されているように、低分子量のモノマー
又はプレポリマーを、コーティングされる材料のウェブ
（例えば適当にメタライズされた基体10）を収容してい
る真空チャンバ内で、真空フラッシングすることができ
る。蒸気は移動するウェブの表面へと差し向けられ、こ
の表面はモノマーが表面上に凝結するのに十分な低温に
保持されている。モノマーは次いで、化学放射線に曝露
されることによって重合される。通常は、モノマーやプ
レポリマーの分子量は150−800の範囲内にある。
【００３０】図２は上記した実施形態の変形例を示して
おり、そこでは層12／酸化膜12ｓが表面層20によって覆
われている。この場合、基体10と表面層20は、インク又
はインク忌避液体に対して逆の親和性を示す。この手法
では、層12／酸化膜12ｓとは異なる親和性及び／又は耐
久性を有する表面層を使用することができる。このプレ
ートの一つのバージョンでは、表面層20はシリコーンポ
リマー又はフッ素ポリマーであってインクをはじくが、
基体10は親油性のポリエステル又はアルミニウム材料か
らなる。その結果、乾式プレートとなる。別の、湿式プ
レートのバージョンにおいては、表面層20はポリビニル
アルコール（例えば米国ペンシルバニア州アレンタウン
のAir Productsにより市販されているAirvol 125という
商品名の材料）の如き親水性材料であり、基体10は親油
性且つ疎水性の材料である（繰り返しになるが、ポリエ
ステルが好適である）。
【００３１】シリコーンの表面層20を用いる乾式プレー
ト構造においては、層12について好ましい金属はチタン
である。特にシリコーンが付加硬化によって架橋される
場合には、その下側のチタン層は他の材料と比較して、
実質的な利点をもたらす。付加硬化型シリコーンをチタ
ン層上にコーティングすると、硬化に際しての触媒作用
が強化され、実質的に完全な架橋が促進される。そして
また、架橋が完了した後でさえも、さらなる結合反応を
促進しうる。これらの現象は、シリコーン及びチタン層
に対するその結合を強化し、それによってプレートの寿
命を増大させ（なぜならより完全に硬化したシリコーン
は優れた耐久性を示すため）、またインクに含まれる溶
剤がシリコーン層を通って移動する（それによって下側
にある層を劣化させうる）ことに対する抵抗性をももた
らす。触媒作用の向上は、特に、高速コーティング（又
はインク受容性の支持体に対する熱的損傷を回避するた
めに低い温度でコーティングを行うこと）に対する要望
のために、コーティング装置上で完全な硬化を行うこと
が実行不能である場合に有用である。チタンの存在は、
温度の低下に拘わらず、連続的な架橋を助長する。
【００３２】表面層20に有用な材料及びコーティングの
技法は、米国特許第5,339,737号、第5,188,032号、並び
に第5,353,705号及び第5,379,698号に開示されている。
基本的には、好適なシリコーン材料はワイヤ巻きロッド
を用いて塗布され、次いで乾燥及び熱硬化されて、例え
ば２ｇ／m2で堆積された均一なコーティングが生成され
る。ポリビニルアルコールの場合、好適な材料は典型的
には、ポリ酢酸ビニルの加水分解によって生成される。
加水分解の程度は、耐水性や耐久性を含めて、幾つかの
物性に対して影響を及ぼす。従って、適切なプレート耐
久性を確保するためには、本発明において用いられるポ
リビニルアルコールは高度の加水分解と、高分子量とを
反映したものとなる。有効な親水性コーティングは十分
に架橋されて、湿し水に対する曝露の結果としての再溶
解が防止されるが、また湿潤性を助長する表面テクスチ
ャ（構造組織）を生ずるように、フィラーを含むことも
できる。特定の用途に対する特性の最適な組み合わせを
選択することは、十分に当業者の技術の範囲内にある事
項である。ポリビニルアルコールの有用な表面コーティ
ングは、例えばワイヤ巻きロッドを用いて塗布し、続い
て対流オーブンで華氏300度（約149℃）で１分間乾燥す
ることによって、１ｇ／m2の塗布重量とすることができ
る。
【００３３】上記の構造体をレーザ出力に曝露すると、
曝露領域において表面層20が弱化又は除去され、また光
学干渉構造18が融除される。弱化された表面コーティン
グ（及び吸収性の第二の層の破壊に由来する残存破片）
は、イメージング後のクリーニング工程で除去される。
特に、こうしたクリーニングは、回転ブラシのような接
触式クリーニング装置（又は米国特許第5,148,746号に
記載されたような他の適当な手段）を用いて、液体なし
で、或いは最上層に対する非溶剤を用いて達成すること
ができる。イメージング後のクリーニングは、付加的な
処理工程を意味することになるが、イメージングの最中
に最上層が存在していることは、実際問題として有利で
あることが明らかとなりうるものである。即ち吸収性の
層の融除は、レーザビームの伝達に対して干渉しうる破
片（例えば集束レンズ上に堆積することにより、或いは
伝達を部分的に阻害する微細粒子のエーロゾル（又はミ
スト）として）を生成する。破壊はされているが除去さ
れていない最上層は、この破片が出ていくことを防止す
る。
【００３４】層25は、任意の金属支持体である。代表的
な製造手順においては、基体10として機能するポリエス
テルフィルム上へと、真空条件下において、層16、14、
そして次いで12が堆積される。それから表面層20が層12
上にコーティングされ、その後このコーティングされた
構造物はラミネート用の接着剤27を用いて、所望とする
プレート厚みに近い厚みを有するアルミニウム基部25上
へとラミネートされ、係留される。本発明によるラミネ
ートは、剛性を付与するのに加えて、反射性能を有して
いることもできる。支持体25は好ましくは、光学干渉構
造18及びその下側にある層を透過した未吸収のイメージ
ング放射線を反射する。例えば近赤外のイメージング放
射線の場合、アルミニウム（及び特に研磨されたアルミ
ニウム）のラミネート支持体は、非常に有利な反射性を
もたらす。この場合、基板10、ラミネート用接着剤27、
及び光学干渉構造18と支持体25の間にある他の層（例え
ばプライマーコーティング）は、イメージング放射線に
対してほぼ透過性でなければならない。加えて、反射性
支持体に当たる前に発散によってビームのエネルギー密
度が失われないように、基体10は比較的薄いものでなけ
ればならない。これまでに述べたレーザ設備に関連して
適切に動作するためには、例えばポリエステル基体であ
れば、0.002インチ（約0.05ミリ）よりも厚くないこと
が好ましい。
【００３５】代替的に、ラミネートを行うに先立って、
反射性金属の薄膜層でポリエステル製の支持体25をメタ
ライズすることもできる。このような構成はかなりの可
撓性を示し、従ってプレートを巻き付ける配置構成に非
常に適したものである。好ましくは、反射性の層は50−
500Å又はそれ以上の厚みを有する反射性金属（例えば
アルミニウム）であり、支持体25は嵩高な（例えば0.00
7インチ（約0.18ミリ））のポリエステル層である。
【００３６】別の代替例では、ラミネート用の接着剤は
イメージング放射線を反射する物質（例えば硫酸バリウ
ムのような顔料）を含有する。
【００３７】ラミネートを行うのに適した技法は技術的
に十分に確立されており、例えば米国特許第5,188,032
号及び米国特許出願第08/433,994号に開示されている。
印刷部材の製造においては、基板10と支持体25の両者に
ついて、ロール（ウェブ）形態の材料を用いるのが好ま
しい。従って、ローラニップラミネート処理手順が好ま
しい。この製造手順においては、接合される表面の一方
又は双方にラミネート用接着剤がコーティングされる。
これらの表面は次いで与圧下に重ね合わせられ、適切な
らば円筒形のラミネートローラの間のニップ（ローラ間
隙）において加熱される。他の適切な技法には、電子ビ
ームやＵＶ硬化による手法がある。
【００３８】この手法の別の変形例においては、基体10
はイメージング放射線に応答して融除されることがない
ように十分に厚みのある（例えば0.005インチ（約0.13
ミリ）又はそれ以上）、反射性の金属（例えばアルミニ
ウム）である。この場合、層16は除くことができるが、
これは基体10が反射機能をもたらす（そしてまた乾式印
刷用途においてインク受容体として作用する）からであ
る。この変形例はその最も単純化された形態において
は、表面層20と、その下側にある部分的に反射性の（そ
して表面酸化膜12ｓを含んでいてもいなくてもよい）薄
膜金属層12と、四半波スペーサ14と、反射性基体10とか
らなる。通常は、イメージングの後に金属基体10が所望
の親油性に加えて幾らかの残存親水性を示しうることか
ら、乾式プレートを形成するためにはインクを拒絶する
（例えばシリコーン）表面層20が用いられる。
【００３９】さて図３を参照すると、本発明の第二の実
施形態が示されており、そこでは硬く、耐久性があり、
導電性のある親水性層32が基体10の上に直接に、或いは
より好ましくは、金属層12の上に配置されている。より
好ましいとするのは、後者を付加することは全体的な接
着性を改良する傾向があるためである。この後者の場
合、金属層12は表面酸化膜12ｓを含んでいてもいなくて
もよい。仕上げ処理による層13を、層32に適用すること
もできる。
【００４０】層32は、少なくとも一つの金属と少なくと
も一つの非金属の化合物、又はこうした化合物の混合物
からなる無機金属層である。下側にある層12／酸化膜12
ｓと同様に、層32はイメージング放射線を吸収して融除
されるものであり、従って僅かに100−2000Åの厚みで
適用される。それゆえ、層32を構成する材料の選択は非
常に重要であるが、これはこの層が要求の厳しい商業印
刷環境において印刷表面として作用しなければならず、
しかもイメージング放射線に応答して融除されねばなら
ないからである。この手法は従って、米国特許第5,354,
633号に開示された、印刷プレートとしての機能ではな
しに、化学放射線のブロックを指向している多層構造と
は、全く異なるものである。その結果、米国特許第5,35
4,633号の構成では一連の厚い層が必要とされ、これら
はイメージング放射線に均一に応答するものではない。
そうではなしに、最上層（単数又は複数）のみがイメー
ジング放射線に応答して実際に融除され、こうした層
（単数又は複数）が次いで、下側にある不透明な層の燃
焼を引き起こす。この不透明層はその燃焼の結果破壊さ
れるものであり、レーザビームの作用によって破壊され
るものではない。
【００４１】層32の金属成分は、ｄ−ブロック（遷移）
金属、ｆ−ブロック（ランタノイド）金属、アルミニウ
ム、インジウム、又はスズ、或いはこれらの何れかの混
合物（合金、又はより明確な化合物が存在する場合には
金属間化合物）でありうる。好ましい金属に含まれるも
のとしては、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、モリブデン、及びタングステンがある。
層32の非金属成分は、ｐ−ブロック元素のホウ素、炭
素、窒素、酸素及びケイ素の一つ又はそれ以上であるこ
とができる。これらの場合、金属はホウ化物、炭化物、
窒化物、炭化窒化物、ケイ化物、酸化物などの形態をと
りうる。ここにおける金属／非金属化合物は、明確な化
学量論量を持つ場合も持たない場合もあり、場合によっ
ては（例えばAl−Si化合物）合金である。好ましい金属
／非金属の組み合わせには、TiＮ，TiＯＮ，TiＯx（0.9
≦ｘ≦2.0），TiAlＮ，TiAlＣＮ，TiＣ及びTiＣＮなど
が含まれる。
【００４２】ある種のものは、層32に用いるのに適して
いない。これらに含まれるものとしては、イオウ、セレ
ン及びテルルなどのカルコゲニド、並びにアンチモン、
タリウム、鉛及びビスマスのような金属、層32に用いら
れる材料の90％を越える比率で存在する場合の元素半導
体シリコン及びゲルマニウム、さらにはヒ素を含む化合
物（例えばGaAs，GaAlAs，GaAlInAsなど）がある。これ
らの元素は、導電性の欠如、劣った耐久性、親水性の欠
如、化学的不安定性、及び／又は環境及び毒性に関する
懸念から、本発明に関して条件を満たさない。材料の選
択を支配する主たる要件は、光学干渉構造（所望の場
合）としての挙動、隣接する層に対する接着性、融除に
ついての応答性、融除に際しての毒性物質の欠如、及び
調達と適用についての経済性である。通常は、層32は真
空コーティングされた薄膜として適用される。
【００４３】層32が堆積される厚みは、図４のＡからＣ
に示すような仕方で挙動する傾向のある平坦な層と比較
した場合に、寸法的な応力に対して優れた抵抗性を示す
表面組織、テクスチャを生成するのを容易にする。図４
Ａは平坦に適用された無機金属層32（例えば1000−5000
Å又はそれ以上の厚みを有する）を示しており、表面テ
クスチャ32ｓを含む場合もある。基体10に対して、図４
Ｂの矢印で示すように寸法的な応力が作用すると、層32
はその固有の剛性の故に、破断したりひび割れたりする
傾向があるが、この剛性は部分的には単に、その適用厚
みに起因するものである。図示のような破断をもたらす
寸法的応力は、例えば上側の高分子層を硬化する過程に
おいて、熱的に誘起された差別的な膨張又は収縮に由来
するものでありうる。図４Ｃは、破断をもたらしうる別
の状況、即ち構造体の屈曲を示している。しかしなが
ら、剛性の層32の屈曲は、ひび割れだけではなく、下側
の基体10からの剥がれを招来することもあり、それに伴
って挙動の劣化や、イメージング放射線に対する応答の
信頼性の喪失を生じうる。残念ながら、印刷プロセスに
は少なくともある程度の屈曲が、現実的には常に伴って
いる。例えば、プレートは普通、印刷の準備に当たって
プレートシリンダの周囲に巻かれ、またプレートはさら
に屈曲することによってクランプ機構に固定される。実
際のところ、屈曲はプレートの製造の間に、プレートが
使用されるよりもずっと前に頻繁に行われるものであ
る。即ち後から個々のプレートへと分割されるための
「ウェブ」としてのプレート材料の製造に際して、プレ
ート材料はロール状に巻かれるのが一般である。
【００４４】この問題点に対する解決が、図５Ａ−Ｃに
示されている。そこに示された構造体は金属層12を含ん
でいるが、これは前述したように、100−2000Åの厚み
で適用されるものである。放射線の吸収を通じてイメー
ジング処理に寄与することにより、層12は剛性を最小限
とするように層32の特性を調節することを可能にする。
なぜなら層32はイメージングパルスの主な部分を吸収す
る必要がないからである。それでもなお、層32は通常は
親水性であることから、これを融除によって完全に除去
することが重要である。というのは、何らかの残部があ
ると、湿し水と相互作用してイメージを劣化させるから
である。また層32は、耐久性があるように十分な厚みを
持たねばならない。層12はこれらの側面に関して補助を
行うと共に、イメージング放射線を部分的に層32へと反
射して戻す。
【００４５】破断及び剥がれに対する抵抗性は、基本的
には、団塊状又はデンドライト（樹枝状結晶）状として
特徴付けることのできる表面形態を生成させるような仕
方で層32を適用することによって達成される。層32の材
料として想定される無機金属材料は、当初は微視的な凝
集塊又はクラスタ、群落として堆積される傾向がある。
十分な堆積密度になるとクラスタは合体し、層は図４Ａ
−Ｃに示された厚い層の、平滑で均一な形態特性を示す
ようになり、結果として剛性の問題を生ずる。図５Ａ−
Ｃに示された構成、即ち層32の表面全体にわたって存在
するデンドライト又は団塊Ｎからなる三次元テクスチャ
を備えた構成を維持することにより、応力に対する弱さ
は低減される。これは個々の団塊Ｎが分離可能であるこ
とに基づくものであり、それゆえ図５Ｂに示されている
ように、寸法的な応力は表面を破断するのではなしに、
単に個々の団塊Ｎを分離させることになる。図５Ｃに示
されているように、この構成は屈曲をも許容するが、こ
れは団塊Ｎは下層に対する係留を破壊することなしに、
角度をなしても自由に分離されうるからである。さらに
また、団塊Ｎは微視的なものであり、従って高いテクス
チャ密度で存在するから、何れのタイプの変形も、表面
の親水性を損なうことはない。また表面層12は非常に僅
かな厚みで適用されているから、この層もまた、ひび割
れることなしに熱的及び機械的に誘起された応力を許容
することができ、また同時に層32を係留する「繋ぎ」即
ち接着促進層として作用する。
【００４６】より軟らかい材料（例えばポリエステル）
の上に堆積された硬い材料は、スクラッチ（引っ掻き）
又はこれに類する表面損傷に弱いため、基体10よりも硬
い下側層34を付加することが役に立つ。層34は例えば、
上述したような真空条件下で適用可能なポリアクリレー
ト、或いはポリウレタンであることができる。下側層34
について典型的な厚みの範囲は、１−２μmである。基
体10が金属の場合には、下側層34はイメージングパルス
が基体10へと散逸するのを防止する断熱材料からなるこ
とができ、また印刷表面として機能する（インク及び／
又は湿し水に対して最上層とは異なる親和性を示す）。
【００４７】下側にある層の光学特性に応じて、層32と
その下側の部分的に反射性の金属層12（表面酸化膜12ｓ
を有していてよい）とから、光学干渉構造30を形成する
ことができる。層32の厚みを変えることにより、異なる
光学的効果を得ることができる。この構造体をイメージ
ングすると、層32及び層12／酸化膜12ｓ、並びに存在す
る場合には下側層34が除去され、基体10が露出される
（下側層34がインクを受容する場合には、この下側層34
はイメージングパルスに耐えるように配合され、適用さ
れる）。
【００４８】図６に示された上記の実施形態に対する変
形例においては、層32が表面層20によって覆われ、基体
10及び表面層20がインク又はインク忌避液体に対して逆
の親和性を示す。この場合にも、表面層20を撥インク
性、基体10を親油性として乾式プレートを構成すること
ができ、或いは表面層20をこれに変えて親水性とし、基
体10を親油性且つ疎水性とすることができる。基体10は
また、寸法安定な支持体25に対して、ラミネート用接着
剤27を介してラミネートすることもできる。
【００４９】反射性をもたらすために、基体10は前述し
たように白色のポリエステルフィルムであることができ
る。或いはまた図７及び図８に示すように、光学干渉構
造30の下側か基体10の下側の何れかに、反射層36を配置
することができる。この反射層の配置を決定付ける重要
なファクターは、（１）反射層は融除される層（ここで
は光学干渉構造）より下側になければならないこと、
（２）間に挟まれるどのような層も、イメージング放射
線に対してほぼ透過性でなければならないこと、及び
（３）反射層がインク受容表面として作用することを意
図したものでない場合には、基体よりも下側に配置（或
いは基体を構成）されねばならないことである。
【００５０】
【実施例】以下の例は、本発明の実際を例示するもので
ある。
【００５１】リソグラフ印刷プレー ト 実施例１ プラズマ処理された白色ポリエステルフィルム（0.007
インチ（約0.18ミリ））上へと、チタン金属の層をアル
ゴンを用いて約300Åの厚みで真空スパッタリングし、
空気中に曝露して、不動態化する自然酸化表面が形成さ
れるようにした。このサンプルを本出願人であるPresst
ek社のPEARLという商品名のプレート調製機（前述した
ようにダイオードレーザを用いている、コンピュータ対
プレートのコンピュータ制御によりイメージ調製を行う
装置）を用いてイメージングし、印刷機上で湿式プレー
トとして使用した。観測されたプレート寿命、即ち知覚
可能な印刷イメージの劣化が生ずるまでに達成可能な印
像回数は、約25,000刷であった。
【００５２】実施例２ 実施例１に従って製造されたプレートを別の工程におい
て、上述したFPC, TRUE BLUE, POLY PLATE, VARN TOTAL
及びRosos社の湿し水を用いて、並びに水性アラビアゴ
ムと種々の水性ポリエチレングリコールを用いて、塗布
によりオーバコートした。これらのプレートは次いで、
イメージングに先立って乾燥した。かくして適用された
表面コーティングは、イメージング感度を劣化させたり
印刷機のロールアップ時間を増大させたりすることなし
に、スクラッチや指紋付着などに対する抵抗性といった
ような、プレートの取り扱い性を改善したことが見いだ
された。
【００５３】実施例３ 別個の工程において、約４μmの圧力下においてアルゴ
ン及び窒素（約50／50の混合物）雰囲気でチタンを反応
性スパッタリングすることにより、TiＮ層を種々の厚
み、即ち100Å、200Å、500Å、及び1000Åでもって、
実施例１に従って製造されたプレート上へとコーティン
グした。それぞれのサンプルについて観察された色は、
明るい金色、暗い金色、紫、及び深い青であり、全てが
親水性表面を備えていた。これにより得られた0.007イ
ンチ（約0.18ミリ）の厚みのポリエステルプレートを、
修正なしに評価した。また別の工程において、実施例１
によるプレートは0.002インチ（約0.05ミリ）の厚みの
ポリエステル上に調製し、0.006インチ（約0.15ミリ）
の厚みのアルミニウムシートにラミネートしたものとし
た。これらのサンプルの各々をPresstek社のPEARLとい
う商品名のプレート調製機を用いてイメージングし、印
刷機上で印刷用の湿式プレートとして使用したところ、
観測されたプレート寿命は、窒化チタン層の厚みに強く
依存していた（厚みのそれぞれについて、35,000刷、7
5,000刷、100,000刷、及び250,000刷以上であった）。
【００５４】実施例４ チタン層とTiＮ層の間に酸化膜の形成を許さなかったこ
とを除き、実施例３の手順を繰り返した。これは、コー
ティング処理の間に通気（空気で）を行うことなく、両
方の層を順次のスパッタリングにより形成することによ
って達成された。イメージングと印刷の結果は、実施例
３の結果とほぼ同じであった。
【００５５】実施例５ 透明なポリエステル基体を用いて、実施例４の手順を繰
り返した。得られたイメージング及び印刷についての特
性は、実施例３のそれらと類似のものであった。
【００５６】実施例６ 基体として、熱的に安定な白色塗料（オハイオ州ソロン
のColor Worksから市販されている商品名HT-1300 whit
e）でオーバコートされたアルミニウムプレート（0.008
インチ（約20ミリ））を用いて、実施例４の手順を繰り
返した。この白色塗料は、塗布及び乾燥の後に、親水性
の熱遮蔽コーティングとして作用した。得られたイメー
ジング及び印刷についての特性は、実施例３のそれらと
類似のものであった。
【００５７】実施例７ インラインプラズマ（アルゴン／窒素）で処理された白
色ポリエステル基体（0.007インチ（約0.18ミリ））上
へと、約４μmの圧力下においてアルゴン及び窒素（50
／50）でチタンを反応性スパッタリングし、それによっ
て親水性のTiＮ表面層を形成することにより、湿式印刷
プレートを調製した。TiＮ層の厚みの異なる２つのプレ
ートを準備した。即ち約500Å（黄緑色）と約2000Å
（深い青灰色）である。これらのプレートは、イメージ
ング及び機上印刷に関して、実施例３のプレートと同様
のものであった。
【００５８】実施例８ プラズマ処理（アルゴン／窒素の混合ガス中で）された
白色ポリエステル基体（0.007インチ（約0.18ミリ））
上へと、約４μmの圧力下においてアルゴン及び窒素（5
0／50）でチタンを約２から６Åの厚みで反応性スパッ
タリングし、それによって融除可能な下側層を形成する
ことにより、別の湿式印刷プレートを調製した。これに
対して、同じ条件の下に、引き続いてチタンを300Åの
厚みでインライン堆積し、次いでさらに窒化チタンを30
0Åの厚みで堆積した。レーザイメージングに対する感
度は、実施例３に従って調製されたプレートに比して向
上した。
【００５９】実施例９ プラズマ処理された白色ポリエステル基体上へと、TiＢ
2を約2000Åの厚みでスパッタリングすることにより、
ブロンズ色のホウ化チタンを備えた湿式印刷プレートを
調製した。得られたプレートはイメージングされ、在来
の湿式印刷に関して上首尾に使用された。
【００６０】実施例10 実施例３のプレート構造（TiＮは1000Å）に対して、米
国特許第5,487,338号（実施例１−７）に記載されたシ
リコーン配合物をオーバコートすることにより、乾式プ
レートを調製した。シリコーンは溶媒を用いて、約２ｇ
／m2の乾燥コーティング重量で塗布し、次いで硬化し
た。その後このプレートをイメージングし、無水（wate
rless）印刷機で印刷物を印刷するのに用いた。
【００６１】実施例11 実施例３のプレート構造（TiＮは1000Å）に対して、米
国特許第5,487,338号（実施例17）に記載されたポリビ
ニルあるコーン配合物をオーバコートすることにより、
湿式プレートを調製した。ポリビニルアルコールは溶媒
を用いて、約1.2ｇ／m2の乾燥コーティング重量で塗布
し、次いで硬化した。その後このプレートをイメージン
グし、湿式印刷機で印刷物を印刷するのに用いた。
【００６２】実施例12 実施例３のプレート構造（TiＮは1000Å）に対して、２
％のポリエチレングリコール（分子量約8000）と0.5％
のヒドロキシプロピルセルロースを含有する水溶液をオ
ーバコートすることにより、スクラッチ耐性のある湿式
プレートを調製した。この水溶液はマイヤー（Meyer）
ロッド＃４を用いて、30mg／m2の平均面重量で塗布し
た。乾燥の後、このプレートをイメージングし、印刷機
上に装着し、濡れたWEBRIL（商品名）ハンディパッドで
拭いて、印刷物を印刷するのに用いた。
【００６３】単色校正 実施例13 アルミニウムを付けた紙の上に、チタンをアルゴン／窒
素（50／50）で約４μmの圧力下に2000Åの厚みで反応
性真空スパッタリングすることにより、銀色の上に青と
いう単色の校正材料を調製した。この校正シートをPres
stek社のPEARLという商品名のプレート調製機を用いて
イメージングして銀色の（アルミニウムの）イメージ領
域を露出させたところ、青いTiＮのトップコートと対照
をなしていた。
【００６４】実施例14 白色のポリエステル基体上に、アルミニウム（約100
Å）、トリメチロールプロパントリアクリレートポリマ
ー（約0.25μm）、及びチタン（約300Å）の薄膜層を順
次真空蒸着させることにより、白色の上に青という単色
の校正材料を同様にして調製し、イメージングした。ア
クリレートのスペーサ層の厚みをそれぞれ約0.5μm、及
び0.75μmに増大させることにより、白色の上に金色、
及び白色の上に紫という材料が同様にして調製された。
【００６５】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、上述し
た手法を用いることによって、リソグラフ印刷プレー
ト、フォトマスク、及び校正シートとして用いるのに適
した、各種のグラフィックアート構造が生成されること
が理解されよう。本明細書において用いられた用語及び
表現は、説明のための語法であって限定のためのもので
はなく、こうした用語及び表現を用いることについて
は、図示し説明してきた特徴又はその一部に対するいか
なる均等物を除外する意図もない。むしろ、特許請求の
範囲に記載の発明の範囲内において、種々の修正が可能
であることが認識されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】基体と、その上に配置され酸化表面を有するレ
ーザ融除可能な金属とを少なくとも有し、また任意に光
学干渉構造を有する概略的な記録構造の拡大断面図であ
る。
【図２】例えばチタンからなり部分的に反射性薄膜の第
一の金属層と、高分子からなる四半波スペーサと、反射
性の第二の金属層を有する、本発明を具現化したリソグ
ラフ印刷プレートの拡大断面図である。
【図３】基板と、その上に配置され光学干渉構造の一部
をなすこともできるレーザ融除可能な無機金属層とを有
する、別の概略的な記録構造の拡大断面図である。
【図４】Ａ−Ｃは、金属層を含むある種の従来技術のプ
レート構造の破断に対する弱さを示す説明図である。
【図５】Ａ−Ｃは、本発明による無機金属層の好ましい
微視的構造と、寸法的な応力に対する応答を示す説明図
である。
【図６】無機金属層とその下側にある表面酸化金属層と
からなる光学干渉構造を有するリソグラフ印刷プレート
の拡大断面図である。
【図７】イメージング放射線を反射する層を別の位置に
有する、図６に示す構造の変形例を示す拡大断面図であ
る。
【図８】イメージング放射線を反射する層を別の位置に
有する、図６に示す構造の変形例を示す拡大断面図であ
る。
【符号の説明】
10 基体 12，32 無機金属層 12ｓ 表面酸化膜 13 保護層 14 スペーサ層 16 反射層 18，30 光学干渉構造 20 表面層 25 支持体 27 ラミネート接着剤層 34 下側層 36 反射層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トマス・イー・ルイス アメリカ合衆国ニューハンプシャー州 03826，イースト・ハムステッド，ピルグ リム・サークル・27

Claims (49)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 レーザ放電により直接にイメージ形成可
    能なリソグラフ印刷部材であって、 ａ．親水性で部分的に反射性の第一の層と、 ｂ．前記第一の層の下側にある誘電性の第二の層と、 ｃ．前記誘電性の第二の層の下側にあり少なくとも部分
    的に反射性の第三の層と、前記第一、第二及び第三の層
    が光学干渉構造を形成することと、及び ｄ．それらの下側にある基体とからなり、 ｅ．前記第一の層がイメージング放射線の吸収による融
    除を受けるのに対し、前記第二の層はそうではなく、ま
    た ｆ．前記第二の層が疎水性且つ親油性である、リソグラ
    フ印刷部材。
  2. 【請求項２】 前記第一及び第三の層が金属である、請
    求項１の部材。
  3. 【請求項３】 前記第三の層の金属が、アルミニウム、
    チタン、クロム、ステンレススチール、スズ、及び亜鉛
    からなる群より選ばれる、請求項２の部材。
  4. 【請求項４】 前記第一の層が表面酸化されたチタンで
    ある、請求項１の部材。
  5. 【請求項５】 レーザ放電により直接にイメージ形成可
    能なリソグラフ印刷部材であって、 ａ．少なくとも一つの金属と少なくとも一つの非金属の
    化合物からなる第一の層と、前記少なくとも一つの非金
    属がホウ素、炭素、窒素、ケイ素及び酸素からなる群よ
    り選ばれることと、及び ｂ．前記第一の層に隣接する第二の層とからなり、 ｃ．前記第一の層がイメージング放射線の吸収による融
    除を受けるのに対し、前記第二の層はそうではなく、ま
    た ｄ．前記第一及び第二の層が、インク及びインク忌避液
    体からなる群より選ばれる少なくとも一つの印刷液体に
    対して異なる親和性を示す、リソグラフ印刷部材。
  6. 【請求項６】 前記第一と第二の層の間で前記第二の層
    の上に直接に配置され、イメージング放射線の吸収によ
    る融除を受ける金属層をさらに含む、請求項５の部材。
  7. 【請求項７】 前記金属層が(i)ｄ−ブロック遷移金
    属、(ii)アルミニウム、(iii)インジウム及び(iv)チタ
    ンの少なくとも一つからなる、請求項６の部材。
  8. 【請求項８】 前記金属層がチタンである、請求項７の
    部材。
  9. 【請求項９】 前記第一の層が親水性である、請求項５
    の部材。
  10. 【請求項１０】 前記第一の層が、(i)ｄ−ブロック遷
    移金属、(ii)ｆ−ブロックランタノイド、(iii)アルミ
    ニウム、(iv)インジウム及び(v)スズの少なくとも一つ
    を含んでなる、請求項５の部材。
  11. 【請求項１１】 前記第一の層が、(i)チタン、(ii)ジ
    ルコニウム、(iii)バナジウム、(iv)ニオブ、(v)タンタ
    ル、(vi)モリブデン及び(vii)タングステンの少なくと
    も一つを含んでなる、請求項10の部材。
  12. 【請求項１２】 前記第一の層が、a)ホウ化物、b)炭化
    物、c)窒化物、d)炭化窒化物、e)ケイ化物及びf)酸化物
    の何れか１からなる、請求項５の部材。
  13. 【請求項１３】 前記第一の層が、a)TiＮ，b)TiＣ，c)
    TiＣＮ，d)TiＯx（0.9≦ｘ≦2.0），e)TiＯＮ，f)TiAl
    Ｎ及びg)TiAlＣＮの何れか１からなる、請求項10の部
    材。
  14. 【請求項１４】 前記第一の層が破断に抵抗する団塊状
    テクスチャを呈する、請求項５の部材。
  15. 【請求項１５】 前記第一の層の上側に疎油性の最上層
    をさらに含み、前記第二の層が親油性又は疎水性且つ親
    油性である、請求項５の部材。
  16. 【請求項１６】 前記第一の層の上の親水性仕上げ処理
    をさらに含む、請求項１又は５の部材。
  17. 【請求項１７】 前記第二の層がイメージング放射線を
    反射する、請求項５の部材。
  18. 【請求項１８】 硬さを付与すべく前記第一及び第二の
    層の間に配置された第三の層をさらに含む、請求項５の
    部材。
  19. 【請求項１９】 前記第一及び第二の層の間に配置され
    た第三の層をさらに含み、該第三の層がイメージング放
    射線を部分的に反射する材料からなり、イメージング放
    射線の吸収により融除される、請求項５の部材。
  20. 【請求項２０】 前記第二の層がイメージング放射線に
    対して実質的に透明であり、前記第二の層の下側に配置
    されたイメージング放射線を反射する材料からなる第三
    の層をさらに含む、請求項５の部材。
  21. 【請求項２１】 前記第一の層が可視放射線に対して部
    分的に反射性であり、さらに ａ．金属層の下側に配置された誘電性スペーサ層と、及
    び ｂ．前記誘電性スペーサ層の下側に配置され可視放射線
    を少なくとも部分的に反射する層とをさらに含み、前記
    第一の層、誘電性スペーサ層及び反射層が光学干渉構造
    を形成して印刷部材に対して可視色を付与する、請求項
    ５の部材。
  22. 【請求項２２】 前記反射する材料が研磨された金属で
    ある、請求項19の部材。
  23. 【請求項２３】 前記金属がアルミニウムである、請求
    項22の部材。
  24. 【請求項２４】 レーザ放電により直接にイメージ形成
    可能なリソグラフ印刷部材であって、 ａ．高分子からなる最上の第一の層と、 ｂ．前記第一の層の下側の光学干渉構造と、及び ｃ．前記光学干渉構造の下側の第三の層とからなり、 ｄ．前記光学干渉構造がイメージング放射線の吸収によ
    る融除を受けるのに対し、前記第一の層はそうではな
    く、また ｅ．前記第一及び第三の層が、インク及びインク忌避液
    体からなる群より選ばれる少なくとも一つの印刷液体に
    対して異なる親和性を示す、リソグラフ印刷部材。
  25. 【請求項２５】 前記光学干渉構造が印刷部材に対して
    可視色を付与する、請求項１又は24の部材。
  26. 【請求項２６】 前記光学干渉構造が、 ａ．部分的に反射性の第一の層と、 ｂ．誘電性スペーサである第二の層と、及び ｃ．前記第二の層の下側の少なくとも部分的二反射性の
    第三の層とからなる、請求項24の部材。
  27. 【請求項２７】 前記第二の層が、所定波長の光を強化
    し反射するのを促進する厚みを有し、この厚みが前記所
    定波長の１／４の偶数倍に等しい、請求項25又は26の部
    材。
  28. 【請求項２８】 前記スペーサ層が0.05から0.9μmの範
    囲の厚みを有する、請求項27の部材。
  29. 【請求項２９】 前記第二の層がポリアクリレートであ
    る、請求項１又は26の部材。
  30. 【請求項３０】 前記第三の層が金属である、請求項26
    の部材。
  31. 【請求項３１】 前記第三の層がチタンである、請求項
    30の部材。
  32. 【請求項３２】 前記第一の層がチタンである、請求項
    30の部材。
  33. 【請求項３３】 請求項１の基体、請求項５の第二の
    層、又は請求項24の第三の層がラミネートされる金属支
    持体をさらに含む、請求項１、５又は24の部材。
  34. 【請求項３４】 前記支持体がイメージング放射線を反
    射する材料からなる、請求項33の部材。
  35. 【請求項３５】 前記支持体に対し、請求項１の基体、
    請求項５の第二の層、又は請求項24の第三の層を係留す
    るラミネート用接着剤の層をさらに含み、該ラミネート
    用接着剤がイメージング放射線を反射する材料からな
    る、請求項33の部材。
  36. 【請求項３６】 最上層が親水性である、請求項22の部
    材。
  37. 【請求項３７】 前記第一の層がポリビニルアルコール
    の化学種である、請求項30の部材。
  38. 【請求項３８】 前記光学干渉構造が、 ａ．少なくとも一つの金属と少なくとも一つの非金属の
    化合物からなり少なくとも部分的に透過性である第一の
    干渉層と、前記少なくとも一つの非金属がホウ素、炭
    素、窒素、ケイ素及び酸素からなる群より選ばれること
    と、及び ｂ．前記第一の干渉層の下側の少なくとも部分的に反射
    性の層とからなる、請求項24の部材。
  39. 【請求項３９】 前記光学干渉構造と前記第三の層の間
    に配置され、硬さを付与する第四の層をさらに含む、請
    求項24の部材。
  40. 【請求項４０】 前記第三の層が金属であり、前記第三
    の層の上側に配置された断熱材料からなる第四の層をさ
    らに含む、請求項24の部材。
  41. 【請求項４１】 レーザ放電により直接にイメージ形成
    可能なリソグラフ印刷部材であって、 ａ．高分子からなる最上の第一の層と、及び ｂ．前記第一の層の下側の光学干渉構造とからなり、該
    光学干渉構造が融除可能部分と非融除可能部分からな
    り、前記融除可能部分がイメージング放射線の吸収によ
    る融除を受けるのに対し、前記非融除可能部分はそうで
    はなく、 ｃ．前記第一の層及び前記非融除可能部分が、インク及
    びインク忌避液体からなる群より選ばれる少なくとも一
    つの印刷液体に対して異なる親和性を示す、リソグラフ
    印刷部材。
  42. 【請求項４２】 前記光学干渉構造が、部分的に透過性
    で部分的に反射性の第二の層と、スペーサ層と、反射性
    基体とからなり、前記第二の層及び前記スペーサ層がイ
    メージング放射線の吸収による融除を受けるのに対し、
    前記基体はそうではない、請求項41の部材。
  43. 【請求項４３】 前記光学干渉構造が印刷部材に対して
    可視色を付与する、請求項41の部材。
  44. 【請求項４４】 最上層が疎油性であり、前記基体が親
    油性である、請求項41の部材。
  45. 【請求項４５】 光学干渉構造と、これに係留された基
    体とからなり、前記光学干渉構造がイメージング放射線
    の吸収による融除を受けるのに対し、前記基体はそうで
    はない、レーザによりイメージング可能な記録媒体。
  46. 【請求項４６】 前記光学干渉構造が前記基体と視覚的
    に対照される、請求項45の媒体。
  47. 【請求項４７】ａ．前記光学干渉構造が表面層を含み、
    及び ｂ．前記表面層及び前記基体が、インク及びインク忌避
    液体からなる群より選ばれる少なくとも一つの印刷液体
    に対して異なる親和性を示す、請求項45の部材。
  48. 【請求項４８】 前記光学干渉構造が、 ａ．部分的に反射性の表面層と、 ｂ．誘電性スペーサ層と、及び ｃ．前記誘電性スペーサ層の下側の反射層からなる、請
    求項45の媒体。
  49. 【請求項４９】 前記光学干渉構造が、 ａ．少なくとも一つの金属と少なくとも一つの非金属の
    化合物からなる表面層と、前記少なくとも一つの非金属
    がホウ素、炭素、窒素、ケイ素及び酸素からなる群より
    選ばれることと、及び ｂ．表面に係留され表面酸化されたチタン層とからな
    る、請求項45の媒体。
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