JPH1017565A - オキサゾリン化合物 - Google Patents
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた糖加水分解酵素阻害活性作用を有し、抗
肥満薬、抗糖尿病薬及び抗ＨＩＶ剤として開発できる有
用な化合物を提供すること。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、ｎは１乃至２０の整数を示し、ｍは０又は１を
示す。］で表わされる優れた糖加水分解酵素阻害活性作
用を有するアミノピラノースを結合した新規なオキサゾ
リン化合物。
肥満薬、抗糖尿病薬及び抗ＨＩＶ剤として開発できる有
用な化合物を提供すること。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、ｎは１乃至２０の整数を示し、ｍは０又は１を
示す。］で表わされる優れた糖加水分解酵素阻害活性作
用を有するアミノピラノースを結合した新規なオキサゾ
リン化合物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、糖加水分解酵素
阻害活性作用を有し、抗肥満薬、抗糖尿病薬及び抗ＨＩ
Ｖ剤として有用なアミノヘキソピラノースを結合したオ
キサゾリン化合物に関する。
阻害活性作用を有し、抗肥満薬、抗糖尿病薬及び抗ＨＩ
Ｖ剤として有用なアミノヘキソピラノースを結合したオ
キサゾリン化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】糖加水分解酵素阻害活性作用を有し、抗
肥満薬、抗糖尿病薬及び抗ＨＩＶ剤として有用なピペリ
ジン類縁体であるアミノヘキソピラノースを結合したオ
キサゾリン化合物は知られていない。
肥満薬、抗糖尿病薬及び抗ＨＩＶ剤として有用なピペリ
ジン類縁体であるアミノヘキソピラノースを結合したオ
キサゾリン化合物は知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】抗肥満薬、抗糖尿病薬
又は抗ＨＩＶ剤として有用な化合物の開発である。
又は抗ＨＩＶ剤として有用な化合物の開発である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本願発明者等は、糖加水
分解酵素阻害活性作用を有し、抗肥満薬、抗糖尿病薬及
び抗ＨＩＶ剤として有用な化合物の合成とその薬理活性
について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、アミノヘ
キソピラノースを結合した新規なオキサゾリン化合物が
優れた糖加水分解酵素阻害活性作用を有することを見出
し、本発明を完成した。
分解酵素阻害活性作用を有し、抗肥満薬、抗糖尿病薬及
び抗ＨＩＶ剤として有用な化合物の合成とその薬理活性
について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、アミノヘ
キソピラノースを結合した新規なオキサゾリン化合物が
優れた糖加水分解酵素阻害活性作用を有することを見出
し、本発明を完成した。
【０００５】
【発明の実施の形態】即ち、一般式
【０００６】
【化２】
【０００７】［式中、ｎは１乃至２０の整数を示し、ｍ
は０又は１を示す。］で表わされる優れた糖加水分解酵
素阻害活性作用を有する新規なピペリジン類縁体である
アミノヘキソピラノースを結合したオキサゾリン化合物
を提供するものである。
は０又は１を示す。］で表わされる優れた糖加水分解酵
素阻害活性作用を有する新規なピペリジン類縁体である
アミノヘキソピラノースを結合したオキサゾリン化合物
を提供するものである。
【０００８】上記一般式（Ｉ）において、アミノヘキソ
ピラノースは例えば、ノジリマイシン、デオキシノジリ
マイシン、ガラクトスタチン、デオキシガラクトスタチ
ン、マンノジリマイシン、デオキシマンノジリマイシン
のようなアミノ六炭糖であり、好適には、デオキシノジ
リマイシンである。
ピラノースは例えば、ノジリマイシン、デオキシノジリ
マイシン、ガラクトスタチン、デオキシガラクトスタチ
ン、マンノジリマイシン、デオキシマンノジリマイシン
のようなアミノ六炭糖であり、好適には、デオキシノジ
リマイシンである。
【０００９】好適な化合物としては、 １．ｍは０であり、アミノヘキソピラノースがデオキシ
ノジリマイシンである化合物又は ２．ｍは１であり、ｎが１乃至３であり、アミノヘキソ
ピラノースがデオキシノジリマイシンである化合物であ
る。
ノジリマイシンである化合物又は ２．ｍは１であり、ｎが１乃至３であり、アミノヘキソ
ピラノースがデオキシノジリマイシンである化合物であ
る。
【００１０】本発明の化合物の具体例を以下に示すがこ
れに限られるものではない。
れに限られるものではない。
【００１１】 ──────────────────────────────────── １．Ｎ−［４−ヒドロキシメチル−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５ ，６−トリヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−１− デオキシノジリマイシン ２．Ｎ−［４−ヒドロキシメチル−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５ ，６−トリヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−１− デオキシマンノジリマイシン ３．Ｎ−［４−ヒドロキシメチル−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５ ，６−トリヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−１− デオキシガラクトスタチン ４．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］プロピル ］−１−デオキシノジリマイシン ５．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］プロピル ］−１−デオキシマンノジリマイシン ６．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］プロピル ］−１−デオキシガラクトスタチン ７．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］エチル］ −１−デオキシノジリマイシン ８．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］エチル］ −１−デオキシマンノジリマイシン ９．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］エチル］ −１−デオキシガラクトスタチン 10．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ブチル］ −１−デオキシガラクトスタチン 11．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ブチル］ −１−デオキシマンノジリマイシン 12．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ブチル］ −１−デオキシガラクトスタチン 13．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ペンチル ］−１−デオキシノジリマイシン 14．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ペンチル ］−１−デオキシマンノジリマイシン 15．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ペンチル ］−１−デオキシガラクトスタチン 16．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ヘキシル ］−１−デオキシノジリマイシン 17．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ヘキシル ］−１−デオキシマンノジリマイシン 18．Ｎ−［［［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６α，６ａα）］−４−（ヒ ドロキシメチル）−３ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリ ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］アミノ］ヘキシル ］−１−デオキシガラクトスタチン ────────────────────────────────────
【００１２】
【製造方法】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
は、下記のＡ法、Ｂ法及びＢ’法により製造される。
は、下記のＡ法、Ｂ法及びＢ’法により製造される。
【００１３】
【化３】
【００１４】
【化４】
【００１５】
【化５】
【００１６】上記、反応式において、ｎ及びｍは前述の
ものと同意義を示す。Ｂｎは置換基を有してもよいベン
ジル基を示し、Ｒは、トリアルキルシリル基を示す。Ｂ
ｕtはtert- ブチル基を示す。一般式（VII ）で表され
る化合物は置換基を有してもよいベンジル基で保護され
た前記のアミノヘキソピラノースである。
ものと同意義を示す。Ｂｎは置換基を有してもよいベン
ジル基を示し、Ｒは、トリアルキルシリル基を示す。Ｂ
ｕtはtert- ブチル基を示す。一般式（VII ）で表され
る化合物は置換基を有してもよいベンジル基で保護され
た前記のアミノヘキソピラノースである。
【００１７】一般式（IA）は一般式（Ｉ）で表される化
合物のうち、ｍが０である化合物を示し、一般式（IB）
は、一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、ｍが１であ
る化合物を示す。
合物のうち、ｍが０である化合物を示し、一般式（IB）
は、一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、ｍが１であ
る化合物を示す。
【００１８】１．Ａ法：Ａ法は一般式（Ｉ）で表される
化合物において、ｍが０を示す化合物（IA）を製造する
方法を示す。
化合物において、ｍが０を示す化合物（IA）を製造する
方法を示す。
【００１９】（第Ａ１工程）：本工程は、不活性溶剤
中、化合物（II）のアミノ基を保護後、水酸基を保護化
し、一般式（III ）及び（IV）で表される化合物を製造
する工程である。
中、化合物（II）のアミノ基を保護後、水酸基を保護化
し、一般式（III ）及び（IV）で表される化合物を製造
する工程である。
【００２０】一般式（II）で表される化合物は、ジャー
ナル・オブ・オルガニックケミストリー第５９巻８１３
−８２２頁（１９９４）に開示された化合物である。使
用される不活性溶剤は、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；及びそれらの一種と水の混合物を挙げるこ
とができる。好適には、テトラヒドロフランと水との混
合物である。
ナル・オブ・オルガニックケミストリー第５９巻８１３
−８２２頁（１９９４）に開示された化合物である。使
用される不活性溶剤は、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；及びそれらの一種と水の混合物を挙げるこ
とができる。好適には、テトラヒドロフランと水との混
合物である。
【００２１】アミノ基の保護試薬としてはベンジルオキ
シカルボニルクロライド、４−メトキシベンジルオキシ
カルボニルクロライド、２，４−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニルクロライドのような置換又は無置換のベ
ンジルオキシカルボニルハライドが用いられるが、好適
には、ベンジルオキシカルボニルクロライドである。そ
の際に用いられる脱ハロゲン化水素剤として、炭酸水素
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、又は
炭酸カリウムのような炭酸塩、トリエチルアミンのよう
な三級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン
（ＤＭＡＰ）のようなピリジン類が用いられるが好適に
は、ピリジンである。
シカルボニルクロライド、４−メトキシベンジルオキシ
カルボニルクロライド、２，４−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニルクロライドのような置換又は無置換のベ
ンジルオキシカルボニルハライドが用いられるが、好適
には、ベンジルオキシカルボニルクロライドである。そ
の際に用いられる脱ハロゲン化水素剤として、炭酸水素
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、又は
炭酸カリウムのような炭酸塩、トリエチルアミンのよう
な三級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン
（ＤＭＡＰ）のようなピリジン類が用いられるが好適に
は、ピリジンである。
【００２２】反応温度は、通常０乃至６０℃であり、反
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
【００２３】反応終了後、処理することなく次の工程で
ある水酸基の保護化を行う。
ある水酸基の保護化を行う。
【００２４】水酸基の保護化試薬としては、トリメチル
シリルクロライド、ジメチルtert-ブチルシリルクロラ
イド、ジフェニルtert- ブチルシリルクロライドのよう
なトリアルキルシリルハライド又はアルキルジアリルシ
リルハライドであり、好適にはジメチルtert- ブチルシ
リルクロライドである。その際に用いられる脱ハロゲン
化水素剤として、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジ
ン（ＤＭＡＰ）のようなピリジン類が用いられるが好適
には、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）であ
る。
シリルクロライド、ジメチルtert-ブチルシリルクロラ
イド、ジフェニルtert- ブチルシリルクロライドのよう
なトリアルキルシリルハライド又はアルキルジアリルシ
リルハライドであり、好適にはジメチルtert- ブチルシ
リルクロライドである。その際に用いられる脱ハロゲン
化水素剤として、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジ
ン（ＤＭＡＰ）のようなピリジン類が用いられるが好適
には、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）であ
る。
【００２５】反応終了後、本反応の目的物は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。
【００２６】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。
【００２７】一般式（III ）で表される化合物は、上記
のトリアルキルシリル化反応により、一般式（IV）で表
される化合物に変換される。
のトリアルキルシリル化反応により、一般式（IV）で表
される化合物に変換される。
【００２８】（第Ａ２工程）：本工程は、不活性溶剤
中、触媒存在下、加水素分解により化合物（III ）のア
ミノ基の保護基を脱保護することによって一般式（Ｖ）
で表される化合物を製造する工程である。
中、触媒存在下、加水素分解により化合物（III ）のア
ミノ基の保護基を脱保護することによって一般式（Ｖ）
で表される化合物を製造する工程である。
【００２９】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メタノール、エタノールのよ
うなアルコール類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；
ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類を挙
げることができる。好適には、テトラヒドロフランであ
る。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メタノール、エタノールのよ
うなアルコール類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；
ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類を挙
げることができる。好適には、テトラヒドロフランであ
る。
【００３０】用いられる触媒は、パラジウム、パラジウ
ム−炭素又は水酸化パラジウム−炭素であり、好適に
は、パラジウム−炭素である。反応温度は、通常０乃至
６０℃であり、反応時間は、１０分乃至７日間であり、
好適には１時間乃至３日である。
ム−炭素又は水酸化パラジウム−炭素であり、好適に
は、パラジウム−炭素である。反応温度は、通常０乃至
６０℃であり、反応時間は、１０分乃至７日間であり、
好適には１時間乃至３日である。
【００３１】反応終了後、触媒を濾去し得られた反応液
を濃縮し得られた残渣は次の工程に利用する。
を濃縮し得られた残渣は次の工程に利用する。
【００３２】（第Ａ３工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（Ｖ）で表される化合物のアミノ基を変換す
ることによって一般式（VI）で表されるイソチオシアネ
ート化合物を製造する工程である。
中、一般式（Ｖ）で表される化合物のアミノ基を変換す
ることによって一般式（VI）で表されるイソチオシアネ
ート化合物を製造する工程である。
【００３３】まず、化合物（VI）の前駆体である化合物
（Ｖ）のアザキサンテート塩を不活性溶剤中、化合物
（Ｖ）、３級アミン及び二硫化炭素の反応により製造す
る。
（Ｖ）のアザキサンテート塩を不活性溶剤中、化合物
（Ｖ）、３級アミン及び二硫化炭素の反応により製造す
る。
【００３４】３級アミンは、トリメチルアミン又はトリ
エチルアミンが用いられるが、トリエチルアミンが好適
である。
エチルアミンが用いられるが、トリエチルアミンが好適
である。
【００３５】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類が用いられるが、好適
には、メチレンクロリドである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類が用いられるが、好適
には、メチレンクロリドである。
【００３６】反応温度は、通常０乃至３０℃であり、反
応時間は、３０分乃至１５時間であり、好適には１乃至
３時間である。
応時間は、３０分乃至１５時間であり、好適には１乃至
３時間である。
【００３７】反応終了後、生成したキサンテート塩は処
理することなく次の工程に利用する。
理することなく次の工程に利用する。
【００３８】次に、イソチオシアネート化合物（VI）を
製造する。該アザキサンテート塩をトリエチルアミン及
び２−クロロ−１−メチルピリジニウムイオダイドの存
在下に処理することによって得られる。
製造する。該アザキサンテート塩をトリエチルアミン及
び２−クロロ−１−メチルピリジニウムイオダイドの存
在下に処理することによって得られる。
【００３９】反応温度は、通常０乃至３０℃であり、反
応時間は、３０分乃至１５時間であり、好適には１乃至
３時間である。
応時間は、３０分乃至１５時間であり、好適には１乃至
３時間である。
【００４０】反応終了後、触媒を濾去し反応液を濃縮し
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーすること
により目的物のイソチオシアネート化合物が得られる。
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーすること
により目的物のイソチオシアネート化合物が得られる。
【００４１】（第Ａ４工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（VI）で表されるイソチオシアネート化合物
と一般式（VII ）で表される保護化されたアミノヘキソ
ピラノース（デオキシノジリマイシン等）を触媒存在下
に反応させることによって一般式（VIII）で表される化
合物を製造する工程である。
中、一般式（VI）で表されるイソチオシアネート化合物
と一般式（VII ）で表される保護化されたアミノヘキソ
ピラノース（デオキシノジリマイシン等）を触媒存在下
に反応させることによって一般式（VIII）で表される化
合物を製造する工程である。
【００４２】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類を挙げることができる。好
適には、テトラヒドロフランである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類を挙げることができる。好
適には、テトラヒドロフランである。
【００４３】触媒としては、トリエチルアミンのような
三級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンの
ようなピリジン類が用いられるが好適には、トリエチル
アミンである。
三級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンの
ようなピリジン類が用いられるが好適には、トリエチル
アミンである。
【００４４】反応温度は、通常０乃至１００℃であり、
反応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間
乃至３日である。
反応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間
乃至３日である。
【００４５】反応終了後、触媒を濾去し反応液を濃縮し
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーすること
により目的物が得られる。
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーすること
により目的物が得られる。
【００４６】（第Ａ５工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（VIII）で表される化合物を触媒存在下に水
酸基の脱保護化（脱シリル化）することによって一般式
（IX）で表される化合物を製造する工程である。
中、一般式（VIII）で表される化合物を触媒存在下に水
酸基の脱保護化（脱シリル化）することによって一般式
（IX）で表される化合物を製造する工程である。
【００４７】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類を挙げることができる。好適に
は、メタノール又はテトラヒドロフランである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類を挙げることができる。好適に
は、メタノール又はテトラヒドロフランである。
【００４８】触媒としては、テトラメチルアンモニウム
フルオライドのような四級アミン類又は塩酸が用いられ
る。
フルオライドのような四級アミン類又は塩酸が用いられ
る。
【００４９】反応温度は、室温乃至５０℃であり、反応
時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃至
３日である。
時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃至
３日である。
【００５０】反応終了後、触媒を濾去し反応液を濃縮し
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーするか又
は反応液が塩酸−メタノールの場合は濃縮することによ
り目的物が得られる。
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーするか又
は反応液が塩酸−メタノールの場合は濃縮することによ
り目的物が得られる。
【００５１】（第Ａ６工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（IX）で表される化合物を触媒存在下に環化
することによって一般式（Ｘ）で表される化合物を製造
する工程である。
中、一般式（IX）で表される化合物を触媒存在下に環化
することによって一般式（Ｘ）で表される化合物を製造
する工程である。
【００５２】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、アセトニトリルのようなニトリル
類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類を挙げることができる。好適には、アセトニ
トリルである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、アセトニトリルのようなニトリル
類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類を挙げることができる。好適には、アセトニ
トリルである。
【００５３】トリエチルアミンのような三級アミン、ピ
リジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン
類又は三級アミンと２−クロロ−３−エチルベンゾキサ
ゾリウムテトラフルオロボレート混合物が用いられるが
好適には、トリエチルアミンと２−クロロ−３−エチル
ベンゾキサゾリウムテトラフルオロボレート混合物であ
る。
リジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン
類又は三級アミンと２−クロロ−３−エチルベンゾキサ
ゾリウムテトラフルオロボレート混合物が用いられるが
好適には、トリエチルアミンと２−クロロ−３−エチル
ベンゾキサゾリウムテトラフルオロボレート混合物であ
る。
【００５４】反応温度は、室温乃至５０℃であり、反応
時間は、１０分乃至７日間であり、好適には２０分乃至
３日である。
時間は、１０分乃至７日間であり、好適には２０分乃至
３日である。
【００５５】反応終了後、反応液を濃縮し得られた残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーすることにより目的物
が得られる。
をシリカゲルクロマトグラフィーすることにより目的物
が得られる。
【００５６】（第Ａ７工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（Ｘ）で表される化合物を触媒存在下に加水
素分解し水酸基の保護基の脱保護化（脱ベンジル化）す
ることによって一般式（IA）で表される化合物を製造す
る工程である。使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メタノール、エタノールのよ
うなアルコール類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類を挙
げることができる。好適には、メタノールである。
中、一般式（Ｘ）で表される化合物を触媒存在下に加水
素分解し水酸基の保護基の脱保護化（脱ベンジル化）す
ることによって一般式（IA）で表される化合物を製造す
る工程である。使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メタノール、エタノールのよ
うなアルコール類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類を挙
げることができる。好適には、メタノールである。
【００５７】触媒としては、パラジウム−炭素又は、水
酸化パラジウム−炭素が用いられるるが、好適には、水
酸化パラジウム−炭素である。
酸化パラジウム−炭素が用いられるるが、好適には、水
酸化パラジウム−炭素である。
【００５８】反応温度は、室温乃至５０℃であり、反応
時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃至
３日である。
時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃至
３日である。
【００５９】反応終了後、触媒を濾去し反応液を濃縮し
得られた残渣をイオン交換樹脂クロマトグラフィーで精
製することにより目的物が得られる。
得られた残渣をイオン交換樹脂クロマトグラフィーで精
製することにより目的物が得られる。
【００６０】２．Ｂ法：Ｂ法は一般式（Ｉ）で表される
化合物において、ｍが１を示す化合物（IB）を製造する
方法を示す。
化合物において、ｍが１を示す化合物（IB）を製造する
方法を示す。
【００６１】（第Ｂ１工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（XI）で表される保護化アミノアルカン酸と
一般式（VII ）で表される保護化アミノピラノースを脱
水剤存在下に反応させ一般式（XII ）で表される化合物
を製造する工程である。
中、一般式（XI）で表される保護化アミノアルカン酸と
一般式（VII ）で表される保護化アミノピラノースを脱
水剤存在下に反応させ一般式（XII ）で表される化合物
を製造する工程である。
【００６２】一般式（XI）で表される保護化アミノアル
カン酸は、公知の市販品である。該保護基はtert- ブト
キシカルボニル基である。
カン酸は、公知の市販品である。該保護基はtert- ブト
キシカルボニル基である。
【００６３】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類を挙げることができる。好
適には、テトラヒドロフラン又は塩化メチレンである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類を挙げることができる。好
適には、テトラヒドロフラン又は塩化メチレンである。
【００６４】触媒は、トリエチルアミンのような三級ア
ミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭ
Ｐ）のようなピリジン類が用いられるが好適には、４−
ジメチルアミノピリジンである。
ミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭ
Ｐ）のようなピリジン類が用いられるが好適には、４−
ジメチルアミノピリジンである。
【００６５】脱水剤は、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（ＤＣＣ）ジフェニルカルボジイミド又はジイソプロ
ピルカルボジイミドであるが好適には、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド（ＤＣＣ）である。
ド（ＤＣＣ）ジフェニルカルボジイミド又はジイソプロ
ピルカルボジイミドであるが好適には、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド（ＤＣＣ）である。
【００６６】反応温度は、通常０乃至６０℃であり、反
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
【００６７】反応終了後、反応混合物を処理後シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製される。
ルカラムクロマトグラフィーにより精製される。
【００６８】（第Ｂ２工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（XII ）で表される化合物を該化合物のアミ
ノヘキソピラノース類に結合したアシル基を還元し一般
式（XIII）で表される化合物を製造する工程である。
中、一般式（XII ）で表される化合物を該化合物のアミ
ノヘキソピラノース類に結合したアシル基を還元し一般
式（XIII）で表される化合物を製造する工程である。
【００６９】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類を挙げることができる。好適には、テ
トラヒドロフランである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類を挙げることができる。好適には、テ
トラヒドロフランである。
【００７０】使用される還元剤は、リチウムアルミニウ
ムヒドリド又はトリ弗化ホウ素・テトラヒドロフラン錯
体であるが、好適にはトリ弗化ホウ素・テトラヒドロフ
ラン錯体である。
ムヒドリド又はトリ弗化ホウ素・テトラヒドロフラン錯
体であるが、好適にはトリ弗化ホウ素・テトラヒドロフ
ラン錯体である。
【００７１】反応温度は、通常０乃至６０℃であり、反
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
【００７２】反応終了後、処理することなく次の工程を
行う。
行う。
【００７３】（第Ｂ３工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（XIII）で表される化合物を脱保護剤存在下
に該化合物のアミノヘキソピラノース類に結合したアル
キル基末端の保護基を加水分解し、アミノ基をフリーに
した一般式（XIV ）で表される化合物を製造する工程で
ある。
中、一般式（XIII）で表される化合物を脱保護剤存在下
に該化合物のアミノヘキソピラノース類に結合したアル
キル基末端の保護基を加水分解し、アミノ基をフリーに
した一般式（XIV ）で表される化合物を製造する工程で
ある。
【００７４】使用される不活性溶剤は、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類を挙げることができる。好適には、テ
トラヒドロフランである。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類を挙げることができる。好適には、テ
トラヒドロフランである。
【００７５】使用される脱保護剤は好適には、トリフル
オロ酢酸である。
オロ酢酸である。
【００７６】反応温度は、通常０乃至６０℃であり、反
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
応時間は、１０分乃至７日間であり、好適には１時間乃
至３日である。
【００７７】反応終了後、反応混合物を処理後シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製される。
ルカラムクロマトグラフィーにより精製される。
【００７８】（第Ｂ４工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（XIV ）で表される化合物を第Ａ３工程で得
られた一般式（VII ）で表される化合物を第Ａ４工程と
同条件下で反応し、一般式（XV）で表されるチオ尿素化
合物を製造する工程である。
中、一般式（XIV ）で表される化合物を第Ａ３工程で得
られた一般式（VII ）で表される化合物を第Ａ４工程と
同条件下で反応し、一般式（XV）で表されるチオ尿素化
合物を製造する工程である。
【００７９】（第Ｂ５工程）：本工程は、一般式（XV）
で表される化合物を第Ａ５工程と同条件下で反応し、一
般式（XVI ）で表される化合物を製造する工程である。
で表される化合物を第Ａ５工程と同条件下で反応し、一
般式（XVI ）で表される化合物を製造する工程である。
【００８０】（第Ｂ６工程）：本工程は、一般式（XVI
）で表される化合物を第Ａ６工程と同条件下で反応
し、一般式（XVII）で表される化合物を製造する工程で
ある。
）で表される化合物を第Ａ６工程と同条件下で反応
し、一般式（XVII）で表される化合物を製造する工程で
ある。
【００８１】（第Ｂ７工程）：本工程は、一般式（XVI
I）で表される化合物を第Ａ７工程と同条件下で反応
し、一般式（IB）で表される化合物を製造する工程であ
る。
I）で表される化合物を第Ａ７工程と同条件下で反応
し、一般式（IB）で表される化合物を製造する工程であ
る。
【００８２】３．Ｂ’法：Ｂ’法はＢ法における一般式
（XV）で表される化合物を一般式（XIV ）で表される化
合物から、Ｂ法とは別の方法によって製造する方法であ
る。
（XV）で表される化合物を一般式（XIV ）で表される化
合物から、Ｂ法とは別の方法によって製造する方法であ
る。
【００８３】（第Ｂ’１工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（XIV ）で表される化合物を第Ａ３工程と同
条件で反応し、一般式（XVIII ）で表される化合物を製
造する工程である。
中、一般式（XIV ）で表される化合物を第Ａ３工程と同
条件で反応し、一般式（XVIII ）で表される化合物を製
造する工程である。
【００８４】（第Ｂ’２工程）：本工程は、不活性溶剤
中、一般式（XV）で表される化合物と一般式（Ｖ）で表
される化合物を第Ａ４工程と同条件で反応し、一般式
（XV）で表されるチオ尿素化合物を製造する工程であ
る。
中、一般式（XV）で表される化合物と一般式（Ｖ）で表
される化合物を第Ａ４工程と同条件で反応し、一般式
（XV）で表されるチオ尿素化合物を製造する工程であ
る。
【００８５】以下、本発明を実施例をあげて、更に具体
的に説明する。
的に説明する。
【００８６】
【００８７】
【実施例１】 （１ａ）［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５β）］
−５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−１−（tert−
ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２，３，４−ト
リス（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）シクロペン
タン−１−オ−ル（II）及び［１Ｒ−（１α，２β，３
α，４β，５β）］−５−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−３，４−ビス（tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ）シクロペンタン−１，２−ジオール（IIIa） アミノサイクリトール（II，３．６ｇ，２０．１ｍｍｏ
ｌ）、１６５ｍｌの水−テトラヒドロフラン（２：１）
及びピリジン（１４ｇ，２０．１ｍｍｏｌ）からなる水
溶液を激しく攪拌下にベンジルオキシカルボニルクロリ
ド（１１．０ｇ，６４．５ｍｍｏｌ）を０〜５℃で加え
た。同温度で３０分攪拌後、反応混合物は減圧濃縮し高
真空ポンプで乾燥した。残渣はジメチルホルムアミド
（以下、ＤＭＦ，２０ｍｌ）に溶解し、この溶液にジメ
チルアミノピリジン（以下、ＤＭＡＰ，１８．０ｇ，１
４７ｍｍｏｌ）及びtert−ブチルジメチルシリルクロリ
ド（１８．０ｇ，１４７ｍｍｏｌ）を加えた。混合物は
１６時間、２０〜２５℃で攪拌し、酢酸エチルで希釈し
た。１Ｍ−塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム及びブリ
ンで洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥後、硫酸マグネ
シウムを濾去し、減圧濃縮して得られた混合物をシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーを行った。シクロヘ
キサン：酢酸エチル＝１０：１の溶液で溶出すると標題
化合物IIIaが５．２９ｇ（収率：３４％）得られた。ま
た、シクロヘキサン：酢酸エチル＝４：１の溶液で溶出
すると標題化合物IVa が１．４ｇ（収率：１１％）得ら
れた。
−５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−１−（tert−
ブチルジメチルシリルオキシメチル）−２，３，４−ト
リス（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）シクロペン
タン−１−オ−ル（II）及び［１Ｒ−（１α，２β，３
α，４β，５β）］−５−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−３，４−ビス（tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ）シクロペンタン−１，２−ジオール（IIIa） アミノサイクリトール（II，３．６ｇ，２０．１ｍｍｏ
ｌ）、１６５ｍｌの水−テトラヒドロフラン（２：１）
及びピリジン（１４ｇ，２０．１ｍｍｏｌ）からなる水
溶液を激しく攪拌下にベンジルオキシカルボニルクロリ
ド（１１．０ｇ，６４．５ｍｍｏｌ）を０〜５℃で加え
た。同温度で３０分攪拌後、反応混合物は減圧濃縮し高
真空ポンプで乾燥した。残渣はジメチルホルムアミド
（以下、ＤＭＦ，２０ｍｌ）に溶解し、この溶液にジメ
チルアミノピリジン（以下、ＤＭＡＰ，１８．０ｇ，１
４７ｍｍｏｌ）及びtert−ブチルジメチルシリルクロリ
ド（１８．０ｇ，１４７ｍｍｏｌ）を加えた。混合物は
１６時間、２０〜２５℃で攪拌し、酢酸エチルで希釈し
た。１Ｍ−塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム及びブリ
ンで洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥後、硫酸マグネ
シウムを濾去し、減圧濃縮して得られた混合物をシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーを行った。シクロヘ
キサン：酢酸エチル＝１０：１の溶液で溶出すると標題
化合物IIIaが５．２９ｇ（収率：３４％）得られた。ま
た、シクロヘキサン：酢酸エチル＝４：１の溶液で溶出
すると標題化合物IVa が１．４ｇ（収率：１１％）得ら
れた。
【００８８】IIIa:核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl
3) δ：0.06-0.12(24H,m), 0.88(9H,s),0.89(9H,s), 09
0(18H,s), 3.06(1H,s,OH), 3.43-3.79(2H,m), 3.93(1H,
d,J=2.0Hz), 4.08(1H,s), 4.12(2H,s), 5.06(,5.12(2H,
AB-q,J=12.5Hz), 6.10(1H,d,J=7.2Hz,NH), 7.22-7.40(5
H,m). IVa :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：0.06-
0.11(18H,m), 0.87(9H,s),0.88(18H,s), 2.78(1H,d,J=
4.3Hz,OH), 3.79-3.92(4H,m), 4.03-4.09(2H,m),5.09(2
H,s), 7.32(5H,bs). （１ｂ）［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５β）］
−５−アミノ−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル）−２，３，４−トリス（tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）シクロペンタン−１−オ−ル（Ｖa ） 上記の得られた化合 IIIa （２．２９ｇ，３．７６ｍｍ
ｏｌ）、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦ，１００ｍ
ｌ）、１０％の塩化パラジウム−カーボン粉末（２５
ｇ）を触媒として含む溶液を８時間２４℃で水素気流中
で攪拌し、ろ過し、減圧濃縮すると標題化合物Ｖa が結
晶として２．２１ｇ（収率：９２％）得られた。ｍｐ７
９〜８２℃。
3) δ：0.06-0.12(24H,m), 0.88(9H,s),0.89(9H,s), 09
0(18H,s), 3.06(1H,s,OH), 3.43-3.79(2H,m), 3.93(1H,
d,J=2.0Hz), 4.08(1H,s), 4.12(2H,s), 5.06(,5.12(2H,
AB-q,J=12.5Hz), 6.10(1H,d,J=7.2Hz,NH), 7.22-7.40(5
H,m). IVa :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：0.06-
0.11(18H,m), 0.87(9H,s),0.88(18H,s), 2.78(1H,d,J=
4.3Hz,OH), 3.79-3.92(4H,m), 4.03-4.09(2H,m),5.09(2
H,s), 7.32(5H,bs). （１ｂ）［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５β）］
−５−アミノ−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル）−２，３，４−トリス（tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）シクロペンタン−１−オ−ル（Ｖa ） 上記の得られた化合 IIIa （２．２９ｇ，３．７６ｍｍ
ｏｌ）、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦ，１００ｍ
ｌ）、１０％の塩化パラジウム−カーボン粉末（２５
ｇ）を触媒として含む溶液を８時間２４℃で水素気流中
で攪拌し、ろ過し、減圧濃縮すると標題化合物Ｖa が結
晶として２．２１ｇ（収率：９２％）得られた。ｍｐ７
９〜８２℃。
【００８９】Ｖa:核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDC
l3) δ：0.09-0.11(24H,m), 0.89(9H,s),0.90(9H,s), 0
91(9H,s), 0.93(9H,s), 1.66(2H,bs,NH2), 3.00(1H,bs,
OH), 3.14(1H,d,J=5.2Hz,C5-H), 3.76,3.99(2H,AB-q,J=
10.3Hz), 3.83(1H,d,J=3.2Hz,C2-H), 3.90(1H,t,J=3.8H
z). （１ｃ）［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５β）］
−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
５−イソチオシアノ−２，３，４−トリス（tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）シクロペンタン−１−オル
（VIa ） 上記の得られた化合物Ｖa （５０８ｍｇ，０．７９８ｍ
ｍｏｌ）、メチレンクロリド（２０ｍｌ）の溶液に二流
化炭素（１２２ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）及びトリエチル
アミン（２０２ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）を窒素気流下
に２４℃で加えた。溶液は１時間攪拌後、この溶液にト
リエチルアミン（１６２ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）及び
２−クロロ−１−メチルピリジニウムヨーダイド（３０
７ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液は２４
℃で２．５時間窒素気流下で攪拌し、減圧濃縮し、酢酸
エチルで希釈し、飽和中炭酸ナトリウム水溶液、水、ブ
リン、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧濃縮
すると混合物を与え、その混合物をシリカゲル・カラム
クロマトグラフィーで精製した。シクロヘキサン：酢酸
エチル＝２４：１の溶液で溶出すると標題化合物 VIaが
４７３ｍｇ（収率：８７％）得られた。
l3) δ：0.09-0.11(24H,m), 0.89(9H,s),0.90(9H,s), 0
91(9H,s), 0.93(9H,s), 1.66(2H,bs,NH2), 3.00(1H,bs,
OH), 3.14(1H,d,J=5.2Hz,C5-H), 3.76,3.99(2H,AB-q,J=
10.3Hz), 3.83(1H,d,J=3.2Hz,C2-H), 3.90(1H,t,J=3.8H
z). （１ｃ）［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５β）］
−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
５−イソチオシアノ−２，３，４−トリス（tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）シクロペンタン−１−オル
（VIa ） 上記の得られた化合物Ｖa （５０８ｍｇ，０．７９８ｍ
ｍｏｌ）、メチレンクロリド（２０ｍｌ）の溶液に二流
化炭素（１２２ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）及びトリエチル
アミン（２０２ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）を窒素気流下
に２４℃で加えた。溶液は１時間攪拌後、この溶液にト
リエチルアミン（１６２ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ）及び
２−クロロ−１−メチルピリジニウムヨーダイド（３０
７ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液は２４
℃で２．５時間窒素気流下で攪拌し、減圧濃縮し、酢酸
エチルで希釈し、飽和中炭酸ナトリウム水溶液、水、ブ
リン、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、減圧濃縮
すると混合物を与え、その混合物をシリカゲル・カラム
クロマトグラフィーで精製した。シクロヘキサン：酢酸
エチル＝２４：１の溶液で溶出すると標題化合物 VIaが
４７３ｍｇ（収率：８７％）得られた。
【００９０】VIa: 核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl
3) δ：0.09-0.11(24H,m), 0.89(9H,s),0.91(9H,s), 09
3(9H,s), 3.44(1H,bs,OH), 3.73,3.95(2H,AB-q,J=10.3H
z), 3.83-3.90(2H,m), 3.96(1H,d,J=5.6Hz), 4.10(1H,d
t,J=<1.40Hz). （１ｄ）Ｎ−［［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５
β）］−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−１−ヒドロキシ−２，３，４−トリス（tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ）シクロペント−５−イル］
アミノチオカルボニル］−（１−デオキシ−２，３，
４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル）ノジリマイシン（VIII
a ） 化合物 VIa（５２．４ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）及び
テトラ−Ｏ−ベンジル−１−デオキシノジリマイシン
（VII,６７．８ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶
液を減圧濃縮すると混合物を与えるが、それにＴＨＦ
（０．１０ｍｌ）及びトリエチルアミン（９．５ｍｇ）
が加えられた。混合物は攪拌下に６０〜６５℃で３時間
加温後、シリカゲル・ＴＬＣクロマトグラフィーで精製
した。シクロヘキサン：酢酸エチル＝１０：１の溶液で
展開するとＲｆ＝０．４１１を示す標題化合物VIが８２
ｍｇ（収率：６８％）、出発物質の化合物VIIIa （１５
ｍｇ、２２％の回収）及びテトラ−Ｏ−ベンジル−１−
デオキシノジリマイシン（１０ｍｇ，９％の回収）が得
られた。
3) δ：0.09-0.11(24H,m), 0.89(9H,s),0.91(9H,s), 09
3(9H,s), 3.44(1H,bs,OH), 3.73,3.95(2H,AB-q,J=10.3H
z), 3.83-3.90(2H,m), 3.96(1H,d,J=5.6Hz), 4.10(1H,d
t,J=<1.40Hz). （１ｄ）Ｎ−［［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５
β）］−１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−１−ヒドロキシ−２，３，４−トリス（tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ）シクロペント−５−イル］
アミノチオカルボニル］−（１−デオキシ−２，３，
４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル）ノジリマイシン（VIII
a ） 化合物 VIa（５２．４ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）及び
テトラ−Ｏ−ベンジル−１−デオキシノジリマイシン
（VII,６７．８ｍｇ，０．１００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶
液を減圧濃縮すると混合物を与えるが、それにＴＨＦ
（０．１０ｍｌ）及びトリエチルアミン（９．５ｍｇ）
が加えられた。混合物は攪拌下に６０〜６５℃で３時間
加温後、シリカゲル・ＴＬＣクロマトグラフィーで精製
した。シクロヘキサン：酢酸エチル＝１０：１の溶液で
展開するとＲｆ＝０．４１１を示す標題化合物VIが８２
ｍｇ（収率：６８％）、出発物質の化合物VIIIa （１５
ｍｇ、２２％の回収）及びテトラ−Ｏ−ベンジル−１−
デオキシノジリマイシン（１０ｍｇ，９％の回収）が得
られた。
【００９１】VIIIa:核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDC
l3) δ：0.09(3H,s), 0.12(3H,s),0.15(3H,s), 0.17-0.
19(12H,m), 0.24(3H,s), 0.88(9H,s), 0.92(9H,s), 0.9
6(9H,s), 1.00(9H,s), 3.16(1H,s,OH), 3.59-3.75(3H,
m), 3.81-3.93(3H,m), 3.96-4.07(2H,m), 4.10(1H,s),
4.21(1H,m), 4.38-4.85(1H,m), 4.98(1H,m), 7.11(1H,
D,J=6.6Hz,NH), 7.34(20H,s). （１ｅ）Ｎ−［［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５
β）］−［１−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４
−（テトラヒドロキシ）シクロペント−５−イル］アミ
ノチオカルボニル］−（１−デオキシ−２，３，４，６
−テトラ−Ｏ−ベンジル）ノジリマイシン（IXa ） 化合物VIIIa （１４８ｍｇ，０．１２３ｍｍｏｌ）のＴ
ＨＦ（６ｍｌ）溶液に１Ｍのテトラブチルアンモニウム
フルオライド（１．２０ｍｌ，１．２０ｍｌ）のＴＨＦ
溶液を加えた。溶液は２４℃で３時間加温攪拌後、酢酸
エチルで希釈し、飽和中炭酸ナトリウム水溶液、水、ブ
リン、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液は減
圧濃縮すると残渣を与え、その残渣をシリカゲル・カラ
ムクロマトグラフィーで精製した。酢酸エチルで溶出
し、その後５％メタノール−酢酸エチルで溶出すると標
題化合物IXa が８５ｍｇ（収率：９３％）得られた。
l3) δ：0.09(3H,s), 0.12(3H,s),0.15(3H,s), 0.17-0.
19(12H,m), 0.24(3H,s), 0.88(9H,s), 0.92(9H,s), 0.9
6(9H,s), 1.00(9H,s), 3.16(1H,s,OH), 3.59-3.75(3H,
m), 3.81-3.93(3H,m), 3.96-4.07(2H,m), 4.10(1H,s),
4.21(1H,m), 4.38-4.85(1H,m), 4.98(1H,m), 7.11(1H,
D,J=6.6Hz,NH), 7.34(20H,s). （１ｅ）Ｎ−［［１Ｒ−（１α，２β，３α，４β，５
β）］−［１−（ヒドロキシメチル）−１，２，３，４
−（テトラヒドロキシ）シクロペント−５−イル］アミ
ノチオカルボニル］−（１−デオキシ−２，３，４，６
−テトラ−Ｏ−ベンジル）ノジリマイシン（IXa ） 化合物VIIIa （１４８ｍｇ，０．１２３ｍｍｏｌ）のＴ
ＨＦ（６ｍｌ）溶液に１Ｍのテトラブチルアンモニウム
フルオライド（１．２０ｍｌ，１．２０ｍｌ）のＴＨＦ
溶液を加えた。溶液は２４℃で３時間加温攪拌後、酢酸
エチルで希釈し、飽和中炭酸ナトリウム水溶液、水、ブ
リン、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液は減
圧濃縮すると残渣を与え、その残渣をシリカゲル・カラ
ムクロマトグラフィーで精製した。酢酸エチルで溶出
し、その後５％メタノール−酢酸エチルで溶出すると標
題化合物IXa が８５ｍｇ（収率：９３％）得られた。
【００９２】IXa:核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDC
l3) δ：3.46-3.80(10H,m), 3.96-4.04(3H,m), 4.31-4.
73(8H,m), 4.84(1H,t,J=6.2Hz,D2O 添加によりダブレッ
トに変化する。), 7.15-7.3134(21H,m, 含NH). （１ｆ）Ｎ−［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６
α，６ａα）］−４−（ヒドロキシメチル）−３ａ，
５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリヒドロ
キシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−
（１−デオキシ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジ
ル）ノジリマイシン（Ｘa ） 化合物IXa （５２ｍｇ，０．０７０ｍｍｏｌ）のアセト
ニトリル（３．５ｍｌ）溶液に２−クロロ−３−エチル
ベンゾキサゾリウムテトラフルオロボレート（３４．７
ｍｇ，０．１２９ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。１時間０
℃で攪拌した後、トリエチルアミン（３５ｍｇ，０．３
４７ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。更に０℃で１０分攪拌
後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグ
ラフィーした。１０％メタノール−酢酸エチルで溶出す
ると標題化合物Ｘa ４７ｍｇ（収率：９５％）得られ
た。
l3) δ：3.46-3.80(10H,m), 3.96-4.04(3H,m), 4.31-4.
73(8H,m), 4.84(1H,t,J=6.2Hz,D2O 添加によりダブレッ
トに変化する。), 7.15-7.3134(21H,m, 含NH). （１ｆ）Ｎ−［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６
α，６ａα）］−４−（ヒドロキシメチル）−３ａ，
５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリヒドロ
キシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−
（１−デオキシ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジ
ル）ノジリマイシン（Ｘa ） 化合物IXa （５２ｍｇ，０．０７０ｍｍｏｌ）のアセト
ニトリル（３．５ｍｌ）溶液に２−クロロ−３−エチル
ベンゾキサゾリウムテトラフルオロボレート（３４．７
ｍｇ，０．１２９ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。１時間０
℃で攪拌した後、トリエチルアミン（３５ｍｇ，０．３
４７ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。更に０℃で１０分攪拌
後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル・カラムクロマトグ
ラフィーした。１０％メタノール−酢酸エチルで溶出す
ると標題化合物Ｘa ４７ｍｇ（収率：９５％）得られ
た。
【００９３】Ｘa : 核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDC
l3+DMF-D7+D2O)δ：3.62-4.83(22H,m), 7.7.21-7.32(20
H,m) （１ｇ）Ｎ−［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６
α，６ａα）］−４−（ヒドロキシメチル）−３ａ，
５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリヒドロ
キシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−１
−デオキシ−ノジリマイシン（IAa ） 化合物Ｘa （５０ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）及びカーボ
ン−水酸化パラジウム（１．０ｇ，湿潤，デグッサタイ
プ，Ｐｄ含量２０％）を触媒として含むメタノール（１
０ｍｌ）溶液を６０℃で４０分間水素添加分解を行っ
た。反応混合物を濾過し、触媒はメタノール（１０ｍ
ｌ）で洗浄し、濾液に加え減圧濃縮した。残渣をアンバ
ーライトＣＧ５０（ＮＨ4 +タイプ／Ｈ+ タイプ＝３／
２，２０ｍｌ）・カラムクロマトグラフィーで精製し
た。０．５Ｍアンモニア水溶液で溶出（各々４ｍｌ）す
るとリオフィライズ後、粉末として、標題化合物IAa が
８．０ｍｇ（収率：３２％）得られた。
l3+DMF-D7+D2O)δ：3.62-4.83(22H,m), 7.7.21-7.32(20
H,m) （１ｇ）Ｎ−［［３ａＲ−（３ａα，４α，５β，６
α，６ａα）］−４−（ヒドロキシメチル）−３ａ，
５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリヒドロ
キシ−４Ｈ−シクロペントキサゾール−２−イル］−１
−デオキシ−ノジリマイシン（IAa ） 化合物Ｘa （５０ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）及びカーボ
ン−水酸化パラジウム（１．０ｇ，湿潤，デグッサタイ
プ，Ｐｄ含量２０％）を触媒として含むメタノール（１
０ｍｌ）溶液を６０℃で４０分間水素添加分解を行っ
た。反応混合物を濾過し、触媒はメタノール（１０ｍ
ｌ）で洗浄し、濾液に加え減圧濃縮した。残渣をアンバ
ーライトＣＧ５０（ＮＨ4 +タイプ／Ｈ+ タイプ＝３／
２，２０ｍｌ）・カラムクロマトグラフィーで精製し
た。０．５Ｍアンモニア水溶液で溶出（各々４ｍｌ）す
るとリオフィライズ後、粉末として、標題化合物IAa が
８．０ｍｇ（収率：３２％）得られた。
【００９４】 IAa:赤外吸収スペクトルνmax (nujol) ：3370,1665(shoulder),1640 cm-1 : FAB MS(positive)m/z351. High resolution FAB MS, Found:351.1383. calcd for Ｃ13Ｈ23Ｎ2 Ｏ9 ：351.1403 （２ａ）Ｎ−［３−（tert- ブトキシカルボニルアミ
ノ）プロピオニル］−１−デオキシノジリマイシン（XI
Ia） テトラベンジル−１−デオキシノジリマイシン（VIIa,
５２４ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）のメチレンクロリド
（１０ｍｌ）の溶液にＢｏｃ−β−アラニン（XIa,２２
７ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン
（以下、ＤＭＡＰと称する。１４７ｍｇ，１．２０ｍｍ
ｏｌ）及びジシクロヘキシルカルボジイミド（以下、Ｄ
ＣＣと略称する。２４８ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）を加
えた。混合物は２４℃で６時間攪拌後濾過し、濾液を減
圧濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーした。シ
クロヘキサン：酢酸エチル＝３：２で溶出すると、標題
化合物（XIIa）が６８３ｍｇ（収率：９８％）が得られ
た。
ノ）プロピオニル］−１−デオキシノジリマイシン（XI
Ia） テトラベンジル−１−デオキシノジリマイシン（VIIa,
５２４ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）のメチレンクロリド
（１０ｍｌ）の溶液にＢｏｃ−β−アラニン（XIa,２２
７ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン
（以下、ＤＭＡＰと称する。１４７ｍｇ，１．２０ｍｍ
ｏｌ）及びジシクロヘキシルカルボジイミド（以下、Ｄ
ＣＣと略称する。２４８ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）を加
えた。混合物は２４℃で６時間攪拌後濾過し、濾液を減
圧濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーした。シ
クロヘキサン：酢酸エチル＝３：２で溶出すると、標題
化合物（XIIa）が６８３ｍｇ（収率：９８％）が得られ
た。
【００９５】 XIIa:赤外吸収スペクトルνmax (film)：3584-2869,1711,1642 cm-1 :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：1.42(9H,s), 1.75(1H,broad, NH), 2.53(2H,bs), 3.32-4.12(8H,m), 4.25-4.80(9H,m), 5.31-5.38(1H,m), 7.2 1-7.34(20H,m) :元素分析値：Ｃ42Ｈ50Ｎ2 Ｏ7 ：計算値Ｃ，７２．６２；Ｈ，７．２５； Ｎ，４．０３: 実測値Ｃ，７２．１３；Ｈ，７．３１；Ｎ，４．０７ （２ｂ）Ｎ−［３（tert- ブトキシカルボニルアミノ）
プロピル］−１−デオキシノジリマイシン（XIIIa ） 化合物XIIa（６９５ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）に１Ｍの
ＢＨ3 −ＴＨＦ混合物（４０ｍｌ）を加える。この溶液
は２０〜２４℃で１６時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し
た。この溶液に１Ｍの塩酸を加え飽和重炭酸ナトリウム
で中和し、濾過し、濾液を減圧濃縮しシリカゲルカラム
クロマトグラフィーした。シクロヘキサン：酢酸エチル
＝３：２で溶出すると、標題化合物（XIIIa ）がガムと
して６８３ｍｇ（収率：９８％）が得られた。
プロピル］−１−デオキシノジリマイシン（XIIIa ） 化合物XIIa（６９５ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）に１Ｍの
ＢＨ3 −ＴＨＦ混合物（４０ｍｌ）を加える。この溶液
は２０〜２４℃で１６時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し
た。この溶液に１Ｍの塩酸を加え飽和重炭酸ナトリウム
で中和し、濾過し、濾液を減圧濃縮しシリカゲルカラム
クロマトグラフィーした。シクロヘキサン：酢酸エチル
＝３：２で溶出すると、標題化合物（XIIIa ）がガムと
して６８３ｍｇ（収率：９８％）が得られた。
【００９６】 XIIIa:赤外吸収スペクトルνmax (film)：3584-2809,1711 cm-1 :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：1.25(2H,bs), 1.43(9H,s), 2 .02(1H,t,J=10.4-11.0Hz), 2.24(1H,d,J=9.1Hz), 2.37(1H,m), 2.81(1H,m), 2.9 5-3.07(2H,m), 3.16(1H,m), 3.43-3.67(5H,m), 4.34,4.96(2H,AB-q,J=10.9Hz), 4.45,4.54(2H,AB-q,J=12.1Hz), 4.63,4.70(2H,AB-q,J=11.6Hz), 4.82(2H,t,J=1 1.5Hz), 5.25(1H,bs,NH),7.08-7.13(2H,m), 7.26-7.34(18H,m). :FAB MS(positive)m/z681(M+H)+. High resolution FAB MS(positive), Ca lcd. forＣ42Ｈ53Ｎ2 Ｏ6 ：681.3904. Found:681.3872. （２ｃ）Ｎ−（３- アミノプロピル）−１−デオキシノ
ジリマイシン（XIVa） 化合物 XIIIa（３６０ｍｇ，０．５２９ｍｍｏｌ）と１
５ｍｌのメチレンクロリドの溶液にトリフルオロ酢酸
（３ｍｌ）を加える。この溶液は２４℃で４５分攪拌
後、減圧濃縮し、エチルエーテルで希釈し、０．５Ｍ水
酸化ナトリウム、ブリンの順で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥後、減圧濃縮すると、標題化合物（XIII
a ）がガムとして２９１ｍｇ（収率：９５％）が得られ
た。
ジリマイシン（XIVa） 化合物 XIIIa（３６０ｍｇ，０．５２９ｍｍｏｌ）と１
５ｍｌのメチレンクロリドの溶液にトリフルオロ酢酸
（３ｍｌ）を加える。この溶液は２４℃で４５分攪拌
後、減圧濃縮し、エチルエーテルで希釈し、０．５Ｍ水
酸化ナトリウム、ブリンの順で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥後、減圧濃縮すると、標題化合物（XIII
a ）がガムとして２９１ｍｇ（収率：９５％）が得られ
た。
【００９７】 XIVa:赤外吸収スペクトルνmax (film)：3600-2780,1715-1580 cm-1 :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：1.43(9H,s), 1.53(1H,m), 1. 63(1H,m), 1.85(2H,bs,NH2,D2O交換), 2.14(1H,t,J=10.6Hz), 2.27(1H,d,J=9.2H z), 2.51(1H,ddd,J=4.6,8.6,13.2Hz), 2.63(2H,t,J=6.6Hz), 2.79(1H,m), 3.13( 1H,dd,J=4.6,11.2Hz),3.43-3.70(5H,m), 4.41,4.87(2H,AB-q,J=10.6Hz), 4.46(2 H,s), 4.66,4.71(2H,AB-q,J=11.2Hz), 4.81,4.96(2H,AB-q,J=10.6Hz), 7.13-7.1 7(2H,m), 7.24-7.38(18H,m). :FAB MS(positive)m/z581(M+H)+. High resolution FAB MS(positive), 計算値: Ｃ37Ｈ45Ｎ2 Ｏ4 ：581.3373. 実測値:581.3388. （２ｄ）Ｎ−［３- ［［１Ｒ−（１α，２β，３α，４
β，５β）］−［１−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル）−１−ヒドロキシ−２，３，４−トリス（te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）シクロペント−５−
イル］アミノプロピル］−１−デオキシ−２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−ベンジルノジリマイシン（XVa ） 化合物XIVa（９２ｍｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）と１−
（tert- ブチルジメチルシリルオキシメチル）−５−イ
ソチオシアノ−２，３，４−トリス（Ｏ−tert-ブチル
ジメチルシリルオキシ）シクロペンタン−１−オル（VI
a,１０７ｍｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）及び０．２０ｍｌ
のテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦ）の溶液を６０〜
６５℃で３時間加温攪拌後、減圧濃縮し、得られた残渣
をシリカゲル・カラムクロマトグラフィーで精製した。
シクロヘキサン：酢酸エチル＝４：１で溶出すると、標
題化合物（XVa ）がガムとして１６６ｍｇ（収率：８３
％）が得られた。
β，５β）］−［１−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル）−１−ヒドロキシ−２，３，４−トリス（te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）シクロペント−５−
イル］アミノプロピル］−１−デオキシ−２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−ベンジルノジリマイシン（XVa ） 化合物XIVa（９２ｍｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）と１−
（tert- ブチルジメチルシリルオキシメチル）−５−イ
ソチオシアノ−２，３，４−トリス（Ｏ−tert-ブチル
ジメチルシリルオキシ）シクロペンタン−１−オル（VI
a,１０７ｍｇ，０．１５８ｍｍｏｌ）及び０．２０ｍｌ
のテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦ）の溶液を６０〜
６５℃で３時間加温攪拌後、減圧濃縮し、得られた残渣
をシリカゲル・カラムクロマトグラフィーで精製した。
シクロヘキサン：酢酸エチル＝４：１で溶出すると、標
題化合物（XVa ）がガムとして１６６ｍｇ（収率：８３
％）が得られた。
【００９８】 XVa: 赤外吸収スペクトルνmax (film)：3100-2800(W), 2480,1640 cm-1. : 核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：0.09-0.12(24H,m), 0.90-0.9 3(36H,m), 1.26(1H,broad), 1.50-1.80(3H,m), 2.20(1H,t,J=10.7Hz), 2.32(1H, t,J=9.2Hz), 2.63(1H,m), 2.80(1H,m), 3.11(1H,dd,J=4.7,11.0Hz), 3.33(1H,m) , 3.42-3.78(8H,m), 3.90(1H,m), 3.97(1H,s), 4.35-4.97(8H,m), 7.08-7.11(2H ,m), 7.22-7.38(18H,m). : 元素分析値：Ｃ68Ｈ111 Ｎ3 Ｏ9 ＳＳｉ4 （１２５９．１）：計算値：Ｃ ，６４．８７；Ｈ，８．８９；Ｎ，３．３４；Ｓ，２．５５，実測値Ｃ，６５． ０８；Ｈ，８．９３；Ｎ，３．２９；Ｓ，２．５９． （２ｅ）Ｎ−［３- ［［１Ｒ−（１α，２β，３α，４
β，５β）］−［１−ヒドロキシメチル−１，２，３，
４−テトラ−（ヒドロキシ）シクロペント−５−イル］
アミノチオカルボニル］アミノプロピル］−１−デオキ
シ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルノジリマイ
シン・塩酸塩（XVIa） 化合物XVa （４７３ｍｇ，０．３７６ｍｍｏｌ）とメタ
ノール４７ｍｌの溶液に１０％塩酸（Ｗ／Ｗ）−メタノ
ール４７ｍｌの溶液を加えた。この溶液は２４℃で３時
間攪拌後濃縮すると、標題化合物（XVIa）が粉末として
３１４ｍｇ（収率：定量的）が得られた。
β，５β）］−［１−ヒドロキシメチル−１，２，３，
４−テトラ−（ヒドロキシ）シクロペント−５−イル］
アミノチオカルボニル］アミノプロピル］−１−デオキ
シ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルノジリマイ
シン・塩酸塩（XVIa） 化合物XVa （４７３ｍｇ，０．３７６ｍｍｏｌ）とメタ
ノール４７ｍｌの溶液に１０％塩酸（Ｗ／Ｗ）−メタノ
ール４７ｍｌの溶液を加えた。この溶液は２４℃で３時
間攪拌後濃縮すると、標題化合物（XVIa）が粉末として
３１４ｍｇ（収率：定量的）が得られた。
【００９９】 XVIa:赤外吸収スペクトルνmax (nujol) ：3320(broad), 1682,1638 cm-1 :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：1.48-60(2H,m), 2.09(1H,m), 2.31(1H,m), 2.46(1H,m), 2.65-2.80(2H,m), 3.08(1H,m), 3.30(1H,m), 3.40-3 .71(8H,m), 3.87-4.00(3H,m), 4.32-4.90(8H,m), 7.08-7.15(2H,m), 7.21-7.33( 18H,m) :FAB MS(positive)m/z1802(M+H)+. High resolution FAB MS(positive),計 算値: Ｃ44Ｈ56Ｎ3 Ｏ9 Ｓ：802.3735. 実測値:802.3748. :元素分析値：Ｃ44Ｈ55Ｎ3 Ｏ9 Ｓ／ＨＣｌ：計算値（８３８．５）：Ｃ， ６３．０３；Ｈ，６．７３；Ｎ，５．０１；Ｓ，３．８２；Ｃｌ，４．２３．実 測値Ｃ，６２．９０；Ｈ，６．７６；Ｎ，５．０３；Ｓ，３．６７；Ｃｌ，４． ６４． （２ｆ）Ｎ−［３- ［［３ａＲ−（３ａα，４α，５
β，６α，６ａα）］−（４−ヒドロキシメチル）−３
ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリヒ
ドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾル−２−イル］ア
ミノプロピル］−（１−デオキシ−２，３，４，６−テ
トラ−Ｏ−ベンジル）ノジリマイシン（XVIIa ） 化合物XVIa（５４ｍｇ，０．０６４ｍｍｏｌ）のアセト
ニトリル（３．５ｍｌ）のサスペンションに２−クロロ
−３−エチルベンゾキサゾリウム テトラフルオロボレ
ート（４０ｍｇ，０．１４８ｍｍｏｌ）を窒素気流中
で、０〜５℃冷却攪拌下に加えた。このサスペンション
は攪拌開始後直ちに溶液化した。１時間攪拌後、この溶
液に０℃で１時間攪拌後トリエチルアミンを加えた。更
に０℃で３０分攪拌後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
・カラムクロマトグラフィーした。酢酸エチル中メタノ
ール１０％溶液及び酢酸エチル中メタノール３０％溶液
で溶出すると、標題化合物（XVIIa ）とシリカゲルの混
合物が得られ、XVは酢酸エチルに溶解した。この溶液を
飽和中炭酸ナトリウム溶液及び飽和食塩水で洗浄後、硫
酸マグネシウム上で乾燥後、濾過し、溶液を減圧濃縮す
ると標題化合物XVIIaが黄色粉末として４０ｍｇ（収
率：７７％）が得られた。
β，６α，６ａα）］−（４−ヒドロキシメチル）−３
ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６−トリヒ
ドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾル−２−イル］ア
ミノプロピル］−（１−デオキシ−２，３，４，６−テ
トラ−Ｏ−ベンジル）ノジリマイシン（XVIIa ） 化合物XVIa（５４ｍｇ，０．０６４ｍｍｏｌ）のアセト
ニトリル（３．５ｍｌ）のサスペンションに２−クロロ
−３−エチルベンゾキサゾリウム テトラフルオロボレ
ート（４０ｍｇ，０．１４８ｍｍｏｌ）を窒素気流中
で、０〜５℃冷却攪拌下に加えた。このサスペンション
は攪拌開始後直ちに溶液化した。１時間攪拌後、この溶
液に０℃で１時間攪拌後トリエチルアミンを加えた。更
に０℃で３０分攪拌後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル
・カラムクロマトグラフィーした。酢酸エチル中メタノ
ール１０％溶液及び酢酸エチル中メタノール３０％溶液
で溶出すると、標題化合物（XVIIa ）とシリカゲルの混
合物が得られ、XVは酢酸エチルに溶解した。この溶液を
飽和中炭酸ナトリウム溶液及び飽和食塩水で洗浄後、硫
酸マグネシウム上で乾燥後、濾過し、溶液を減圧濃縮す
ると標題化合物XVIIaが黄色粉末として４０ｍｇ（収
率：７７％）が得られた。
【０１００】 XVIIa: 赤外吸収スペクトルνmax (nujol) ：3340(broad),1698 cm-1 : 核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3+DMF-d7+D2O)δ：3.62-4.83(22H, m), 7.21-7.32(20H,m). :核磁気共鳴スペクトル270MHz, (CDCl3) δ：1.50(2H,m), 2.04(1H,broad) , 2.25(1H,m), 2.37(1H,m), 2.70(1H,m), 2.98-3.22(3H,m), 3.37-3.70(5H,m), 3.86-4.10(3H,m), 4.20-4.95(11H,m), 7.05-7.12(2H,m), 7.20-7.37(18H,m) :FAB MS(positive)m/z768(M+H)+. High resolution FAB MS(positive), 計 算値: Ｃ44Ｈ54Ｎ3 Ｏ9 ：768.3858. 実測値:768.3868. :元素分析値：Ｃ44Ｈ53Ｎ3 Ｏ9 ：計算値Ｃ，６８．８２；Ｈ，６．９６； Ｎ，５．４７実測値Ｃ，６８．３０；Ｈ，６．８３；Ｎ，５．４８． （２ｇ）Ｎ−［３- ［［３ａＲ−（３ａα，４α，５
β，６α，６ａα）］−（４−ヒドロキシメチル）−３
ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６，−トリ
ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾル−２−イル］
アミノプロピル］−ノジリマイシン（IBa ） 化合物XVIIa （５０ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）の１０
ｍｌメタノール溶液に水酸化パラジウムをまぶしたカー
ボン粉末（５５ｍｇ，湿潤品，デグッサ・タイプ）を触
媒として加え、５０〜５５℃で２４時間還元分解を行っ
た。触媒を濾去後、濾液は減圧濃縮され、残渣は、アン
バーライトＣＧ５０（ＮＨ4 +タイプ／Ｈ+ タイプ＝３／
２，２０ｍｌ）でカラム・クロマトグラフィーを行っ
た。０．５Ｍのアンモニア、次いで１Ｍ．０のアンモニ
アで溶出すると標題化合物ＸVIが凍結乾燥後結晶として
２６ｍｇ（収率：９８％）得られた。
β，６α，６ａα）］−（４−ヒドロキシメチル）−３
ａ，５，６，６ａ−テトラヒドロ−４，５，６，−トリ
ヒドロキシ−４Ｈ−シクロペントキサゾル−２−イル］
アミノプロピル］−ノジリマイシン（IBa ） 化合物XVIIa （５０ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）の１０
ｍｌメタノール溶液に水酸化パラジウムをまぶしたカー
ボン粉末（５５ｍｇ，湿潤品，デグッサ・タイプ）を触
媒として加え、５０〜５５℃で２４時間還元分解を行っ
た。触媒を濾去後、濾液は減圧濃縮され、残渣は、アン
バーライトＣＧ５０（ＮＨ4 +タイプ／Ｈ+ タイプ＝３／
２，２０ｍｌ）でカラム・クロマトグラフィーを行っ
た。０．５Ｍのアンモニア、次いで１Ｍ．０のアンモニ
アで溶出すると標題化合物ＸVIが凍結乾燥後結晶として
２６ｍｇ（収率：９８％）得られた。
【０１０１】 IBa: 赤外吸収スペクトルνmax (KBr) ：3340(broad),2926,2337(w),1706,1659 cm-1 : 13C 核磁気共鳴スペクトル400MHz, (D2O) δ：２５．２， ４２．８，
５１．４， ５７．５， ５９．７， ６４．０， ６７．３， ７１．１， ７２．２， ７３．５，
８０．５， ８２．１， ８２．３， ８５．２， ９０．９， １６３．７．
５１．４， ５７．５， ５９．７， ６４．０， ６７．３， ７１．１， ７２．２， ７３．５，
８０．５， ８２．１， ８２．３， ８５．２， ９０．９， １６３．７．
【０１０２】
【発明の効果】本発明の化合物は、優れた糖加水分解酵
素阻害活性作用を示した。よって、抗肥満薬、抗糖尿病
薬、殺虫剤及び抗ＨＩＶ剤として有用である。
素阻害活性作用を示した。よって、抗肥満薬、抗糖尿病
薬、殺虫剤及び抗ＨＩＶ剤として有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、ｎは１乃至２０の整数を示し、ｍは０又は１を
示す。］で表わされる化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8166127A JPH1017565A (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | オキサゾリン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8166127A JPH1017565A (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | オキサゾリン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1017565A true JPH1017565A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=15825541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8166127A Pending JPH1017565A (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | オキサゾリン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1017565A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2856294A1 (fr) * | 2003-06-18 | 2004-12-24 | Expanscience Lab | Utilisation cosmetique d'une composition comprenant au moins une oxazoline, a titre de principe actif, comme amincissant et/ou pour prevenir et/ou traiter la cellulite |
-
1996
- 1996-06-26 JP JP8166127A patent/JPH1017565A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2856294A1 (fr) * | 2003-06-18 | 2004-12-24 | Expanscience Lab | Utilisation cosmetique d'une composition comprenant au moins une oxazoline, a titre de principe actif, comme amincissant et/ou pour prevenir et/ou traiter la cellulite |
| WO2004112741A1 (fr) * | 2003-06-18 | 2004-12-29 | Laboratoires Expanscience | Utilisation cosmetique d’une composition comprenant au moins une oxazoline, a titre de principe actif, comme amincissant et/ou pour prevenir et/ou traiter la cellulite. |
| US7629371B2 (en) | 2003-06-18 | 2009-12-08 | Laboratoires Expanscience | Cosmetic use of a composition containing at least one oxazoline, serving as an active substance, as a slimming product and/or for preventing and/or treating cellulite |
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