JPH10170695A - 放射性廃液の処理方法および処理設備 - Google Patents
放射性廃液の処理方法および処理設備Info
- Publication number
- JPH10170695A JPH10170695A JP33186496A JP33186496A JPH10170695A JP H10170695 A JPH10170695 A JP H10170695A JP 33186496 A JP33186496 A JP 33186496A JP 33186496 A JP33186496 A JP 33186496A JP H10170695 A JPH10170695 A JP H10170695A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- ozone
- radioactive waste
- tank
- radioactive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 原子力発電所から発生する洗濯廃液に含まれ
る有機物成分を二次廃棄物発生と放射性物質飛散を低減
する方法で迅速に分解処理する。 【解決手段】 廃液処理装置は、紫外線照射槽1、オゾ
ン注入槽2、廃液循環ポンプ3a,3b、廃液供給用切
換弁4、オゾン発生機5、オゾンガス供給管6、処理液
排出用切換弁7、固形物分離装置8、処理液ろ過装置
9、廃液前処理フィルタ10、廃液冷却器11、溶存オ
ゾン濃度測定器13、および有機物濃度測定器14を有
する。廃液は前処理フィルター10を通過した後、廃液
循環ポンプ3により紫外線照射槽1とオゾン注入槽2を
循環する。その際、廃液は廃液冷却器11において冷却
される。
る有機物成分を二次廃棄物発生と放射性物質飛散を低減
する方法で迅速に分解処理する。 【解決手段】 廃液処理装置は、紫外線照射槽1、オゾ
ン注入槽2、廃液循環ポンプ3a,3b、廃液供給用切
換弁4、オゾン発生機5、オゾンガス供給管6、処理液
排出用切換弁7、固形物分離装置8、処理液ろ過装置
9、廃液前処理フィルタ10、廃液冷却器11、溶存オ
ゾン濃度測定器13、および有機物濃度測定器14を有
する。廃液は前処理フィルター10を通過した後、廃液
循環ポンプ3により紫外線照射槽1とオゾン注入槽2を
循環する。その際、廃液は廃液冷却器11において冷却
される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、原子力発電所にお
いて大量に発生するシャワー廃液、手洗い廃液、ランド
リー廃液等の界面活性剤を含む廃液(この廃液には放射
性微粒固形物も含まれるので以下「放射性廃液」と呼
ぶ)の処理方法および装置に関する。
いて大量に発生するシャワー廃液、手洗い廃液、ランド
リー廃液等の界面活性剤を含む廃液(この廃液には放射
性微粒固形物も含まれるので以下「放射性廃液」と呼
ぶ)の処理方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】原子力発電所において大量に発生する放
射性廃液を処理する場合、放射性廃棄物の減容の観点か
ら、廃液中に含まれる界面活性剤等の有機物成分を除去
し、該有機物成分だけを廃棄するのが合理的である。
射性廃液を処理する場合、放射性廃棄物の減容の観点か
ら、廃液中に含まれる界面活性剤等の有機物成分を除去
し、該有機物成分だけを廃棄するのが合理的である。
【0003】放射性廃液の処理方法の一つとして、活性
炭を廃液中に添加し界面活性剤を物理吸着させ、その
後、活性炭と液を分離することで、廃液から界面活性剤
を除去する方法が論じられている。この場合、吸着活性
炭と液の分離については、最近ではろ過による分離方法
がとられている。
炭を廃液中に添加し界面活性剤を物理吸着させ、その
後、活性炭と液を分離することで、廃液から界面活性剤
を除去する方法が論じられている。この場合、吸着活性
炭と液の分離については、最近ではろ過による分離方法
がとられている。
【0004】一方、使用済みの活性炭等の二次廃棄物を
発生させない処理方法として、高出力の紫外線源とオゾ
ン等の酸化剤を用いて廃液中の有機物成分を酸化・分解
処理する方法が特開昭52−22З66に論じられてい
る。
発生させない処理方法として、高出力の紫外線源とオゾ
ン等の酸化剤を用いて廃液中の有機物成分を酸化・分解
処理する方法が特開昭52−22З66に論じられてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術のうち、
活性炭ろ過方式では、活性炭が二次廃棄物となるため、
その処理処分が必要となり、コスト増、あるいは廃棄に
よる環境への負荷が問題となる。
活性炭ろ過方式では、活性炭が二次廃棄物となるため、
その処理処分が必要となり、コスト増、あるいは廃棄に
よる環境への負荷が問題となる。
【0006】また、上記した従来の紫外線とオゾンを用
いる方式では、廃液の発生速度に対し処理速度が小さい
という問題がある。原子力発電所からの放射性廃液は、
有機物濃度がCODで200ppm程度と高濃度となる
うえに大量に発生するため、紫外線源を高出力化する必
要がある。その場合、紫外線源からの大量の発熱により
廃液温度が上昇しオゾンの溶存濃度が低下するため、処
理速度の向上が難しいという問題が生ずる。さらに、界
面活性剤を含む廃液の処理では温度上昇に伴い気泡によ
る放射性物質の外部への飛散、作業従事者の被曝といっ
た問題を生ずる可能性がある。
いる方式では、廃液の発生速度に対し処理速度が小さい
という問題がある。原子力発電所からの放射性廃液は、
有機物濃度がCODで200ppm程度と高濃度となる
うえに大量に発生するため、紫外線源を高出力化する必
要がある。その場合、紫外線源からの大量の発熱により
廃液温度が上昇しオゾンの溶存濃度が低下するため、処
理速度の向上が難しいという問題が生ずる。さらに、界
面活性剤を含む廃液の処理では温度上昇に伴い気泡によ
る放射性物質の外部への飛散、作業従事者の被曝といっ
た問題を生ずる可能性がある。
【0007】紫外線とオゾンを用いた有機物含有廃液の
処理法における物理機構は、水銀ランプ等から発する波
長253.7nmの紫外線とオゾンの反応によるOH*
ラジカルの生成(O3 +H2 O→O2 +2OH* )、O
H* ラジカルによる有機物の酸化(Cn H2n+2nOH
* →nCO2 +2nH2 )という2つのプロセスから成
り立っているが、大量の高濃度有機物廃液を限られた規
模のシステムで迅速に処理するためには、水銀ランプ等
の高出力化と溶存オゾン濃度の増大によりOH* ラジカ
ル生成量を増やすことが重要である。
処理法における物理機構は、水銀ランプ等から発する波
長253.7nmの紫外線とオゾンの反応によるOH*
ラジカルの生成(O3 +H2 O→O2 +2OH* )、O
H* ラジカルによる有機物の酸化(Cn H2n+2nOH
* →nCO2 +2nH2 )という2つのプロセスから成
り立っているが、大量の高濃度有機物廃液を限られた規
模のシステムで迅速に処理するためには、水銀ランプ等
の高出力化と溶存オゾン濃度の増大によりOH* ラジカ
ル生成量を増やすことが重要である。
【0008】一般に、オゾン等の気体の水溶液中への溶
解度はヘンリーの法則により、温度が低いほど大きくな
ることが知られており、下記する表1は、同一条件のオ
ゾン曝気における、各廃液温度における溶存オゾン濃
度、および紫外線照射を行った際に有機物分解に要する
時間(CODで200ppmから1ppm程度まで分
解)を示している。
解度はヘンリーの法則により、温度が低いほど大きくな
ることが知られており、下記する表1は、同一条件のオ
ゾン曝気における、各廃液温度における溶存オゾン濃
度、および紫外線照射を行った際に有機物分解に要する
時間(CODで200ppmから1ppm程度まで分
解)を示している。
【0009】
【表1】
【0010】上記表1からわかるように、廃液温度が2
0℃より高くなると溶存オゾン濃度は急激に低下し、こ
のため温度40℃では温度20℃の場合の倍程度の分解
時間がかかることになる。図1は、廃液温度20℃にお
ける溶存オゾン濃度と廃液処理に要する時間の関係の一
例である。溶存オゾン濃度が20ppm程度以下の領域
では、濃度低下に伴い廃液処理時間が急速に長くなる。
なお、溶存オゾン濃度が20ppm程度以上の領域では
廃液処理時間の短縮が飽和する。これは2OH* →H2
O2 の妨害反応により、OH* ラジカル生成量が飽和す
るためである。本発明は、紫外線とオゾンを用いた有機
物含有廃液の処理法における上記した問題点および知見
に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、二次廃
棄物の発生を抑制し迅速に有機物の酸化分解ができる放
射性廃液の処理方法および処理設備を提供することにあ
る。また本発明の他の目的は、気泡による放射性物質の
飛散を抑制できる放射性廃液の処理方法および処理設備
を提供することにある。
0℃より高くなると溶存オゾン濃度は急激に低下し、こ
のため温度40℃では温度20℃の場合の倍程度の分解
時間がかかることになる。図1は、廃液温度20℃にお
ける溶存オゾン濃度と廃液処理に要する時間の関係の一
例である。溶存オゾン濃度が20ppm程度以下の領域
では、濃度低下に伴い廃液処理時間が急速に長くなる。
なお、溶存オゾン濃度が20ppm程度以上の領域では
廃液処理時間の短縮が飽和する。これは2OH* →H2
O2 の妨害反応により、OH* ラジカル生成量が飽和す
るためである。本発明は、紫外線とオゾンを用いた有機
物含有廃液の処理法における上記した問題点および知見
に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、二次廃
棄物の発生を抑制し迅速に有機物の酸化分解ができる放
射性廃液の処理方法および処理設備を提供することにあ
る。また本発明の他の目的は、気泡による放射性物質の
飛散を抑制できる放射性廃液の処理方法および処理設備
を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の請求項1では、オゾン注入槽と紫外線照射槽
とを管路で接続してなる循環ループ内で放射性廃液を循
環させる間に該放射性廃液中にオゾンを溶存させるとと
もに、このオゾンを溶存した放射性廃液に紫外線を照射
することにより該放射性廃液中の有機物を酸化または分
解処理する放射性廃液の処理方法であることを特徴とし
ている。
に本発明の請求項1では、オゾン注入槽と紫外線照射槽
とを管路で接続してなる循環ループ内で放射性廃液を循
環させる間に該放射性廃液中にオゾンを溶存させるとと
もに、このオゾンを溶存した放射性廃液に紫外線を照射
することにより該放射性廃液中の有機物を酸化または分
解処理する放射性廃液の処理方法であることを特徴とし
ている。
【0012】上記目的を達成するために本発明の請求項
2では、請求項1において、紫外線照射により前記放射
性廃液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がらないよ
うに、前記放射性廃液を冷却しその温度を20℃以下に
保持する放射性廃液の処理方法であることを特徴として
いる。上記目的を達成するために本発明の請求項3で
は、請求項1において、紫外線照射により前記放射性廃
液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がらないよう
に、前記放射性廃液の圧力を上限50気圧以下に加圧す
る放射性廃液の処理方法であることを特徴としている。
上記目的を達成するために本発明の請求項4では、請求
項1,2または3において、紫外線照射により前記放射
性廃液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がらないよ
うに、処理前または処理中あるいはその両方で前記放射
性廃液中の溶存オゾン濃度を計測し制御する放射性廃液
の処理方法であることを特徴としている。
2では、請求項1において、紫外線照射により前記放射
性廃液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がらないよ
うに、前記放射性廃液を冷却しその温度を20℃以下に
保持する放射性廃液の処理方法であることを特徴として
いる。上記目的を達成するために本発明の請求項3で
は、請求項1において、紫外線照射により前記放射性廃
液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がらないよう
に、前記放射性廃液の圧力を上限50気圧以下に加圧す
る放射性廃液の処理方法であることを特徴としている。
上記目的を達成するために本発明の請求項4では、請求
項1,2または3において、紫外線照射により前記放射
性廃液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がらないよ
うに、処理前または処理中あるいはその両方で前記放射
性廃液中の溶存オゾン濃度を計測し制御する放射性廃液
の処理方法であることを特徴としている。
【0013】上記目的を達成するために本発明の請求項
5では、請求項1,2または3において、処理中または
処理後あるいはその両方で前記放射性廃液中の有機物濃
度を計測し、循環ループの各機器を制御するとともに運
転終了時点を検知する放射性廃液の処理方法であること
を特徴としている。
5では、請求項1,2または3において、処理中または
処理後あるいはその両方で前記放射性廃液中の有機物濃
度を計測し、循環ループの各機器を制御するとともに運
転終了時点を検知する放射性廃液の処理方法であること
を特徴としている。
【0014】上記目的を達成するために本発明の請求項
6では、前記放射性廃液にオゾンを注入するオゾン注入
槽と、溶存オゾンを含有する前記放射性廃液に紫外線を
照射する紫外線照射槽と、前記放射性廃液を移送する廃
液循環ポンプと、前記の機器を接続する配管とより循環
ループを形成した放射性廃液の処理設備であることを特
徴としている。
6では、前記放射性廃液にオゾンを注入するオゾン注入
槽と、溶存オゾンを含有する前記放射性廃液に紫外線を
照射する紫外線照射槽と、前記放射性廃液を移送する廃
液循環ポンプと、前記の機器を接続する配管とより循環
ループを形成した放射性廃液の処理設備であることを特
徴としている。
【0015】上記目的を達成するために本発明の請求項
7では、請求項6に記載の処理設備に、前記放射性廃液
を冷却するための廃液冷却器を付設した放射性廃液の処
理設備であることを特徴としている。
7では、請求項6に記載の処理設備に、前記放射性廃液
を冷却するための廃液冷却器を付設した放射性廃液の処
理設備であることを特徴としている。
【0016】上記目的を達成するために本発明の請求項
8では、請求項6に記載の処理設備に、前記放射性廃液
を加圧するための廃液加圧機を付設した放射性廃液の処
理設備であることを特徴としている。
8では、請求項6に記載の処理設備に、前記放射性廃液
を加圧するための廃液加圧機を付設した放射性廃液の処
理設備であることを特徴としている。
【0017】上記目的を達成するために本発明の請求項
9では、請求項6,7または8に記載の処理設備に、前
記放射性廃液中の溶存オゾン濃度を測定する溶存オゾン
濃度測定装置を設けた放射性廃液の処理設備であること
を特徴としている。
9では、請求項6,7または8に記載の処理設備に、前
記放射性廃液中の溶存オゾン濃度を測定する溶存オゾン
濃度測定装置を設けた放射性廃液の処理設備であること
を特徴としている。
【0018】上記目的を達成するために本発明の請求項
10では、請求項6,7または8に記載の処理設備に、
前記放射性廃液中の有機物濃度を測定する有機物濃度測
定装置を設けた放射性廃液の処理設備であることを特徴
としている。
10では、請求項6,7または8に記載の処理設備に、
前記放射性廃液中の有機物濃度を測定する有機物濃度測
定装置を設けた放射性廃液の処理設備であることを特徴
としている。
【0019】
(実施の形態1)図3に、水銀ランプから放出される紫
外線とオゾンを用いて、原子力発電所から発生する洗濯
廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有機物を酸化又
は分解する方法を適用する、放射性廃液の処理装置の一
実施の形態を示す。本実施の形態は、紫外線照射槽1、
オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3a,3b、廃液供給
用切換弁4、オゾン発生機5、オゾンガス供給管6、処
理液排出用切換弁7、固形物分離装置8、処理液ろ過装
置9、廃液前処理フィルタ10、廃液冷却器11を備え
ている。
外線とオゾンを用いて、原子力発電所から発生する洗濯
廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有機物を酸化又
は分解する方法を適用する、放射性廃液の処理装置の一
実施の形態を示す。本実施の形態は、紫外線照射槽1、
オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3a,3b、廃液供給
用切換弁4、オゾン発生機5、オゾンガス供給管6、処
理液排出用切換弁7、固形物分離装置8、処理液ろ過装
置9、廃液前処理フィルタ10、廃液冷却器11を備え
ている。
【0020】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液(放射
性廃液を以後廃液と略す)は廃液供給用切換弁4が開く
と、廃液前処理フィルタ10に導入され、廃液前処理フ
ィルタ10を通過した後、廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に供給される。その際、廃液前処理フィルタ1
0でシャワー廃液等に含まれる髪の毛等の大きなごみが
取り除かれる。この処理により、これらのごみが処理装
置本体に入り込み、廃液の循環を妨げることを防止す
る。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液(放射
性廃液を以後廃液と略す)は廃液供給用切換弁4が開く
と、廃液前処理フィルタ10に導入され、廃液前処理フ
ィルタ10を通過した後、廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に供給される。その際、廃液前処理フィルタ1
0でシャワー廃液等に含まれる髪の毛等の大きなごみが
取り除かれる。この処理により、これらのごみが処理装
置本体に入り込み、廃液の循環を妨げることを防止す
る。
【0021】処理装置に供給された廃液はまず固形物分
離装置8に流入する。廃液中の鉄クラッド等の固形物は
固形物分離装置8において沈降・分離し、上澄み液のみ
を廃液循環ポンプ3aによりオゾン注入槽2へ送る。固
形物分離装置8で沈降・分離した鉄クラッド等の固形物
は、廃液処理のバッチ運転終了後に取り出される。
離装置8に流入する。廃液中の鉄クラッド等の固形物は
固形物分離装置8において沈降・分離し、上澄み液のみ
を廃液循環ポンプ3aによりオゾン注入槽2へ送る。固
形物分離装置8で沈降・分離した鉄クラッド等の固形物
は、廃液処理のバッチ運転終了後に取り出される。
【0022】廃液循環ポンプ3aにより処理液排出用切
換弁7と廃液冷却器11を介してオゾン注入槽2へ供給
された廃液は、オゾン注入槽2の上部から流入し、オゾ
ン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾン発生機5
で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6を通ってオ
ゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管6はオゾン
注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過した後、オゾ
ン注入槽2の下部に接続される。したがって、オゾン注
入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾン注入槽2内
を上部から下部に移動する廃液の中を上昇しながら廃液
に溶解する。
換弁7と廃液冷却器11を介してオゾン注入槽2へ供給
された廃液は、オゾン注入槽2の上部から流入し、オゾ
ン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾン発生機5
で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6を通ってオ
ゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管6はオゾン
注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過した後、オゾ
ン注入槽2の下部に接続される。したがって、オゾン注
入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾン注入槽2内
を上部から下部に移動する廃液の中を上昇しながら廃液
に溶解する。
【0023】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液は
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10-2torr以上、l×102 torrから1
×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好ま
しいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも良
い。
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10-2torr以上、l×102 torrから1
×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好ま
しいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも良
い。
【0024】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0025】廃液は以上のような循環を行うが、その
際、廃液冷却器11で冷却される。通常、高出力の紫外
線源を用いた廃液処理では廃液温度が20℃〜30℃は
処理開始前より上昇し、その分だけ溶存オゾン濃度が低
下し、廃液処理に要する時間が長くかかる。紫外線源か
らの発熱により廃液温度が上昇する場合、廃液の冷却に
より溶存オゾン濃度を増大し廃液処理時間を短縮でき
る。
際、廃液冷却器11で冷却される。通常、高出力の紫外
線源を用いた廃液処理では廃液温度が20℃〜30℃は
処理開始前より上昇し、その分だけ溶存オゾン濃度が低
下し、廃液処理に要する時間が長くかかる。紫外線源か
らの発熱により廃液温度が上昇する場合、廃液の冷却に
より溶存オゾン濃度を増大し廃液処理時間を短縮でき
る。
【0026】一方、界面活性剤としてアルキルベンゼン
スルホン酸系の家庭用洗剤、脂肪酸系の石鹸等を含む場
合は、廃液温度の上昇に伴い廃液の発泡量は増大する
(図2参照)。したがって、廃液の冷却により発泡に伴
う放射性物質の飛散は低減される。
スルホン酸系の家庭用洗剤、脂肪酸系の石鹸等を含む場
合は、廃液温度の上昇に伴い廃液の発泡量は増大する
(図2参照)。したがって、廃液の冷却により発泡に伴
う放射性物質の飛散は低減される。
【0027】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0028】なお、固形物分離装置8は、紫外線照射槽
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
【0029】また、廃液冷却器11の設置場所は廃液の
循環経路のうち、どこであっても構わない。廃液処理を
開始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、あ
るいは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも有
効である。
循環経路のうち、どこであっても構わない。廃液処理を
開始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、あ
るいは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも有
効である。
【0030】(実施の形態2)図4に、水銀ランプから
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過装
置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12を備え
ている。
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過装
置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12を備え
ている。
【0031】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4が開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4が開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
【0032】処理装置に供給された廃液は廃液循環ポン
プ3aにより処理液排出用切換弁7を介してオゾン注入
槽2へ送られる。廃液は、オゾン注入槽2の上部から流
入し、オゾン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾ
ン発生機5で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6
を通つてオゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管
6はオゾン注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過し
た後、オゾン注入槽2の下部に接続される。したがっ
て、オゾン注入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾ
ン注入槽2内を上部から下部に移動する廃液の中を上昇
しながら廃液に溶解する。廃液はオゾン注入槽2に設置
してある廃液加圧機12で加圧される。加圧によりオゾ
ンガスの廃液中への溶存量が大きくなり、有機物の分解
に要する時間が短縮される。
プ3aにより処理液排出用切換弁7を介してオゾン注入
槽2へ送られる。廃液は、オゾン注入槽2の上部から流
入し、オゾン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾ
ン発生機5で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6
を通つてオゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管
6はオゾン注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過し
た後、オゾン注入槽2の下部に接続される。したがっ
て、オゾン注入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾ
ン注入槽2内を上部から下部に移動する廃液の中を上昇
しながら廃液に溶解する。廃液はオゾン注入槽2に設置
してある廃液加圧機12で加圧される。加圧によりオゾ
ンガスの廃液中への溶存量が大きくなり、有機物の分解
に要する時間が短縮される。
【0033】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液は
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1ヘ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10-2torr以上、1×102 torrから1
×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好ま
しいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも良
い。
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1ヘ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10-2torr以上、1×102 torrから1
×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好ま
しいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも良
い。
【0034】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0035】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0036】ヘンリーの法則により、加圧に応じてガス
圧を高くするとガスの液体への溶解度が大きくなる。し
かし、圧力をあまり大きくすると通常の材料の条件では
装置が耐えられなくなる。そこで、オゾン注入槽2の装
置が耐えられる限界圧を求め加圧圧力の上限とする。
圧を高くするとガスの液体への溶解度が大きくなる。し
かし、圧力をあまり大きくすると通常の材料の条件では
装置が耐えられなくなる。そこで、オゾン注入槽2の装
置が耐えられる限界圧を求め加圧圧力の上限とする。
【0037】オゾン注入槽2を内径D、厚さdの鉄製円
筒状とし(高さh>>D)、鉄の引張破壊強度をG0 、
材料の欠陥による強度低下係数を0.01、限界水圧を
Pとすると以下の式1が近似的に成立する。
筒状とし(高さh>>D)、鉄の引張破壊強度をG0 、
材料の欠陥による強度低下係数を0.01、限界水圧を
Pとすると以下の式1が近似的に成立する。
【0038】 P=0.01・G0 ・(2d/D) 式1 G0 を4.8×1010N/m2 で、オゾン注入槽2の厚
さ1mm、内径20cmと設定すると、Pは50気圧に
なる。
さ1mm、内径20cmと設定すると、Pは50気圧に
なる。
【0039】(実施の形態3)図5に、水銀ランプから
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、溶
存オゾン濃度測定器13を備えている。
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、溶
存オゾン濃度測定器13を備えている。
【0040】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4が開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4が開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
【0041】処理装置に供給された廃液はまず固形物分
離装置8に流入する。廃液中の鉄クラッド等の固形物は
固形物分離装置8において沈降・分離し、上澄み液のみ
を廃液循環ポンプ3aによりオゾン注入槽2へ送る。固
形物分離装置8で沈降・分離した鉄クラッド等の固形物
は、廃液処理のバッチ運転終了後に取り出される。
離装置8に流入する。廃液中の鉄クラッド等の固形物は
固形物分離装置8において沈降・分離し、上澄み液のみ
を廃液循環ポンプ3aによりオゾン注入槽2へ送る。固
形物分離装置8で沈降・分離した鉄クラッド等の固形物
は、廃液処理のバッチ運転終了後に取り出される。
【0042】廃液循環ポンプ3aにより処理液排出用切
換弁7を介してオゾン注入槽2へ供給された廃液は、オ
ゾン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部
から流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾン
ガスはオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ到
達する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さよ
りも高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部
に接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到
達したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に
移動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
換弁7を介してオゾン注入槽2へ供給された廃液は、オ
ゾン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部
から流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾン
ガスはオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ到
達する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さよ
りも高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部
に接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到
達したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に
移動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
【0043】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液
は、廃液循環ポンプ3bにより溶存オゾン濃度測定器1
3を介して紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましいが、あるい
はキセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
は、廃液循環ポンプ3bにより溶存オゾン濃度測定器1
3を介して紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましいが、あるい
はキセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
【0044】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0045】溶存オゾン濃度測定器13は廃液の循環経
路に1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測定
器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバック
され、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5においてオ
ゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外線
源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃度
が低下する場合があるが、その場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間増大を防止する。
路に1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測定
器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバック
され、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5においてオ
ゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外線
源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃度
が低下する場合があるが、その場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間増大を防止する。
【0046】有機物の分解が終了した後、廃液は処理液
排出用切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液
循環ポンプ3bとを用いて処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
排出用切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液
循環ポンプ3bとを用いて処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0047】なお、固形物分離装置8は、紫外線照射槽
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
【0048】(実施の形態4)図6に、水銀ランプから
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、有
機物濃度測定器14を備えている。
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、有
機物濃度測定器14を備えている。
【0049】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
【0050】処理装置に供給された廃液は、有機物濃度
測定器14を介して固形物分離装置8に流入する。廃液
中の鉄クラッド等の固形物は固形物分離装置8において
沈降・分離し、上澄み液のみを廃液循環ポンプ3aによ
りオゾン注入槽2へ送る。固形物分離装置8で沈降・分
離した鉄クラッド等の固形物は、廃液処理のバッチ運転
終了後に取り出される。
測定器14を介して固形物分離装置8に流入する。廃液
中の鉄クラッド等の固形物は固形物分離装置8において
沈降・分離し、上澄み液のみを廃液循環ポンプ3aによ
りオゾン注入槽2へ送る。固形物分離装置8で沈降・分
離した鉄クラッド等の固形物は、廃液処理のバッチ運転
終了後に取り出される。
【0051】廃液循環ポンプ3aにより処理液排出用切
換弁7を介してオゾン注入槽2へ供給された廃液は、オ
ゾン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部
から流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾン
ガスはオゾンガス供給管6を通つてオゾン注入槽2へ到
達する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さよ
りも高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部
に接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到
達したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に
移動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
換弁7を介してオゾン注入槽2へ供給された廃液は、オ
ゾン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部
から流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾン
ガスはオゾンガス供給管6を通つてオゾン注入槽2へ到
達する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さよ
りも高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部
に接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到
達したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に
移動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
【0052】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液は
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10−2torr以上、1×102 torrから
1×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好
ましいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも
良い。
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10−2torr以上、1×102 torrから
1×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好
ましいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも
良い。
【0053】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0054】有機物濃度測定器14は廃液の循環ループ
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
【0055】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後廃液は系外に放出され
る。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後廃液は系外に放出され
る。
【0056】なお、固形物分離装置8は、紫外線照射槽
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
【0057】(実施の形態5)図7に、水銀ランプから
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、廃
液冷却器11、溶存オゾン濃度測定器13を備えてい
る。
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、廃
液冷却器11、溶存オゾン濃度測定器13を備えてい
る。
【0058】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
【0059】処理装置に供給された廃液は、固形物分離
装置8に流入する。廃液中の鉄クラッド等の固形物は固
形物分離装置8において沈降・分離し、上澄み液のみを
廃液循環ポンプ3aを用いてオゾン注入槽2へ送る。固
形物分離装置8で沈降・分離した鉄クラッド等の固形物
は、廃液処理のバッチ運転終了後に取り出される。
装置8に流入する。廃液中の鉄クラッド等の固形物は固
形物分離装置8において沈降・分離し、上澄み液のみを
廃液循環ポンプ3aを用いてオゾン注入槽2へ送る。固
形物分離装置8で沈降・分離した鉄クラッド等の固形物
は、廃液処理のバッチ運転終了後に取り出される。
【0060】廃液循環ポンプ3aにより処理液排出用切
換弁7と廃液冷却器11を介してオゾン注入槽2へ供給
された廃液は、オゾン注入槽2の上部から流入し、オゾ
ン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾン発生機5
で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6を通つてオ
ゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管6はオゾン
注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過した後、オゾ
ン注入槽2の下部に接続される。したがって、オゾン注
入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾン注入槽2内
を上部から下部に移動する廃液の中を上昇しながら廃液
に溶解する。
換弁7と廃液冷却器11を介してオゾン注入槽2へ供給
された廃液は、オゾン注入槽2の上部から流入し、オゾ
ン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾン発生機5
で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6を通つてオ
ゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管6はオゾン
注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過した後、オゾ
ン注入槽2の下部に接続される。したがって、オゾン注
入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾン注入槽2内
を上部から下部に移動する廃液の中を上昇しながら廃液
に溶解する。
【0061】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液
は、溶存オゾン濃度測定器13を介して廃液循環ポンプ
3bにより紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましいが、あるい
はキセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
は、溶存オゾン濃度測定器13を介して廃液循環ポンプ
3bにより紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましいが、あるい
はキセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
【0062】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0063】廃液は以上のような循環を行うが、その
際、廃液冷却器11で冷却される。冷却により廃液中の
溶存オゾン濃度が上昇し、有機物の分解に要する時間が
短縮される。また、気泡の生成が抑制されるので、放射
性物質の飛散も低減する。
際、廃液冷却器11で冷却される。冷却により廃液中の
溶存オゾン濃度が上昇し、有機物の分解に要する時間が
短縮される。また、気泡の生成が抑制されるので、放射
性物質の飛散も低減する。
【0064】溶存オゾン濃度測定器13は廃液の循環ル
ープに1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測
定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバッ
クされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5において
オゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外
線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃
度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間増大を防止する。
ープに1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測
定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバッ
クされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5において
オゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外
線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃
度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間増大を防止する。
【0065】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0066】なお、固形物分離装置8は、紫外線照射槽
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
【0067】また、廃液冷却器の設置場所は廃液の循環
ループのうち、どこであっても構わない。廃液処理を開
始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、ある
いは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも有効
である。
ループのうち、どこであっても構わない。廃液処理を開
始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、ある
いは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも有効
である。
【0068】(実施の形態6)図8に、水銀ランプから
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過装
置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12、溶存
オゾン濃度測定器13を備えている。
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過装
置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12、溶存
オゾン濃度測定器13を備えている。
【0069】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
【0070】処理装置に供給された廃液は、廃液循環ポ
ンプ3aにより処理液排出用切換弁7を介してオゾン注
入槽2へ送られる。廃液は、オゾン注入槽2の上部から
流入し、オゾン注入槽2の下部から流出する。一方、オ
ゾン発生機5で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管
6を通ってオゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給
管6はオゾン注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過
した後、オゾン注入槽2の下部に接続される。したがっ
て、オゾン注入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾ
ン注入槽2内を上部から下部に移動する廃液の中を上昇
しながら廃液に溶解する。廃液はオゾン注入槽2に設置
してある廃液加圧機12で加圧される。加圧によりオゾ
ンガスの廃液中への溶存量が大きくなり、有機物の分解
に要する時間が短縮される。
ンプ3aにより処理液排出用切換弁7を介してオゾン注
入槽2へ送られる。廃液は、オゾン注入槽2の上部から
流入し、オゾン注入槽2の下部から流出する。一方、オ
ゾン発生機5で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管
6を通ってオゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給
管6はオゾン注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過
した後、オゾン注入槽2の下部に接続される。したがっ
て、オゾン注入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾ
ン注入槽2内を上部から下部に移動する廃液の中を上昇
しながら廃液に溶解する。廃液はオゾン注入槽2に設置
してある廃液加圧機12で加圧される。加圧によりオゾ
ンガスの廃液中への溶存量が大きくなり、有機物の分解
に要する時間が短縮される。
【0071】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液
は、溶存オゾン濃度測定器13を介して廃液循環ポンプ
3bにより紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましいが、あるい
はキセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
は、溶存オゾン濃度測定器13を介して廃液循環ポンプ
3bにより紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましいが、あるい
はキセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
【0072】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0073】溶存オゾン濃度測定器13は廃液の循環ル
ープに1または複数ヵ所に設置される。溶存オゾン濃度
測定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバ
ックされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5におい
てオゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫
外線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン
濃度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知
しオゾン供給量を増加して処理時間増大を防止する。
ープに1または複数ヵ所に設置される。溶存オゾン濃度
測定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバ
ックされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5におい
てオゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫
外線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン
濃度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知
しオゾン供給量を増加して処理時間増大を防止する。
【0074】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0075】(実施の形態7)図9に、水銀ランプから
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、廃
液冷却器11、有機物濃度測定器14を備えている。
放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所から
発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる有
機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液の
処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態は、
紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ3
a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オゾ
ンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離装
置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、廃
液冷却器11、有機物濃度測定器14を備えている。
【0076】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。これにより、これ
らのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げるこ
とを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。これにより、これ
らのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げるこ
とを防止する。
【0077】処理装置に供給された廃液は、有機物濃度
測定器14を介して固形物分離装置8に流入する。廃液
中の鉄クラッド等の固形物は固形物分離装置8において
沈降・分離し、上澄み液のみを廃液循環ポンプ3aを用
いてオゾン注入槽2へ送る。固形物分離装置8で沈降・
分離した鉄クラッド等の固形物は、廃液処理のバッチ運
転終了後に取り出される。
測定器14を介して固形物分離装置8に流入する。廃液
中の鉄クラッド等の固形物は固形物分離装置8において
沈降・分離し、上澄み液のみを廃液循環ポンプ3aを用
いてオゾン注入槽2へ送る。固形物分離装置8で沈降・
分離した鉄クラッド等の固形物は、廃液処理のバッチ運
転終了後に取り出される。
【0078】処理装置に供給された廃液は、廃液循環ポ
ンプ3aにより処理液排出用切換弁7および廃液冷却器
11を介してオゾン注入槽2へ送られる。廃液は、オゾ
ン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部か
ら流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾンガ
スはオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ到達
する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さより
も高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部に
接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到達
したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に移
動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
ンプ3aにより処理液排出用切換弁7および廃液冷却器
11を介してオゾン注入槽2へ送られる。廃液は、オゾ
ン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部か
ら流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾンガ
スはオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ到達
する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さより
も高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部に
接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到達
したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に移
動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
【0079】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液
は、廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られ
る。紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、
その中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線
照射槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照
射され、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ラン
プ1aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸
気圧が1×10-2torr以上、1×102 torrか
ら1×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが
好ましいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源で
も良い。
は、廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られ
る。紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、
その中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線
照射槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照
射され、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ラン
プ1aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸
気圧が1×10-2torr以上、1×102 torrか
ら1×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが
好ましいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源で
も良い。
【0080】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0081】廃液は以上のような循環を行うが、その
際、廃液冷却器11で冷却される。冷却により廃液中の
溶存オゾン濃度が上昇し、有機物の分解に要する時間が
短縮される。また、気泡の生成が抑制されるので、放射
性物質の飛散も低減する。
際、廃液冷却器11で冷却される。冷却により廃液中の
溶存オゾン濃度が上昇し、有機物の分解に要する時間が
短縮される。また、気泡の生成が抑制されるので、放射
性物質の飛散も低減する。
【0082】有機物濃度測定器14は廃液の循環ループ
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
【0083】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0084】なお、固形物分離装置8は、紫外線照射槽
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
【0085】また、廃液冷却器11の設置場所は廃液の
循環ループのうち、どこであっても構わない。廃液処理
を開始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、
あるいは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも
有効である。
循環ループのうち、どこであっても構わない。廃液処理
を開始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、
あるいは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも
有効である。
【0086】(実施の形態8)図10に、水銀ランプか
ら放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所か
ら発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる
有機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液
の処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態
は、紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ
3a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オ
ゾンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過
装置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12、有
機物濃度測定器14を備えている。
ら放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所か
ら発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる
有機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液
の処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態
は、紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ
3a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オ
ゾンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過
装置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12、有
機物濃度測定器14を備えている。
【0087】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。この処理により、
これらのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げ
ることを防止する。
【0088】処理装置に供給された廃液は廃液循環ポン
プ3aにより処理液排出用切換弁7を介してオゾン注入
槽2へ送られる。廃液は、オゾン注入槽2の上部から流
入し、オゾン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾ
ン発生機5で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6
を通ってオゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管
6はオゾン注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過し
た後、オゾン注入槽2の下部に接続される。したがっ
て、オゾン注入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾ
ン注入槽2内を上部から下部に移動する廃液の中を上昇
しながら廃液に溶解する。廃液はオゾン注入槽2に設置
してある廃液加圧機12で加圧される。加圧によりオゾ
ンガスの廃液中への溶存量が大きくなり、有機物の分解
に要する時間が短縮される。
プ3aにより処理液排出用切換弁7を介してオゾン注入
槽2へ送られる。廃液は、オゾン注入槽2の上部から流
入し、オゾン注入槽2の下部から流出する。一方、オゾ
ン発生機5で発生したオゾンガスはオゾンガス供給管6
を通ってオゾン注入槽2へ到達する。オゾンガス供給管
6はオゾン注入槽2の高さよりも高い位置を一度通過し
た後、オゾン注入槽2の下部に接続される。したがっ
て、オゾン注入槽2の下部に到達したオゾンガスはオゾ
ン注入槽2内を上部から下部に移動する廃液の中を上昇
しながら廃液に溶解する。廃液はオゾン注入槽2に設置
してある廃液加圧機12で加圧される。加圧によりオゾ
ンガスの廃液中への溶存量が大きくなり、有機物の分解
に要する時間が短縮される。
【0089】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液
は、廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られ
る。紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、
その中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線
照射槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照
射され、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ラン
プ1aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸
気圧が1×10-2torr以上、1×102 torrか
ら1×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが
好ましいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源で
も良い。
は、廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られ
る。紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、
その中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線
照射槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照
射され、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ラン
プ1aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸
気圧が1×10-2torr以上、1×102 torrか
ら1×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが
好ましいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源で
も良い。
【0090】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0091】有機物濃度測定器14は廃液の循環ループ
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
【0092】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では、鉄クラッド等の放射性物質を含む
固形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出
される。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では、鉄クラッド等の放射性物質を含む
固形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出
される。
【0093】(実施の形態9)図11に、水銀ランプか
ら放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所か
ら発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる
有機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液
の処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態
は、紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ
3a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オ
ゾンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離
装置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、
廃液冷却器11、溶存オゾン濃度測定器13、有機物濃
度測定器14を備えている。
ら放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所か
ら発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれる
有機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃液
の処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態
は、紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ
3a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オ
ゾンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、固形物分離
装置8、処理液ろ過装置9、廃液前処理フィルタ10、
廃液冷却器11、溶存オゾン濃度測定器13、有機物濃
度測定器14を備えている。
【0094】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。これにより、これ
らのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げるこ
とを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。これにより、これ
らのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げるこ
とを防止する。
【0095】処理装置に供給された廃液は、有機物濃度
測定器14を介して固形物分離装置8に流入する。廃液
中の鉄クラッド等の固形物は固形物分離装置8において
沈降・分離し、上澄み液のみを廃液循環ポンプ3aを用
いてオゾン注入槽2へ送る。固形物分離装置8で沈降・
分離した鉄クラッド等の固形物は、廃液処理のバッチ運
転終了後に取り出される。
測定器14を介して固形物分離装置8に流入する。廃液
中の鉄クラッド等の固形物は固形物分離装置8において
沈降・分離し、上澄み液のみを廃液循環ポンプ3aを用
いてオゾン注入槽2へ送る。固形物分離装置8で沈降・
分離した鉄クラッド等の固形物は、廃液処理のバッチ運
転終了後に取り出される。
【0096】処理装置に供給された廃液は廃液循環ポン
プ3aにより処理液排出用切換弁7および廃液冷却器1
1を介してオゾン注入槽2へ送られる。廃液は、オゾン
注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部から
流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾンガス
はオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ到達す
る。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さよりも
高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部に接
続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到達し
たオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に移動
する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
プ3aにより処理液排出用切換弁7および廃液冷却器1
1を介してオゾン注入槽2へ送られる。廃液は、オゾン
注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下部から
流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾンガス
はオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ到達す
る。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さよりも
高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下部に接
続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に到達し
たオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部に移動
する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。
【0097】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液は
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10-2torr以上、1×102 torrから1
×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好ま
しいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも良
い。
廃液循環ポンプ3bにより紫外線照射槽1へ送られる。
紫外線照射槽1は金属性の廃液タンクを容器とし、その
中に紫外線照射ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射
槽1の廃液タンクに供給されるとそこで紫外線を照射さ
れ、廃液中の有機物が分解される。紫外線照射ランプ1
aとしては、水銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧
が1×10-2torr以上、1×102 torrから1
×104 torrの範囲にあるような水銀ランプが好ま
しいが、あるいはキセノンランプ等の紫外線光源でも良
い。
【0098】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0099】廃液は以上のような循環を行うが、その
際、廃液冷却器11で冷却される。冷却により廃液中の
溶存オゾン濃度が上昇し、有機物の分解に要する時間が
短縮される。また、気泡の生成が抑制されるので、放射
性物質の飛散も低減する。
際、廃液冷却器11で冷却される。冷却により廃液中の
溶存オゾン濃度が上昇し、有機物の分解に要する時間が
短縮される。また、気泡の生成が抑制されるので、放射
性物質の飛散も低減する。
【0100】溶存オゾン濃度測定器13は廃液の循環ル
ープに1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測
定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバッ
クされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5において
オゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外
線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃
度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間の増大を防止する。
ープに1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測
定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバッ
クされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5において
オゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外
線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃
度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間の増大を防止する。
【0101】有機物濃度測定器14は廃液の循環ループ
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3a,
3b、オゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運
転を制御する。
【0102】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
切換弁7を切り換えて廃液循環ポンプ3aと廃液循環ポ
ンプ3bとを用いて廃液を処理液ろ過装置9に送る。処
理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む固
形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出さ
れる。
【0103】なお、固形物分離装置8は、紫外線照射槽
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
1からオゾン注入槽2上部へ廃液を送る廃液循環ポンプ
3aの前に設置する本実施の形態の代わりに、オゾン注
入槽2下部から紫外線照射槽1へ廃液を送る廃液循環ポ
ンプ3bの前に設置することも可能である。
【0104】また、廃液冷却器11の設置場所は廃液の
循環ループのうち、どこであっても構わない。廃液処理
を開始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、
あるいは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも
有効である。
循環ループのうち、どこであっても構わない。廃液処理
を開始する以前にあらかじめ廃液を冷却しておくこと、
あるいは処理開始前と処理中の両方で冷却を行うことも
有効である。
【0105】(実施の形態10)図12に、水銀ランプ
から放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所
から発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれ
る有機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃
液の処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態
は、紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ
3a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オ
ゾンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過
装置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12、溶
存オゾン濃度測定器13、有機物濃度測定器14を備え
ている。
から放出される紫外線とオゾンを用いて、原子力発電所
から発生する洗濯廃液等の有機物含有廃液の中に含まれ
る有機物を酸化又は分解する方法を適用する、放射性廃
液の処理装置の他の一実施の形態を示す。本実施の形態
は、紫外線照射槽1、オゾン注入槽2、廃液循環ポンプ
3a,3b、廃液供給用切換弁4、オゾン発生機5、オ
ゾンガス供給管6、処理液排出用切換弁7、処理液ろ過
装置9、廃液前処理フィルタ10、廃液加圧機12、溶
存オゾン濃度測定器13、有機物濃度測定器14を備え
ている。
【0106】放射性廃液を充填した廃液タンクは、廃液
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。これにより、これ
らのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げるこ
とを防止する。
前処理フィルタ10および廃液供給用切換弁4を介して
処理装置に接続されている。廃液タンク中の廃液は廃液
供給用切換弁4を開くと、廃液前処理フィルタ10に導
入され、廃液前処理フィルタ10を通過した後、廃液供
給用切換弁4を介して処理装置に供給される。その際、
廃液前処理フィルタ10でシャワー廃液等に含まれる髪
の毛等の大きなごみが取り除かれる。これにより、これ
らのごみが装置本体に入り込み、廃液の循環を妨げるこ
とを防止する。
【0107】処理装置に供給された廃液は廃液循環ポン
プ3aにより有機物濃度測定器14および処理液排出用
切換弁7を介してオゾン注入槽2へ送られる。廃液は、
オゾン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下
部から流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾ
ンガスはオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ
到達する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さ
よりも高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下
部に接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に
到達したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部
に移動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。廃
液はオゾン注入槽2に設置してある廃液加圧機12で加
圧される。加圧によりオゾンガスの廃液中への溶存量が
大きくなり、有機物の分解に要する時間が短縮される。
プ3aにより有機物濃度測定器14および処理液排出用
切換弁7を介してオゾン注入槽2へ送られる。廃液は、
オゾン注入槽2の上部から流入し、オゾン注入槽2の下
部から流出する。一方、オゾン発生機5で発生したオゾ
ンガスはオゾンガス供給管6を通ってオゾン注入槽2へ
到達する。オゾンガス供給管6はオゾン注入槽2の高さ
よりも高い位置を一度通過した後、オゾン注入槽2の下
部に接続される。したがって、オゾン注入槽2の下部に
到達したオゾンガスはオゾン注入槽2内を上部から下部
に移動する廃液の中を上昇しながら廃液に溶解する。廃
液はオゾン注入槽2に設置してある廃液加圧機12で加
圧される。加圧によりオゾンガスの廃液中への溶存量が
大きくなり、有機物の分解に要する時間が短縮される。
【0108】オゾン注入槽2でオゾンを吸収した廃液
は、廃液循環ポンプ3bにより溶存オゾン濃度測定器1
3を介して紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましく、あるいは
キセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
は、廃液循環ポンプ3bにより溶存オゾン濃度測定器1
3を介して紫外線照射槽1へ送られる。紫外線照射槽1
は金属性の廃液タンクを容器とし、その中に紫外線照射
ランプ1aを有する。廃液は紫外線照射槽1の廃液タン
クに供給されるとそこで紫外線を照射され、廃液中の有
機物が分解される。紫外線照射ランプ1aとしては、水
銀ランプで、特にその内部の水銀蒸気圧が1×10-2t
orr以上、1×102 torrから1×104tor
rの範囲にあるような水銀ランプが好ましく、あるいは
キセノンランプ等の紫外線光源でも良い。
【0109】充分処理装置内に廃液が供給されると、廃
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
液供給用切換弁4を循環ループ側に切り換え、廃液中の
有機物を分解するバッチ運転が開始される。
【0110】溶存オゾン濃度測定器13は廃液の循環ル
ープに1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測
定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバッ
クされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5において
オゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外
線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃
度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間の増大を防止する。
ープに1または複数ヵ所設置される。溶存オゾン濃度測
定器13での測定結果はオゾン発生機5にフィードバッ
クされ、オゾン注入槽2またはオゾン発生機5において
オゾンガス供給量を制御手段15により制御する。紫外
線源からの発熱により廃液温度が上昇し、溶存オゾン濃
度が低下する場合があるがその場合、濃度低下を検知し
オゾン供給量を増加して処理時間の増大を防止する。
【0111】有機物濃度測定器14は廃液の循環ループ
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3、オ
ゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運転を制御
する。
に1または複数ヵ所設置される。有機物濃度測定器14
での測定結果は紫外線照射槽1、廃液循環ポンプ3、オ
ゾン発生機5にフィードバックされ、装置の運転を制御
する。
【0112】有機物の分解が終了した後、処理液排出用
切換弁7を切り換えて廃液を処理液ろ過装置9に送る。
処理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む
固形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出
される。
切換弁7を切り換えて廃液を処理液ろ過装置9に送る。
処理液ろ過装置9では鉄クラッド等の放射性物質を含む
固形物が精密に除去される。その後、系外に廃液は放出
される。
【0113】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば二次廃棄
物の発生を抑えると共に、高出力の紫外線源とオゾンを
用いた小規模の装置において冷却もしくは加圧操作によ
り大量の高濃度有機物含有廃液を迅速に処理できる。ま
た、冷却時は廃液中の気泡の発生を抑制するので放射性
物質の飛散を低減でき、作業従事者の被曝を減らすこと
ができる。
物の発生を抑えると共に、高出力の紫外線源とオゾンを
用いた小規模の装置において冷却もしくは加圧操作によ
り大量の高濃度有機物含有廃液を迅速に処理できる。ま
た、冷却時は廃液中の気泡の発生を抑制するので放射性
物質の飛散を低減でき、作業従事者の被曝を減らすこと
ができる。
【図1】溶存オゾン濃度と廃液処理時間の関係を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図2】廃液温度と気泡発生量の関係を示すグラフであ
る。
る。
【図3】本発明の一実施の形態である放射性廃液の処理
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図4】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液の
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図5】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液の
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図6】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液の
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図7】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液の
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図8】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液の
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図9】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液の
処理装置の構成図である。
処理装置の構成図である。
【図10】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液
の処理装置の構成図である。
の処理装置の構成図である。
【図11】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液
の処理装置の構成図である。
の処理装置の構成図である。
【図12】本発明の他の一実施の形態である放射性廃液
の処理装置の構成図である。
の処理装置の構成図である。
l・・・紫外線照射槽、1a・・・紫外線照射ランプ、
2・・・オゾン注入槽、3a,3b・・・廃液循環ポン
プ、4・・・廃液供給用切換弁、5・・・オゾン発生
機、6・・・オゾンガス供給管、7・・・処理液排出用
切換弁、8・・・固形物分離装置、9・・・処理液ろ過
装置、10・・・廃液前処理フィルタ、11・・・廃液
冷却器、12・・・廃液加圧機、13・・・溶存オゾン
濃度測定器、14・・・有機物濃度測定器、15・・・
制御手段
2・・・オゾン注入槽、3a,3b・・・廃液循環ポン
プ、4・・・廃液供給用切換弁、5・・・オゾン発生
機、6・・・オゾンガス供給管、7・・・処理液排出用
切換弁、8・・・固形物分離装置、9・・・処理液ろ過
装置、10・・・廃液前処理フィルタ、11・・・廃液
冷却器、12・・・廃液加圧機、13・・・溶存オゾン
濃度測定器、14・・・有機物濃度測定器、15・・・
制御手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平山 聡 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 雪田 篤 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内
Claims (10)
- 【請求項1】 オゾン注入槽と紫外線照射槽とを管路で
接続してなる循環ループ内で放射性廃液を循環させる間
に該放射性廃液中にオゾンを溶存させるとともに、この
オゾンを溶存した放射性廃液に紫外線を照射することに
より該放射性廃液中の有機物を酸化または分解処理する
ことを特徴とする放射性廃液の処理方法。 - 【請求項2】 請求項1において、紫外線照射により前
記放射性廃液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がら
ないように、前記放射性廃液を冷却しその温度を20℃
以下に保持することを特徴とする放射性廃液の処理方
法。 - 【請求項3】 請求項1において、紫外線照射により前
記放射性廃液の温度が上昇して溶存オゾン濃度が下がら
ないように、前記放射性廃液の圧力を上限50気圧以下
に加圧することを特徴とする放射性廃液の処理方法。 - 【請求項4】 請求項1,2または3において、紫外線
照射により前記放射性廃液の温度が上昇して溶存オゾン
濃度が下がらないように、処理前または処理中あるいは
その両方で前記放射性廃液中の溶存オゾン濃度を計測し
制御することを特徴とする放射性廃液の処理方法。 - 【請求項5】 請求項1,2または3において、処理中
または処理後あるいはその両方で前記放射性廃液中の有
機物濃度を計測し、循環ループの各機器を制御するとと
もに運転終了時点を検知することを特徴とする放射性廃
液の処理方法。 - 【請求項6】 前記放射性廃液にオゾンを注入するオゾ
ン注入槽と、溶存オゾンを含有する前記放射性廃液に紫
外線を照射する紫外線照射槽と、前記放射性廃液を移送
する廃液循環ポンプと、前記の機器を接続する配管とよ
り循環ループを形成したことを特徴とする放射性廃液の
処理設備。 - 【請求項7】 請求項6に記載の処理設備に、前記放射
性廃液を冷却するための廃液冷却器を付設したことを特
徴とする放射性廃液の処理設備。 - 【請求項8】 請求項6に記載の処理設備に、前記放射
性廃液を加圧するための廃液加圧機を付設したことを特
徴とする放射性廃液の処理設備。 - 【請求項9】 請求項6,7または8に記載の処理設備
に、前記放射性廃液中の溶存オゾン濃度を測定する溶存
オゾン濃度測定装置を設けたことを特徴とする放射性廃
液の処理設備。 - 【請求項10】 請求項6,7または8に記載の処理設
備に、前記放射性廃液中の有機物濃度を測定する有機物
濃度測定装置を設けたことを特徴とする放射性廃液の処
理設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33186496A JPH10170695A (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | 放射性廃液の処理方法および処理設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33186496A JPH10170695A (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | 放射性廃液の処理方法および処理設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10170695A true JPH10170695A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=18248508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33186496A Pending JPH10170695A (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | 放射性廃液の処理方法および処理設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10170695A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012185013A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 放射性廃液の処理方法およびその処理装置 |
| JP5936743B1 (ja) * | 2015-05-13 | 2016-06-22 | 株式会社日立製作所 | 有機物分解装置及び有機物分解方法 |
| WO2017217005A1 (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 株式会社日立製作所 | 有機物分解装置及び有機物分解方法 |
| CN115798766A (zh) * | 2022-12-08 | 2023-03-14 | 中核四川环保工程有限责任公司 | 一种用于放射性tbp/ok有机废液的无机化处理方法 |
-
1996
- 1996-12-12 JP JP33186496A patent/JPH10170695A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012185013A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Hitachi-Ge Nuclear Energy Ltd | 放射性廃液の処理方法およびその処理装置 |
| JP5936743B1 (ja) * | 2015-05-13 | 2016-06-22 | 株式会社日立製作所 | 有機物分解装置及び有機物分解方法 |
| WO2017217005A1 (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 株式会社日立製作所 | 有機物分解装置及び有機物分解方法 |
| JP2017221927A (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 株式会社日立製作所 | 有機物分解装置及び有機物分解方法 |
| CN115798766A (zh) * | 2022-12-08 | 2023-03-14 | 中核四川环保工程有限责任公司 | 一种用于放射性tbp/ok有机废液的无机化处理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2770883B2 (ja) | 基体処理用の濃縮流体光化学処理方法 | |
| JP3859902B2 (ja) | 放射線取扱施設の構造部品の化学除染方法及びその装置 | |
| JP2941429B2 (ja) | 有機酸を含む溶液の廃棄処理方法及び装置 | |
| TW201417905A (zh) | 洗淨方法及洗淨裝置 | |
| JP4370231B2 (ja) | 放射性物質除染方法および化学除染装置 | |
| JPH10170695A (ja) | 放射性廃液の処理方法および処理設備 | |
| CZ249892A3 (en) | Process and apparatus for organic substance disposal | |
| JP2008311591A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP2000237774A (ja) | オゾン/紫外線隔式循環装置 | |
| JP2006341229A (ja) | シアン化合物含有排水の高度処理方法 | |
| JP2000288495A (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2004340769A (ja) | 有機酸除染廃液の処理方法および装置 | |
| JP2000263072A (ja) | 廃水処理方法及び装置 | |
| JP4569884B2 (ja) | 水中の有機物処理方法および処理装置 | |
| JP2002126730A (ja) | 排水処理装置及び処理方法 | |
| JP2001203182A (ja) | 物品表面の清浄化方法およびそのための清浄化装置 | |
| JP4465696B2 (ja) | 水中の有機物の分解方法及び分解装置 | |
| JP4164156B2 (ja) | 洗濯廃液の処理方法 | |
| JP3859866B2 (ja) | 水処理方法 | |
| JP3580648B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP2669375B2 (ja) | 水中の有機塩素化合物の分解処理装置 | |
| JPH11276859A (ja) | 有機塩素系溶剤の分解方法及び分解装置 | |
| WO2003051777A1 (en) | Method and apparatus for treating waste ozone water and apparatus for treatment with ozone | |
| JPH10180243A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH01189127A (ja) | ウエハの洗浄方法 |