JPH10163673A - 電磁波シールドパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、テレビのディスプレイ装置前面等
に設置し電磁波を遮蔽する透視性電磁波シールドパネル
及びその製造方法に関するものである。特に大型のプラ
ズマディスプレイ用パネルに好適である。 【解決手段】 透視性電磁波シールドフィルムの電磁波
シールド層の面に透明粘着剤層を設け、この粘着剤層を
介してディスプレイパネルに貼り合せてなることを特徴
とする透視性電磁波シールドパネル、及び透明フィルム
の一方の面にめっき触媒を含む透明樹脂塗膜を形成し、
無電解めっきにより塗膜を黒色化しつつ塗膜表面にめっ
き金属層を形成した後、無電解めっき層上に所望のパタ
−ンのレジスト部を形成し、非レジスト部のめっき金属
層及び該めっき金属層下の塗膜中の黒色部を選択的にエ
ッチング除去することで透視性電磁波シールドフィルム
を形成した後、該フィルムのめっき金属層の面に透明粘
着剤層を設け、この粘着剤層を介してディスプレイパネ
ルに貼り合せることを特徴とする透視性電磁波シールド
パネルの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビのディスプ
レイ装置前面等に設置し電磁波を遮蔽する透視性電磁波
シールドパネル及びその製造方法に関するものである。
特に大型のプラズマディスプレイ用パネルに好適であ
る。

【０００２】

【従来の技術】ディスプレイ装置前面等に設置される電
磁波シールド材は、優れた電磁波シールド性の他に、視
認性、透視性に優れ且つ視野角が広いことが要求されて
いる。この要求をみたす電磁波シールド材として特開平
５―１６２８１号に記載された発明が知られている。す
なわち、この発明は、

【０００３】「透明なプラスチック板上にセルロースア
セテートプロピオネートを塗布して親水性透明樹脂層を
積層する。風乾後、塩酸酸性パラジウムコロイド触媒液
に浸漬し、親水性透明樹脂に無電解めっき核を形成し、
水洗後、無電解銅めっきを行なう。その後塩化第二鉄を
用いたレジスト法によりエッチングを行い無電解めっき
層をパターン化する。無電解めっき層表面は金属光沢色
で、パターン化された無電解めっき層下の親水性透明樹
脂層は黒色パターン部となる。」ものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
５―１６２８１号の発明は、無電解めっき工程の前に塩
酸酸性パラジウムコロイド触媒液に浸漬し、親水性透明
樹脂に無電解めっき核触媒を形成する必要があった。

【０００５】しかもこの方法は、無電解めっき核が基板
両面に吸着し、両面めっきされるため、めっきコストが
高くなるという問題があった。また塗膜形成面のみをめ
っきするためには、反対面にめっき防止処理が必要とな
り、工程数が増加し、製造コストが上昇するという問題
があった。また、基板を触媒液中に浸漬する際に著しい
塗膜密着性の低下を伴うという問題があった。

【０００６】更に、基板を触媒液に浸漬することで塗膜
中へ触媒を浸透させるため、触媒分布を塗膜厚方向に均
一にすることが困難であり、めっきによる塗膜の黒色化
を安定かつ効率的に行なうことが困難であった。更に、
めっき密着性にバラツキがあり、めっき層のパターン化
の際に欠陥を生じ易く歩留まりが悪いという問題があっ
た。

【０００７】更に近年需要が急増している大型テレビの
プラズマディスプレイ用のパネルとして用いる場合、プ
ラズマディスプレイの大きさに応じた透明基板上に直接
電磁波シールド層を形成するため、欠陥部分を回避しな
がら各種サイズを切出す等ができず、パネルに一箇所で
も欠陥があると例え全体の面積に比べていかに小さかろ
うともその一枚のパネルが不良品となり、歩留りが低
い。

【０００８】

【課題を解決するための手段】これに対し、本願発明
は、長尺物（ロ−ル状）の透視性電磁波シールドフィル
ムから欠陥部分を回避しながら各種サイズを切出し、デ
ィスプレイパネル又は透明基板に貼り合せるため、歩留
りが高く、経済的である。しかもロ−ル状フィルムを連
続処理にて製造するため、基板に比べ生産性が高い。
又、フィルムで柔軟性があるから曲面のシ−ルドも可能
である。

【０００９】すなわち、本発明は、透視性電磁波シール
ドフィルム上に透明粘着剤層を設け、この粘着剤層を介
してディスプレイパネル又は透明基板に貼り合せてなる
ことを特徴とする透視性電磁波シールドパネル及びその
製造方法である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の透視性電磁波シールドフ
ィルムは、同一発明者、出願人による特願平８―１９１
６７７号の方法によって製造できる。

【００１１】すなわち、基材として、透明フィルムを用
い、透明フィルムの少なくとも一方の面にめっき触媒を
含む透明樹脂塗膜を形成し、無電解めっきにより塗膜を
黒色化しつつ塗膜表面にめっき金属（電磁波シールド）
層を形成した後、無電解めっき層上に所望のパタ−ンの
レジスト部を形成し、非レジスト部のめっき金属層及び
該めっき金属層下の塗膜中の黒色部を選択的にエッチン
グ除去してなるものである。

【００１２】透明フィルムとしては、長尺物として、ロ
−ル状に連続処理できるものが望ましい。たとえばポリ
エチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）、ポリイミド（Ｐ
Ｉ）、ポリエ−テルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエ−テ
ルエ−テルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカ−ボネ−ト（Ｐ
Ｃ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド、アクリ
ル、セルロ−スプロピオネート（ＣＰ）、セルロ−スア
セテート（ＣＡ）などの厚みが５〜３００μｍ程度のプ
ラスチックフィルムなどが好ましく用いられる。

【００１３】プラズマディスプレイ用パネルに使用する
場合、プラズマディスプレイは発熱が比較的大きく、ま
た赤外線信号機器の誤動作につながる赤外線を発するお
それがあるので、透明フィルムとして赤外線カットフィ
ルムを使用することができる。

【００１４】基材に塗布する樹脂溶液中の樹脂は、透明
性が必要の他、還元後にめっき触媒となる金属の塩もし
くは錯体、又は還元金属粒子に対して良好な溶解性又は
分散性を有する限りその種類を問わない。

【００１５】使用される樹脂としては、めっき液が樹脂
中に浸透し、還元金属（めっき触媒）が核となり反応
し、めっき金属が析出して黒色化させるため、親水性の
透明樹脂が好ましく、親水性透明樹脂としては、ビニル
アセタール系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、アクリル
系樹脂、セルロース系樹脂などが適当であるが、なかで
もポリビニルブチラール等のビニルアセタール系樹脂、
及びセルロースアセテートブチレート等のセルロース系
樹脂が好しい。

【００１６】乾燥塗膜厚は０．５〜５μｍ程度が好まし
い。塗膜が薄いと、無電解めっき時塗膜の黒色化が不十
分となり、テレビに使用する場合に極めて重要な視認性
が悪くなる。逆に塗膜が厚すぎても扱いずらいだけであ
る。樹脂塗膜に含有するめっき触媒は還元金属粒子であ
るが、この還元金属粒子は樹脂塗膜に含有した状態の金
属の塩又は錯体を還元しても得られる。

【００１７】本発明に使用される金属の塩又は錯体は、
後述する還元剤によって金属に容易に還元されうる、め
っき触媒活性を有する、後述の樹脂との共通溶媒に対し
て可溶性の有機、又は無機の、特に無機の金属塩又は錯
体が好適である。具体例としては、鉄、銅、ニッケル、
コバルト、パラジウム等の元素周期律表の第Ｉｂ族、及
び第VIII族に属する金属の硫酸塩、硝酸塩、塩化物、有
機塩（たとえば酢酸塩）、ベンゾニトリル錯体、アセチ
ルアセトナト錯体、アンモニア錯体等が挙げられる。

【００１８】又、還元金属粒子としては、還元金属コロ
イド分散液中のコロイド粒子、あるいは該分散液から得
られる還元金属粉であって、めっき触媒活性を有し、塗
膜内に均一に分散できる限り、金属の種類、粒径は問わ
ない。かかる還元金属粒子は、大気又は湿気に対して安
定であることが望ましい。具体例としては、周期律表第
VIII族の金属（Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄなど）を含むコ
ロイドで、（水系）還元Ｐｄコロイド粒子、あるいは、
これより得られる還元Ｐｄ粉が特に好ましい。還元金属
コロイド粒子は、特開平１―３１５３３４号公報に記載
の方法でも製造できる。すなわち、低級アルコール類と
非プロトン極性化合物とからなる混合溶液中で金属の塩
を還元することによりコロイド分散液が得られる。

【００１９】めっき触媒の含有量は樹脂に対し０．５〜
１００ＰＨＲ（樹脂１００重量部に対する重量部）、好
ましくは１〜５０ＰＨＲである。

【００２０】塗膜の形成は、樹脂及び金属の塩もしくは
錯体又は還元金属粒子からなる溶液を透明フィルム上に
塗布し、乾燥することにより、金属の塩もしくは錯体又
は還元金属粒子を含む塗膜を形成する。塗布は、ハケ塗
り、スプレー塗装、浸漬、ロール塗装、カレンダー塗装
等の通常の塗布方法で行なえる。

【００２１】また、塗膜形成は、樹脂の種類、濃度、塗
膜厚さ等に応じて条件（温度、時間等）が決定される。
通常、不揮発分濃度が０．０５〜２０ｗｔ％で塗布され
る。塗膜厚は０．２〜１０μ、好しくは０．５〜５μと
する。

【００２２】還元処理は、通常最終キュア後に行なうが
キュア途中で行なってもよい。還元剤で処理すること
で、塗膜中金属の塩又は錯体が塗膜内部あるいは表面に
還元金属として析出し、表面析出したものは、表面に一
部が突出し、塗膜内に一部が埋没した一体化された還元
金属（めっき触媒）層が形成される。

【００２３】還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、アミノボラン、ジメチルア
ミンボラン等の水素化ホウ素化合物のほか、ＦｅＳＯ₄
の如き第一鉄塩、次亜リン酸ソーダの如きリン酸水素金
属塩、硫酸ヒドロキシルアミン、ハイドロサルファイト
等も使用できるが、通常前者の水素化ホウ素化合物が好
適である。

【００２４】これらの還元剤を通常は水溶液として使用
に供するが、還元剤を溶解又は分散できる溶媒系であれ
ば、有機溶媒であってもよく、限定されない。還元剤溶
液中における還元剤濃度は通常、０．０５〜５０重量
％、好ましくは０．１〜２５重量％である。

【００２５】この還元は、金属の塩もしくは錯体を含む
塗膜を有する基材を還元液中に適当時間浸漬するか、又
は還元液を吹きつける等の方法によって簡単に行なえ
る。

【００２６】還元温度は、１０〜９０℃程度が好まし
く、還元液との接触時間は数１０秒〜３０分程度が適当
である。

【００２７】塗膜中の溶媒は還元前に完全に加熱除去し
ても良いし、又は一部残留しても良い。一部残留させる
ことによって還元剤の塗膜中へ浸透が容易となることが
ある。

【００２８】溶媒が完全に除去された塗膜の場合は、還
元液温を高くする、還元前に塗膜を予備加熱する、塗膜
を膨潤可能な溶液で処理する、さらには樹脂溶液と親和
性の良い同様の溶液系の還元液を用いる等の方法で還元
効率を上げることもできる。

【００２９】還元は通常、少なくとも表面層に存在する
金属の塩又は錯体が還元されるまで行われるが、途中で
止めてもよい。

【００３０】還元金属粒子を単独で用いる場合は、必要
に応じて活性化する目的で還元剤で処理するか、酸又は
アルカリで処理してもよい。

【００３１】本発明では、たとえば塗膜中に還元金属中
のＰｄ量を、ＰｄＣｌ₂換算で１〜２００ｍｇ／ｍ²（塗
膜単位面積当たり重量）含有するのが好ましい。１ｍｇ
／ｍ²未満では、充分な黒色を得ることが難しく、２０
０ｍｇ／ｍ²超では経済的でない。

【００３２】めっき下地（触媒）化された被めっき物
は、無電解めっき工程に移され、所望の金属めっき物と
なる。無電解めっきは通常行なわれている方法を目的に
応じて選択すればよく、例えばＮｉめっき、Ｃｕめっき
等が代表的である。

【００３３】本発明の方法において、使用する樹脂及び
金属の塩もしくは錯体又は還元金属粒子の種類を適宜選
択することにより、また、キュア、還元剤による処理条
件等の操作条件を変更することにより、得られるめっき
下地化塗膜の密着性、硬度、強度、めっき触媒活性等を
目的に応じて調節することができる。

【００３４】次に、めっき下地化塗膜を、無電解めっき
液で処理して無電解めっき層を形成する。無電解めっき
層の形成と同時に塗膜が黒色化する。このため、透明フ
ィルム側から視た場合には前記無電解めっき層が積層さ
れた部分は黒色に見える。

【００３５】次に、電磁波シールドフィルムの導電部の
パターンと同じパターンのレジスト部を無電解めっき層
上に形成する。レジスト部は印刷、フォトリソグラフィ
ー等一般に知られている方法で形成するとよい。

【００３６】次に、非レジスト部の不要な無電解めっき
層および不要な黒色部をエッチング液で処理して除去す
る。

【００３７】その結果、パターン化された無電解めっき
層下にそれと同一のパターンの黒色部が塗膜に形成され
る。また、無電解めっき層と黒色部が除去された部分は
透視性を有する。その後、無電解めっき層と容易に導通
できるようにするために、レジスト部を適宜の方法で除
去する。

【００３８】このようにして、所望のパターンに形成さ
れた導電部を有する透視性の電磁波シールドフィルムが
作製できる。

【００３９】電磁波シールドフィルムの透明フィルム側
から見た塗膜の黒化度が、光学濃度（入射角７°、正反
射を含まない場合）で２．９〜４．０であることが好ま
しい。光学濃度が２．９未満では、塗膜の黒化度が低く
視認性が悪い（光学濃度が低いほどめっき光沢が強くま
ぶしい）。光学濃度が２．９以上では、塗膜の黒化度が
十分高く視認性は良好である（くっきり見える）。

【００４０】前記エッチング液は、無電解めっき層の金
属の種類により適宜選択する。たとえば、無電解めっき
層の金属がニッケルや銅などであれば、エッチング液と
して塩化第二鉄／塩酸水溶液などを使用するとよい。

【００４１】なお、電磁波シールドフィルムの導電部の
パターンを形成するには、エッチング処理によらず、他
の方法で形成するようにしてもよい。例えばめっき触媒
含有樹脂塗膜を透明フィルム上の導電部パターン形成予
定部分にのみ形成し、無電解めっきを施してもよい。こ
の方法はエッチング処理を省けるだけでなく、塗膜樹脂
やめっき触媒を節約できるので経済的に有利である。

【００４２】上記のようにして得られた透視性電磁波シ
ールドフィルムのめっき金属層は電磁波シールド層とな
る。

【００４３】このシ−ルド層の面に透明粘着剤層を設
け、この粘着剤層を介してディスプレイパネルに貼り付
けて用いる。透明粘着剤としては、市販の樹脂系接着剤
が使用可能であるが、たとえば、アクリル系、シリコン
系などが挙げられる。粘着剤層の厚みは、一般的には、
２μｍ以上、好ましくは５〜５００μｍ程度である。

【００４４】ディスプレイパネルとして、最近ではプラ
ズマディスプレイ用のパネルが増加しているが、本発明
は前記したように、この用途に好ましく用いられる。デ
ィスプレイパネルに直接貼付する代わりにガラス板又は
プラスチック板などの透明基板に貼付し、これをディス
プレイパネルにさらに貼付するか、装着することも可能
である。

【００４５】プラスチック板としては透明性の高い樹脂
が好ましく、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエ
チレン、ＡＳ樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリエステル、ポリサルホン、ポリエー
テルサルホン、ポリ塩化ビニル、オレフィン・マレイミ
ド共重合体、ノルボルネン系樹脂等の板が適当である
が、なかでも耐熱性の高い、オレフィン・マレイミド共
重合体、ノルボルネン系樹脂の板が好ましい。

【００４６】プラスチックの熱変形温度は１４０〜３６
０℃、熱線膨張係数は６．２×１０^-5ｃｍ／ｃｍ・℃以
下、鉛筆硬度は２Ｈ以上、曲げ強度は１２００〜２００
０ｋｇｆ／ｃｍ²、曲げ弾性率は３００００〜５０００
０ｋｇｆ／ｃｍ²、引張強度は７００〜１２００ｋｇｆ
／ｃｍ²であることが好ましい。このようなプラスチッ
ク板は、高温下でも反りにくく、傷つきにくいため広範
な環境下で使用できる。

【００４７】又、プラスチックの光線透過率は９０％以
上、アッベ数は５０〜７０、光弾性定数（ガラス領域）
の絶対値は１０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であるこ
とが好ましい。このようなプラスチック板は、透明性が
高く（明るく）、複屈折が小さい（２重像となりにく
い）ため、ディスプレイの本来の画質、輝度等を損なわ
ない。

【００４８】得られた電磁波シ−ルドパネルは光透過率
（分光分析装置を用い波長５５０ｎｍにおける透過率）
が６５〜７５％、３０〜１０００ＭＨｚにおけるシ−ル
ド性能（電磁波シ−ルド効果測定装置（アドバンテスト
社製ＴＲ―１７３０１）を用い電界シールド効果を測定
した。）が４０〜８０ｄＢが得られ、実用性能に充分マ
ッチした。

【００４９】

【実施例１】電気化学工業（株）製ポリビニルブチラー
ル（ＰＶＢ）「デンカブチラール＃６０００―Ｃ」のア
ルコール溶液と奥野製薬工業（株）製水系パラジウム
（Ｐｄ）コロイド触媒液「ＯＰＣ―８０キャタリスト
Ｍ」を混合し塗布液とした（塗布液組成；ＰＶＢ／触媒
液／メタノール／ブタノール＝３０／１２９／５４１／
３００（重量比）、Ｐｄコロイド３ＰＨＲ（ＰｄＣｌ₂
換算））。

【００５０】この塗布液をポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）フィルム（Ｂ４サイズ）にディップコート法
にて塗布後、８０℃で３時間乾燥した（塗膜厚；１
μ）。

【００５１】この塗膜（触媒含有）形成品を直接、奥野
製薬工業（株）製銅めっき液「ＯＰＣ―７００Ｍ」（２
５℃）中に１時間浸漬した。この結果、ＰＥＴフィルム
上塗膜表面は銅光沢、塗膜（フィルム側から観察）は濃
黒色を呈した。

【００５２】この銅めっき品に対して、東京応化工業
（株）製エッチング用ポジ型フォトレジスト「ＰＭＥＲ
Ｐ―ＤＦ４０Ｓ」をメーカー推奨条件にて塗布・プリ
ベーク（塗膜厚；５μ）・露光（格子状パターンのマス
ク使用）・現像して格子状レジストパターンを形成し
た。

【００５３】このレジストパターン形成品をエッチング
液（塩化第二鉄／塩酸水溶液）に浸漬し、銅めっき皮膜
及び塗膜中の黒色銅を塗膜は残してエッチング除去した
後、レジストを剥離し導電パターン（透視性電磁波シー
ルドフィルム）を作製した。

【００５４】この電磁波シールドフィルムのフィルム側
にアクリル系透明粘着剤層（１０μ）を形成し、この粘
着剤層を介してガラス板（厚さ４ｍｍ）に貼り合せ、透
視性電磁波シールドパネルを作製した。

【００５５】この電磁波シールドパネルは、シールド性
能（４０〜８０ｄＢ，３０〜１０００ＭＨｚ）、透視性
（光透過率７５％）、視認性、塗膜（／基材）密着性、
めっき（／塗膜）密着性ともに良好であった。

【００５６】

【実施例２】実施例１の透視性電磁波シールドフィルム
のめっき金属層側に実施例１と同様に透明粘着剤層を形
成し、この粘着剤層を介してプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）に貼り合せ、透視性電磁波シールドパネル
を作製した。この電磁波シールドパネルは、実施例１と
同様、良好な各性能を示した。

【００５７】

【実施例３】実施例１のＰＥＴフィルムの代わりに、ト
リアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムにアクリル系
透明粘着剤層を介して保護フィルムを貼り合せたＴＡＣ
フィルム積層品を用いて、実施例１と同様に透視性電磁
波シールドフィルムを作製した。

【００５８】この電磁波シールドフィルムから保護フィ
ルムを剥離し、アクリル板に貼り合せ透視性電磁波シー
ルドパネルを作製した。この電磁波シールドパネルは、
実施例１と同様、良好な各性能を示した。

【００５９】

【実施例４】実施例１のＰＥＴフィルムの代わりに、近
赤外線（ＮＩＲ）カットフィルムを用いて、実施例１と
同様に透視性電磁波シールドフィルムを作製した。

【００６０】この電磁波シールドフィルム（めっき金属
層側）を、アクリル系透明粘着剤層を形成したガラス板
に貼り合せ透視性電磁波シールドパネルを作製した。こ
の電磁波シールドパネルは、実施例１と同様、良好な各
性能を示した。

【００６１】

【実施例５及び６】実施例１の透明基板において、ガラ
ス板の代わりに東ソー（株）製オレフィン・マレイミド
共重合体「ＴＩ―１６０］又は日本合成ゴム（株）製ノ
ルボルネン系樹脂「ＡＲＴＯＮ」の透明耐熱性プラスチ
ック基板を用いて電磁波シールドパネルを作製した。

【００６２】これらの電磁波シールドパネルは、実施例
１と同様、良好な各性能を示した。特に、基板平坦性の
点で、実施例１より優れていた（同じ厚さ・面積の基板
で比較して、明らかに反りが小さかった）。

【００６３】具体的には、（プラズマ）ディスプレイ前
面に配置し電磁波シールドパネルとして使用した際に、
通常、耐熱性・剛性に乏しいプラスチック基板ではディ
スプレイの発熱の影響で基板が大きく反る為、ディスプ
レイが割れたりモアレ縞が発生したりするが、これらの
問題は全く見られなかった。

【００６４】実施例１―６の評価結果を第１表に示し
た。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【発明の効果】本発明は次の効果を有する。 本発明者の発明にかかる電磁波シールドフィルムを
使用しているためシ−ルド性能が４０〜８０ｄＢと極め
て高い。たとえばスパッタリングによって導電層を形成
した電磁波シールドフィルムを使用した場合は、光透過
率７５％程度で３〜３０ｄＢ程度と低い値しか得られな
い。 光透過率が６５〜７５％と高い。 本発明の電磁波シールドフィルムはめっき金属パタ
ーン層の基材側が黒色を呈するので、視認性が極めて良
好である。 たとえば金属メッシュやめっき紗を用いた電磁波シ
ールド材に比し、構造上、視野角を広くもてる。 前記したようにロ−ル状の長尺物の透視性電磁波シ
ールドフィルムから欠陥部分を回避しながら各種サイズ
を切出し貼り合わせるため歩留りが高い。 曲面のシ−ルドも可能。

【００６７】このように本発明の効果は顕著である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ３２Ｂ 27/30 １０２ Ｂ３２Ｂ 27/30 １０２

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電磁波シールドフィルム上に透明粘着剤
   層を設け、この粘着剤層を介してディスプレイパネル又
   は透明基板に貼り合せてなることを特徴とする電磁波シ
   ールドパネル。
2. 【請求項２】 電磁波シールドフィルムが、透明フィル
   ムの少なくとも一方の面にめっき触媒を含む透明樹脂塗
   膜を形成し、無電解めっきにより塗膜を黒色化しつつ塗
   膜表面にめっき金属（電磁波シールド）層を形成した
   後、無電解めっき層上に所望のパタ−ンのレジスト部を
   形成し、非レジスト部のめっき金属層及び該めっき金属
   層下の塗膜中の黒色部を選択的にエッチング除去してな
   るものである請求項１記載の電磁波シールドパネル。
3. 【請求項３】 透明粘着剤がアクリル系樹脂である請求
   項１記載の電磁波シールドパネル。
4. 【請求項４】 ディスプレイパネルがプラズマディスプ
   レイ用のパネルである請求項１記載の電磁波シールドパ
   ネル。
5. 【請求項５】 透明基板がガラス板あるいはプラスチッ
   ク板である請求項１記載の電磁波シールドパネル。
6. 【請求項６】 プラスチック板がオレフィン・マレイミ
   ド共重合体又はノルボルネン系樹脂の板である請求項５
   記載の電磁波シールドパネル。
7. 【請求項７】 透明フィルムが近赤外線カットフィルム
   である請求項２記載の電磁波シールドパネル。
8. 【請求項８】 透明樹脂塗膜を形成する樹脂がポリビニ
   ルアセタ−ルであり、塗膜厚が０．５〜５μｍである請
   求項２記載の電磁波シールドパネル。
9. 【請求項９】 めっき金属が銅である請求項２記載の電
   磁波シールドパネル。
10. 【請求項１０】 透明フィルムの少なくとも一方の面に
    めっき触媒を含む透明樹脂塗膜を形成し、無電解めっき
    により塗膜を黒色化しつつ塗膜表面にめっき金属層を形
    成した後、無電解めっき層上に所望のパタ−ンのレジス
    ト部を形成し、非レジスト部のめっき金属層及び該めっ
    き金属層下の塗膜中の黒色部を選択的にエッチング除去
    することで電磁波シールドフィルムを形成した後、該フ
    ィルム上に透明粘着剤層を設け、この粘着剤層を介して
    ディスプレイパネル又は透明基板に貼り合せることを特
    徴とする電磁波シールドパネルの製造方法。
11. 【請求項１１】 電磁波シールドフィルムの透明フィル
    ム側から見た塗膜の黒化度が、光学濃度（入射角７°、
    正反射を含まない場合）で２．９〜４．０である請求項
    １記載の電磁波シールドパネル。
12. 【請求項１２】 光透過率が６５〜７５％、３０〜１０
    ００ＭＨｚにおけるシールド性能が４０〜８０ｄＢであ
    る請求項１記載の電磁波シールドパネル。