JPH1016375A - ヘアラインパターンの生成方法および生成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 自由度の高いヘアラインパターンを容易に生
成する。 【解決手段】 所定方向にほぼ沿って伸びる多数のヘア
ラインＨを平面上に配置してなるヘアラインパターンを
コンピュータによる画像処理で生成する。それぞれ所定
の行幅Ｇをもった複数の行を定義し、これら複数の行を
所定の行間隔Ｋをあけて縦方向に隣接配置する。各行ご
とに、その行幅Ｇに応じた複数のヘアラインＨを発生さ
せ、これら複数のヘアラインを所定のライン間隔Ｓをあ
けて横方向に隣接配置して割り付ける。各ヘアラインＨ
は、乱数により得られたＷ画素分の幅をもち、乱数によ
り得られたＬ画素分の長さをもった細長い矩形図形を定
義し、所定の振幅をもった一次元揺らぎ場を利用して、
この矩形図形を構成する各画素を幅方向に変位させるこ
とにより生成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はヘアラインパターン
の生成技術に関し、特に、建材用の化粧紙、転写フィル
ムなどにおいて、ソフトウッド系の木目柄表面やアルミ
ニウムなどの金属表面を表現するために用いられるヘア
ラインパターンを生成する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】化粧紙や転写フィルムなどの建材では、
ヘアラインパターン（線状図形パターン）を印刷する
か、もしくはエンボス加工することによって、素材独特
の質感を表現する手法が採られている。ヘアラインパタ
ーンは、特定の一方向に沿って伸びる多数の細い線（ヘ
アライン、あるいは万線と呼ばれる）の集合からなるパ
ターンであり、通常、ソフトウッド系の木目柄表面やア
ルミニウムなどの金属表面などに固有の質感を表現する
ために用いられている。利用する建材に応じて、ヘアラ
インパターンを表面に印刷する場合もあれば、ヘアライ
ンパターンを表面層上の凹凸パターンとしてエンボス加
工する場合もある。

【０００３】従来は、このようなヘアラインパターン
を、天然木の材面から抽出することにより得ていた。す
なわち、ヘアラインパターンが最も顕著に現れるよう
に、天然木の材面を特殊な照明環境下においた状態で材
面に対する写真撮影を行い、これをデジタル画像データ
として取り込むのが一般的な手法である。通常は、デジ
タル画像データとして取り込んだパターンに対して、コ
ンピュータを利用したレタッチ処理を行い、細かな調整
を施したものを印刷原稿として利用している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、ヘア
ラインパターンの印刷原稿を用意するために、従来は、
天然木の材面から元になるパターンを抽出していたた
め、必ずしも期待どおりのヘアラインパターンを用意す
ることが困難であり、柄をデザインする上で自由度が制
限されるという問題があった。すなわち、建材柄を創作
するデザイナーの立場からは、ヘアラインの太さ、長
さ、密度などが好みの条件に適合したヘアラインパター
ンを入手したいと望むことになるが、デザイナーの好み
のヘアラインパターンを用意するためには、その好みに
適合した天然木の材面を探さねばならず、現実的には、
好みどおりのヘアラインパターンを得ることは不可能で
ある。このため、実際に存在する天然木から抽出された
ヘアラインパターンに妥協せざるを得なくなり、デザイ
ン上、大きな制約を受けることになる。

【０００５】また、実際には、天然木の材面から抽出し
たパターンは、そのまま印刷原稿として利用するには不
適当であり、フィルム上での修正またはコンピュータを
利用したレタッチ処理が不可欠である。このレタッチ処
理の操作には熟練を要し、多大な費用と時間が必要とな
る。また、このレタッチ処理では、元のパターンに対す
る細かな調整を行うことは可能であるが、大幅な柄の変
更や修正は非常に困難である。

【０００６】そこで本発明は、自由度の高いヘアライン
パターンを容易に生成することのできるヘアラインパタ
ーンの生成手法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

(1) 本発明の第１の態様は、所定方向にほぼ沿って伸
びる多数のヘアラインを平面上に配置してなるヘアライ
ンパターンを生成する方法において、パターン生成に必
要なパラメータを設定する段階と、それぞれ所定の行幅
Ｇをもった複数の行を定義し、これら複数の行を所定の
行間隔Ｋをあけて縦方向に隣接配置することにより割付
領域を定義する段階と、各行ごとに、その行幅Ｇに応じ
た複数のヘアラインを発生させ、これら複数のヘアライ
ンを所定のライン間隔Ｓをあけて横方向に隣接配置して
割り付ける段階と、割付領域内に割り付けられた多数の
ヘアラインを示す画像データを出力する段階と、を行う
ようにしたものである。

【０００８】(2) 本発明の第２の態様は、上述の第１
の態様に係るヘアラインパターンの生成方法において、
所定のライン幅Ｗおよびライン長Ｌを定め、Ｗ画素分の
幅をもち、Ｌ画素分の長さをもった細長い矩形図形を定
義し、行幅Ｇより小さな振幅をもった一次元揺らぎ場を
利用して、矩形図形を構成する各画素を幅方向に変位さ
せることにより個々のヘアラインを生成するようにした
ものである。

【０００９】(3) 本発明の第３の態様は、上述の第２
の態様に係るヘアラインパターンの生成方法において、
振幅Ａ_ｊ、位相ω_ｊをもった第ｊ次高調波（ただし、１
≦ｊ≦ｎ、ｋ_ｊは所定の係数）の和として、 ｄ＝Σ_{ｊ＝１，ｎ} Ａ_ｊ ｓｉｎ ｋ_ｊ・（θ−ω_ｊ） なる式で一次元揺らぎ場を示す関数ｄ＝ｆ（θ）を定義
し、矩形図形の長さ方向の位置を変数値θに対応させ、
関数ｄ＝ｆ（θ）で与えられる関数値ｄに基づいて、変
数値θに対応した位置の各画素を幅方向に変位させるよ
うにしたものである。

【００１０】(4) 本発明の第４の態様は、上述の第２
の態様に係るヘアラインパターンの生成方法において、
座標軸θ上に自己相似的にスカラー値ｄを定義した一次
元フラクタル場を用意し、矩形図形の長さ方向の位置を
座標値θに対応させ、一次元フラクタル場に定義された
スカラー値ｄに基づいて、座標値θに対応した位置の各
画素を幅方向に変位させるようにしたものである。

【００１１】(5) 本発明の第５の態様は、上述の第１
〜第４の態様に係るヘアラインパターンの生成方法にお
いて、ライン幅Ｗの分布範囲、ライン長Ｌの分布範囲、
ライン間隔Ｓの分布範囲をそれぞれパラメータとして設
定し、各行ごとに、設定した分布範囲内のライン幅Ｗを
それぞれ乱数を利用して定め、同一の行に所属するヘア
ラインについては同一のライン幅が適用されるように
し、個々のヘアラインに関するライン長Ｌおよびライン
間隔Ｓについては、それぞれ乱数を利用して、設定した
分布範囲内の所定値を定めるようにしたものである。

【００１２】(6) 本発明の第６の態様は、所定方向に
ほぼ沿って伸びる多数のヘアラインを平面上に配置して
なるヘアラインパターンを生成する装置において、乱数
を発生する乱数発生手段と、乱数を利用して、値Ｗおよ
びＬ（ただし、Ｗ＜＜Ｌ）を定め、Ｗ画素分の幅をも
ち、Ｌ画素分の長さをもった細長い矩形図形を定義する
矩形図形定義手段と、乱数を利用して、所定の振幅をも
った一次元揺らぎ場を発生させる揺らぎ場発生手段と、
一次元揺らぎ場に基づいて、矩形図形を構成する各画素
を幅方向に変位させることによりヘアラインを生成する
ヘアライン生成手段と、生成したヘアラインを、乱数を
利用して平面上に割り付ける割付手段と、を設けるよう
にしたものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図示する実施形態
に基づいて説明する。図１は本発明に係るヘアラインパ
ターンの生成方法の基本手順を示す流れ図である。ここ
に示す手順は、すべてコンピュータを利用したデータ処
理として行われることになる。

【００１４】まず、ステップＳ１において、パターン生
成に必要なパラメータの設定を行う。オペレータは、生
成すべきヘアラインパターンの条件を、このステップＳ
１で設定することになる。続くステップＳ２では、割付
領域が定義される。この割付領域は、所定方向にほぼ沿
って伸びる多数のヘアラインを配置するための平面上の
閉領域である。後に詳述するように、この閉領域は複数
の行を配列することにより構成され、各行の中に個々の
ヘアラインが割り付けられることになる。ステップＳ３
におけるヘアラインの割付処理は、１本１本のヘアライ
ンを構成する図形を生成し、ステップＳ２で定義された
各行の中に、この図形を割り付ける処理である。最後の
ステップＳ４において、こうして割り付けられた多数の
ヘアラインからなるパターンが、画像データとして出力
される。なお、オペレータがコンピュータに対して実際
に行う処理は、ステップＳ１におけるパラメータ設定処
理だけであり、ステップＳ２〜Ｓ４の処理は、設定され
たパラメータに基づいて、コンピュータ内で自動的に行
われることになる。

【００１５】ステップＳ１において設定すべきパラメー
タの一例を図２に示す。この例では、まず、生成すべき
ヘアラインパターンの画像サイズが設定される。たとえ
ば、図３に示すように、横が画像幅width 、縦が画像高
さheightで表されるサイズをもった矩形領域内に、多数
のヘアラインＨを割り付けることによりヘアラインパタ
ーンを生成する場合を考える。この場合、画像サイズを
示すパラメータとして、画像幅width および画像高さhe
ightなる値が設定される。ここでは、値widthおよびhei
ghtの単位として画素数を用いることにし（たとえば、
横４８０画素×縦３６０画素からなるヘアラインパター
ンを生成する場合、画像幅width ＝４８０，画像高さhe
ight＝３６０となる）、各画素の位置を、左上隅を原点
としたＸＹ座標系における座標値（ｘ，ｙ）で示すこと
にする。したがって、図３に示す例では、左上隅の画素
の位置Ｐは、Ｐ（１，１）なる座標で表され、右下隅の
画素の位置Ｑは、Ｑ（width ，height）なる座標で表さ
れる。

【００１６】図４は、図３の部分拡大図であり、ヘアラ
インパターンを構成する個々のヘアラインＨの形態が詳
細に示されている。１本のヘアラインＨは、ほぼ図の横
方向（図３で定義したＸＹ座標系におけるＸ軸方向）に
沿って伸び、図の縦方向（Ｙ軸方向）に揺らぎをもった
線状図形によって構成されている。１本のヘアラインＨ
は、所定のライン長Ｌ（Ｘ軸方向に関する長さ）と所定
のライン幅Ｗ（Ｙ軸方向に関する幅）を有しており、こ
の実施形態では、ライン幅Ｗは同一のヘアラインの各部
では同一に設定してある。ただし、ライン幅Ｗとライン
長Ｌは、個々のヘアラインＨごとに異なる値を取り、ヘ
アラインパターン全体としては、太いヘアライン、細い
ヘアライン、長いヘアライン、短いヘアライン、がそれ
ぞれ入り乱れて配置されることになる。本発明では、図
４に破線で示したような「行」が定義される。１つの行
は、所定の行幅Ｇ（Ｙ軸方向に関する幅）を有し、図の
横方向（Ｘ軸方向）に画像幅width だけ伸びた細長い矩
形領域を形成する。このような行が、互いに所定の行間
隔Ｋだけあけて、図の縦方向（Ｙ軸方向）に隣接配置さ
れる。

【００１７】ヘアラインＨは、こうして定義された各行
内に割り付けられることになる。各ヘアラインＨは、図
の縦方向に揺らぎを有しているが、必ず行幅Ｇの範囲内
に収まるように割り付けられ、１つの行には、多数のヘ
アラインＨが、図の横方向に並んで配置される。このと
き、同一の行内に隣接して配置されるヘアラインＨの間
には、所定のライン間隔Ｓが確保される。このライン間
隔Ｓも、各ヘアラインＨごとにそれぞれ異なる値をとる
ので、広い間隔で隣接配置されるヘアラインもあれば、
狭い間隔で隣接配置されるヘアラインもある。

【００１８】図２に示すパラメータにおいて、ライン幅
Ｗの分布範囲およびライン長Ｌの分布範囲を示すパラメ
ータは、ヘアラインＨのライン幅Ｗの最大値Ｗmax と最
小値Ｗmin およびライン長Ｌの最大値Ｌmax と最小値Ｌ
min によって定義される。また、ライン間隔Ｓの分布範
囲を示すパラメータは、ライン間隔Ｓの最大値Ｓmaxと
最小値Ｓmin によって定義される。行間隔Ｋは、図４に
示すとおり、各行を配置する上での行と行との間の間隔
を示すパラメータである。この例では、行間隔Ｋを定数
としているので、すべての行が同じ行間隔Ｋを保ちなが
ら配置されることになるが、行間隔Ｋの最大値Ｋmax と
最小値Ｋmin を用いて分布範囲を定義し、個々の行間隔
ごとに値を変えるようにしてもかまわない。

【００１９】図２に示すパラメータにおける揺らぎ振幅
Ａおよび揺らぎ周期Ｃは、ヘアラインＨの縦方向（幅方
向）の揺らぎを決定するためのパラメータである。本実
施形態では、横方向に細長い矩形図形に対して、一次元
揺らぎ場に基づく縦方向の揺らぎを加えることにより、
１本のヘアラインＨを生成している。揺らぎ振幅Ａおよ
び揺らぎ周期Ｃは、この一次元揺らぎ場の最大振幅およ
び周期を示すパラメータである。

【００２０】このような手法に基づくヘアラインＨの生
成方法を、図５〜図７の概念図を参照しながら説明しよ
う。まず、図５に示すように、所定のライン幅Ｗおよび
ライン長Ｌをもった横方向に細長い矩形図形Ｆを用意す
る。続いて、図６に示すような一次元揺らぎ場を用意す
る。ここでは、説明の便宜上、ごく一般的な正弦波関数
を一次元揺らぎ場として用いた例を示す。すなわち、ｄ
＝（Ａ／２）ｓｉｎθなる正弦波関数を用意し、一次元
のθ軸上の各位置に所定の揺らぎ成分ｄ（ただし、Ａ／
２≧ｄ≧−Ａ／２）を定義する。そして、θ軸を矩形図
形Ｆの横方向に線形対応させ、矩形図形Ｆを構成する各
点を対応づけられた揺らぎ成分ｄに基づいて縦方向に変
位させれば、図７に示すようなヘアラインＨを得ること
ができる。

【００２１】パラメータとして設定した揺らぎ振幅Ａ
は、図６に示す一次元揺らぎ場の振幅を示すものであ
り、揺らぎ周期Ｃは、この一次元揺らぎ場の周期を示す
ものである。図７を参照すればわかるとおり、こうして
生成された１本のヘアラインＨは、ライン幅Ｗおよびラ
イン長Ｌを有するいびつな線状図形となり、図形全体の
縦方向の幅（最も上に位置する点と最も下に位置する点
との距離）は、ライン幅Ｗと揺らぎ振幅Ａとの和（Ｗ＋
Ａ）で与えられる。そこで、行幅ＧをＧ＝Ｗ＋Ａに設定
しておけば、図４に示すように、生成したヘアラインＨ
を各行内にピッタリと割り付けることが可能になる。な
お、この例では、揺らぎ振幅Ａおよび揺らぎ周期Ｃをそ
れぞれ定数としているので、すべてのヘアラインが同じ
揺らぎ振幅および揺らぎ周期をもったものになるが、揺
らぎ振幅Ａの最大値Ａmax と最小値Ａmin を用いて振幅
の分布範囲を定義し、揺らぎ周期Ｃの最大値Ｃmax と最
小値Ｃmin を用いて周期の分布範囲を定義し、各ヘアラ
インがそれぞれ異なった振幅および周期をもった揺らぎ
成分をもつようにしてもかまわない。

【００２２】図１の流れ図におけるステップＳ２の処理
は、上述した基本方針に基づいて、ヘアラインを割り付
けるための領域を定義する処理である。まず、各行ごと
にそれぞれ異なるライン幅Ｗが定義される。このとき、
たとえば乱数を用いて、ライン幅Ｗが最大値Ｗmax 〜最
小値Ｗmin の範囲に分布するようにする。そして、各行
ごとに定義したライン幅Ｗに、揺らぎ振幅Ａ（この実施
形態では、全行について同一の値）を加えた値Ｇ＝Ｗ＋
Ａを、各行についての行幅と定義し、図４に示すよう
に、このような行幅Ｇをもった複数の行を行間隔Ｋ（こ
の実施形態では、全行について同一の値）だけ隔てて縦
方向に隣接配置すれば、割付領域を定義する処理は完了
である。いわば、このステップＳ２の処理は、図４にお
いて破線で示す各行の位置を定義する処理ということが
できる。

【００２３】続くステップＳ３の処理は、こうして定義
された各行の中に、生成したヘアラインＨを実際に割り
付ける処理である。まず、図５に示すような矩形図形Ｆ
を発生させる。この矩形図形Ｆの縦方向の幅であるライ
ン幅Ｗは、既にステップＳ２において、各行ごとに定義
されている。そこで、ここでは、ライン長Ｌを、たとえ
ば乱数を用いて、ライン長Ｌが最大値Ｌmax 〜最小値Ｌ
min の範囲に分布するように決定し、幅Ｗ、長さＬをも
った矩形図形Ｆを生成する。続いて、図６に示すような
揺らぎ振幅Ａおよび揺らぎ周期Ｃをもった一次元揺らぎ
場を用意し、この一次元揺らぎ場を用いて、矩形図形Ｆ
の各部を縦方向に変位させれば、図７に示すような１本
のヘアラインＨが生成できる。このヘアラインＨは、割
付対象となる行の行幅Ｇに適した寸法を有している。こ
うして発生させたヘアラインＨを、各行にそれぞれ割り
付けてゆく。たとえば、左から右へ向かって、複数のヘ
アラインＨを順番に割り付けてゆくようにすればよい。
このとき、左右に隣接するヘアライン間には、所定のラ
イン間隔Ｓが確保されるようにする。ライン間隔Ｓの決
定は、たとえば乱数を用いて、ライン間隔Ｓが最大値Ｓ
max 〜最小値Ｓminの範囲に分布するように決定する。

【００２４】こうして、すべての行にヘアラインＨが割
り付けられたら、ステップＳ４において、割付領域内に
割り付けられた多数のヘアラインを示す画像データを、
ヘアラインパターンとして出力すればよい。このように
して得られた画像データに基づいて、ヘアラインパター
ンを印刷するための印刷原版を作成したり、エンボス加
工を行うためのエンボス版を作成したりすることにな
る。

【００２５】以上のような方法によれば、オペレータ
は、ステップＳ１におけるパラメータ設定の段階で、個
々のヘアラインの太さや長さ、揺らぎの程度、密度など
を自由に設定でき、必要ならパラメータを変えながら、
所望のヘアラインパターンが得られるまで試行錯誤を繰
り返すことが可能になる。このため、非常に自由度の高
いパターンを容易に得ることができるようになる。特
に、天然木の材面からは得ることができなかった非常に
細いヘアラインからなるパターンや、意匠性に富んだ奇
抜なパターンの作成が可能になる。

【００２６】図８は、上述した方法によりヘアラインパ
ターンを生成する装置の基本構成を示すブロック図であ
る。この装置は、乱数発生手段１０と、矩形図形定義手
段２０と、揺らぎ場発生手段３０と、ヘアライン生成手
段４０と、割付手段５０と、によって構成されている。
実用上は、これらの各手段はコンピュータのハードウエ
アおよびソフトウエアによって実現されるが、ここで
は、便宜上、個々の機能ブロックに分けて説明を行うこ
とにする。

【００２７】乱数発生手段１０は、他の各手段において
利用される乱数を発生する手段であり、たとえば、０〜
１の間の値をとる一様乱数あるいは正規乱数を発生する
機能を有する。矩形図形定義手段２０は、この乱数を利
用して、値ＷおよびＬ（ただし、Ｗ＜＜Ｌ）を定め、Ｗ
画素分の幅をもち、Ｌ画素分の長さをもった細長い矩形
図形Ｆを定義する。図２に示すように、予めライン幅Ｗ
の分布範囲を示すパラメータとしてＷmax 〜Ｗmin が定
められ、ライン長Ｌの分布範囲を示すパラメータとして
Ｌmax 〜Ｌmin が定められていた場合は、乱数を用い
て、値ＷおよびＬがこの範囲内の値となるように決定さ
れる。揺らぎ場発生手段３０は、乱数を利用して、所定
の振幅をもった一次元揺らぎ場を発生させる機能を有す
る。このような乱数を利用した一次元揺らぎ場の発生方
法としては、たとえば、後述するような中点変位法によ
る一次元フラクタル場の生成方法が知られている。ヘア
ライン生成手段４０は、この一次元揺らぎ場に基づい
て、矩形図形Ｆを構成する各画素を幅方向に変位させる
ことによりヘアラインＨを生成する機能を有する。こう
して生成された多数のヘアラインＨは、割付手段５０に
よって平面上の割付領域内に割り付けられる。個々のヘ
アラインＨの位置を決定するために用いるライン間隔Ｓ
は、乱数を利用して決定される。こうして、割付処理が
完了したら、割付手段５０からヘアラインパターンが画
像データとして出力されることになる。

【００２８】

【実施例】続いて、本発明に係るヘアラインパターンの
生成方法のより具体的な処理手順を説明する。

【００２９】§１． 割付領域の定義手順 図９は、図１に示すステップＳ２における割付領域の定
義処理の具体的な手順を示す流れ図である。ここでは、
図２に示すようなパラメータ設定がなされていた場合
に、図３に示すような画像幅および画像高さをもった割
付領域を定義する具体的な処理手順を示すことにする。
まず、ステップＳ２１において、行数パラメータｉを初
期値１に設定する。この行数パラメータｉは、現在の処
理対象が、何行目であるかを示すパラメータである。た
とえば、ｉ＝１の場合は、図４に示す１行目についての
領域を確保する処理を行っていることになる。続くステ
ップＳ２２では、縦方向の座標を示す座標値ｙが初期値
１に設定される。この座標値の単位は１画素であり、図
３に示すように、座標値ｙ＝１は、最も上の画素を示す
ことになり、座標値ｙ＝heightは、最も下の画素を示す
ことになる。ここでは、図３に示す割付領域について、
Ｙ軸に沿って上から下へと処理を進めてゆくことになる
が、ステップＳ２２で初期値を与えた座標値ｙは現在処
理中のＹ座標位置を示すパラメータとして用いられる。
なお、この流れ図では、変数Ａに値ａを設定する処理
を、一般的なプログラムの記述方法に従って、「Ａ：＝
ａ」と表現することにする。

【００３０】ステップＳ２３では、ｉ行目のライン幅Ｗ
（ｉ）が、Ｗ（ｉ）＝Ｗmin ＋ＲＮＤ＊（Ｗmax −Ｗmi
n ）なる式によって決定される。ここで、ＲＮＤは、０
＜ＲＮＤ＜１の任意の乱数である。したがって、ｉ行目
のライン幅Ｗ（ｉ）は、Ｗmin 〜Ｗmax の範囲内の任意
の値になる。続いて、ステップＳ２４において、ｙ：＝
ｙ＋Ｗ（ｉ）＋Ａなる演算によりパラメータｙが「Ｗ
（ｉ）＋Ａ」だけ増え、更に、ステップＳ２５におい
て、ｙ：＝ｙ＋Ｋなる演算によりパラメータｙが「Ｋ」
だけ増える。この処理は、図４に示すように、１つの行
の行幅Ｇ（Ｇ＝Ｗ＋Ａ）および行間隔Ｋに相当する区間
についての処理が完了したことを示すためのパラメータ
更新処理である。続くステップＳ２６では、ｙ＜height
の条件が成立しているか否かが判断される。この判断
は、図３に示す割付領域の下辺まで処理が到達したか否
かの判断であり、到達していなければ、ステップＳ２７
において、行数パラメータｉを１だけ更新し、ステップ
Ｓ２３からの処理が繰り返されることになる。

【００３１】このように、ステップＳ２３〜ステップＳ
２７までの処理を一巡することにより、１行分の領域
（行幅Ｇ＋行間隔Ｋ）が確保されることになる。こうし
て、ステップＳ２６において否定的な判断がなされたと
き、すなわち、ｙ≧heightとなったときには、図３に示
す全割付領域にわたって、多数の行が定義されたことに
なる。なお、ｉ行目の行についてのライン幅Ｗ（ｉ）は
乱数を用いて定義されているため、その値は各行ごとに
異なり、ｉ行目の行の行幅Ｇ（ｉ）は、Ｇ（ｉ）＝Ｗ
（ｉ）＋Ａで定まる。結局、個々の行幅は各行ごとにラ
ンダムなものとなる。したがって、ステップＳ２６で
は、ｙ＝heightになる場合もあるし、ｙ＞heightとなる
場合もある。前者の場合は、偶然、画像高さheightの区
間内にピッタリと収まるような複数の行が定義されたこ
とになり、後者の場合は、最終行についての領域（行幅
Ｇ＋行間隔Ｋ）が画像高さheightの区間から若干はみ出
して定義されたことになる。本実施例では、このような
はみ出しが生じた場合には、全手順を再度やり直すよう
にしている。すなわち、ステップＳ２８において、ｙ＝
heightとなるまで、ステップＳ２１からの処理が繰り返
して実行される。別言すれば、偶然、画像高さheightの
区間内にピッタリと収まるような複数の行が定義される
まで、同じ処理を繰り返し実行することになる。このよ
うな試行錯誤は、アルゴリズムとしては非効率的である
が、コンピュータを用いた実際の演算時間は非常に短い
ため、実用上は問題はない。

【００３２】こうして、最終的に、画像高さheightの区
間内にピッタリと収まるような複数の行が定義された
ら、ステップＳ２９において、そのときの行数パラメー
タｉの値を総行数Ｎとして保存しておく。この総行数Ｎ
の値は、後のヘアラインの割付処理において用いられる
ことになる。また、ステップＳ２３において決定した各
行についてのライン幅Ｗ（１），Ｗ（２），…，Ｗ
（Ｎ）の値も、後のヘアラインの割付処理において用い
るために保存しておく必要がある。

【００３３】§２． ヘアラインの割付手順 図１０は、図１に示すステップＳ３におけるヘアライン
の割付処理の具体的な手順を示す流れ図である。ここで
は、図９に示す手順により、既に、割付領域の定義処理
が完了しているものとして、以下の説明を行うことにす
る。

【００３４】まず、ステップＳ３１において、行数パラ
メータｉ、横方向の座標値パラメータｘ、縦方向の座標
値パラメータｙをそれぞれ初期値１に設定する。ここ
で、行数パラメータｉは、ヘアラインの割付処理の対象
となっている行を示すパラメータであり、座標値パラメ
ータｘ，ｙは、発生させた１本のヘアラインの外接矩形
の左上隅点を配置する位置座標（ｘ，ｙ）を示すパラメ
ータである。

【００３５】続くステップＳ３２では、１本のヘアライ
ンＨについてのライン長Ｌが、Ｌ＝Ｌmin ＋ＲＮＤ＊
（Ｌmax −Ｌmin ）なる式によって決定される。ここ
で、ＲＮＤは、０＜ＲＮＤ＜１の任意の乱数である。し
たがって、ここで決定されるライン長Ｌは、Ｌmin 〜Ｌ
max の範囲内の任意の値になる。続いて、ステップＳ３
３において、１本のヘアラインが生成される。具体的な
生成方法は、図５〜図７に示したとおりである。すなわ
ち、ステップＳ３２で決定したライン長Ｌと、図９に示
す手順によって既に決定されているｉ行目のライン幅Ｗ
（ｉ）とに基づいて、長さＬ、幅Ｗ（ｉ）の矩形図形Ｆ
を定義し、この矩形図形Ｆに対して、一次元揺らぎ場を
利用して縦方向に揺らぎ成分を与えて１本のヘアライン
を生成するのである。次のステップＳ３４では、こうし
て生成した１本のヘアラインを、ｉ行目に配置する処理
を行う。具体的には、図７に示すヘアラインＨの外接矩
形の左上隅点Ｚが、その時点での座標値パラメータｘ，
ｙで示される座標位置（ｘ，ｙ）にくるようにして配置
を行えばよい。

【００３６】こうして、１本のヘアラインの配置が完了
したら、続くステップＳ３５において、座標値パラメー
タｘの値をライン長Ｌだけ増加させる更新処理が行われ
る。次に、ステップＳ３６では、ライン間隔Ｓが、Ｓ＝
Ｓmin ＋ＲＮＤ＊（Ｓmax −Ｓmin ）なる式によって決
定される。ここで、ＲＮＤは、０＜ＲＮＤ＜１の任意の
乱数である。したがって、ここで決定されるライン間隔
Ｓは、Ｓmin 〜Ｓmaxの範囲内の任意の値になる。続い
て、ステップＳ３７において、座標値パラメータｘの値
をライン間隔Ｓだけ増加させる更新処理が行われる。結
局、ステップＳ３５およびＳ３７におけるパラメータｘ
の更新処理により、ｘの値は、既に配置した１本のヘア
ラインの長さＬと所定のライン間隔Ｓとの和だけ増加す
ることになり、隣接して割り付けるべき次のヘアライン
の配置位置（ｘ，ｙ）が決定されたことになる。

【００３７】ステップＳ３８では、パラメータｘ＞widt
h が判断される。これは、横方向の座標値パラメータｘ
が、割付領域の画像幅width を越えたか否かを判断する
処理であり、画像幅width を越えるまで、ステップＳ３
２からの処理が繰り返し実行される。すなわち、ｉ番目
の行内に、複数のヘアラインが次々に配置されてゆくこ
とになる。

【００３８】ステップＳ３８において、パラメータｘ＞
width と判断されたら、ステップＳ３９において、縦方
向の座標値パラメータｙをＷ（ｉ）＋Ａ＋Ｋだけ増加す
る更新処理が実行されるとともに、行数パラメータｉを
１だけ増加する更新処理が実行される。すなわち、ｉ行
目についてヘアラインの配置処理が完了したために、次
のｉ＋１行目についてのヘアライン配置処理を実行する
ための準備がなされたことになる。そして、ステップＳ
４０を経てステップＳ４１へと進み、横方向の座標値パ
ラメータｘが初期値１に戻され、ステップＳ３２からの
処理が繰り返し実行される。

【００３９】こうして、第１行目，第２行目，…，第Ｎ
行目までの処理が完了すると、ステップＳ４０におい
て、ｉ＞Ｎと判断されることになり、この図１０に示す
全手順は完了する。この時点では、全Ｎ行のすべてにつ
いて、それぞれ複数のヘアラインが割り付けられた状態
になっている。なお、上述の手順を実行すると、画像幅
width の範囲を越えて配置されたヘアラインの一部が、
割付領域の右側からはみ出すことになるが、画像データ
を出力する時点で、このはみ出した部分のデータは無視
するようにすればよい。

【００４０】§３． 一次元揺らぎ場を用いた変形手順 図５〜図７に、矩形図形Ｆを一次元揺らぎ場を用いて変
形することにより、ヘアラインＨを得る一般的な概念を
示したが、ここでは、この変形の具体的な手順を述べて
おく。いま、図１１に示すような一次元揺らぎ場ｄ＝ｆ
（θ）が与えられていたとする。ここでは、ｄの値が、
０≦ｄ≦１の範囲内に正規化されていたものとしよう。
一方、画像データとしての矩形図形Ｆは、画素の集合に
よって表現される。ここでは、図１２に示すような６画
素分のライン幅Ｗをもった矩形図形Ｆに対して、図１１
に示す一次元揺らぎ場を用いて変形を行う場合を考え
る。この場合、まず、矩形図形Ｆの長さ方向（図の横方
向）の位置を、一次元揺らぎ場の軸θに線形対応させ
る。そして、矩形図形Ｆの幅方向に並んだ一連の画素群
を、ｄの値に応じて幅方向に変位させるのである。すな
わち、横方向の位置θに位置する画素群については、Ｉ
ＮＴ（Ａ・ｆ（θ））だけ図の下方に変位させればよ
い。ここで、「ＩＮＴ」は整数部を与える関数であり、
個々の画素の変位量を画素単位（整数）とするためのも
のである。また、係数Ａは揺らぎ振幅である。

【００４１】ここでは、図１２に示す矩形図形Ｆにおい
て、横方向の位置θｍ１に位置する画素群と、横方向の
位置θｍ２に位置する画素群についての具体的な変位方
法を例にとって説明しよう。たとえば、ＩＮＴ（Ａ・ｆ
（θｍ１））＝５、ＩＮＴ（Ａ・ｆ（θｍ２））＝２で
あったとすれば、図１３に示すように、位置θｍ１に位
置する画素群は図の下方に５画素分だけ変位され、位置
θｍ２に位置する画素群は図の下方に２画素分だけ変位
されることになる。

【００４２】このような変位処理をすべての画素につい
て行えば、１本のヘアラインが得られることになり、も
との矩形図形Ｆの左上隅点Ｚは、得られたヘアラインの
外接矩形の左上隅点になる。また、画素の変位量の最大
値は揺らぎ振幅Ａとなり、得られたヘアラインの外接矩
形の幅（縦方向の長さ）は、行幅Ｇ＝Ｗ＋Ａに一致する
ことになる。したがって、このような変形処理によって
得られたヘアラインは、行幅Ｇの行へ配置するのに適合
したものとなる。

【００４３】§４． 正弦波関数を用いた一次元揺らぎ
場の生成方法 一次元揺らぎ場として、正弦波関数を用いることができ
ることは既に述べたとおりである。しかしながら、図６
に示すような単純な正弦波関数を一次元揺らぎ場として
用いた場合、得られるヘアラインＨは図７に示すような
幾何学的なものになり、自然界の揺らぎ成分をもったヘ
アラインとしてはやや不自然になる。

【００４４】より自然な揺らぎをもったヘアラインを生
成するためには、より自然な一次元揺らぎ場を用いるの
が好ましい。そのような揺らぎ場を人為的に生成する手
法のひとつとして、種々の周波数成分をもった正弦波関
数を重畳する方法がある。たとえば、振幅Ａｊ、位相ω
ｊをもった第ｊ次高調波（ただし、１≦ｊ≦ｎ）の和と
して、 ｄ＝Σ_{ｊ＝１，ｎ} Ａ_ｊ ｓｉｎ ｋ_ｊ・（θ−ω_ｊ） なる式で一次元揺らぎ場を示す関数ｄ＝ｆ（θ）を定義
すれば、非常に自然な揺らぎを感じさせるヘアラインを
発生させることができる。ここで、係数ｋ_ｊは、各高調
波ごとの周波数を定めるパラメータであり、たとえば、
ｋ_ｊ＝ｊに設定すればよい。また、振幅Ａ_ｊおよび位相
ω_ｊは乱数用いて任意の値になるように決定するように
し、周波数、振幅、位相がいずれも異なる複数の正弦波
関数の和として関数ｄ＝ｆ（θ）を定義できるようにす
るのが好ましい。

【００４５】§５． フラクタルを用いた一次元揺らぎ
場の生成方法 自然な一次元揺らぎ場として、座標軸θ上に自己相似的
にスカラー値ｄを定義した一次元フラクタル場を用いる
ことも可能である。ここでは、中点変位法と呼ばれてい
る一次元フラクタル場の生成方法を一例として挙げてお
く。

【００４６】いま、図１４に示すように、１本の線上に
所定の距離だけ離して２つの格子点Ａ，Ｂ（図では二重
の円で示す）を定義し、これら各格子点Ａ，Ｂにそれぞ
れスカラー値ａ，ｂを定義する。このように定義した２
つの格子点Ａ，Ｂは、初期段階の格子点であり、スカラ
ー値ａ，ｂは、この２つの格子点Ａ，Ｂに設定されたい
わば初期条件である。

【００４７】続いて、図１５に示すように、２つの格子
点Ａ，Ｂの中点に、第１段階の格子点Ｃを定義する。こ
のとき、この格子点Ｃに対しても、スカラー値ｃを定義
することになるが、このスカラー値ｃはスカラー値ａ，
ｂに基づいて、所定の演算によって定義することにな
る。図１５は、格子点Ｃのスカラー値ｃがまだ定まって
いない状態を示している。なお、ここでは、スカラー値
が未定義の状態の格子点を一重の円で示し、スカラー値
が定義された状態の格子点を二重の円で示すことにす
る。スカラー値ｃは、次のような演算式 ｃ＝（ａ＋ｂ）／２ ＋ Ｔ・ＲＮＤ (1) によって計算される。ここで、ａおよびｂは、格子点Ａ
およびＢについて定義されたスカラー値であり、Ｔはゆ
らぎの最大半振幅値、ＲＮＤは、−１≦ＲＮＤ≦＋１な
る任意の乱数である。このように、スカラー値ｃの定義
には、乱数が用いられており、偶然の要素が左右するこ
とになる。ただし、スカラー値ｃとしては、全くデタラ
メな値が定義されるわけではなく、両隣の格子点Ａ，Ｂ
のスカラー値ａ，ｂと、最大半振幅値Ｔと、によって制
限を受けることになる。すなわち、上述の式(1) に示さ
れているように、スカラー値ａ，ｂの平均値に、−Ｔ〜
＋Ｔの範囲内の任意の値（乱数によって定まる）を加え
た値が、スカラー値ｃの値となる。したがって、最大半
振幅値Ｔは、平均値からずれるゆらぎの程度を制限する
パラメータとなる。

【００４８】こうして、第１段階の格子点Ｃについての
スカラー値ｃが定義できたら、続いて、図１６に示すよ
うに、格子点Ａ，Ｃの中点および格子点Ｃ，Ｂの中点
に、それぞれ第２段階の格子点Ｄ，Ｅを定義する。そし
て、これら格子点Ｄ，Ｅに対して、それぞれスカラー値
ｄ，ｅを、 ｄ＝（ａ＋ｃ）／２ ＋ （１／２）・Ｔ・ＲＮＤ (2) ｅ＝（ｃ＋ｂ）／２ ＋ （１／２）・Ｔ・ＲＮＤ (3) なる式によって計算する。ここで、上述したように、Ｔ
はゆらぎの最大半振幅値、ＲＮＤは、−１≦ＲＮＤ≦＋
１なる任意の乱数である。式(2) ，(3) は、式(1) と非
常に似ているが、最大半振幅値Ｔに（１／２）なる係数
がかかっている点は留意すべきである。

【００４９】続いて、第２段階までで定義された５つの
格子点Ａ，Ｄ，Ｃ，Ｅ，Ｂのそれぞれ中点に、第３段階
の格子点を定義し、これらの格子点にもスカラー値を計
算して定義する。たとえば、格子点Ａ，Ｄの中点として
定義された格子点Ｆ（図示されていない）についてのス
カラー値ｆは、 ｆ＝（ａ＋ｄ）／２ ＋ （１／４）・Ｔ・ＲＮＤ (4) なる式によって計算される。この式(4) では、最大半振
幅値Ｔに（１／４）なる係数がかかっている。

【００５０】理解を容易にするために、以上のステップ
を実際の数値を用いて説明してみる。たとえば、図１７
に示すように、初期段階の格子点Ａ，Ｂに対して、それ
ぞれスカラー値「５０」，「５０」を初期条件として設
定した場合を考える。このような２つの格子点Ａ，Ｂの
中点として、図１８に示すように、第１段階の格子点Ｃ
が定義されることになるが、この場合、この格子点Ｃに
ついて定義されるスカラー値ｃは、前述の式(1) によ
り、 ｃ＝（５０＋５０）／２＋Ｔ・ＲＮＤ (1) なる演算で与えられる。ここでは、ゆらぎの最大半振幅
値Ｔ＝５と設定し、上式の演算時には、たまたま乱数Ｒ
ＮＤ＝＋０．８になったものとしよう。この場合、演算
により求まるスカラー値ｃ＝５４となる。

【００５１】続いて、格子点Ａ，Ｃおよび格子点Ｃ，Ｂ
の中点として、図１９に示すように、第２段階の格子点
Ｄおよび格子点Ｅが定義されることになるが、この場
合、これらの格子点Ｄ，Ｅについて定義されるスカラー
値ｄ，ｅは、前述の式(2) ，(3) により、 ｄ＝（５０＋５４）／２＋（１／２）・Ｔ・ＲＮＤ (2) ｅ＝（５４＋５０）／２＋（１／２）・Ｔ・ＲＮＤ (3) なる演算で与えられる。ここで、上各式の演算時に、た
またま乱数ＲＮＤ＝−０．４、ＲＮＤ＝＋０．４になっ
たものとすると、演算により求まるスカラー値ｄ＝５
１、ｅ＝５３となる。結局、第２段階の格子点について
のスカラー値が求まった段階では、図２０に示すよう
に、５つの格子点Ａ，Ｄ，Ｃ，Ｅ，Ｂについて、それぞ
れスカラー値が定義されたことになる。

【００５２】同様にして、これらの５つの格子点Ａ，
Ｄ，Ｃ，Ｅ，Ｂのそれぞれ中点に、第３段階の格子点を
定義し、これらの格子点にもスカラー値を計算して定義
し、更に、第４段階、第５段階、…、と同じ操作を繰り
返し実行してゆく。このような操作を所定の有限回数ｎ
だけ繰り返し行ってゆけば、初期段階の格子点Ａ，Ｂの
間に多数の格子点が定義され、これら各格子点には所定
のスカラー値が定義されることになる。なお、第ｎ段階
の格子点についてのスカラー値ｓの計算方法を一般式で
示せば、 ｓ＝（α＋β）／２＋（１／２（ｎ−１） ）・Ｔ・ＲＮＤ (5) となる。ここで、αおよびβは、その格子点の両隣の格
子点のスカラー値（第（ｎ−１）段階で計算されてい
る）であり、上述したように、Ｔはゆらぎの最大半振幅
値、ＲＮＤは、−１≦ＲＮＤ≦＋１なる任意の乱数であ
る。

【００５３】このような方法によって、所定のスカラー
値をもった格子点を多数定義すると、これらの格子点の
もつスカラー値の分布は一次元フラクタル場を与えるこ
とになる。上述の具体例では、この一次元フラクタル場
の左端点および右端点に「５０」というスカラー値が定
義され、これら両端点の間に定義された多数の格子点に
も、それぞれ特有のスカラー値が定義される。いま、こ
うして求まった一次元フラクタル場の分布方向を横軸に
とり、個々のスカラー値を縦軸にとると、図２１に示す
ようなグラフが描かれることになる。このようなグラフ
は、たとえば、自然界の海岸線の形状に似た性質をも
つ。すなわち、個々のスカラー値は、部分的に大きくな
ったり小さくなったりと、様々な分布をとることになる
が、この分布パターンの複雑さは、ミクロ的に見ても、
マクロ的に見ても同じになることが知られている。この
性質をより具体的に説明すれば、図２１において、格子
点ＡＢ間のグラフの複雑さも、格子点ＡＤ間のグラフの
複雑さも、同じであり、また、この格子点ＡＤの間のご
く微小区間を虫めがねで拡大して見た場合も、やはり同
じ複雑さをもっているということである。別言すれば、
個々のスカラー値は自己相似的に個々の格子点に定義さ
れており、自然なゆらぎをもって空間的に増減変化して
いることになる。

【００５４】この図２１に示すような一次元フラクタル
場の横軸方向にθ、縦軸方向にｄをとり、ｄ＝ｆ（θ）
を定義すれば、本発明に適用すべき一次元揺らぎ場とし
て利用することが可能である。

【００５５】§６． その他の実施例 上述した実施例では、ヘアラインのライン幅Ｗ，ライン
長Ｌ，ライン間隔Ｓを決定するために、それぞれの最小
値と最大値をパラメータとして与えて分布範囲を定め、
一様乱数を用いてこの分布範囲内の値を決めていたが、
個々の値の平均値と分散をパラメータとして与え、正規
分布する乱数を発生させて個々の値を決めるようにして
もよい。

【００５６】また、上述の実施例では、１本のヘアライ
ンは常に同一のライン幅Ｗを有していたが、一次元揺ら
ぎ場を利用して、１本のヘアラインの各部でライン幅Ｗ
に変動を生じさせるようにしてもよい。この場合、１本
のヘアラインが途中で太くなったり細くなったりするこ
とになる。

【００５７】図３に示す割付領域内に形成されたヘアラ
インパターンは、右辺と左辺とにパターンの整合性がな
いため、同一のヘアラインパターンを左右方向に繰り返
し配置した場合、境界部分で不連続性を生じることにな
る。別言すれば、空間的にリピータブルなパターンには
なっていないことになる。そこで、空間的にリピータブ
ルなパターンを生成するために、図１０に示す処理に次
のような手順を加えることも可能である。すなわち、ス
テップＳ４０からステップＳ４１を経て、ステップＳ３
２からの処理へ戻る際に、乱数を用いて任意のｘ座標値
（１＜ｘ＜width ）を発生させ、ｉ行目の画像を座標値
ｘの位置で右半分と左半分とに分離し、右半分の画像と
左半分の画像とを入れ替える処理を行うのである。この
ような処理を追加すれば、最終的に得られたヘアライン
パターンは、右辺と左辺とが完全に連続したリピータブ
ルパターンとなる。もちろん、このような処理を行え
ば、各行ごとに、内部の任意の位置に不連続箇所が生じ
ることになるが、この不連続箇所の分布はランダムにな
るため、パターン内部での不連続は目立つことがない。

【００５８】

【発明の効果】以上のとおり本発明に係るヘアラインパ
ターンの生成方法を用いれば、自由度の高いヘアライン
パターンを容易に生成することができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るヘアラインパターンの生成方法の
基本手順を示す流れ図である。

【図２】図１の流れ図のステップＳ１において設定すべ
きパラメータの一例を示す図である。

【図３】横が変数値width 、縦が変数値heightで表され
るサイズをもった矩形領域内に、多数のヘアラインＨを
割り付けることによりヘアラインパターンを生成した状
態を示す平面図である。

【図４】ヘアラインパターンを構成する個々のヘアライ
ンＨの形態を詳細に示すために、図３の一部を拡大して
示した部分拡大図である。

【図５】ヘアラインのもとになる矩形図形Ｆの一例を示
す図である。

【図６】ヘアラインを生成するために利用される一次元
揺らぎ場の一例を示す図である。

【図７】図５に示す矩形図形Ｆを図６に示す一次元揺ら
ぎ場に基づいて変形することにより得られたヘアライン
Ｈを示す図である。

【図８】本発明に係るヘアラインパターンの生成装置の
基本構成を示すブロック図である。

【図９】図１の流れ図のステップＳ２における割付領域
の定義処理の具体的な手順を示す流れ図である。

【図１０】図１の流れ図のステップＳ３におけるヘアラ
インの割付処理の具体的な手順を示す流れ図である。

【図１１】本発明に用いる一次元揺らぎ場ｄ＝ｆ（θ）
の一般例を示す図である。

【図１２】ライン幅Ｗをもった矩形図形Ｆの画素構成を
示す図である。

【図１３】図１２に示す矩形図形Ｆに対する画素群の変
位処理を示す図である。

【図１４】一次元フラクタル場を生成する手順の準備段
階の状態を示す図である。

【図１５】一次元フラクタル場を生成する手順の第１段
階の状態を示す図である。

【図１６】一次元フラクタル場を生成する手順の第２段
階の状態を示す図である。

【図１７】一次元フラクタル場を生成する具体例の準備
段階の状態を示す図である。

【図１８】一次元フラクタル場を生成する具体例の第１
段階の状態を示す図である。

【図１９】一次元フラクタル場を生成する具体例の第２
段階の状態を示す図である。

【図２０】一次元フラクタル場を生成する具体例の第３
段階の状態を示す図である。

【図２１】最終的に得られた一次元フラクタル場の一例
を示すグラフである。

【符号の説明】

１０…乱数発生手段 ２０…矩形図形定義手段 ３０…揺らぎ場発生手段 ４０…ヘアライン生成手段 ５０…割付手段 Ａ…揺らぎ振幅 Ｃ…揺らぎ周期 Ｆ…矩形図形 Ｇ…行幅 Ｈ…ヘアライン Ｋ…行間隔 Ｌ…ライン長 Ｓ…ライン間隔 Ｗ…ライン幅 Ｚ…矩形の左上端点

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三木 太 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 神力 哲夫 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 岡本 優 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定方向にほぼ沿って伸びる多数のヘア
   ラインを平面上に配置してなるヘアラインパターンを生
   成する方法であって、 パターン生成に必要なパラメータを設定する段階と、 それぞれ所定の行幅Ｇをもった複数の行を定義し、これ
   ら複数の行を所定の行間隔Ｋをあけて縦方向に隣接配置
   することにより割付領域を定義する段階と、 前記各行ごとに、その行幅Ｇに応じた複数のヘアライン
   を発生させ、これら複数のヘアラインを所定のライン間
   隔Ｓをあけて横方向に隣接配置して割り付ける段階と、 前記割付領域内に割り付けられた多数のヘアラインを示
   す画像データを出力する段階と、 を有することを特徴とするヘアラインパターンの生成方
   法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の生成方法において、 所定のライン幅Ｗおよびライン長Ｌを定め、Ｗ画素分の
   幅をもち、Ｌ画素分の長さをもった細長い矩形図形を定
   義し、行幅Ｇより小さな振幅をもった一次元揺らぎ場を
   利用して、前記矩形図形を構成する各画素を幅方向に変
   位させることにより個々のヘアラインを生成することを
   特徴とするヘアラインパターンの生成方法。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の生成方法において、 振幅Ａ_ｊ、位相ω_ｊをもった第ｊ次高調波（ただし、１
   ≦ｊ≦ｎ、ｋ_ｊは所定の係数）の和として、 ｄ＝Σ_{ｊ＝１，ｎ} Ａ_ｊ ｓｉｎ ｋ_ｊ・（θ−ω_ｊ） なる式で一次元揺らぎ場を示す関数ｄ＝ｆ（θ）を定義
   し、 矩形図形の長さ方向の位置を変数値θに対応させ、前記
   関数ｄ＝ｆ（θ）で与えられる関数値ｄに基づいて、変
   数値θに対応した位置の各画素を幅方向に変位させるこ
   とを特徴とするヘアラインパターンの生成方法。
4. 【請求項４】 請求項２に記載の生成方法において、 座標軸θ上に自己相似的にスカラー値ｄを定義した一次
   元フラクタル場を用意し、 矩形図形の長さ方向の位置を座標値θに対応させ、前記
   一次元フラクタル場に定義されたスカラー値ｄに基づい
   て、座標値θに対応した位置の各画素を幅方向に変位さ
   せることを特徴とするヘアラインパターンの生成方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の生成方
   法において、 ライン幅Ｗの分布範囲、ライン長Ｌの分布範囲、ライン
   間隔Ｓの分布範囲をそれぞれパラメータとして設定し、 各行ごとに、設定した分布範囲内のライン幅Ｗをそれぞ
   れ乱数を利用して定め、同一の行に所属するヘアライン
   については同一のライン幅が適用されるようにし、 個々のヘアラインに関するライン長Ｌおよびライン間隔
   Ｓについては、それぞれ乱数を利用して、設定した分布
   範囲内の所定値を定めるようにしたことを特徴とするヘ
   アラインパターンの生成方法。
6. 【請求項６】 所定方向にほぼ沿って伸びる多数のヘア
   ラインを平面上に配置してなるヘアラインパターンを生
   成する装置であって、 乱数を発生する乱数発生手段と、 前記乱数を利用して、値ＷおよびＬ（ただし、Ｗ＜＜
   Ｌ）を定め、Ｗ画素分の幅をもち、Ｌ画素分の長さをも
   った細長い矩形図形を定義する矩形図形定義手段と、 前記乱数を利用して、所定の振幅をもった一次元揺らぎ
   場を発生させる揺らぎ場発生手段と、 前記一次元揺らぎ場に基づいて、前記矩形図形を構成す
   る各画素を幅方向に変位させることによりヘアラインを
   生成するヘアライン生成手段と、 生成したヘアラインを、前記乱数を利用して平面上に割
   り付ける割付手段と、 を備えることを特徴とするヘアラインパターンの生成装
   置。