JPH10168398A - 接着体、及び高密度記録光ディスクの製造方法 - Google Patents
接着体、及び高密度記録光ディスクの製造方法Info
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】例えば無機蒸着された反射膜、または半透明膜
等の反射膜を有する高密度記録光ディスク用の基板どう
しの接着体の開発。 【解決手段】二つの基材が嫌気性接着剤の層により接着
されている接着体において、少なくとも一方の基材の接
着剤面側が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆さ
れており、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有し、嫌
気性硬化促進剤を含有していない嫌気性接着剤の硬化物
からなる接着体
等の反射膜を有する高密度記録光ディスク用の基板どう
しの接着体の開発。 【解決手段】二つの基材が嫌気性接着剤の層により接着
されている接着体において、少なくとも一方の基材の接
着剤面側が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆さ
れており、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有し、嫌
気性硬化促進剤を含有していない嫌気性接着剤の硬化物
からなる接着体
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録光ディスク
の製造に好適な接着体及び高密度記録光ディスクの製造
方法に関する。
の製造に好適な接着体及び高密度記録光ディスクの製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、金属蒸着等で反射膜を有する光デ
ィスク用の基板(以下単に「高密度記録光ディスク基
板」という)どうしを接着させる方法としては、基板の
光線の透過率が低いため、一般に熱による接着が実用的
であるとされてきた。熱による接着には、エポキシ系、
メラミン系、アルキッド系、ウレタン系及びアクリル系
の樹脂と熱硬化剤によるものまたは、ホットメルト系の
接着剤が知られている。しかしながら、熱による接着方
法では光ディスク基板に反りあるいは変形などが生じて
しまい、情報の記録及び読み取りにエラーが発生すると
いう問題や硬化に要する時間が長く、生産性が劣るとい
う問題があった。また、ホットメルト系では、熱安定性
・耐候性が悪く高温の環境下で長時間使用する事は困難
であった。
ィスク用の基板(以下単に「高密度記録光ディスク基
板」という)どうしを接着させる方法としては、基板の
光線の透過率が低いため、一般に熱による接着が実用的
であるとされてきた。熱による接着には、エポキシ系、
メラミン系、アルキッド系、ウレタン系及びアクリル系
の樹脂と熱硬化剤によるものまたは、ホットメルト系の
接着剤が知られている。しかしながら、熱による接着方
法では光ディスク基板に反りあるいは変形などが生じて
しまい、情報の記録及び読み取りにエラーが発生すると
いう問題や硬化に要する時間が長く、生産性が劣るとい
う問題があった。また、ホットメルト系では、熱安定性
・耐候性が悪く高温の環境下で長時間使用する事は困難
であった。
【0003】また、加熱しないで硬化する接着剤とし
て、空気中では酸素の影響で硬化し難く、脱酸素の条件
下で硬化する嫌気性接着剤が知られている。この接着剤
は、有機過酸化物を含有する接着剤と硬化促進剤を使用
時に混合して1液の状態で適用されるもので、主として
釘やネジの脱落の防止を目的として使用されており、光
ディスク用の基板どうしの接着への用途は知られていな
い。
て、空気中では酸素の影響で硬化し難く、脱酸素の条件
下で硬化する嫌気性接着剤が知られている。この接着剤
は、有機過酸化物を含有する接着剤と硬化促進剤を使用
時に混合して1液の状態で適用されるもので、主として
釘やネジの脱落の防止を目的として使用されており、光
ディスク用の基板どうしの接着への用途は知られていな
い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】現在さらなるディスク
の高密度化が要求されているため、情報の記録及び読み
取り用レーザーの集光を絞るために、薄い基板が試みら
れている。そこで、ディスク基板の反り、及び変形に対
して、より高い精度を有する光ディスクを製造をしなく
てはならず、必然的にそれらの特性を満足する接着剤が
要求されてきている。また、嫌気性接着剤は1液の状態
では非常に不安定であり、ポットライフが短いことに問
題があった。そのため基板どうしの接着において光ディ
スクの特性及び、生産性を満足する接着剤がいまだ提供
されていない状況にある。
の高密度化が要求されているため、情報の記録及び読み
取り用レーザーの集光を絞るために、薄い基板が試みら
れている。そこで、ディスク基板の反り、及び変形に対
して、より高い精度を有する光ディスクを製造をしなく
てはならず、必然的にそれらの特性を満足する接着剤が
要求されてきている。また、嫌気性接着剤は1液の状態
では非常に不安定であり、ポットライフが短いことに問
題があった。そのため基板どうしの接着において光ディ
スクの特性及び、生産性を満足する接着剤がいまだ提供
されていない状況にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、嫌気性接着剤と硬化
促進剤を1液の状態としなくても、硬化促進剤を含有す
る硬化膜層に嫌気性接着剤を接触させるだけで嫌気性接
着剤が硬化するとの知見を得、発明に至った。即ち、本
発明は、(1)二つの基材が嫌気性接着剤の層により接
着されている接着体において、少なくとも一方の基材の
接着剤面側が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆
されており、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有し、
嫌気性硬化促進剤を実質的に含有していない嫌気性接着
剤の硬化物からなる接着体、(2)嫌気性硬化促進剤が
メタロセンである(1)記載の接着体、(3)嫌気性硬
化促進剤を含有する薄膜層が紫外線硬化型樹脂組成物の
硬化薄膜層である(1)または(2)記載の接着体、
(4)有機過酸化物がジアシルパーオキサイドである
(1)ないし(3)のいずれか一項記載の接着体、
(5)ジアシルパーオキサイドがベンゾイルパーオキサ
イドである(4)記載の接着体、(6)基材が高密度記
録光ディスク用基板であり、薄膜層が該基板の記録層の
上に存在する(1)ないし(5)のいずれか一項記載の
接着体、(7)メタロセンを含有する紫外線硬化型樹脂
からなる薄膜層用コート剤、(8)ジアシルパーオキサ
イドを含有、嫌気性硬化促進剤を実質的に含有していな
い嫌気性接着剤、(9)二枚の高密度記録光ディスク用
基板の記録層の上に(7)の薄膜層用コート剤を塗布し
た後紫外線照射により硬化させて薄膜層を設け、次いで
得られた二枚の基板の薄膜層面同士を(8)の嫌気性接
着剤により接着することを特徴とする高密度記録光ディ
スクの製造方法、に関する。
題を解決すべく鋭意検討した結果、嫌気性接着剤と硬化
促進剤を1液の状態としなくても、硬化促進剤を含有す
る硬化膜層に嫌気性接着剤を接触させるだけで嫌気性接
着剤が硬化するとの知見を得、発明に至った。即ち、本
発明は、(1)二つの基材が嫌気性接着剤の層により接
着されている接着体において、少なくとも一方の基材の
接着剤面側が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆
されており、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有し、
嫌気性硬化促進剤を実質的に含有していない嫌気性接着
剤の硬化物からなる接着体、(2)嫌気性硬化促進剤が
メタロセンである(1)記載の接着体、(3)嫌気性硬
化促進剤を含有する薄膜層が紫外線硬化型樹脂組成物の
硬化薄膜層である(1)または(2)記載の接着体、
(4)有機過酸化物がジアシルパーオキサイドである
(1)ないし(3)のいずれか一項記載の接着体、
(5)ジアシルパーオキサイドがベンゾイルパーオキサ
イドである(4)記載の接着体、(6)基材が高密度記
録光ディスク用基板であり、薄膜層が該基板の記録層の
上に存在する(1)ないし(5)のいずれか一項記載の
接着体、(7)メタロセンを含有する紫外線硬化型樹脂
からなる薄膜層用コート剤、(8)ジアシルパーオキサ
イドを含有、嫌気性硬化促進剤を実質的に含有していな
い嫌気性接着剤、(9)二枚の高密度記録光ディスク用
基板の記録層の上に(7)の薄膜層用コート剤を塗布し
た後紫外線照射により硬化させて薄膜層を設け、次いで
得られた二枚の基板の薄膜層面同士を(8)の嫌気性接
着剤により接着することを特徴とする高密度記録光ディ
スクの製造方法、に関する。
【0006】以下に本発明について詳細に説明する。本
発明の接着体は二つの基材が嫌気性接着剤の層により接
着されており、その少なくとも一方の基材の接着剤面側
が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆されてお
り、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有しかつ嫌気性
硬化促進剤を実質的に含有していない嫌気性接着剤の硬
化物からなる。
発明の接着体は二つの基材が嫌気性接着剤の層により接
着されており、その少なくとも一方の基材の接着剤面側
が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆されてお
り、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有しかつ嫌気性
硬化促進剤を実質的に含有していない嫌気性接着剤の硬
化物からなる。
【0007】本発明で使用する基材は特に制限はない
が、例えばDVD(デジタル バーサタイル又はビデオ
ディスク)、特にDVD−RAMや高密度光磁気ディ
スク用等の高密度記録光ディスク用基板等の加熱や紫外
線照射し難い基材が好ましい。基材の材質としては特に
制限はなく、例えばポリビニル系樹脂、ポリカーボーネ
ート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、アモルファスポリオ
レフィン系樹脂等のプラスチックがあげられる。高密度
記録光ディスク用基板はこれらのプラスチック製の薄板
に、アルミニウム、金、銀、チッ化シリコン等の無機物
の蒸着膜を形成したものである。薄板の厚さは例えば
0.6mm程度が好ましい。この無機物の蒸着膜はレー
ザー光線等の光線の反射層として設けられる。
が、例えばDVD(デジタル バーサタイル又はビデオ
ディスク)、特にDVD−RAMや高密度光磁気ディ
スク用等の高密度記録光ディスク用基板等の加熱や紫外
線照射し難い基材が好ましい。基材の材質としては特に
制限はなく、例えばポリビニル系樹脂、ポリカーボーネ
ート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、アモルファスポリオ
レフィン系樹脂等のプラスチックがあげられる。高密度
記録光ディスク用基板はこれらのプラスチック製の薄板
に、アルミニウム、金、銀、チッ化シリコン等の無機物
の蒸着膜を形成したものである。薄板の厚さは例えば
0.6mm程度が好ましい。この無機物の蒸着膜はレー
ザー光線等の光線の反射層として設けられる。
【0008】本発明で使用する基材に設けられる薄膜層
は嫌気性硬化促進剤を含有する。嫌気性硬化促進剤は、
嫌気性接着剤中のパーオキサイドを分解して酸素ラジカ
ルを生じさせるものであれば特に制限はないが、メタロ
センが好ましい。メタロセンとしては、例えばチタノセ
ン、バナドセン、クロモセン、マンガセン、フェロセ
ン、コバルトセン、ニッケロセン、ジルコノセン、ルテ
ノセン、オスモセン等を挙げることができ、これらのメ
タロセンは、1種でも、2種以上でも、任意の割合で混
合使用してもかまわない。この薄膜層は、高密度記録光
ディスク用基板の反射層の上に設けると、該反射層の保
護コート層として作用する。
は嫌気性硬化促進剤を含有する。嫌気性硬化促進剤は、
嫌気性接着剤中のパーオキサイドを分解して酸素ラジカ
ルを生じさせるものであれば特に制限はないが、メタロ
センが好ましい。メタロセンとしては、例えばチタノセ
ン、バナドセン、クロモセン、マンガセン、フェロセ
ン、コバルトセン、ニッケロセン、ジルコノセン、ルテ
ノセン、オスモセン等を挙げることができ、これらのメ
タロセンは、1種でも、2種以上でも、任意の割合で混
合使用してもかまわない。この薄膜層は、高密度記録光
ディスク用基板の反射層の上に設けると、該反射層の保
護コート層として作用する。
【0009】嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層は紫外
線硬化型樹脂組成物の硬化薄膜層であることが好まし
い。紫外線硬化型樹脂組成物は、主として分子中に1個
以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを好ま
しくは30〜95重量部、より好ましくは40〜70重
量部、光重合開始剤を0.5〜20重量部、そして嫌気
性硬化促進剤を好ましく0.1〜20重量部、より好ま
しくは1〜10重量部含有し、必要に応じ反応性オリゴ
マーを好ましくは0〜50重量部、より好ましくは0〜
20重量部、さらに高分子ポリマー、添加剤を含有して
いても良い。又、光重合開始助剤を対して0〜20重量
部程度含有していても良い。この組成物は、上記の各成
分を室温〜60℃で混合溶解することにより得られる。
この組成物の粘度は、例えば20〜300cps/25
℃程度が好ましく、
線硬化型樹脂組成物の硬化薄膜層であることが好まし
い。紫外線硬化型樹脂組成物は、主として分子中に1個
以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを好ま
しくは30〜95重量部、より好ましくは40〜70重
量部、光重合開始剤を0.5〜20重量部、そして嫌気
性硬化促進剤を好ましく0.1〜20重量部、より好ま
しくは1〜10重量部含有し、必要に応じ反応性オリゴ
マーを好ましくは0〜50重量部、より好ましくは0〜
20重量部、さらに高分子ポリマー、添加剤を含有して
いても良い。又、光重合開始助剤を対して0〜20重量
部程度含有していても良い。この組成物は、上記の各成
分を室温〜60℃で混合溶解することにより得られる。
この組成物の粘度は、例えば20〜300cps/25
℃程度が好ましく、
【0010】分子中に1個以上の(メタ)アクリロイル
基を有するモノマーは、例えば分子中に1個の(メタ)
アクリロイル基を有する単官能モノマーと分子中に2個
以上の(メタ)アクリレート基を有する多官能モノマー
に分類される。分子中に1個の(メタ)アクリロイル基
を有する単官能モノマーとしては、例えばトリシクロデ
カン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエンオキ
シエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレ
ート、アダマンチル(メタ)アクリレート、フェニルオ
キシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)ア
クリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ート、モノホリンアクリレート、フェニルグリシジル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。
基を有するモノマーは、例えば分子中に1個の(メタ)
アクリロイル基を有する単官能モノマーと分子中に2個
以上の(メタ)アクリレート基を有する多官能モノマー
に分類される。分子中に1個の(メタ)アクリロイル基
を有する単官能モノマーとしては、例えばトリシクロデ
カン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエンオキ
シエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレ
ート、アダマンチル(メタ)アクリレート、フェニルオ
キシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)ア
クリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ート、モノホリンアクリレート、フェニルグリシジル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。
【0011】また、分子中に2個以上の(メタ)アクリ
レート基を有する多官能モノマーとしては、例えばネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシク
ロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニ
ルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル
変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシ
エチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス
[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
レート基を有する多官能モノマーとしては、例えばネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシク
ロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニ
ルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル
変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシ
エチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス
[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
【0012】これら、モノマーは1種、2種以上でも任
意の割合で混合使用してもかまわない。尚、金属膜との
密着性及び耐腐食性を考慮すると、水酸基や脂環式構造
を有する基、ヘテロ環構造を有する基を有するアクリレ
ート系モノマーが好ましい。
意の割合で混合使用してもかまわない。尚、金属膜との
密着性及び耐腐食性を考慮すると、水酸基や脂環式構造
を有する基、ヘテロ環構造を有する基を有するアクリレ
ート系モノマーが好ましい。
【0013】光重合開始剤としては、公知のどのような
光重合開始剤であってもよく、例えば2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオフェノン、4−イソプロピル−2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、ベンジルジ
メチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、ベンゾフェノン、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン
ー1、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホス
フィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィノキサ
イド等を挙げることができる。
光重合開始剤であってもよく、例えば2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオフェノン、4−イソプロピル−2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、ベンジルジ
メチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、ベンゾフェノン、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン
ー1、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホス
フィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィノキサ
イド等を挙げることができる。
【0014】上記紫外線硬化型樹脂組成物は反応性オリ
ゴマーを含有していても良い。反応性オリゴマーとして
は、例えばは分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル
基を有するオリゴマー等の高分子不飽和基含有樹脂があ
げられる。分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基
を有するオリゴマーとしては、例えばエポキシ(メタ)
アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウ
レタン(メタ)アクリレート等があげられる。エポキシ
(メタ)アクリレートはビスフェノール型エポキシ樹脂
やノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸との反応によって得られるものである。
ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば油化シ
ェルエポキシ社製のエピコート828、エピコート10
01、エピコート1004等のビスフェノールA型エポ
キシ樹脂、及びエピコート4001P、エピコート40
02P、エピコート4003P等のビスフェノールF型
エポキシ樹脂があげられ、ノボラック型エポキシ樹脂と
しては、例えば油化シェルエポキシ社製のエピコート1
52、エピコート154等があげられる。
ゴマーを含有していても良い。反応性オリゴマーとして
は、例えばは分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル
基を有するオリゴマー等の高分子不飽和基含有樹脂があ
げられる。分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基
を有するオリゴマーとしては、例えばエポキシ(メタ)
アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウ
レタン(メタ)アクリレート等があげられる。エポキシ
(メタ)アクリレートはビスフェノール型エポキシ樹脂
やノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸との反応によって得られるものである。
ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば油化シ
ェルエポキシ社製のエピコート828、エピコート10
01、エピコート1004等のビスフェノールA型エポ
キシ樹脂、及びエピコート4001P、エピコート40
02P、エピコート4003P等のビスフェノールF型
エポキシ樹脂があげられ、ノボラック型エポキシ樹脂と
しては、例えば油化シェルエポキシ社製のエピコート1
52、エピコート154等があげられる。
【0015】ポリエステル(メタ)アクリレートは多価
アルコールと多塩基酸との反応によって得られるポリエ
ステルポリオールと(メタ)アクリル酸との反応によっ
て得られるものである。多価アルコールとしては、例え
ばネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロ
デカンジメチロール、ビス−[ヒドロキシメチル]−シ
クロヘキサン等があげられ、多塩基酸としては、例え
ば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸等があげられる。
アルコールと多塩基酸との反応によって得られるポリエ
ステルポリオールと(メタ)アクリル酸との反応によっ
て得られるものである。多価アルコールとしては、例え
ばネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロ
デカンジメチロール、ビス−[ヒドロキシメチル]−シ
クロヘキサン等があげられ、多塩基酸としては、例え
ば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸等があげられる。
【0016】ウレタン(メタ)アクリレートはポリオー
ルと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アク
リレート化合物との反応によって得られるものである。
ポリオールとしては、例えばポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポ
リオール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε−カ
プロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトン
ポリオール、及びポリカーボネートポリオール(例え
ば、1,6−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネー
トとの反応によって得られるポリカーボネートポリオー
ル等)等があげられ、有機ポリイソシアネートとして
は、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−
ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネー
ト等が挙げられる。
ルと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アク
リレート化合物との反応によって得られるものである。
ポリオールとしては、例えばポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポ
リオール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε−カ
プロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトン
ポリオール、及びポリカーボネートポリオール(例え
ば、1,6−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネー
トとの反応によって得られるポリカーボネートポリオー
ル等)等があげられ、有機ポリイソシアネートとして
は、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−
ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネー
ト等が挙げられる。
【0017】これら、オリゴマーは1種、2種以上でも
任意の割合で混合使用してもかまわない。
任意の割合で混合使用してもかまわない。
【0018】上記紫外線硬化型樹脂組成物はアミン類等
の光重合開始助剤を含有していても良い。アミン類とし
ては、例えば2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安
息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミルエステル等の三級アミンを挙げることができ
る。
の光重合開始助剤を含有していても良い。アミン類とし
ては、例えば2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安
息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イ
ソアミルエステル等の三級アミンを挙げることができ
る。
【0019】上記紫外線硬化型樹脂組成物は、さらに高
分子ポリマーとして例えばポリエステル系、ポリカーボ
ネート系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリビニ
ル系樹脂等を使用することもできる。シランカップリン
グ剤、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、光安定剤、
酸化防止剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、充填剤等の添加
剤を含有していても良い。
分子ポリマーとして例えばポリエステル系、ポリカーボ
ネート系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリビニ
ル系樹脂等を使用することもできる。シランカップリン
グ剤、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、光安定剤、
酸化防止剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、充填剤等の添加
剤を含有していても良い。
【0020】本発明において、嫌気性硬化促進剤を含有
する薄膜層を形成するには、例えばロールコーター法、
スピンコーター法、2P法、スクリーン印刷法等の塗工
方法により上記の紫外線硬化型樹脂組成物を基材の接着
剤面側に、乾燥膜厚が好ましくは0.5〜50μm、よ
り好ましくは1〜30μmとなるように塗布し、次いで
紫外線を照射して該組成物の薄膜を硬化させればよい。
紫外線源としては、例えば低圧、高圧または超高圧水銀
灯、キセノン灯、メタルハライドランプ等があげられ
る。
する薄膜層を形成するには、例えばロールコーター法、
スピンコーター法、2P法、スクリーン印刷法等の塗工
方法により上記の紫外線硬化型樹脂組成物を基材の接着
剤面側に、乾燥膜厚が好ましくは0.5〜50μm、よ
り好ましくは1〜30μmとなるように塗布し、次いで
紫外線を照射して該組成物の薄膜を硬化させればよい。
紫外線源としては、例えば低圧、高圧または超高圧水銀
灯、キセノン灯、メタルハライドランプ等があげられ
る。
【0021】本発明で使用する嫌気性接着剤は重合開始
剤として有機過酸化物を含有し、嫌気性硬化促進剤を含
有していないものである。有機過酸化物としては、例え
ばベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパ
ーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ビス−3,
5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイドが好ましい。これらの重合開始剤
は、1種でも、2種以上でも、任意の割合で混合使用す
ることもできる。本発明の嫌気性接着剤には、重合開始
助剤を併用して用いてもよく、例えば上記のような3級
アミン等を挙げることができる。
剤として有機過酸化物を含有し、嫌気性硬化促進剤を含
有していないものである。有機過酸化物としては、例え
ばベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパ
ーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ビス−3,
5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイドが好ましい。これらの重合開始剤
は、1種でも、2種以上でも、任意の割合で混合使用す
ることもできる。本発明の嫌気性接着剤には、重合開始
助剤を併用して用いてもよく、例えば上記のような3級
アミン等を挙げることができる。
【0022】本発明の嫌気性接着剤は、主として分子中
に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマー
を好ましくは5〜90重量部、さらに好ましくは20〜
80重量部、反応性オリゴマーを好ましくは5〜70重
量部、さらに好ましくは20〜50重量部、有機過酸化
物を好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは1
〜10重量部含有し、さらに高分子ポリマー、添加剤も
含有させることができる。その粘度は、塗工法により異
なるが、例えばスピンコーター法では400〜600c
ps/25℃、ロールコーター法では2000〜300
0cps/25℃、スクリーン印刷法では1万〜3万c
ps/25℃程度が好ましい。
に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマー
を好ましくは5〜90重量部、さらに好ましくは20〜
80重量部、反応性オリゴマーを好ましくは5〜70重
量部、さらに好ましくは20〜50重量部、有機過酸化
物を好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは1
〜10重量部含有し、さらに高分子ポリマー、添加剤も
含有させることができる。その粘度は、塗工法により異
なるが、例えばスピンコーター法では400〜600c
ps/25℃、ロールコーター法では2000〜300
0cps/25℃、スクリーン印刷法では1万〜3万c
ps/25℃程度が好ましい。
【0023】本発明の嫌気性接着剤に使用する分子中に
1個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマー
は、例えば分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有
する単官能モノマーと分子中に2個以上の(メタ)アク
リレート基を有する多官能モノマーに分類される。分子
中に1個の(メタ)アクリロイル基を有する単官能モノ
マーとしては、例えばトリシクロデカン(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンタジエンオキシエチル(メタ)ア
クリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレー
ト、イソボロニル(メタ)アクリレート、アダマンチル
(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)
アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モノホリンア
クリレート、フェニルグリシジル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
1個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマー
は、例えば分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有
する単官能モノマーと分子中に2個以上の(メタ)アク
リレート基を有する多官能モノマーに分類される。分子
中に1個の(メタ)アクリロイル基を有する単官能モノ
マーとしては、例えばトリシクロデカン(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンタジエンオキシエチル(メタ)ア
クリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレー
ト、イソボロニル(メタ)アクリレート、アダマンチル
(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)
アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モノホリンア
クリレート、フェニルグリシジル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
【0024】また、分子中に2個以上の(メタ)アクリ
レート基を有する多官能モノマーとしては、例えばネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシク
ロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニ
ルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル
変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシ
エチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス
[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
レート基を有する多官能モノマーとしては、例えばネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシク
ロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニ
ルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル
変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシ
エチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス
[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等
が挙げられる。
【0025】これら、モノマーは1種、2種以上でも任
意の割合で混合使用してもかまわない。
意の割合で混合使用してもかまわない。
【0026】本発明において嫌気性接着剤に使用する反
応性オリゴマーとしては、例えば分子中に2個以上の
(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー等の高分子
不飽和基含有樹脂があげられる。分子中に2個以上の
(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマーとしては、
例えばエポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル
(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート
等があげられる。エポキシ(メタ)アクリレートはビス
フェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂
等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応によっ
て得られるものである。ビスフェノール型エポキシ樹脂
としては、例えば油化シェルエポキシ社製のエピコート
828、エピコート1001、エピコート1004等の
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、及びエピコート40
01P、エピコート4002P、エピコート4003P
等のビスフェノールF型エポキシ樹脂があげられ、ノボ
ラック型エポキシ樹脂としては、例えば油化シェルエポ
キシ社製のエピコート152、エピコート154等があ
げられる。
応性オリゴマーとしては、例えば分子中に2個以上の
(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー等の高分子
不飽和基含有樹脂があげられる。分子中に2個以上の
(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマーとしては、
例えばエポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル
(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート
等があげられる。エポキシ(メタ)アクリレートはビス
フェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂
等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応によっ
て得られるものである。ビスフェノール型エポキシ樹脂
としては、例えば油化シェルエポキシ社製のエピコート
828、エピコート1001、エピコート1004等の
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、及びエピコート40
01P、エピコート4002P、エピコート4003P
等のビスフェノールF型エポキシ樹脂があげられ、ノボ
ラック型エポキシ樹脂としては、例えば油化シェルエポ
キシ社製のエピコート152、エピコート154等があ
げられる。
【0027】ポリエステル(メタ)アクリレートは多価
アルコールと多塩基酸との反応によって得られるポリエ
ステルポリオールと(メタ)アクリル酸との反応によっ
て得られるものである。多価アルコールとしては、例え
ばネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロ
デカンジメチロール、ビス−[ヒドロキシメチル]−シ
クロヘキサン等があげられ、多塩基酸としては、例え
ば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸等があげられる。
アルコールと多塩基酸との反応によって得られるポリエ
ステルポリオールと(メタ)アクリル酸との反応によっ
て得られるものである。多価アルコールとしては、例え
ばネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロ
デカンジメチロール、ビス−[ヒドロキシメチル]−シ
クロヘキサン等があげられ、多塩基酸としては、例え
ば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸等があげられる。
【0028】ウレタン(メタ)アクリレートはポリオー
ルと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アク
リレート化合物との反応によって得られるものである。
ポリオールとしては、例えばポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポ
リオール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε−カ
プロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトン
ポリオール、及びポリカーボネートポリオール(例え
ば、1,6−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネー
トとの反応によって得られるポリカーボネートポリオー
ル等)等があげられ、有機ポリイソシアネートとして
は、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−
ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネー
ト等が挙げられる。
ルと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アク
リレート化合物との反応によって得られるものである。
ポリオールとしては、例えばポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポ
リオール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε−カ
プロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトン
ポリオール、及びポリカーボネートポリオール(例え
ば、1,6−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネー
トとの反応によって得られるポリカーボネートポリオー
ル等)等があげられ、有機ポリイソシアネートとして
は、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−
ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネー
ト等が挙げられる。
【0029】これら、オリゴマーは1種、2種以上でも
任意の割合で混合使用してもかまわない。嫌気性接着剤
中の使用量としては、が好ましい。
任意の割合で混合使用してもかまわない。嫌気性接着剤
中の使用量としては、が好ましい。
【0030】本発明の嫌気性接着剤には、さらに高分子
ポリマーとして例えばポリエステル系、ポリカーボネー
ト系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリビニル系
樹脂等を使用することもできる。有機溶剤、シランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、光安
定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、充填剤等
の添加剤も併用することができる。
ポリマーとして例えばポリエステル系、ポリカーボネー
ト系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリビニル系
樹脂等を使用することもできる。有機溶剤、シランカッ
プリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、光安
定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、充填剤等
の添加剤も併用することができる。
【0031】本発明で使用する嫌気性接着剤は、重合開
始剤を除く各成分を常温〜80℃で混合溶解し、次いで
重合開始剤を冷却又は室温で混合溶解して得ることがで
きる。
始剤を除く各成分を常温〜80℃で混合溶解し、次いで
重合開始剤を冷却又は室温で混合溶解して得ることがで
きる。
【0032】本発明の嫌気性接着剤の塗工方法として
は、ロールコーター、スピンコーター、2P法、スクリ
ーン印刷法等が挙げられる。接着方法としては、乾燥塗
布膜厚が1〜60μm、好ましくは5〜50μmとなる
ように一枚の高密度記録光ディスク基板上に嫌気性接着
剤を全面又は一部に塗布し、貼り合わせる、これにより
空気あるいは酸素は遮断され、接着される。
は、ロールコーター、スピンコーター、2P法、スクリ
ーン印刷法等が挙げられる。接着方法としては、乾燥塗
布膜厚が1〜60μm、好ましくは5〜50μmとなる
ように一枚の高密度記録光ディスク基板上に嫌気性接着
剤を全面又は一部に塗布し、貼り合わせる、これにより
空気あるいは酸素は遮断され、接着される。
【0033】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、実施例中の部は、重量部である。
明する。なお、実施例中の部は、重量部である。
【0034】第一表に示した組成からなる嫌気性接着剤
と第二表に示した組成からなる保護コート剤を常法によ
り調整した。
と第二表に示した組成からなる保護コート剤を常法によ
り調整した。
【0035】
【表1】 表1 (A) (B) (C) ウレタンA 60 60 60 ACMO 60 60 60 THFMA 40 40 40 R−561 20 20 20 EPA−1 10 10 10 EPA−2 15 15 15 R−128H 15 15 15 カト゛ックス B CH50 11 22
【0036】なお、表中に示した各組成の略号は下記の
通りである。 ウレタンA:ポリエステル系ウレタンアクリレート ACMO:モルホリンアクリレート、興人(株)製 THF:テトラヒドロフルフリルメタクリレート、三菱
レーヨン(株)製 R−561:フェニルオキシエチルアクリレート、日本
化薬(株)製 EPA−1:ビスフェノール型エポキシアクリレート、
日本化薬(株)製 EPA−2:ビスフェノールF型エポキシアクリレー
ト、日本化薬(株)製 R−128H:フェノキシヒドロキシプロピルアクリレ
ート、日本化薬(株)製 カドックスB CH50:ベンゾイルパーオキサイド、化薬ア
クゾ(株)製
通りである。 ウレタンA:ポリエステル系ウレタンアクリレート ACMO:モルホリンアクリレート、興人(株)製 THF:テトラヒドロフルフリルメタクリレート、三菱
レーヨン(株)製 R−561:フェニルオキシエチルアクリレート、日本
化薬(株)製 EPA−1:ビスフェノール型エポキシアクリレート、
日本化薬(株)製 EPA−2:ビスフェノールF型エポキシアクリレー
ト、日本化薬(株)製 R−128H:フェノキシヒドロキシプロピルアクリレ
ート、日本化薬(株)製 カドックスB CH50:ベンゾイルパーオキサイド、化薬ア
クゾ(株)製
【0037】
【表2】 表2 (1) (2) (3) PET−30 60 TC−101 30 50 50 HDDA 20 R−115 150 150 NPGDA 100 100 FA−513A 175 175 Irg−907 5 Irg−184 5 A−1100 25 25 BP−100 25 25 PAA 15 15 フェロセン 6 27
【0038】なお、表中に示した各組成の略号は下記の
通りである。 PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、日本化薬(株)製 THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート、大阪
有機工業(株)製 HDDA:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、
日本化薬(株)製 NPGDA:ネオペンチルグリコールジアクリレート、
日本化薬(株)製 FA−513A:ジシクロペンタニルアクリレート、日
立化成(株)製 Irg−907:2−メチル−1−〔4−(メチルチ
オ)フェニル〕−2−モノフォリノプロパン−1、チバ
・ガイギー(株)製 光重合開始剤 Irg−184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、チバ・ガイギー(株)製 光重合開始剤 A−1100:シランカップリング剤、日本ユニカ
(株)製 BP−100:ベンゾフェノン、日本化薬(株)製 光
重合開始剤 PAA:パラ−N,N−ジメチルアミノアセトフェノン
光重合開始助剤
通りである。 PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、日本化薬(株)製 THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート、大阪
有機工業(株)製 HDDA:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、
日本化薬(株)製 NPGDA:ネオペンチルグリコールジアクリレート、
日本化薬(株)製 FA−513A:ジシクロペンタニルアクリレート、日
立化成(株)製 Irg−907:2−メチル−1−〔4−(メチルチ
オ)フェニル〕−2−モノフォリノプロパン−1、チバ
・ガイギー(株)製 光重合開始剤 Irg−184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、チバ・ガイギー(株)製 光重合開始剤 A−1100:シランカップリング剤、日本ユニカ
(株)製 BP−100:ベンゾフェノン、日本化薬(株)製 光
重合開始剤 PAA:パラ−N,N−ジメチルアミノアセトフェノン
光重合開始助剤
【0039】得られた表1、表2の各組成物を用いて以
下の1〜3の方法で接着した。 1.2枚の高記録密度用光ディスク基板面上に表2の各
組成物を塗布した。 2.高圧水銀灯(80W/cm)を用いて硬化させた。 3.硬化させた1方の高記録密度用光ディスク基板面上
に表1の各組成物を塗布した。 4.接着剤中から空気を押し出すようにしてもう1枚の
高記録密度用光ディスク基板を貼り合わせた。
下の1〜3の方法で接着した。 1.2枚の高記録密度用光ディスク基板面上に表2の各
組成物を塗布した。 2.高圧水銀灯(80W/cm)を用いて硬化させた。 3.硬化させた1方の高記録密度用光ディスク基板面上
に表1の各組成物を塗布した。 4.接着剤中から空気を押し出すようにしてもう1枚の
高記録密度用光ディスク基板を貼り合わせた。
【0040】貼り合わせて10分後、光ディスク基板を
剥離させて表面の状態を観察した。観察した結果を硬化
性とし、以下のように標記し表3に示した。 ○・・・硬化した。 ×・・・硬化していない。 尚、表3中(1)−(A)、(1)−(B)、(2)−
(A)、(2)−(B)は実施例であり、(1)−
(C)、(2)−(C)、(3)−(A)、(3)−
(B)、(3)−(C)は比較例である。
剥離させて表面の状態を観察した。観察した結果を硬化
性とし、以下のように標記し表3に示した。 ○・・・硬化した。 ×・・・硬化していない。 尚、表3中(1)−(A)、(1)−(B)、(2)−
(A)、(2)−(B)は実施例であり、(1)−
(C)、(2)−(C)、(3)−(A)、(3)−
(B)、(3)−(C)は比較例である。
【0041】
【表3】 表3 (1) (2) (3) (A) ○ ○ × (B) ○ ○ × (C) × × ×
【0042】
【発明の効果】本発明によると、空気及び酸素を遮断す
ること、即ちただ貼り合わせることのみにより基材どう
し、特に金属蒸着された反射膜を有する高密度記録用光
ディスク基板どうしを接着することができ、基板の特性
及び生産性の向上という観点から極めて有用である。
ること、即ちただ貼り合わせることのみにより基材どう
し、特に金属蒸着された反射膜を有する高密度記録用光
ディスク基板どうしを接着することができ、基板の特性
及び生産性の向上という観点から極めて有用である。
Claims (9)
- 【請求項1】二つの基材が嫌気性接着剤の層により接着
されている接着体において、少なくとも一方の基材の接
着剤面側が嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層で被覆さ
れており、嫌気性接着剤層が有機過酸化物を含有し、嫌
気性硬化促進剤を含有していない嫌気性接着剤の硬化物
からなる接着体 - 【請求項2】嫌気性硬化促進剤がメタロセンである請求
項1記載の接着体。 - 【請求項3】嫌気性硬化促進剤を含有する薄膜層が紫外
線硬化型樹脂組成物の硬化薄膜層である請求項1または
2記載の接着体。 - 【請求項4】有機過酸化物がジアシルパーオキサイドで
ある請求項1ないし3のいずれか一項記載の接着体。 - 【請求項5】ジアシルパーオキサイドがベンゾイルパー
オキサイドである請求項4記載の接着体。 - 【請求項6】基材が高密度記録光ディスク用基板であ
り、薄膜層が該基板の記録層の上に存在する請求項1な
いし5のいずれか一項記載の接着体。 - 【請求項7】メタロセンを含有する紫外線硬化型樹脂か
らなる薄膜層用コート剤。 - 【請求項8】ジアシルパーオキサイドを含有、嫌気性硬
化促進剤を含有していない嫌気性接着剤。 - 【請求項9】二枚の高密度記録光ディスク用基板の記録
層の上に請求項7の薄膜層用コート剤を塗布した後紫外
線照射により硬化させて薄膜層を設け、次いで得られた
二枚の基板の薄膜層面同士を請求項8の嫌気性接着剤に
より接着することを特徴とする高密度記録光ディスクの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34656396A JPH10168398A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | 接着体、及び高密度記録光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34656396A JPH10168398A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | 接着体、及び高密度記録光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10168398A true JPH10168398A (ja) | 1998-06-23 |
Family
ID=18384276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34656396A Pending JPH10168398A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | 接着体、及び高密度記録光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10168398A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006334648A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Kuroda Precision Ind Ltd | 金属薄板積層体の製造方法 |
| WO2023210718A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 東亞合成株式会社 | プライマー組成物 |
| US12325811B2 (en) | 2017-12-18 | 2025-06-10 | Threebond Co., Ltd. | Radical-polymerizable adhesive composition for laminating and bonding steel plates, adhesive laminate, motor, and method for manufacturing adhesive laminate |
-
1996
- 1996-12-11 JP JP34656396A patent/JPH10168398A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006334648A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Kuroda Precision Ind Ltd | 金属薄板積層体の製造方法 |
| US12325811B2 (en) | 2017-12-18 | 2025-06-10 | Threebond Co., Ltd. | Radical-polymerizable adhesive composition for laminating and bonding steel plates, adhesive laminate, motor, and method for manufacturing adhesive laminate |
| WO2023210718A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 東亞合成株式会社 | プライマー組成物 |
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