JPH1017313A - キッシュの品位向上方法及び装置 - Google Patents
キッシュの品位向上方法及び装置Info
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- JPH1017313A JPH1017313A JP8166990A JP16699096A JPH1017313A JP H1017313 A JPH1017313 A JP H1017313A JP 8166990 A JP8166990 A JP 8166990A JP 16699096 A JP16699096 A JP 16699096A JP H1017313 A JPH1017313 A JP H1017313A
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- Japan
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- graphite
- pulp
- fraction
- quiche
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- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 キッシュ中の粗グラファイトフレークを余り
崩壊することなくキッシュを経済的な操作で、高純度に
まで品位向上させる。 【解決手段】 キッシュを濃厚化して少なくとも90%
の高炭素含量のグラファイト濃厚物を形成し、希酸で処
理してパルプとなし、このパルプをアジュバント使用ア
トリションに付して、99%以上の炭素含量でその少な
くとも70%が100メッシュ上に保留される新規な人
造フレーク状グラファイトを得る。原料からの総合グラ
ファイト分炭素の回収率は85%以上である。
崩壊することなくキッシュを経済的な操作で、高純度に
まで品位向上させる。 【解決手段】 キッシュを濃厚化して少なくとも90%
の高炭素含量のグラファイト濃厚物を形成し、希酸で処
理してパルプとなし、このパルプをアジュバント使用ア
トリションに付して、99%以上の炭素含量でその少な
くとも70%が100メッシュ上に保留される新規な人
造フレーク状グラファイトを得る。原料からの総合グラ
ファイト分炭素の回収率は85%以上である。
Description
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、キッシュ中の粗グラフ
ァイトフレークを余り崩すことなく経済的な方式でキッ
シュを高純度水準にまで品位向上させる方法、ならびに
そのための装置システムに関する。
ァイトフレークを余り崩すことなく経済的な方式でキッ
シュを高純度水準にまで品位向上させる方法、ならびに
そのための装置システムに関する。
【0002】
【従来の技術】グラファイト、殊にフレーク状グラファ
イトは多くの分野で応用されており、例えば耐火物、鋳
物におけるコーティング材、ブレーキライニング、バッ
テリー、カーボンブラッシュ、鉛筆、発射薬、膨張性グ
ラファイトの前駆体、滑剤、及びその他の領域で応用さ
れている。
イトは多くの分野で応用されており、例えば耐火物、鋳
物におけるコーティング材、ブレーキライニング、バッ
テリー、カーボンブラッシュ、鉛筆、発射薬、膨張性グ
ラファイトの前駆体、滑剤、及びその他の領域で応用さ
れている。
【0003】耐火物において、フレーク状グラファイト
は、高熱伝導率及び向上した耐スラグ性を与える。操作
温度において、残留不純物は、フレーク状グラファイト
の高温安定性のためには有害である。この理由で、より
純度の高いフレーク状グラファイトを耐火物応用分野で
は使用する傾向がある。例えば、米国特許第4,91
2,068号明細書にはマグネシア・炭素レンガにおい
ての99%純度フレーク状グラファイトの使用により可
能である熱間強度の顕著な増大が開示されている。ある
種のバッテリー生産需要へ向けて販売されるフレーク状
グラファイトは少なくとも99.9%炭素の純度を必要
とする。膨張性グラファイト生産分野へ出荷されるフレ
ーク状グラファイトは少なくとも96%炭素の純度を必
要とする。大粒の高純度フレーク状グラファイトはより
高い価値であり、しかも需要が増大しつつある。これら
のすべての傾向は、グラファイト生産業者に高純度フレ
ーク状グラファイトを製造するための新規方法を見出す
意欲を生じさせる。さらには、米国はこの材料について
は完全に外国の供給源に依存していることは注目すべき
である。かくして、この重要な原材料の米国内の適当な
供給源を見出すことが望まれている。
は、高熱伝導率及び向上した耐スラグ性を与える。操作
温度において、残留不純物は、フレーク状グラファイト
の高温安定性のためには有害である。この理由で、より
純度の高いフレーク状グラファイトを耐火物応用分野で
は使用する傾向がある。例えば、米国特許第4,91
2,068号明細書にはマグネシア・炭素レンガにおい
ての99%純度フレーク状グラファイトの使用により可
能である熱間強度の顕著な増大が開示されている。ある
種のバッテリー生産需要へ向けて販売されるフレーク状
グラファイトは少なくとも99.9%炭素の純度を必要
とする。膨張性グラファイト生産分野へ出荷されるフレ
ーク状グラファイトは少なくとも96%炭素の純度を必
要とする。大粒の高純度フレーク状グラファイトはより
高い価値であり、しかも需要が増大しつつある。これら
のすべての傾向は、グラファイト生産業者に高純度フレ
ーク状グラファイトを製造するための新規方法を見出す
意欲を生じさせる。さらには、米国はこの材料について
は完全に外国の供給源に依存していることは注目すべき
である。かくして、この重要な原材料の米国内の適当な
供給源を見出すことが望まれている。
【0004】フレーク状グラファイトは、石灰石、片麻
岩及び片岩のような変成ケイ素もしくは富石灰沈積層中
に散存するフレーク状物として天然に産する。未風化沈
積物において、鉱石からフレーク状物の寸法を崩すこと
なくフレーク状物を解放し分離することは困難である。
フレーク状グラファイトを高純度水準にまで(すなわち
96%炭素以上にまで)その寸法を著しく減小させずに
品位向上させるために多くの方法が利用されている。
岩及び片岩のような変成ケイ素もしくは富石灰沈積層中
に散存するフレーク状物として天然に産する。未風化沈
積物において、鉱石からフレーク状物の寸法を崩すこと
なくフレーク状物を解放し分離することは困難である。
フレーク状グラファイトを高純度水準にまで(すなわち
96%炭素以上にまで)その寸法を著しく減小させずに
品位向上させるために多くの方法が利用されている。
【0005】天然産グラファイト以外にキッシュ(ki
sh)グラファイトと称されるタイプのグラファイトが
有る。
sh)グラファイトと称されるタイプのグラファイトが
有る。
【0006】「キッシュ」とは、製鉄工程中及び初期製
鋼工程中に生成する廃物についての一般用語である。そ
れはフレーク状グラファイト、鉄、富石灰スラグ及びそ
の他の物質を含んでいる。キッシュからフレーク状グラ
ファイトを回収しようとする努力がなされてきており、
「キッシュ・グラファイト」と称されてきたものは、こ
のグラファイトである。
鋼工程中に生成する廃物についての一般用語である。そ
れはフレーク状グラファイト、鉄、富石灰スラグ及びそ
の他の物質を含んでいる。キッシュからフレーク状グラ
ファイトを回収しようとする努力がなされてきており、
「キッシュ・グラファイト」と称されてきたものは、こ
のグラファイトである。
【0007】現在まで、キッシュグラファイトの純度を
向上させなおかつその粗寸法を保持させようとする努力
は商業的に満足すべきものでない。それらの努力は、一
般的には、多段の薬剤による浸出処理の使用を必要とす
るグラファイト含有鉱石の品位向上のために応用されて
いる従来から容認されている方法に追従するものであっ
た。そのような方法は、1993年1月のBureau
of MinesPreliminary Repo
rt No.415に発表されてり、そして、この研究
の延長はイングランド・スチール・インダストリース・
及びアズバリィ・グラファイト・ミルズ社の協力によっ
てなされ、これは1993年6月13〜18日の「エア
・アンド・ウエィスト・マネイジメント・アソシエーシ
ョン」の第86回年次議会で発表された。これらの技法
は、グラファイト純度を95〜96%炭素にまで品位向
上させることが可能であるけれども、必要とされる多数
の浸出工程のために非常にコストが嵩む。98または9
9%炭素の純度へのキッシュグラファイトの品位向上の
別法も、上記Bureau of Minesリポート
に発表されているが、このものも強酸を用いる多段工程
からなるものであり、そのような酸の取扱い、回収及び
廃棄に伴なう安全処置を採るための付随コストが必要で
ある。
向上させなおかつその粗寸法を保持させようとする努力
は商業的に満足すべきものでない。それらの努力は、一
般的には、多段の薬剤による浸出処理の使用を必要とす
るグラファイト含有鉱石の品位向上のために応用されて
いる従来から容認されている方法に追従するものであっ
た。そのような方法は、1993年1月のBureau
of MinesPreliminary Repo
rt No.415に発表されてり、そして、この研究
の延長はイングランド・スチール・インダストリース・
及びアズバリィ・グラファイト・ミルズ社の協力によっ
てなされ、これは1993年6月13〜18日の「エア
・アンド・ウエィスト・マネイジメント・アソシエーシ
ョン」の第86回年次議会で発表された。これらの技法
は、グラファイト純度を95〜96%炭素にまで品位向
上させることが可能であるけれども、必要とされる多数
の浸出工程のために非常にコストが嵩む。98または9
9%炭素の純度へのキッシュグラファイトの品位向上の
別法も、上記Bureau of Minesリポート
に発表されているが、このものも強酸を用いる多段工程
からなるものであり、そのような酸の取扱い、回収及び
廃棄に伴なう安全処置を採るための付随コストが必要で
ある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】要するに、従来はキッ
シュグラファイトを99%以上のグラファイト性炭素含
量にまで経済的に品位向上させることが不可能であった
ので、本発明はこれを課題とするものである。
シュグラファイトを99%以上のグラファイト性炭素含
量にまで経済的に品位向上させることが不可能であった
ので、本発明はこれを課題とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】キッシュからのフレーク
状グラファイトが、容認しうる回収率及びフレーク寸法
の最小の減少で99%以上グラファイト性炭素含量にま
で経済的に品位向上されうることが発見された。
状グラファイトが、容認しうる回収率及びフレーク寸法
の最小の減少で99%以上グラファイト性炭素含量にま
で経済的に品位向上されうることが発見された。
【0010】簡単に言及すれば、本発明は、キッシュか
ら高純度フレーク状グラファイトを回収するに際して、
まずコンセントレート(濃厚物)を形成し、そのキッシ
ュグラファイト濃厚物を篩別して好ましくは約+200
メッシュ画分を保留させ、その画分を軽度にミリング
し、そのミリングした画分を篩別して好ましくは+20
0メッシュ画分を保留し、その画分を希酸に混入して弱
酸性パルプを作り、そのパルプをアトリションに付し、
その酸性パルプを中和し、そしてそのキッシュグラファ
イトを浮選により回収することを特徴とする方法に関す
る。
ら高純度フレーク状グラファイトを回収するに際して、
まずコンセントレート(濃厚物)を形成し、そのキッシ
ュグラファイト濃厚物を篩別して好ましくは約+200
メッシュ画分を保留させ、その画分を軽度にミリング
し、そのミリングした画分を篩別して好ましくは+20
0メッシュ画分を保留し、その画分を希酸に混入して弱
酸性パルプを作り、そのパルプをアトリションに付し、
その酸性パルプを中和し、そしてそのキッシュグラファ
イトを浮選により回収することを特徴とする方法に関す
る。
【0011】本発明は、以下さらに詳しく説明するよう
に、その方法により得られる製品グラファイトならびに
その方法を実施するための装置システムにも関する。
に、その方法により得られる製品グラファイトならびに
その方法を実施するための装置システムにも関する。
【0012】最初に、本発明がキッシュグラファイトの
品位向上に向けられていること、ここに用語「グラファ
イト」が単独で用いられる場合、その用語が出発物質は
実際にはキッシュグラファイトであることを示すもので
あることが了解されるべきである。さらには、前記のよ
うに、「粗」フレーク状グラファイトは、その高価値の
故に最も望ましく、その「粗」なる用語はここにおいて
使用される場合に、その大部分、すなわち少なくとも5
0重量%、最も好ましくは約70重量%以上が+100
メッシュ篩上に保留されるグラファイトに適用される。
ここで用いているメッシュ寸法はタイラー篩を指す。
品位向上に向けられていること、ここに用語「グラファ
イト」が単独で用いられる場合、その用語が出発物質は
実際にはキッシュグラファイトであることを示すもので
あることが了解されるべきである。さらには、前記のよ
うに、「粗」フレーク状グラファイトは、その高価値の
故に最も望ましく、その「粗」なる用語はここにおいて
使用される場合に、その大部分、すなわち少なくとも5
0重量%、最も好ましくは約70重量%以上が+100
メッシュ篩上に保留されるグラファイトに適用される。
ここで用いているメッシュ寸法はタイラー篩を指す。
【0013】キッシュからの高純度フレーク状グラファ
イトを製造する本発明の必須の工程として、希酸での処
理それに引き続くアトリション・ミリングが含まれる。
本発明方法におけるその他の工程として、濃厚化、浮選
及びボールミリングの使用が含まれる。しかし、高純度
キッシュグラファイトを得る能力は、希酸液をキッシュ
グラファイトと一緒にし、次いでそれをアトリションに
付すことによる。これは濃厚酸の廃棄問題を克服しつ
つ、粗な高純度フレーク状グラファイトの製造を促進す
る。
イトを製造する本発明の必須の工程として、希酸での処
理それに引き続くアトリション・ミリングが含まれる。
本発明方法におけるその他の工程として、濃厚化、浮選
及びボールミリングの使用が含まれる。しかし、高純度
キッシュグラファイトを得る能力は、希酸液をキッシュ
グラファイトと一緒にし、次いでそれをアトリションに
付すことによる。これは濃厚酸の廃棄問題を克服しつ
つ、粗な高純度フレーク状グラファイトの製造を促進す
る。
【0014】本発明の方法及び装置は、添付の図面に例
示されているが、それらの図面において材料移動のため
の種々のポンプは丸の中のPによって示されている。製
鋼工場から得られ、従来の浮選のような品位向上技法に
よって任意の所望キッシュグラファイト率(%)にまで
予め濃厚化されている原料キッシュ10を、慣用調質タ
ンク11に加え、ここでNO.2燃料油及びMIBC
(メチルイソブチルカルビノール)のような慣用浮選助
剤と混合する。この時点でのキッシュグラファイトの純
度は必須の要件ではなく、供給原料の濃度は操作の経済
性と個々のキッシュ源によって左右される。本発明を以
下では、35%のグラファイト系炭素を含むキッシュ濃
厚物に関して説明することとする。必要ならば、図面に
示されるように、グラファイト濃厚物12は、粗浮選槽
13でさらに濃厚化して、70%を越えるグラファイト
系炭素を含む濃厚物14とすることもできる。
示されているが、それらの図面において材料移動のため
の種々のポンプは丸の中のPによって示されている。製
鋼工場から得られ、従来の浮選のような品位向上技法に
よって任意の所望キッシュグラファイト率(%)にまで
予め濃厚化されている原料キッシュ10を、慣用調質タ
ンク11に加え、ここでNO.2燃料油及びMIBC
(メチルイソブチルカルビノール)のような慣用浮選助
剤と混合する。この時点でのキッシュグラファイトの純
度は必須の要件ではなく、供給原料の濃度は操作の経済
性と個々のキッシュ源によって左右される。本発明を以
下では、35%のグラファイト系炭素を含むキッシュ濃
厚物に関して説明することとする。必要ならば、図面に
示されるように、グラファイト濃厚物12は、粗浮選槽
13でさらに濃厚化して、70%を越えるグラファイト
系炭素を含む濃厚物14とすることもできる。
【0015】槽13からオーバーフローの状態で得られ
る濃厚物14は、次いで、鉱物処理に使用される任意の
慣用タイプの湿式スクリーンへ移され、ここで+200
メッシュ画分が捕集される。槽13及びスクリーン15
からの排出物16は、排出物溜17内で併合されて、後
述するようなさらなる処理を受ける。排出物16は鉄1
8と、多量の石灰を含む残りの排出物とからなり、この
鉄は再利用のため回路Aで回収されうる。
る濃厚物14は、次いで、鉱物処理に使用される任意の
慣用タイプの湿式スクリーンへ移され、ここで+200
メッシュ画分が捕集される。槽13及びスクリーン15
からの排出物16は、排出物溜17内で併合されて、後
述するようなさらなる処理を受ける。排出物16は鉄1
8と、多量の石灰を含む残りの排出物とからなり、この
鉄は再利用のため回路Aで回収されうる。
【0016】得られる+200メッシュのグラファイト
画分は、次いで慣用ペブルミル20で行われるような軽
度ミリングに付されるけれども、粗大グラファイトフレ
ークの崩れをできだけ少なくするような条件下でこのミ
リングに付される。小型低密度の非金属製の球状または
短軸円柱状磨砕媒体(適当には「Cylpebs」なる
商標の2分の1インチ径の市販品)を用いるのが好まし
い。ミル20でのそのような+200メッシュグラファ
イト濃厚物のミリングはキッシュからのフレーク状物
(グラファイト)の効率的解放に役立つものであり、か
くして、ミル20から得られる排出物は95%のグラフ
ァイト系炭素のレベルまで容易に濃厚化されうる。注目
すべきことは、小寸法の磨砕媒体の使用によって、粗大
フレーク状物(グラファイト)の崩解が最小化されるこ
とであり、適当なミリング時間は約5〜20分間であ
る。
画分は、次いで慣用ペブルミル20で行われるような軽
度ミリングに付されるけれども、粗大グラファイトフレ
ークの崩れをできだけ少なくするような条件下でこのミ
リングに付される。小型低密度の非金属製の球状または
短軸円柱状磨砕媒体(適当には「Cylpebs」なる
商標の2分の1インチ径の市販品)を用いるのが好まし
い。ミル20でのそのような+200メッシュグラファ
イト濃厚物のミリングはキッシュからのフレーク状物
(グラファイト)の効率的解放に役立つものであり、か
くして、ミル20から得られる排出物は95%のグラフ
ァイト系炭素のレベルまで容易に濃厚化されうる。注目
すべきことは、小寸法の磨砕媒体の使用によって、粗大
フレーク状物(グラファイト)の崩解が最小化されるこ
とであり、適当なミリング時間は約5〜20分間であ
る。
【0017】ここで磨砕されたフレーク状グラファイト
濃厚物21は任意の慣用湿式スクリーン22で篩別さ
れ、+200メッシュ画分23が捕集される。鉄18及
び残りの−200メッシュ排出物流19は、スクリーン
22から下側に出て、さらなる処理のために溜17へ加
えられる。
濃厚物21は任意の慣用湿式スクリーン22で篩別さ
れ、+200メッシュ画分23が捕集される。鉄18及
び残りの−200メッシュ排出物流19は、スクリーン
22から下側に出て、さらなる処理のために溜17へ加
えられる。
【0018】次いで濃厚物23は慣用混合タンク25内
で希酸24と混合される。1基の混合タンクのみが図面
に示されているけれども、原料全体の適切な酸処理を確
保するには、2基またはそれ以上の連結された混合タン
クを用いることもできる。
で希酸24と混合される。1基の混合タンクのみが図面
に示されているけれども、原料全体の適切な酸処理を確
保するには、2基またはそれ以上の連結された混合タン
クを用いることもできる。
【0019】本発明の重要な特徴は一つは、酸が高濃度
である必要がないことであり、実際には極めて希薄な、
約7.5%以下の程度の濃度でありうる。塩酸はその取
扱い容易性及び低価格の故に、好ましく使用される。完
全に解明されてはいないが、弱(低濃度)酸は、グラフ
ァイトフレークに結合している酸化物類のセメント様結
合を単に軟化させる機能を果たすものと信じられる。
である必要がないことであり、実際には極めて希薄な、
約7.5%以下の程度の濃度でありうる。塩酸はその取
扱い容易性及び低価格の故に、好ましく使用される。完
全に解明されてはいないが、弱(低濃度)酸は、グラフ
ァイトフレークに結合している酸化物類のセメント様結
合を単に軟化させる機能を果たすものと信じられる。
【0020】従って、弱酸(すなわち希酸)を最も良く
利用するために、この弱酸処理段階は、濃厚化物が最高
の可能な水準にまで物理的に清浄化されてしまった後に
のみ実施されるべきである。これによって、酸と反応す
る脈石状物質を減少せしめ、かくして酸必要量及び/ま
たはその濃度を著しく低減せしめるばかりでなく、脈石
状物とフレーク板晶との間の界面へ酸が到達してキッシ
ュグラファイト粒子の最小の崩解で高純度グラファイト
を解放しうるようになる。混合タンク中での酸と+20
0メッシュ画分との滞留時間は、原料の品位と所望の製
品品位とにより変る。
利用するために、この弱酸処理段階は、濃厚化物が最高
の可能な水準にまで物理的に清浄化されてしまった後に
のみ実施されるべきである。これによって、酸と反応す
る脈石状物質を減少せしめ、かくして酸必要量及び/ま
たはその濃度を著しく低減せしめるばかりでなく、脈石
状物とフレーク板晶との間の界面へ酸が到達してキッシ
ュグラファイト粒子の最小の崩解で高純度グラファイト
を解放しうるようになる。混合タンク中での酸と+20
0メッシュ画分との滞留時間は、原料の品位と所望の製
品品位とにより変る。
【0021】酸性のスラリー(あるいは「パルプ」とも
称される)26は、アトリション装置27で、好ましく
はアトリション用アジュバント(アトリタント)28の
添加の下に、アトリションに付される。適当なアトリシ
ョン用アジュバントは研磨剤鉱物砂、グラファイト系鉱
物またはそれらの混合物である。シリカ砂のような研磨
剤鉱物砂が好ましく、殊に、3.0以下の比重及び10
〜40メッシュのメッシュ寸法(最も好ましくは50%
が16メッシュとして50%が24メッシュの寸法)を
有するものが好ましい。
称される)26は、アトリション装置27で、好ましく
はアトリション用アジュバント(アトリタント)28の
添加の下に、アトリションに付される。適当なアトリシ
ョン用アジュバントは研磨剤鉱物砂、グラファイト系鉱
物またはそれらの混合物である。シリカ砂のような研磨
剤鉱物砂が好ましく、殊に、3.0以下の比重及び10
〜40メッシュのメッシュ寸法(最も好ましくは50%
が16メッシュとして50%が24メッシュの寸法)を
有するものが好ましい。
【0022】ここで用いられている「アトリション」な
る用語は、撹拌された水性パルプ中で表面不純物を物理
的に除去するのに充分な力で相互に激突し擦過する個々
のグラファイトフレークにより、あるいはグラファイト
フレークとアジュバントとにより発生される擦過または
研磨作用を意味する。前述のように、アトリション用ア
ジュバントは、アトリションを促進し、それによって、
粗大フレーク状物の最小の寸法減少のみで99重量%を
越える濃度となるようにフレークを解放するのに必要と
される時間をできるだけ短縮するように、使用される。
る用語は、撹拌された水性パルプ中で表面不純物を物理
的に除去するのに充分な力で相互に激突し擦過する個々
のグラファイトフレークにより、あるいはグラファイト
フレークとアジュバントとにより発生される擦過または
研磨作用を意味する。前述のように、アトリション用ア
ジュバントは、アトリションを促進し、それによって、
粗大フレーク状物の最小の寸法減少のみで99重量%を
越える濃度となるようにフレークを解放するのに必要と
される時間をできるだけ短縮するように、使用される。
【0023】そのようなアトリションは「WEMCO」
(商標)アトリション・スクラバーまたは「DENVE
R」(商標)アトリション・スクラバーのような市販の
アトリション装置を用いて満足に実施されうる。最も好
ましくは、少なくとも1組の対向ピッチ付きインペラー
を備えたアトリション装置を使用する。そのような装置
は、典型的にはガラス品位砂をスクラブ処理し、鉄鉱石
から粘土を除去し、及び弱結合凝集塊を解砕するのに使
用される。そのような清浄化及び凝集解砕用のために
は、その装置にはアジュバントを添加しない。
(商標)アトリション・スクラバーまたは「DENVE
R」(商標)アトリション・スクラバーのような市販の
アトリション装置を用いて満足に実施されうる。最も好
ましくは、少なくとも1組の対向ピッチ付きインペラー
を備えたアトリション装置を使用する。そのような装置
は、典型的にはガラス品位砂をスクラブ処理し、鉄鉱石
から粘土を除去し、及び弱結合凝集塊を解砕するのに使
用される。そのような清浄化及び凝集解砕用のために
は、その装置にはアジュバントを添加しない。
【0024】インペラー速度、パルプ固形分濃度、アト
リション時間等のような特定な最適条件は、任意のキッ
シュフレークグラファイト濃厚化物とアトリション装置
との組合せに対して、以下に詳述するところに従う簡便
な通常の実験によって、容易に決定されうる。最適の条
件は、得られるフレーク状グラファイトの純度及びアト
リション後に保存される種々のメッシュ寸法のフレーク
の割合に注目することにより容易に決定される。その両
者が最高である点が最適である。パルプ中の固形分、イ
ンペラー速度、アトリション時間等は、そのような最適
点が得られるまで変動されうる。
リション時間等のような特定な最適条件は、任意のキッ
シュフレークグラファイト濃厚化物とアトリション装置
との組合せに対して、以下に詳述するところに従う簡便
な通常の実験によって、容易に決定されうる。最適の条
件は、得られるフレーク状グラファイトの純度及びアト
リション後に保存される種々のメッシュ寸法のフレーク
の割合に注目することにより容易に決定される。その両
者が最高である点が最適である。パルプ中の固形分、イ
ンペラー速度、アトリション時間等は、そのような最適
点が得られるまで変動されうる。
【0025】アトリション・ミリング処理は周囲温度で
実施することができ、その際のアトリション時間は前記
のような因子に応じて変動する。酸性パルプ(スラリ
ー)は、好ましくは、約1:2:2.5の濃厚化物:ア
トリション用アジュバント:酸性水の重量比となるよう
に、アトリション用アジュバントと一緒にされる。この
ようにすると55%の固形分含量(重量基準)のスラリ
ーがもたらされる。上記の比は約20%から80%固形
分含量の範囲のスラリーを与えるように変えられうる。
個々の固形分含量は解放の容易性、原料品位、及び最終
製品の所望純度によって左右されるが、それは通常の実
験手段によって決定されうる。
実施することができ、その際のアトリション時間は前記
のような因子に応じて変動する。酸性パルプ(スラリ
ー)は、好ましくは、約1:2:2.5の濃厚化物:ア
トリション用アジュバント:酸性水の重量比となるよう
に、アトリション用アジュバントと一緒にされる。この
ようにすると55%の固形分含量(重量基準)のスラリ
ーがもたらされる。上記の比は約20%から80%固形
分含量の範囲のスラリーを与えるように変えられうる。
個々の固形分含量は解放の容易性、原料品位、及び最終
製品の所望純度によって左右されるが、それは通常の実
験手段によって決定されうる。
【0026】アトリションの完了後、アトリションされ
た材料45は、酸を除去し、そして−200メッシュの
脈石状物質のすべてを除去するために慣用スクリーンベ
ルト分離機30のような任意の装置中で洗浄/希釈用水
スプレー29に付される。その結果として、グラファイ
ト濃厚化物32、アトリション用アジュバント33及び
+200メッシュ脈石を含むフレーク状グラファイト流
31が得られる。この流れ31は好ましくは2回の浮選
サイクルに付される。
た材料45は、酸を除去し、そして−200メッシュの
脈石状物質のすべてを除去するために慣用スクリーンベ
ルト分離機30のような任意の装置中で洗浄/希釈用水
スプレー29に付される。その結果として、グラファイ
ト濃厚化物32、アトリション用アジュバント33及び
+200メッシュ脈石を含むフレーク状グラファイト流
31が得られる。この流れ31は好ましくは2回の浮選
サイクルに付される。
【0027】流れ31はまず慣用調質タンク34に入れ
られ、NO.2燃料油及びMIBCのような鉱石浮選に
使用される慣用浮選剤と混合される。調質後の濃厚化物
の流れ35は、次いで慣用浮選槽36及び37を通り、
ここで濃厚化物フレーク状グラファイトを含むオーバー
フロー38は慣用フイルター39でまず処理されて、可
及的に多くの水分を除去され、そして、濾過されて99
%程度のグラファイト系炭素を含む濃厚化物40は次い
で慣用の乾燥器、スクリーン及び充填装置41(図示せ
ず)へ送られる。
られ、NO.2燃料油及びMIBCのような鉱石浮選に
使用される慣用浮選剤と混合される。調質後の濃厚化物
の流れ35は、次いで慣用浮選槽36及び37を通り、
ここで濃厚化物フレーク状グラファイトを含むオーバー
フロー38は慣用フイルター39でまず処理されて、可
及的に多くの水分を除去され、そして、濾過されて99
%程度のグラファイト系炭素を含む濃厚化物40は次い
で慣用の乾燥器、スクリーン及び充填装置41(図示せ
ず)へ送られる。
【0028】槽37の排出流42は、ミル20へ戻さ
れ、さらに処理される。
れ、さらに処理される。
【0029】フイルター30から回収された酸性溶液及
び排出物流43は、中和及び廃棄回路Bへ送られる。
び排出物流43は、中和及び廃棄回路Bへ送られる。
【0030】図面には、利用可能であり、また本発明の
経済性を向上させる回路A、B及びCも示されている。
第1のものは、最初の粗浮選槽からの排出物流及び湿式
スクリーン15及び22からの排出物流の処理を行なう
回路Aである。合流された排出物流は鉄に富み、そして
溜17から、「Whirlsizer」(商標)のよう
な慣用分離器50へ供給されて、再利用されうる高比重
の富鉄下流濃厚化物51を生じさせる。一方石灰に富む
オーバーフロー52は、濾液43と合流されて、酸を中
和させ、回路Bでさらに処理されて、工程(プロセス)
で使用するための水と、埋立てられる抽出固形物とを与
える。
経済性を向上させる回路A、B及びCも示されている。
第1のものは、最初の粗浮選槽からの排出物流及び湿式
スクリーン15及び22からの排出物流の処理を行なう
回路Aである。合流された排出物流は鉄に富み、そして
溜17から、「Whirlsizer」(商標)のよう
な慣用分離器50へ供給されて、再利用されうる高比重
の富鉄下流濃厚化物51を生じさせる。一方石灰に富む
オーバーフロー52は、濾液43と合流されて、酸を中
和させ、回路Bでさらに処理されて、工程(プロセス)
で使用するための水と、埋立てられる抽出固形物とを与
える。
【0031】回路Bは、中和タンク60を含んでおり、
このタンクには流れ43、52および73が供給され
る。従って中性排出物を確保するにはそれにアルカリ性
物質を添加する必要があることもある。タンク60から
の中和された供給物61は慣用シックナー62へ移され
ここで工程(プロセス)の水流へ戻すための水63を除
き、より高い固形分の排出物64を生じさせる。後者は
埋立てられる。
このタンクには流れ43、52および73が供給され
る。従って中性排出物を確保するにはそれにアルカリ性
物質を添加する必要があることもある。タンク60から
の中和された供給物61は慣用シックナー62へ移され
ここで工程(プロセス)の水流へ戻すための水63を除
き、より高い固形分の排出物64を生じさせる。後者は
埋立てられる。
【0032】低濃度の酸を使用することにより、中和が
極めてわずかに必要とされるに過ぎないことが明らかで
ある。さらには、「Whirlsizer」のような分
離器での鉄分に富む濃厚化物を回収することによって、
このプロセスから最大量の鉄を脱除可能となる。
極めてわずかに必要とされるに過ぎないことが明らかで
ある。さらには、「Whirlsizer」のような分
離器での鉄分に富む濃厚化物を回収することによって、
このプロセスから最大量の鉄を脱除可能となる。
【0033】補助的な回路Cは浮選塔36からのアジュ
バント及び排出物流71を受ける湿式スクリーン70を
備えている。スクリーン70は、アトリション装置27
で使用するために返還されるアトリション用アジュバン
ト(砂)72を分離するような開口寸法であり、そして
前述のように排出物流73は、酸フイルター30からの
流れ及び分離器50からの流れ52と合流され、中和タ
ンク60内に入れられる。
バント及び排出物流71を受ける湿式スクリーン70を
備えている。スクリーン70は、アトリション装置27
で使用するために返還されるアトリション用アジュバン
ト(砂)72を分離するような開口寸法であり、そして
前述のように排出物流73は、酸フイルター30からの
流れ及び分離器50からの流れ52と合流され、中和タ
ンク60内に入れられる。
【0034】これらの独特かつ主要な工程及び装置配列
が高炭素分の粗大キッシュグラファイトフレークの経済
的回収を可能とされるものである。前記のように、従来
も99%炭素含量のグラファイトをキッシュから得るこ
とが可能であったが、これは時間の著しいコスト及び濃
厚酸の使用を伴うものであった。さらには、前記のよう
に、95%を越える炭素濃度での合理的回収をなすこと
は不可能であった。
が高炭素分の粗大キッシュグラファイトフレークの経済
的回収を可能とされるものである。前記のように、従来
も99%炭素含量のグラファイトをキッシュから得るこ
とが可能であったが、これは時間の著しいコスト及び濃
厚酸の使用を伴うものであった。さらには、前記のよう
に、95%を越える炭素濃度での合理的回収をなすこと
は不可能であった。
【0035】本発明方法はキッシュ中の実質上すべての
有用物質を取り出し、低コストで高純度の達成を可能と
しつつキッシュグラファイトの粗粒性を維持し、そして
埋立て材中に廃てられるキッシュの量を最少化するもの
である。
有用物質を取り出し、低コストで高純度の達成を可能と
しつつキッシュグラファイトの粗粒性を維持し、そして
埋立て材中に廃てられるキッシュの量を最少化するもの
である。
【0036】本発明を以下の実施例によりさらに説明す
るが、これらは例示の目的でなされるものである。
るが、これらは例示の目的でなされるものである。
【0037】〈実施例1〜4〉最適ミリング条件を決定
するために図面に示した装置システムを用いて、同一の
キッシュについて一連の4種の試験を実施した。このキ
ッシュは37%(重)の炭素を含んでいた。これを粗浮
選により約70〜75%炭素にまで濃厚化して、ペブル
・ミルに供給した。四つの濃厚化分画のそれぞれを同じ
ミルに対し、別々に供給した。ミリング時間を5分から
20分の間で変えた。ミリング処理された画分のそれぞ
れを、次いで試験して回収されたグラファイト系炭素含
量及び全炭素含量を測定した。結果は下記の通りであっ
た。
するために図面に示した装置システムを用いて、同一の
キッシュについて一連の4種の試験を実施した。このキ
ッシュは37%(重)の炭素を含んでいた。これを粗浮
選により約70〜75%炭素にまで濃厚化して、ペブル
・ミルに供給した。四つの濃厚化分画のそれぞれを同じ
ミルに対し、別々に供給した。ミリング時間を5分から
20分の間で変えた。ミリング処理された画分のそれぞ
れを、次いで試験して回収されたグラファイト系炭素含
量及び全炭素含量を測定した。結果は下記の通りであっ
た。
【0038】
【表1】 実施例 ミリング時間(分) グラファイト系炭素(Cg)(%) 1 5 93.1 2 10 95.0 3 15 94.9 4 20 95.5
【0039】最も注目すべきは、ミリング時間を5分か
ら20分まで増加したときに粗大グラファイトフレーク
の崩れが極めてわずかであったことである。結果を下記
に示す。
ら20分まで増加したときに粗大グラファイトフレーク
の崩れが極めてわずかであったことである。結果を下記
に示す。
【0040】
【表2】
【0041】〈実施例5及び6〉これらの実施例におい
て同一の37%グラファイト系炭素(Cg)含量のキッ
シュを粗砕で約70%超のCgの濃厚化物にまで濃厚化
したが、それは機械的(物理的)作用による濃度向上の
みに付した。
て同一の37%グラファイト系炭素(Cg)含量のキッ
シュを粗砕で約70%超のCgの濃厚化物にまで濃厚化
したが、それは機械的(物理的)作用による濃度向上の
みに付した。
【0042】一方の画分(実施例5)は5分間ミリング
処理し、200メッシュスクリーンで湿式篩別し、通過
物を除去し、そして+200メッシュ画分(89.8%
のグラファイト系炭素含量)を、最初に希酸で処理する
ことなく、2700r.p.m.において5分間アトリ
ションに付した。アトリション処理された濃厚化物を次
いで2回の浮選浮浄に付し、得られた+200メッシュ
の製品を分析した。キッシュグラファイト回収率は約7
5%であり、グラファイト系炭素含量は97.9%であ
り、すべての+200メッシュグラファイトは+98%
のグラファイト系炭素含量であった。
処理し、200メッシュスクリーンで湿式篩別し、通過
物を除去し、そして+200メッシュ画分(89.8%
のグラファイト系炭素含量)を、最初に希酸で処理する
ことなく、2700r.p.m.において5分間アトリ
ションに付した。アトリション処理された濃厚化物を次
いで2回の浮選浮浄に付し、得られた+200メッシュ
の製品を分析した。キッシュグラファイト回収率は約7
5%であり、グラファイト系炭素含量は97.9%であ
り、すべての+200メッシュグラファイトは+98%
のグラファイト系炭素含量であった。
【0043】実施例6では、同じ濃厚化物及び処理工程
を用いたが、200メッシュ篩別の代りに2段階の浮選
を行ないまたアトリション時間を10分に増加した。実
施例5のものを越える炭素含量の向上がなかったが、粗
大フレーク状グラファイトの回収率は18.7%から1
1.5%にまで減少した。
を用いたが、200メッシュ篩別の代りに2段階の浮選
を行ないまたアトリション時間を10分に増加した。実
施例5のものを越える炭素含量の向上がなかったが、粗
大フレーク状グラファイトの回収率は18.7%から1
1.5%にまで減少した。
【0044】これらの試験は、アトリション単独では9
9%超Cgの粗大フレーク状グラファイトをキッシュか
ら得るには不適当であることを明らかにするものであ
る。
9%超Cgの粗大フレーク状グラファイトをキッシュか
ら得るには不適当であることを明らかにするものであ
る。
【0045】〈実施例7〉本発明による試験を実施し、
33.6%Cgの粗キッシュを粗砕濃厚化に付して7
2.4%Cgの濃厚化物とした。
33.6%Cgの粗キッシュを粗砕濃厚化に付して7
2.4%Cgの濃厚化物とした。
【0046】湿式篩別により+200メッシュ画分を得
て、これを5%HCl水溶液と約10分間混合した。こ
の酸性パルプを次いで、パドル回転2100r.p.
m.のアトリション装置で5分間アトリション処理し
た。このときにアトリション用アジュバントとして砂を
使用し、濃厚化物/アジュバント比を1:2とし、また
固形分含量は55%であった。
て、これを5%HCl水溶液と約10分間混合した。こ
の酸性パルプを次いで、パドル回転2100r.p.
m.のアトリション装置で5分間アトリション処理し
た。このときにアトリション用アジュバントとして砂を
使用し、濃厚化物/アジュバント比を1:2とし、また
固形分含量は55%であった。
【0047】アトリション後、酸性パルプを中和し、2
回の浮選に付し、フレーク状グラファイトを回収し、試
験した。
回の浮選に付し、フレーク状グラファイトを回収し、試
験した。
【0048】このフレーク状グラファイトは99.3%
のグラファイト系炭素の純度を有し、そのうちの75%
が100メッシュスクリーン上に保持された。この試験
の最終回収率は、原料からのグラファイト系炭素のうち
の87%であった。
のグラファイト系炭素の純度を有し、そのうちの75%
が100メッシュスクリーン上に保持された。この試験
の最終回収率は、原料からのグラファイト系炭素のうち
の87%であった。
【0049】従って本発明の方法及び装置システムは、
+100メッシュ上に保持される70%またはそれ以上
の物質につき99%(重)超の炭素純度の+200メッ
シュキッシュグラファイトを生じさせ、また85%以上
のグラファイト系炭素の総合回収率(原料基準)が可能
である。このことは非常に好ましい結果であり、経済的
に有意義であり、殊に従来廃物と考えられてきた物を処
理することに関して有意義である。
+100メッシュ上に保持される70%またはそれ以上
の物質につき99%(重)超の炭素純度の+200メッ
シュキッシュグラファイトを生じさせ、また85%以上
のグラファイト系炭素の総合回収率(原料基準)が可能
である。このことは非常に好ましい結果であり、経済的
に有意義であり、殊に従来廃物と考えられてきた物を処
理することに関して有意義である。
【0050】製鉄又は製鋼工程からのキッシュは広く変
動しうるものであるが、本発明の技術の範囲内で使用可
能である。当業者であれば、通常の実験によって任意の
キッシュからフレーク状グラファイトを回収するために
実施可能なかつ最適の条件を設定できる。
動しうるものであるが、本発明の技術の範囲内で使用可
能である。当業者であれば、通常の実験によって任意の
キッシュからフレーク状グラファイトを回収するために
実施可能なかつ最適の条件を設定できる。
【0051】以上本発明を特定の好ましい具体例によっ
て説明したが、本発明の範囲がこれらに限定されるもの
ではなく、本発明の精神の範囲内にはそれらが変形、改
変及び均等物も含まれるものである。
て説明したが、本発明の範囲がこれらに限定されるもの
ではなく、本発明の精神の範囲内にはそれらが変形、改
変及び均等物も含まれるものである。
【図1】本発明方法のフロー線図の一例。
【図2】本発明方法の別のフロー線図の一例。
10 原料キッシュ 12 グラファイト濃厚化物 24 希酸 27 アトリション装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 596031491 2121 San Jacinto Stre et,Suite 2500,Dallas, Texas 75201,United St ates of America (72)発明者 マキシム・レデュ カナダ国ジェイエイチ4 3ピー5 ケベ ック州,ロングーユ,ドゥ・ノルマンディ ー 495 (72)発明者 ジャン−ギュイ・スト−イレール カナダ国ジェイ77 2ケイ7 ケベック 州,サン・アントイーヌ,36・アヴニュー 280 (72)発明者 クリスティアン・ガルソー カナダ国ジー0エックス 2ティー0 ケ ベック州,サン・グレゴアール,ベルジュ ロン 4600
Claims (12)
- 【請求項1】 キッシュを濃厚化して高炭素含量のグラ
ファイト濃厚物を形成し、その濃厚物を篩別して約+2
00メッシュの画分を捕集し、フレークを少なくとも約
90%の炭素の純度にまで解放するのに充分なエネルギ
ー水準及び時間でその画分をミリングし、そのミリング
処理済みの画分を篩別して+200メッシュの画分を捕
集し、その+200メッシュ画分を希酸と混合して弱酸
性パルプを作り、そのパルプをアジュバントと一緒にし
て、グラファイトに残留している不純物を除去し、そし
て+100メッシュ上にフレーク状グラファイトの大部
分を保留するのに充分なエネルギー水準及び時間にわた
り、アトリションに付し、その酸性パルプを中和し、そ
して中和パルプからフレーク状グラファイトを回収する
ことからなる高純度フレーク状グラファイトを生成させ
るためのキッシュを品位向上させる方法。 - 【請求項2】 希酸が7.5%またはそれ以上の濃度の
鉱酸である請求項1の方法。 - 【請求項3】 弱酸性パルプの固形分含量が20〜80
%である請求項2の方法。 - 【請求項4】 ミリング処理された+200メッシュ画
分、アトリション用アジュバント、及び弱酸性パルプ中
の酸性水の重量比が1:2:2.5である請求項3の方
法。 - 【請求項5】 鉱酸が塩酸である請求項4の方法。
- 【請求項6】 弱酸性パルプが約5〜20分間アトリシ
ョンされる請求項5の方法。 - 【請求項7】 アトリション用アジュバントが3.0よ
り小さい比重の研磨材鉱物砂である請求項6の方法。 - 【請求項8】 キッシュを品位向上させて高純度フレー
ク状グラファイトを製造するための装置であって:キッ
シュを濃厚化して高炭素含量とするための手段;その濃
厚化手段と操作的に関連していて第1の大粒径高炭素画
分を捕集するための第1篩別手段;その第1篩別手段と
連通していてその大粒径高炭素画分をミリングするため
のミリング手段;そのミリング手段と操作的に関連して
いてミリング処理された画分を第2の大粒径高炭素画分
に分離するための第2の篩別手段と;その第2篩別手段
と連通していて希酸、その第2大粒径高炭素画分及びア
トリション用アジュバントのパルプを作るための混合手
段;その混合手段と流体連通していてそのパルプをアト
リション処理するためのアトリション手段;そのアトリ
ション処理されたパルプを収受し、中和するための手
段;及びその中和されたパルプから高純度フレーク状グ
ラファイトを回収するための手段;からなることを特徴
とする上記装置。 - 【請求項9】 第1篩別手段が+200メッシュ画分を
与えるようなサイズとされている請求項8の装置。 - 【請求項10】 第2篩別手段が+200メッシュ画分
を与えるようなサイズとされている請求項9の装置。 - 【請求項11】 中和されたパルプからフレーク状グラ
ファイトを回収するための手段が浮選手段を含む請求項
10の装置。 - 【請求項12】 混合手段の手前で得られるキッシュの
うちで酸性パルプを作るために使用されずまたアトリシ
ョン処理されない画分を移送する手段と操作的に関連し
ていて、そのキッシュから鉄を回収するための手段を含
んでいる請求項8の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8166990A JPH1017313A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | キッシュの品位向上方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8166990A JPH1017313A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | キッシュの品位向上方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1017313A true JPH1017313A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=15841357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8166990A Pending JPH1017313A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | キッシュの品位向上方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1017313A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008078389A1 (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-03 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | フライアッシュ中の未燃カーボン除去装置 |
| CN109926195A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-06-25 | 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 | 一种晶质石墨浮选粗精矿精细分质方法 |
| JP2020512263A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-04-23 | アルセロールミタル | キッシュグラファイトから還元酸化グラフェンを製造するための方法 |
| JP2021523868A (ja) * | 2018-05-16 | 2021-09-09 | アルセロールミタル | キッシュグラファイトから純粋なグラフェンを製造するための方法 |
| US11939221B2 (en) | 2018-05-23 | 2024-03-26 | Arcelormittal | Method for the manufacture of reduced graphene oxide from electrode graphite scrap |
| US12049402B2 (en) | 2018-05-23 | 2024-07-30 | Arcelormittal | Method for the manufacture of graphene oxide from electrode graphite scrap |
| US12103852B2 (en) | 2018-05-16 | 2024-10-01 | Arcelormittal | Method for the manufacture of graphene oxide from Kish graphite |
| US12162759B2 (en) | 2018-05-16 | 2024-12-10 | Arcelormittal | Method for the manufacture of reduced graphene oxide from Kish graphite |
-
1996
- 1996-06-27 JP JP8166990A patent/JPH1017313A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008078389A1 (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-03 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | フライアッシュ中の未燃カーボン除去装置 |
| US8127931B2 (en) | 2006-12-26 | 2012-03-06 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | Apparatus for removing unburned carbon in fly ash |
| JP2020512263A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-04-23 | アルセロールミタル | キッシュグラファイトから還元酸化グラフェンを製造するための方法 |
| US11390529B2 (en) | 2017-03-31 | 2022-07-19 | Arcelormittal | Method for the manufacture of reduced graphene oxide from Kish graphite |
| JP2021523868A (ja) * | 2018-05-16 | 2021-09-09 | アルセロールミタル | キッシュグラファイトから純粋なグラフェンを製造するための方法 |
| US11535519B2 (en) | 2018-05-16 | 2022-12-27 | Arcelormittal | Method for the manufacture of pristine graphene from Kish graphite |
| US12103852B2 (en) | 2018-05-16 | 2024-10-01 | Arcelormittal | Method for the manufacture of graphene oxide from Kish graphite |
| US12162759B2 (en) | 2018-05-16 | 2024-12-10 | Arcelormittal | Method for the manufacture of reduced graphene oxide from Kish graphite |
| US11939221B2 (en) | 2018-05-23 | 2024-03-26 | Arcelormittal | Method for the manufacture of reduced graphene oxide from electrode graphite scrap |
| US12049402B2 (en) | 2018-05-23 | 2024-07-30 | Arcelormittal | Method for the manufacture of graphene oxide from electrode graphite scrap |
| CN109926195A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-06-25 | 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 | 一种晶质石墨浮选粗精矿精细分质方法 |
| CN109926195B (zh) * | 2019-03-14 | 2021-07-30 | 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 | 一种晶质石墨浮选粗精矿精细分质方法 |
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