JPH10163094A - 露光装置及び露光方法並びに搬送装置 - Google Patents

露光装置及び露光方法並びに搬送装置

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JPH10163094A
JPH10163094A JP8322760A JP32276096A JPH10163094A JP H10163094 A JPH10163094 A JP H10163094A JP 8322760 A JP8322760 A JP 8322760A JP 32276096 A JP32276096 A JP 32276096A JP H10163094 A JPH10163094 A JP H10163094A
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reticle case
exposure apparatus
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JP8322760A
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Kanefumi Nakahara
兼文 中原
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Original Assignee
Nikon Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レチクルを露光装置のレチクルライブラリに
自動的に搬送する。 【解決手段】 クリーンルーム内を移動するレチクルケ
ース無人搬送ロボットによりレチクルストッカから露光
装置までレチクルケースを搬送する。露光装置は、チャ
ンバー31内部にレチクルケース搬送装置40,41と
レチクルケース位置合わせ装置42とを備え、レチクル
搬送装置はレチクルケース受け渡し位置でレチクルケー
ス無人搬送ロボットから受け取ったレチクルケースを一
旦レチクルケース位置合わせ装置に搬送して位置合わせ
を行い、位置合わせされたレチクルケースをレチクル保
管装置(レチクルライブラリ)に搬送することにより、
レチクルケースを所定の位置精度でレチクル保管装置に
挿入すること可能とし、前記目的を達成する。レチクル
保管装置に保管されたレチクルは、従来のレチクル搬送
装置によって露光系のレチクルステージに自動搬送され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルに形成さ
れたパターンを基板に転写する露光装置、及び露光装置
や洗浄装置あるいは検査装置などのレチクルを取り扱う
装置においてレチクルを搬送する搬送装置及び搬送方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子等をフォトリ
ソグラフィ工程で製造する際に、フォトマスクやレチク
ル(以下、レチクルという)に形成されたパターンの像
を投影光学系を介して感光剤が塗布された半導体ウエハ
やガラスプレート等の基板上に投影・転写する露光装置
が使用されている。例えば、半導体素子製造時には、ウ
エハ表面に多数の回路パターンを作り込むために、数枚
から十数枚あるいはそれ以上のレチクルを用いてパター
ンを重ね合わせ露光することが行われる。各レチクル
は、雰囲気中の塵の付着や人が直接触れることによる汚
染、あるいは周囲の部材との接触による損傷等を防ぐた
め、専用のレチクルケースに収納して取り扱われるのが
一般的である。露光装置が設置されているクリーンルー
ム内にはレチクル保管用のレチクルストッカが配置さ
れ、レチクルストッカ内には多数のレチクルが収納され
て保管されている。
【0003】図16は、クリーンルーム内に設置されて
いる従来の露光装置の外観を示す略図である。露光装置
の本体は空調装置付きのチャンバー60内に収容され、
チャンバー60の内部は温度や清浄度(クリーン度)等
の環境が一定になるように空調されている。チャンバー
60の一方の側面には、レチクル挿脱扉61及びウエハ
挿脱扉62が設けられている。レチクル挿脱扉61の内
側には、露光装置で使用するレチクルを保管するレチク
ルライブラリ63が配置されている。露光装置のオペレ
ータは、クリーンルーム内のレチクルストッカから所望
のレチクルが納められたレチクルケースを取り出し、露
光装置のチャンバー60のレチクル挿脱扉61を開け
て、そのレチクルの入ったレチクルケースをレチクルラ
イブラリ63の棚に収納する。また、レチクルライブラ
リ63から不要となったレチクルをケースごと取り出し
てレチクルストッカに戻す。
【0004】露光時、露光装置本体のレチクル自動搬送
装置(レチクルローダ)は、レチクルライブラリ63に
装着されたレチクルケースから必要なレチクルを取り出
し、投影光学系の上方に位置づけられたレチクルステー
ジへ自動搬送する。同様に、フォトレジスト等の感光剤
が塗布されたウエハは、ウエハ挿脱扉62から露光装置
のチャンバー60内に挿入され、ウエハ自動搬送装置
(ウエハローダ)により投影光学系の下方に位置する基
板ステージに一枚ずつ搬送される。こうしてレチクルに
形成されたパターンの像が投影光学系を介してウエハに
転写される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】半導体素子等の製造で
は、パターンの微細化、高集積化に伴い塵などの異物の
影響が大きくなっている。レチクルに異物が付着する
と、本来のパターンと同様に異物によって光が透過しな
い部分が発生し、不必要な素子ができたり、パターン同
志がつながっているように転写されてしまう。レチクル
は全チップの原板であるため、レチクルに異物が付着す
ると全チップが同じように不良になってしまう。レチク
ルのパターン面に直接異物が付着しないようにレチクル
に防塵膜(ペリクル)を張設することも行われている
が、大きな異物が付着した場合にはたとえペリクルを張
設したとしてもパターンに欠陥が生じてしまう。
【0006】従来は、レチクルを保管しているレチクル
ストッカから露光装置のレチクルライブラリへのレチク
ル(正確にはレチクルケース)の挿脱を人手によって行
っていたため、途中でレチクルに異物が付着する可能性
があり、細心の注意が必要であった。
【0007】また、人手による作業であるためレチクル
交換ミスが発生する可能性もゼロとはいえず、作業効率
の改善の点でも限界があった。更に、人手による作業の
ため、労力と時間とがかかった。
【0008】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、レチクルをレチクルストッ
カから露光装置本体の所定の位置まで人手を介すことな
く自動的に搬送するための方法及び装置を提供すること
を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明においては、クリ
ーンルーム内を移動するレチクルケース無人搬送ロボッ
トによりレチクルストッカから露光装置のレチクルケー
ス受け渡し位置までレチクルケースを搬送する。露光装
置は、チャンバー内部にレチクルケース搬送装置とレチ
クルケース位置合わせ装置とを備える。レチクルケース
搬送装置は、レチクルケース受け渡し位置でレチクルケ
ース無人搬送ロボットから受け取ったレチクルケースを
一旦レチクルケース位置合わせ装置に搬送して位置合わ
せを行い、位置合わせされたレチクルケースをレチクル
保管装置(レチクルライブラリ)の所定の箇所に搬入す
る手順を経ることにより、レチクルケースを所定の位置
精度でレチクル保管装置に自動的に挿入すること可能と
し、前記目的を達成する。レチクル保管装置に保管され
たレチクルは、従来のレチクル搬送装置(レチクルロー
ダ)によって露光系のレチクルステージに自動搬送され
る。
【0010】すなわち、本発明は、レチクル(R)が収
納されたレチクルケース(RC)を保管するレチクル保
管装置(43)と、レチクル(R)に形成されたパター
ンの像を基板(W)に露光する露光系(PL,RS,S
T)と、レチクル保管装置(43)と露光系(PL,R
S,ST)との間でレチクル(R)を搬送する第1搬送
装置(46,47,48,49)とを備えた露光装置に
おいて、露光装置の外部から搬送されたレチクルケース
(RC)を受け取って露光装置の内部に搬送する第2搬
送装置(40,41)と、第2搬送装置(40,41)
で搬送されたレチクルケース(RC)の位置合わせを行
うレチクルケース位置合わせ装置(42)と、レチクル
ケース位置合わせ装置(42)で位置合わせの行われた
レチクルケース(RC)をレチクル保管装置(43)に
搬送する第3搬送装置(40,41)とを備えたことを
特徴とするものである。
【0011】第2搬送装置と第3搬送装置とは別個の搬
送装置としてもよいし、1つの搬送装置で第2搬送装置
と第3搬送装置とを兼用してもよい。第2搬送装置は通
常はクリーンルーム内を自動走行するレチクルケース自
動搬送ロボット(30A,30B)からレチクルケース
(RC)を受け取る。しかし、レチクルケース自動搬送
ロボット(30A,30B)が使用できないときは人手
によって第2搬送装置(40)にレチクルケース(R
C)を受け渡してもよい。
【0012】レチクルケース位置合わせ装置(42)
は、レチクルケース載置面(42A)と、レチクルケー
ス載置面(42A)から突出する複数の可動ピン(51
A〜51G)とを備え、可動ピン(51A〜51G)を
レチクルケース載置面(42A)に載置されたレチクル
ケース(RC)の外周部に押しつけることによってレチ
クルケース(RC)の位置合わせを行うことができる。
【0013】露光装置の外部から第2搬送装置(40)
に受け渡されたレチクルケース(RC)、又はレチクル
保管装置(43)から第3搬送装置(40)によって取
り出されたレチクルケース(RC)を一時的に収納する
ことのできるレチクルケース収納棚(44)を例えばレ
チクルケース位置合わせ装置(42)の上方に備える
と、複数のレチクルケース(RC)の受け渡しを効率的
に行うことができる。
【0014】露光装置は、露光装置を所定の環境に調節
するチャンバー(31)を有することができ、その場合
チャンバー(31)に開口部(34)を形成し、第2搬
送装置(40)によるレチクルケース(RC)の授受は
チャンバー(31)の開口部(34)を介して行うこと
ができる。チャンバー(31)内の環境は空調装置によ
り所定の温度、所定の清浄度に維持される。
【0015】クリーンルーム内を自動走行するレチクル
ケース自動搬送ロボット(30A,30B)の露光装置
に対する位置決め精度を向上するために、チャンバー外
壁等に露光装置の外部から視認できる視認マーク(3
5)を設けるのが好ましい。レチクルケース自動搬送ロ
ボット(30A,30B)は、付属のCCDカメラ等の
撮像装置で視認マーク(35)を撮像し、その視認マー
ク(35)の位置を基準にしてレチクルケースの受け渡
し位置を決定することで、露光装置に備えられている第
2搬送装置(40)との間でのレチクルケース(RC)
の受け渡しをスムーズに行うことができる。
【0016】また、本発明は、レチクル(R)が収納さ
れたレチクルケース(RC)を保管するレチクル保管装
置(43)と、レチクル保管装置(43)とレチクル
(R)を用いる装置との間でレチクル(R)を搬送する
第1搬送装置(46,47,48,49)とを備えた搬
送装置において、外部から搬送されたレチクルケース
(RC)を受け取って搬送装置の内部に搬送する第2搬
送装置(40,41)と、第2搬送装置(40,41)
で搬送されたレチクルケース(RC)の位置合わせを行
うレチクルケース位置合わせ装置(42)と、レチクル
ケース位置合わせ装置(42)で位置合わせの行われた
レチクルケース(RC)をレチクル保管装置(43)に
搬送する第3搬送装置(40,41)とを備えたことを
特徴とする。第2搬送装置と第3搬送装置とは別個の搬
送装置としてもよいし、1つの搬送装置で第2搬送装置
と第3搬送装置とを兼用してもよい。
【0017】また、本発明は、外部から搬送されたレチ
クルケース(RC)を、該レチクルケース(RC)を保
管するレチクル保管装置(43)に搬送する搬送方法に
おいて、外部から搬送されたレチクルケース(RC)を
受け取るステップと、受け取ったレチクルケース(R
C)の位置を調節するステップと、位置が調節されたレ
チクルケース(RC)をレチクル保管装置(43)に搬
送するステップとを含んでいることを特徴とする。
【0018】レチクルケース(RC)の位置調節は、前
述のようにレチクルケース(RC)の外周部に可動ピン
(51A〜51G)を押しつけることによって行うこと
ができる。
【0019】本発明によると、レチクルの入ったレチク
ルケースの搬送を人手を介すことなく全て無人搬送手段
によって自動的に行うことができるので、露光装置等に
おいて大きな問題となる発塵を十分に抑制することがで
きる。特に、人体から出る塵の影響は皆無となる。
【0020】また、第2搬送装置、レチクルケース位置
決め装置、第3搬送装置、及びレチクル保管装置に内蔵
されたレチクルケース自動固定機構等の連係動作によ
り、短時間でレチクルケースの授受を行うことができ、
作業の効率化及び生産性の向上を図ることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。最初に、図1〜図4により、レチ
クルを収納するレチクルケースの一例について説明す
る。図1はレチクルケースRCの一例を示し、レチクル
ケースの上蓋を開けた状態を示している。このレチクル
ケースRCは、金属製の底板1上にコの字型の側面部材
2を取り付け、側面部材2の背面部にヒンジ3を介して
開閉自在に上蓋4を軸支し、上蓋4の先端部にヒンジ5
を介して前蓋6を軸支している。底板1と側面部材2と
の固定は、導電性の接着剤、又はねじによって行われ
る。
【0022】側面部材2は、背面部2cと、これを端部
で挟むように対向する一対のレチクル支持部2a及び2
bとを一体成形して形成し、図1に向かって左側のレチ
クル支持部2a上の内側には深い溝部2dが形成され、
溝部2dの中央に凸部2fが形成され、溝部2dを囲む
ように上蓋4が密着する浅い段差部2hが形成されてい
る。また、凸部2fの内側の溝部2dの上に、一対の長
いピン状のストッパ9A及び12Aが一体的に植設さ
れ、それらストッパ9A及び12Aの内側にレチクルを
支持するための一対の短いレチクル支持ピン10A及び
11Aが一体的に植設されている。
【0023】右側のレチクル支持部2bにおいても、左
側のレチクル支持部2aと対称に、深い溝部2e、凸部
2g、上蓋4が密着する浅い段差部2iが形成され、凸
部2gの内側の溝部2eの上に、ストッパ9B及び12
Bと、レチクル支持ピン10B及び11Bとが一体的に
植設されている。但し、図1にはストッパ9Bのみが現
れている。
【0024】また、レチクル支持部2a及び2bの外面
にそれぞれ一体的にガイド部7A及び7Bが設けられ、
上蓋4を側面部材2の段差部2h及び2iに密着させた
状態で、ガイド部7A及び7Bに押さえばね8A及び8
Bを差し込み、押さえばね8A及び8Bで上蓋4を側面
部材2側に付勢して、上蓋4を側面部材2に固定する。
ガイド部7A,7Bには、また、複数のレチクルをケー
スごと保管するレチクルライブラリにレチクルケースを
装填した状態でレチクルケースを固定するためのレチク
ルケース固定ピン(後述)が係合する凹部24が設けら
れている。
【0025】図2は、押さえばね8A及び8Bで上蓋4
を側面部材2上に押しつけた状態の平面図であり、この
図2に示すように、押さえばね8A及び8Bの円弧部で
上蓋4が押さえられている。逆に、上蓋4をヒンジ3を
軸として回転させて開く場合には、それら押さえばね8
A及び8Bをガイド部7A及び7Bから取り外すだけで
よい。ガイド部7A及び7Bは、レチクルケースRCを
レチクル保管装置等に搬入する際、又は搬出する際にガ
イドとして使用されるものである。押さえばね8A及び
8Bは、ピアノ線等の針金を屈曲させて形成される。
【0026】図1に戻り、上蓋4の底面の向かって左側
の中央部には軸受け部13A及び14Aが一体的に植設
され、軸受け部13A及び14Aの間に回転自在にレチ
クル押さえ15Aが取り付けられている。レチクル押さ
え15Aは、長い押さえ部15Aaと小さいばね係合部
15Abとを90゜ねじれるように一体的に形成したも
のであり、上蓋4の底面の奥側に植設されたばね掛け部
17Aとばね係合部15Abとを引っ張りコイルばね1
6Aで連結し、前蓋6の内側に一体的に植設されたばね
掛け部19Aとばね係合部15Abとを引っ張りコイル
ばね18Aで連結する。
【0027】上蓋4の底面の向かって右側でも、左側と
対称的に、軸受け部13B及び14Bが一体的に植設さ
れ、軸受け部13A及び14Aの間に回動自在にレチク
ル押さえ15Bが取り付けられている。そして、上蓋4
の底面のばね掛け部17Bとレチクル押さえ15Bのば
ね係合部とを引っ張りコイルばね16Bで連結し、前蓋
6の内側のばね掛け部19Bとそのばね係合部とを引っ
張りコイルばね18Bで連結する。この場合、前蓋6が
ヒンジ5を軸としてθ2方向に回転して開くと、引っ張
りコイルばね16A,16B及び18A,18Bの作用
でレチクル押さえ15A及び15Bが回転して、押さえ
部15Aa及び15Baが上蓋4にほぼ平行になる。一
方、前蓋4がヒンジ5を軸としてθ2方向に回転して閉
じると、レチクル押さえ15A,15Bの押さえ部15
Aa,15Baが上蓋4に垂直になる方向に回転する。
従って、これら押さえ部15Aa,15Bにより内部の
レチクルを固定することができる。
【0028】次に、この例のレチクルケースRCにレチ
クルを収納する場合の動作の一例を説明する。レチクル
ケースRCの前面に図3に示すように、レチクル搬送用
のアーム23に載置されたレチクルRが搬送されてく
る。レチクルRのガラス基板の上面には、直接塵等の異
物が付着するのを防止するためのきわめて薄い防塵膜
(ペリクル)21が矩形の枠20を介して張設されてい
る。レチクルRのガラス基板の下面(パターン形成面)
にもペリクルが矩形の枠22を介して張設されている。
【0029】図4は、図2のAA線に沿う断面図であ
る。まず、図4(a)に示すように、前蓋6を開いた状
態で、レチクルケースRCの前面からペリクル付きのレ
チクルRを差し込む。この際に、前蓋6に連結された引
っ張りコイルばね18A、及び上蓋4に連結された引っ
張りコイルばね16Aによってレチクル押さえ15Aが
回転し、押さえ部15Aaが上蓋4にほぼ平行になって
おり、レチクルRは、底板1、側面部材2及び上蓋4に
より囲まれた空間内に入ることができる。
【0030】その後、図4(b)に示すように、レチク
ルRのガラス基板の下面を2個のレチクル支持ピン10
A及び11Aの上に載置する。図4(b)の手前側の2
個のレチクル支持ピン10B及び11B(図1参照)の
上にもレチクルRのガラス基板は載置されている。この
状態で前蓋6を閉じることにより、レチクル押さえ15
Aの押さえ部15Aa及び手前側のレチクル押さえ15
B(図1参照)の押さえ部15BaがレチクルRのガラ
ス基板の上面に付勢され、レチクルRは側面部材2上に
安定に保持される。また、レチクル支持ピン10A,1
1Aの両側にはストッパ9A及び11Aが植設されてい
るとともに、図1に示すように、レチクル支持ピン10
A,11A等の外側には凸部2f及び2gがあるため、
レチクルRをレチクルケースに収納して搬送する途中
で、レチクルRが大きく移動することがない。従って、
レチクルRに張設されたペリクル及びこのペリクルを支
持するための矩形の枠等が損傷することもない。
【0031】図5は、クリーンルーム内に配置されたレ
チクルストッカ、露光装置、及びレチクルケース無人搬
送ロボット(以下、AGV=Auto Guide Vehicleとい
う)を示す概略図である。レチクルストッカ25は、空
調されたチャンバ内に数百個のレチクル保管棚を有し、
そこにレチクルがむき出しのまま保管されている。ま
た、レチクルストッカ25に隣接して複数台の露光装置
27A〜27Hが配置されている。各露光装置27A〜
27Hは、各々空調装置によって内部が一定の環境に維
持されたチャンバーを備え、チャンバー内に露光装置本
体がレチクル搬送装置やウエハ搬送装置とともに収容さ
れている。レチクルストッカ25と各露光装置27A,
27B,…の間には1台または数台のAGV30A,3
0Bが行き来しており、各露光装置27A,27B,…
で必要とされるレチクルはAGV30A,30Bによっ
てレチクルストッカ25から露光装置27A,27B,
…に搬送され、また各露光装置27A,27B,…で不
要になったレチクルはAGV30A,30Bによってそ
の露光装置27A,27B,…からレチクルストッカ2
5に戻される。
【0032】AGV30A,30Bは多自由度の搬送ア
ームを備え、レチクルストッカ25の内部に備えられた
レチクルケース搬送装置との間でレチクルストッカ25
の開口部扉26を介してレチクルケースの授受を行い、
また、露光装置27A,27B,…の内部に備えられた
後述する搬送アーム40との間でチャンバーの開口部扉
28A,28B,…を介してレチクルケースの授受を行
う。なお、AGV30A,30Bは、レチクルケースを
搬送アーム40に受け渡す程度の搬送精度は有している
ものの、露光装置27A〜27Hがレチクルケースを露
光装置27A〜27H内で搬送するような精度は有して
いない。すなわち、AGV30A,30Bは、レチクル
ケースを精密に位置決めして搬送することはできないも
のである。
【0033】露光装置や洗浄装置あるいは検査装置等で
必要とされるレチクルを取り出すときには、レチクルケ
ース無人搬送装置30A,30Bをレチクルストッカ2
5の所定の位置に停止させ、レチクルストッカ25の前
面の開口部扉26を開けて、レチクルストッカ25の内
部に備えられているレチクル搬送装置の搬送アームをレ
チクルストッカ25の外部に突出させる。レチクルケー
ス無人搬送装置30A,30Bからは空のレチクルケー
スをレチクルストッカ25の開口部扉26から突出され
た搬送アームに受渡す。搬送アームに受渡されたレチク
ルケースはレチクル保管棚にセットされ、レチクル保管
棚の使用すべきレチクルの一枚がレチクルストッカ25
内の自動搬送機構により取り出され、空のレチクルケー
ス内に自動収納され、再び搬送アームを介してレチクル
ケース無人搬送装置30A,30Bへ戻される。
【0034】レチクルストッカ25及び各露光装置27
A,27B,…は上位コンピュータに接続されており、
上位コンピュータからの指令に基づいてAGV30A,
30Bとの間でレチクルケースの授受を行う。AGV3
0A,30Bもまた、無線等の手段によって上位コンピ
ュータと交信しており、上位コンピュータからの指令に
基づいて指示された露光装置27A〜27Hとレチクル
ストッカ25との間を走行して、レチクルストッカ25
あるいは露光装置27A〜27Hとの間にレチクルケー
スの授受を行う。
【0035】AGV30A,30Bは、レチクルストッ
カ25を制御するコンピュータあるいは露光装置27
A,27B,…を制御するコンピュータと無線あるいは
光通信により交信を行い、レチクルストッカ25あるい
は露光装置27A,27B,…の内部に備えられている
搬送装置との間で相互にタイミングをとってレチクルケ
ースの授受を行う。AGV30A,30Bは、またCC
Dカメラ等の撮像装置を備え、上位コンピュータによっ
て指定された露光装置27A,27B,…の位置に自動
走行して移動するとともに、指定された露光装置27
A,27B,…の所定箇所に設けられている視認マーク
を撮像装置で撮像し、その視認マークの位置を基準にし
て露光装置27A,27B,…とのレチクルケース受け
渡し位置を決定する。そして、そのレチクルケース受け
渡し位置に向けて搬送アームを駆動し、露光装置27
A,27B,…の内部に備えられている搬送装置との間
でレチクルケースの授受を行う。
【0036】図6は、本発明による露光装置の内部構成
の一例を示す概略説明図である。図6には、本発明の説
明のために不可欠なレチクル(レチクルケース)搬送系
と露光系のみを示し、ウエハ搬送系、チャンバー内を所
定の環境に維持するための空調系等は図示を省略してい
る。なお、図6において鉛直方向(露光系の投影光学系
の光軸方向)をZ方向とし、Z方向と直交する方向をX
方向及びY方向とする。
【0037】露光装置のチャンバー31の側面にはヒン
ジを介して開閉することのできる開閉扉32,33が設
けられている。一方の開閉扉32には、横長の開口部扉
34が設けられるとともに、図7に示すような視認マー
ク35が設けられている。開閉扉32の内側には、搬送
アーム40を開口部扉34から突出させることができる
ようにして搬送装置41が設けられている。搬送アーム
40は、全体として上下方向(Z方向)に移動でき、X
Y平面内で回転可能であるとともに回転軸に対して伸縮
可能である。搬送装置41の横には、レチクルケースの
XYθ方向を修正するレチクルケース位置合わせ装置4
2、及び複数のレチクルRを各々レチクルケースRCに
収納したまま保管するレチクルライブラリ43がベース
36上に配置されている。
【0038】また、チャンバー31内には、露光系を構
成するレチクルステージRS上に保持されたレチクルR
を露光光で照明する不図示の照明光学系、ウエハWを載
置してXY方向に移動可能な基板ステージST、レチク
ルステージRS上に保持されたレチクルRのパターン像
をウエハW上に投影する投影光学系PL等からなる露光
系が配置されている。そして、レチクルライブラリ43
と露光系との間には、レチクルライブラリ43に保管さ
れている複数のレチクルのうちの所望のものを露光系の
レチクルステージRS上に搬送し、また、使用し終わっ
たレチクルをレチクルステージRSからレチクルライブ
ラリ43に搬送して戻すためのレチクル搬送装置(レチ
クルローダ)が配置されている。
【0039】レチクルローダは、特公平1−36255
号公報又は特公平3−783号公報に記載されているよ
うな既知の構成のものとすることができ、ここでは簡単
に説明する。レチクルライブラリ43に保管されている
レチクルケースRC内のレチクルRは、XY平面と平行
に収納されている。そして、所望のレチクルRをレチク
ルライブラリ43に保管されたレチクルケースRCから
取り出したり、レチクルケースRCへ戻すスライダ46
がY方向とZ方向に移動可能に設けられている。スライ
ダ46は、レチクルライブラリ43に装着されたレチク
ルケースRC内に進入して、あらかじめ指定されたレチ
クルRのみを−Y方向に取り出し、そのままZ方向の最
上位置まで移動し、キャリア47への受渡し位置CA1
までレチクルRを搬送する。
【0040】スライダ46には、真空吸着孔が設けられ
ており、不図示の真空ポンプのON,OFFによりレチ
クルRの真空吸着保持及び保持解除を行う。キャリア4
7は、X方向とZ方向に移動可能であり、その下部に真
空吸着孔を有してレチクルRの真空吸着保持及び保持解
除を行い、レチクルRを受渡し位置CA1から位置CA
2まで搬送する。また、キャリア47には4辺を基準に
2方向から挟み込んでレチクルRをプリアライメントす
る機構(不図示)が設けられている。ロードアーム48
とアンロードアーム49はY方向、Z方向に移動可能で
ある。ロードアーム48とアンロードアーム49とは、
位置CA2とレチクルステージRSとの間をY方向に個
別に移動可能であり、Z方向については一体に移動する
構成となっている。ロードアーム48とアンロードアー
ム49とには、スライダ46と同様にレチクルRを保持
するための真空吸着孔が設けられており、真空のON,
OFFによりレチクルRの真空吸着保持、及び保持解除
が可能となっている。
【0041】次に、上記のように構成された露光装置の
レチクル搬送装置の動作について詳細に説明する。図5
により説明したように、レチクルストッカ25内のレチ
クルケース搬送装置から所望のレチクルの入ったレチク
ルケースRCを渡されたレチクルケース自動搬送ロボッ
ト30Aは、上位コンピュータからの指令に基づいてそ
のレチクルケースを受け渡すべき露光装置の前まで走行
して停止する。露光装置のチャンバー外壁には、例えば
図7に示すように、円マークや円環マーク等のマーク3
5Aからなる視認マーク35が設けられており、レチク
ルケース自動搬送ロボット30Aは撮像装置でこの視認
マーク35を撮像し、視認マーク35の位置を基準にし
て露光装置内に備えられている搬送装置との間でのレチ
クルケースの受け渡し位置を決定する。露光装置側で
は、上位コンピュータの指令に基づいて、露光装置全体
を制御するコンピュータの指令によりチャンバー31の
開口部扉34を開けて、露光装置内に設置された搬送装
置41の搬送アーム40をチャンバー外のレチクルケー
ス受け渡し位置まで突出させる。レチクルケース自動搬
送ロボット30Aは、露光装置の制御コンピュータと光
通信等によって交信して、相互にタイミングをとりなが
ら、レチクルストッカ25から搬送してきたレチクルケ
ースを搬送装置41の搬送アーム40に受け渡す。
【0042】図8は、露光装置内に設置された搬送装置
40,41によるレチクルケースRCの搬送シーケンス
を説明する平面図である。図8(a)は、レチクルケー
ス受け渡し位置で、AGVから搬送装置41の搬送アー
ム40にレチクルケースRCが受け渡された状態を示し
ている。AGVがレチクルケースRCを搬送装置40の
搬送アーム41の上に置くと同時に搬送アーム40の真
空吸着がONになり、レチクルケースRCを真空吸着保
持する。続いて、図8(b)に示すように、搬送アーム
40がレチクルケースをチャンバー31内のホームポジ
ションに引き込み、図8(c)に示すように、レチクル
ケースRCをレチクルケース位置合わせ装置42の方向
に向けるため搬送アーム40が90゜回転する。
【0043】図9は、レチクルケース位置合わせ装置の
外観を示す斜視図である。レチクルケース位置合わせ装
置42は上面がレチクルケース載置面42Aとなってお
り、その上に搬送アーム40から受け渡されたレチクル
ケースRCが載置される。レチクル載置面42Aには、
3本のレチクルケース受け渡しピン50A,50B,5
0Cと、レチクルケースRCのXYθ方向の位置を修正
するためのアライメントピン51A〜51Gが設けられ
ている。受け渡しピン50A,50B,50Cは同期し
て上下動するように構成されており、搬送アーム40と
の間でレチクルケースRCの授受を行う。アライメント
ピン51A〜51Gの上端には、Z軸の回りに回転自在
な回転ローラが52が設けられている。また、アライメ
ントピン51A,51B,51Cは、レチクルケース載
置面42Aに形成されたY方向に細長いスロット53
A,53B,53Cに沿ってY方向に移動可能であり、
アライメントピン51D,51E,51F,51Gは、
X方向に細長いスロット53D,53E,53F,53
Gに沿ってX方向に移動可能である。これらの受け渡し
ピン50A〜50C及びアライメントピン51A〜51
Gは、レチクルケース宇位置合わせ装置42に内蔵され
たモータ、エアシリンダ等の駆動装置によって駆動され
る。
【0044】レチクルケース位置合わせ装置42へのレ
チクルケースRCの受け渡しにあたっては、図8(d)
に示すように、搬送アーム40がレチクルケース位置合
わせ装置42の上方に進入する。その後、レチクルケー
ス受け渡しピン50A,50B,50Cが上昇し、レチ
クルケースRCの底面に接触した後、搬送アーム40の
真空吸着をOFFすることによってレチクルケースRC
はレチクルケース受け渡しピン50A,50B,50C
上に受け渡される。その後、搬送アーム40はレチクル
ケースRCより下方へ逃げ、さらに−X方向に移動して
ホームポジションに戻る。続いてレチクルケース受け渡
しピン50A,50B,50Cが下降し、レチクルケー
スRCは、レチクルケース載置面42A上に載置され
る。
【0045】図10は、レチクルケース位置合わせ装置
42のレチクルケース載置面42A上に載置されたレチ
クルケースを示す上面図である。ここで、図10を用い
て露光装置のコンピュータによるレチクルケースの位置
合わせについて説明する。
【0046】まず、露光装置のコンピュータは、レチク
ルケース位置合わせ装置42内の駆動装置によりアライ
メントピン51A,51BをY方向の所定位置まで駆動
し、同時にアライメントピン51Cを−Y方向の所定位
置まで駆動する。この動きにより、アライメントピン5
1A,51BはレチクルケースRCのガイド部7Aに接
触して+Y方向に押圧しつつ位置規制し、反対側のアラ
イメントピン51Cはガイド部7Bに接触して−Y方向
に押圧しつつ位置規制する。その結果、レチクルケース
RCのY方向位置及びθ方向の回転位置が所定の状態に
規制され、Y方向及びθ方向の位置合わせが行われる。
【0047】次に、露光装置のコンピュータは、アライ
メントピン51Dを−X方向に所定位置まで駆動すると
ともにとアライメントピン51Eを+X方向に所定位置
まで駆動し、ガイド部7AのX方向位置を規定する。同
時に、アライメントピン51Fを−X方向に所定位置ま
で駆動するとともにとアライメントピン51Gを+X方
向に所定位置まで駆動し、ガイド部7BのX方向位置を
規定する。このときレチクルケースRCはYθ方向の位
置規制を行うアライメントピン51A〜51Cによって
狭持された状態でX方向に移動することになるが、アラ
イメントピン51A〜51Cは回転ローラ52を介して
レチクルケースRCのガイド部7A,7Bと接触してい
るため、ガイドピン51A〜51Cによるガイド部7
A,7Bの押圧によってレチクルケースRCのX方向の
位置合わせが妨げられることはない。こうして、レチク
ルケースRCの位置合わせが完了する。
【0048】露光装置のコンピュータは、レチクルケー
ス位置合わせ装置42によるレチクルケースRCの位置
合わせが完了すると、アライメントピン51A〜51G
をレチクルケースRCの外周部から離れるように駆動す
る。次いで、レチクルケース受け渡しピン50A〜50
Cが上昇して、レチクルケースRCを持ち上げる。次
に、搬送装置41の搬送アーム40がレチクルケースR
Cの下方に移動させ、アライメントケース受け渡しピン
50A〜50C上に載置されているレチクルケースRC
を受け取る。搬送アーム40は、レチクルケースRCを
受け取ると真空吸着をONしてレチクルケースRCを固
定する。レチクルケースRCを保持した搬送アーム40
は、図8(e)に示すように、再びホームポジションに
戻る。
【0049】ホームポジションにおいて、搬送アーム4
0は、図8(f)に示すように90゜回転し、レチクル
ライブラリ43の方向を向く。続いて、レチクルケース
RCを保持した搬送アーム40は、不図示の上下動軸
(Z方向)により所定の高さに位置決めした後、図8
(g)に示すように、レチクルライブラリ43の所定の
場所に進入し、搬送アーム40の真空吸着をOFFす
る。搬送アーム40が下方へ退避すると、後述するよう
に、レチクルケースRCはレチクルライブラリ43内の
レチクルケース支持ベアリングに支持され、レチクルラ
イブラリ43に内蔵されたレチクルケース自動固定機構
により自動的に固定される。
【0050】空になった搬送アーム40は、図8(h)
に示すように再びホームポジションに戻り、搬送シーケ
ンスを終える。さらに搬送アーム40が180゜回転す
れば図8(b)の状態に戻る。レチクルライブラリ43
から不要になったレチクルを取り出す場合には、上記の
手順を逆に行えばよい。
【0051】次に、図11〜図15を用いて、レチクル
ライブラリのレチクルケース自動固定機構について説明
する。図11はレチクルライブラリの概略斜視図、図1
2〜図14はレチクルライブラリへレチクルケースを挿
入する手順を示す側面図、図15はレチクルライブラリ
の棚に収納されて固定された状態のレチクルケースを示
す上面図である。
【0052】図11に示すように、レチクルライブラリ
43は基台60から直立する一対の支持カラム61A,
61Bを備える。支持カラム61A,61Bの対向する
面には、レチクルケースの収納位置に、水平方向に一列
に並んだ複数のベアリングからなるレチクルケース支持
部62A1,62B1(図11には支持カラム61Aに
取り付けられた部材に関しては一部の部材のみを図示、
以下同じ);62A2,62B2;‥‥、先端にベアリ
ングを有するガイド部位置規制ピン63A1,63B
1;63A2,63B2;‥‥、レチクルケース固定ピ
ン65A1,65B1;65A2,65B2;‥‥が左
右対をなして取り付けられている。レチクルケース固定
ピン65A1,65B1;65A2,65B2;‥‥
は、基台60の内部に設けられたモータ、エアシリン
ダ、ばね等の駆動装置により、支持カラム61A,61
Bに設けられた円弧状のスロット64A1,64B1;
64A2,64B2;‥‥に沿って上下に移動可能であ
る。
【0053】次に、レチクルライブラリ43へレチクル
ケースRCを挿入し、固定する方法について説明する。
図12は、すでに収納されているレチクルケースRC
1,RC2の間のレチクル収納位置に新たなレチクルケ
ースRCを収納するために、搬送アーム40によってレ
チクルケースを搬送している途中の状態を示している。
図12(a)は支持カラム61Bを取り外した状態でX
方向から見たレチクルライブラリ43の側面図であり、
図12(b)は搬送装置41側(Y方向)からみたレチ
クルライブラリ43の正面図を示している。上下のレチ
クルケースRC1,RC2は、ガイド部7A,7Bの底
面を各々レチクルケース支持部62A1,62B1及び
62A3,62B3上に載せ、ガイド部7A,7Bから
側方に突出した耳部の位置を支持カラム61A,61B
の端面とガイド部位置規制ピン63A1,63B1及び
63A3,63B3によってY方向に位置規制されて保
持されている。このとき、レチクルケース固定ピン65
A1,65B1;65A2,65B2;‥‥は、上方位
置にあってレチクルケースの固定を解除している。
【0054】レチクルケースRCを真空吸着してレチク
ルライブラリ43の一対の支持カラム61A,61Bの
間に進入した搬送アーム40は図12の位置から、図1
3に示すように、レチクルケースRCのガイド部7A,
7Bから側方に突出した耳部が支持カラム61A,61
Bの搬送装置41に対向する端面とガイド部位置規制ピ
ン63A2,63B2の間に位置するまで−Y方向に進
入して停止する。停止した後、搬送アーム40はレチク
ルケースRCの真空吸着をOFFする。
【0055】続いて搬送アーム40は、図14に示すよ
うに、レチクルケースRCのガイド部7A,7Bの底面
がレチクルケース支持部62A2,62B2に接触する
まで−Z方向に降下する。次いで、基台60内の駆動装
置を駆動して、レチクルケース固定ピン65A1,65
B1;65A2,65B2;‥‥を円弧状のスロット6
4A1,64B1;64A2,64B2;‥‥に沿って
下方に駆動する。この操作により、図15にも示すよう
に、レチクルケース固定ピン65A1,65B1;65
A2,65B2;‥‥は、各レチクルケースRC,RC
1,RC2,‥‥のガイド部7A,7Bに設けられた凹
部に係合し、各レチクルケースRC,RC1,RC2,
‥‥を下方に押圧するとともに−Y方向に押圧して支持
カラム61A,61Bに対して固定する。
【0056】この後、レチクルケースRCの装填を終え
た搬送アーム40はY方向に後退し、搬送アーム40の
ホームポジションに戻る。レチクルライブラリ43から
レチクルケースRCを取り出す場合には、上記の操作と
逆の操作を行えばよいが、この際、まずレチクルケース
固定ピン65A1,65B1;65A2,65B2;‥
‥を上方位置に駆動してレチクルケースRCの固定を解
除する必要がある。なお、ここで説明した例では、全て
のレチクルケース固定ピン65A1,65B1;65A
2,65B2;‥‥を同期して同時に駆動するようにし
たが、個々のレチクルケース毎にレチクル固定ピンを独
立して駆動するようにしてもよい。
【0057】以上では、クリーンルーム内でレチクルス
トッカと露光装置との間にレチクルが収納されたレチク
ルケースを搬送するレチクルケース無人搬送ロボット
(AGV)が露光装置の正面からレチクルケースの受け
渡しを行うものとして説明してきた。しかし、AGVと
露光装置との間でのレチクルケースの授受は、露光装置
の正面で行うことは必ずしも必要ではなく、露光装置の
側面あるいは背面からレチクルケースの授受を行っても
よい。
【0058】また、ここで説明した例のAGVはクリー
ンルームの床面を走行するタイプのものであった。しか
し、本発明で使用できるAGVは床面を走行するタイプ
のものに限られない。例えば、レチクルストッカ及び露
光装置の上方に軌道を敷設し、その軌道に沿ってモータ
によってあるいはリニアモータ方式によってレチクルケ
ース搬送用のキャリアを移送するタイプのものとするこ
ともできる。その場合、AGVとの間でレチクルケース
の授受を行うためにレチクルストッカあるいは露光装置
に設けられる開口部扉はレチクルストッカあるいは露光
装置の上面に設けてもよい。あるいは、レチクルストッ
カ及び露光装置を設置している床面下に軌道を敷設し、
その軌道に沿ってレチクルケース搬送用のキャリアを移
送するようにしてもよい。この場合には、レチクルケー
スの授受を行うための開口部扉をレチクルストッカ及び
露光装置の下面に設けることもできる。
【0059】次に、再び図6を参照して、本発明の別の
実施の形態について説明する。ここでは、AGVとの間
で複数個のレチクルケースの受け渡しを行う場合につい
て考える。
【0060】例えば、AGVによって搬送されてきた複
数個のレチクルケースを露光装置のレチクルライブラリ
43に収納するとき、搬送アーム40で受け取ったレチ
クルケースをレチクル位置合わせ装置42に載置して位
置合わせし、位置合わせされたレチクルケースをレチク
ルライブラリ43の所定の位置に収納する動作を繰り返
すものとすると、全てのレチクルケースをAGVから露
光装置のレチクルライブラリ43に移すのに長時間を要
する。その間、AGVはその露光装置のレチクルケース
受け渡し位置に停止し続けなければならない。逆に、1
つの露光装置のレチクルライブラリ43から複数個のレ
チクルケースを取り出してAGVに受け渡す場合にも、
レチクルライブラリ43から取り出したレチクルケース
を1個ずつレチクルケース位置合わせ装置42で位置合
わせしてからAGVに受け渡す動作を反復するものとす
ると、全てのレチクルケースの受け渡しに長時間を要
し、その間AGVを拘束することになる。
【0061】このような不都合を解消するため、ここで
はレチクルケース位置合わせ装置42の近くに複数個の
レチクルケースを一時的に収納することのできるレチク
ルケース収納棚44を設ける。レチクルケース収納棚4
4を設けたことにより、複数個のレチクルケースをAG
Vから受け取ってレチクルライブラリ43に収納する際
には、露光装置側の搬送アーム40は、AGVから受け
渡されたレチクルケースを位置合わせを行うことなく順
次レチクルケース収納棚44に収納する。全てのレチク
ルケースを渡し終わると、AGVは次の作業位置に移動
する。一方、露光装置の内部では、レチクルケース収納
棚44に一時的に収納されたレチクルケースを順番に取
り出し、レチクルケース位置合わせ装置42上に搬送し
て位置合わせした後、レチクルライブラリ43の所定の
位置に収納する。
【0062】逆に、露光装置のレチクルライブラリ43
から複数個のレチクルケースをAGVに受け渡す際に
は、搬送アーム40は指定されたレチクルケースをレチ
クルライブラリ43から取り出し、レチクルケース位置
合わせ装置42上に載置して位置合わせを行った後、レ
チクルケース収納棚44に収納する動作を全てのレチク
ルケースの取り出しが終了するまで反復する。こうして
予め位置合わせが完了したレチクルケースを、レチクル
ケース収納棚44から順次AGVに受け渡すことによ
り、複数個のレチクルケースを短時間で露光装置からA
GVに受け渡すことができる。このように、レチクルケ
ース位置合わせ装置42の近くに複数個のレチクルケー
スを一時的に収納することのできるレチクルケース収納
棚44を設けたことにより、AGVの拘束時間を短縮
し、効率的にAGVを運転することが可能となる。
【0063】このように、本発明によると、レチクルの
搬送及び装填を人手を介することなく全て自動的に行う
ことが可能となるため、レチクルの取り扱い効率が向上
して露光装置の生産性を上げることができる。また、塵
等の異物の発生を抑制することができ、高集積化する微
細パターンヘの対応および歩留りの向上を図ることがで
きる。
【0064】また、露光装置内のレチクルケース位置合
わせ装置42ではレチクルケースと搬送アーム40との
相対的位置ずれを矯正するため、AGVから搬送アーム
40へのレチクルケース授受の際の位置ずれの許容幅を
大きくすることができ、それだけAGVと露光装置側の
搬送アーム40との間でのレチクルケースの授受が容易
となり、レチクルライブラリ43へのレチクルケースの
装填を正確に行うことができる。
【0065】以上、上記実施の形態では露光装置につい
て述べたが、本発明は露光装置への適用に限られるもの
ではなく、レチクル洗浄装置やレチクル検査装置等に対
しても同様に適用できる。
【0066】
【発明の効果】本発明によると、レチクルケース無人搬
送ロボットとの間でのレチクルの授受、露光装置内での
レチクルの搬送及びレチクルライブラリへの装填等、レ
チクルの取り扱い操作を全て自動的に行うことが可能と
なるため、レチクルの取り扱い効率が向上して露光装置
の生産性を上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レチクルケース一例を示す図であり、レチクル
ケースの上蓋を開けた状態を示す斜視図。
【図2】図1のレチクルケースの上蓋を閉じた状態を示
す平面図。
【図3】レチクルケースに収納されるペリクル付きのレ
チクルを搬送する状態を示す一部を切り欠いた斜視図。
【図4】図2のAA線に沿う断面図であり、(a)は前
蓋を開けた状態を示す断面図、(b)は内部にレチクル
を収納して前蓋を閉じた状態を示す断面図。
【図5】クリーンルーム内に配置されたレチクルストッ
カ、露光装置、及びレチクルケース無人搬送ロボットを
示す概略図。
【図6】露光装置の内部構成を示す概略説明図。
【図7】視認マークの説明図。
【図8】露光装置内に設置された搬送装置によるレチク
ルケースの搬送シーケンスを説明する平面図。
【図9】レチクルケース位置合わせ装置の外観を示す斜
視図。
【図10】レチクルケース位置合わせ装置のレチクルケ
ース載置面上に載置されたレチクルケースを示す上面
図。
【図11】レチクルライブラリの概略斜視図。
【図12】レチクルケース挿入の手順を示す図であり、
(a)は支持カラム61Bを取り外した状態でX方向か
ら見たレチクルライブラリの側面図、(b)は搬送装置
側(Y方向)からみたレチクルライブラリの正面図であ
る。
【図13】レチクルケース挿入の手順を示す側面図。
【図14】レチクルケース挿入の手順を示す側面図。
【図15】レチクルライブラリの棚に収納されて固定さ
れた状態のレチクルケースを示す上面図。
【図16】クリーンルーム内に設置されている従来の露
光装置の外観を示す略図。
【符号の説明】
PL…投影光学系、R…レチクル、RC…レチクルケー
ス、RS…レチクルステージ、ST…基板ステージ、W
…ウエハ、2…側面部材、3…ヒンジ、4…上蓋、5…
ヒンジ、6…前蓋,7A,7B…ガイド部、8A,8B
…押さえばね、9A,9B,12A,12B…ストッ
パ、10A,10B,11A,11B…レチクル支持ピ
ン、15A,15B…レチクル押さえ、16A,16
B,18A,18B…引っ張りコイルばね、21…ペリ
クル、25…レチクルストッカ、26…開口部扉、27
A〜27H…露光装置、28A,28B…開口部扉、3
0A,30B…レチクルケース無人搬送ロボット(AG
V)、31…チャンバー、32,33…開閉扉、34…
開口部扉、35…視認マーク、36…ベース、40…搬
送アーム、41…搬送装置、42…レチクルケース位置
合わせ装置、42A…レチクルケース載置面、43…レ
チクルライブラリ、44…レチクルケース収納棚、46
…スライダ、47…キャリア、48,49…ロードアー
ム、50A〜50C…レチクルケース受け渡しピン、5
1A〜51G…アライメントピン、53A〜53G…ス
ロット、60…基台、61A,61B…支持カラム、6
2An,62Bn…レチクルケース支持部、63An,
63Bn…ガイド部位置規制ピン、65An,65Bn
…レチクルケース固定ピン

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レチクルが収納されたレチクルケースを
    保管するレチクル保管装置と、前記レチクルに形成され
    たパターンの像を基板に露光する露光系と、前記レチク
    ル保管装置と前記露光系との間で前記レチクルを搬送す
    る第1搬送装置とを備えた露光装置において、 前記露光装置の外部から搬送されたレチクルケースを受
    け取って前記露光装置の内部に搬送する第2搬送装置
    と、前記第2搬送装置で搬送されたレチクルケースの位
    置合わせを行うレチクルケース位置合わせ装置と、前記
    レチクルケース位置合わせ装置で位置合わせの行われた
    レチクルケースを前記レチクル保管装置に搬送する第3
    搬送装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の露光装置において、前記
    レチクルケース位置合わせ装置は、レチクルケース載置
    面と、前記レチクルケース載置面から突出する複数の可
    動ピンとを備え、前記可動ピンを前記レチクルケース載
    置面に載置されたレチクルケースの外周部に押しつける
    ことによって前記レチクルケースの位置合わせを行うこ
    とを特徴とする露光装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の露光装置において、前記
    露光装置の外部から前記第2搬送装置に受け渡されたレ
    チクルケース、又は前記レチクル保管装置から前記第3
    搬送装置によって取り出されたレチクルケースを一時的
    に収納することのできるレチクルケース収納棚を備える
    ことを特徴とする露光装置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の露光装置において、前記
    露光装置は、前記露光装置を所定の環境に調節するチャ
    ンバーを有しており、前記第2搬送装置は前記チャンバ
    ーに形成された開口部を介して前記レチクルケースを受
    け取ることを特徴とする露光装置。
  5. 【請求項5】 請求項1記載の露光装置において、前記
    露光装置の外部から視認できる視認マークを設けたこと
    を特徴とする露光装置。
  6. 【請求項6】 レチクルが収納されたレチクルケースを
    保管するレチクル保管装置と、前記レチクル保管装置と
    前記レチクルを用いる装置との間で前記レチクルを搬送
    する第1搬送装置とを備えた搬送装置において、 外部から搬送されたレチクルケースを受け取って前記搬
    送装置の内部に搬送する第2搬送装置と、前記第2搬送
    装置で搬送されたレチクルケースの位置合わせを行うレ
    チクルケース位置合わせ装置と、前記レチクルケース位
    置合わせ装置で位置合わせの行われたレチクルケースを
    前記レチクル保管装置に搬送する第3搬送装置とを備え
    たことを特徴とする搬送装置。
  7. 【請求項7】 外部から搬送されたレチクルケースを、
    該レチクルケースを保管するレチクル保管装置に搬送す
    る搬送方法において、 前記外部から搬送されたレチクルケースを受け取るステ
    ップと、前記受け取ったレチクルケースの位置を調節す
    るステップと、前記位置が調節されたレチクルケースを
    前記レチクル保管装置に搬送するステップとを含んでい
    ることを特徴とする搬送方法。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の搬送方法において、前記
    レチクルケースの位置を調節するステップは、前記レチ
    クルケースの外周部に可動ピンを押しつけることによっ
    て行われることを特徴とする搬送方法。
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002035604A1 (fr) * 2000-10-26 2002-05-02 Tokyo Electron Limited Systeme de transfert de substrat traite dans une installation de traitement de semiconducteur
JP2006093431A (ja) * 2004-09-24 2006-04-06 Renesas Technology Corp フォトマスクの搬送方法、露光方法及び露光処理システム、並びに半導体装置の製造方法
JP2006173273A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Miraial Kk レチクル搬送容器
US7224442B2 (en) 2003-10-31 2007-05-29 Seiko Epson Corporation Supply control system and method, program, and information storage medium
US7259835B2 (en) 2004-12-14 2007-08-21 Miraial Co., Ltd. Reticle-processing system
JP2008219032A (ja) * 2001-08-10 2008-09-18 Asml Holding Nv レチクルを保護及び搬送する装置及び方法
US7450219B2 (en) 2004-11-24 2008-11-11 Miraial Co., Ltd. Reticle-carrying container
JP2009105109A (ja) * 2007-10-22 2009-05-14 Disco Abrasive Syst Ltd ワーク収納搬送装置及び該ワーク収納搬送装置を備えた切削装置
JP2011181796A (ja) * 2010-03-03 2011-09-15 Nsk Ltd マスクストッカー、マスク供給システム、及びマスク供給方法
KR20170106463A (ko) * 2015-01-26 2017-09-20 가부시키가이샤 니콘 마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치
KR20190063685A (ko) * 2017-11-30 2019-06-10 세메스 주식회사 집적회로 소자 제조용 이송 장치
KR20210008134A (ko) * 2017-11-30 2021-01-20 세메스 주식회사 집적회로 소자 제조용 이송 장치 및 이송 방법
US11258015B2 (en) 2018-11-13 2022-02-22 Samsung Display Co., Ltd. Mask cassette alignment device and method of aligning mask cassette
JP2023552682A (ja) * 2020-11-18 2023-12-19 ブルックス オートメーション (ジャーマニー) ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Euvレチクル・ストッカ及びその操作方法
WO2025069264A1 (ja) * 2023-09-27 2025-04-03 株式会社ニコン マスクケース、運搬台車、マスクバッファ、及び搬送装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6421113B1 (en) * 2000-02-14 2002-07-16 Advanced Micro Devices, Inc. Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection
JP2001308003A (ja) 2000-02-15 2001-11-02 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
EP1184724A1 (en) * 2000-08-29 2002-03-06 Motorola, Inc. Electronic device for a lithography mask container and method using the same
JP4096246B2 (ja) * 2000-12-22 2008-06-04 株式会社ニコン マスク浄化方法及び装置、並びにデバイス製造システム
US6848876B2 (en) * 2001-01-12 2005-02-01 Asyst Technologies, Inc. Workpiece sorter operating with modular bare workpiece stockers and/or closed container stockers
KR100776254B1 (ko) * 2006-03-30 2007-11-15 삼성전자주식회사 레티클 저장장치
KR102712311B1 (ko) 2023-06-01 2024-10-02 서울엔지니어링(주) Euv 레티클 운반용 캐리어 박스

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4999671A (en) * 1986-07-11 1991-03-12 Canon Kabushiki Kaisha Reticle conveying device
JP3412193B2 (ja) * 1993-06-29 2003-06-03 株式会社ニコン 露光装置
KR100246574B1 (ko) * 1994-12-26 2000-03-15 유무성 레티클 정렬장치 및 방법

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002035604A1 (fr) * 2000-10-26 2002-05-02 Tokyo Electron Limited Systeme de transfert de substrat traite dans une installation de traitement de semiconducteur
JP2008219032A (ja) * 2001-08-10 2008-09-18 Asml Holding Nv レチクルを保護及び搬送する装置及び方法
US7224442B2 (en) 2003-10-31 2007-05-29 Seiko Epson Corporation Supply control system and method, program, and information storage medium
JP2006093431A (ja) * 2004-09-24 2006-04-06 Renesas Technology Corp フォトマスクの搬送方法、露光方法及び露光処理システム、並びに半導体装置の製造方法
US7450219B2 (en) 2004-11-24 2008-11-11 Miraial Co., Ltd. Reticle-carrying container
KR101165855B1 (ko) 2004-12-14 2012-07-13 미라이얼 가부시키가이샤 레티클 반송용기
US7420655B2 (en) 2004-12-14 2008-09-02 Miraial Co., Ltd. Reticle-carrying container
US7259835B2 (en) 2004-12-14 2007-08-21 Miraial Co., Ltd. Reticle-processing system
JP2006173273A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Miraial Kk レチクル搬送容器
JP2009105109A (ja) * 2007-10-22 2009-05-14 Disco Abrasive Syst Ltd ワーク収納搬送装置及び該ワーク収納搬送装置を備えた切削装置
JP2011181796A (ja) * 2010-03-03 2011-09-15 Nsk Ltd マスクストッカー、マスク供給システム、及びマスク供給方法
CN107407867A (zh) * 2015-01-26 2017-11-28 株式会社尼康 光罩箱、保管装置及方法、搬送装置及方法、及曝光装置
KR20170106463A (ko) * 2015-01-26 2017-09-20 가부시키가이샤 니콘 마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치
KR20210043017A (ko) * 2015-01-26 2021-04-20 가부시키가이샤 니콘 마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치
KR20230019229A (ko) * 2015-01-26 2023-02-07 가부시키가이샤 니콘 마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치
KR20190063685A (ko) * 2017-11-30 2019-06-10 세메스 주식회사 집적회로 소자 제조용 이송 장치
KR20210008134A (ko) * 2017-11-30 2021-01-20 세메스 주식회사 집적회로 소자 제조용 이송 장치 및 이송 방법
US11258015B2 (en) 2018-11-13 2022-02-22 Samsung Display Co., Ltd. Mask cassette alignment device and method of aligning mask cassette
JP2023552682A (ja) * 2020-11-18 2023-12-19 ブルックス オートメーション (ジャーマニー) ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Euvレチクル・ストッカ及びその操作方法
US12461453B2 (en) 2020-11-18 2025-11-04 Brooks Automation (Germany) Gmbh EUV reticle stocker and method of operating the same
WO2025069264A1 (ja) * 2023-09-27 2025-04-03 株式会社ニコン マスクケース、運搬台車、マスクバッファ、及び搬送装置

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