JPH10176225A - 金属ストリップの連続焼鈍炉 - Google Patents
金属ストリップの連続焼鈍炉Info
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- JPH10176225A JPH10176225A JP35293396A JP35293396A JPH10176225A JP H10176225 A JPH10176225 A JP H10176225A JP 35293396 A JP35293396 A JP 35293396A JP 35293396 A JP35293396 A JP 35293396A JP H10176225 A JPH10176225 A JP H10176225A
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- Japan
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- atmosphere gas
- continuous annealing
- refiner
- annealing furnace
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- Coating With Molten Metal (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】還元雰囲気ガスの無駄がなく、また高品質のメ
ッキ製品を得ることができる金属ストリップの連続焼鈍
炉を提供する。 【解決手段】下流側がメッキ浴へ接続された金属ストリ
ップの連続焼鈍炉において、間接加熱帯と保持帯、冷却
帯及び／又はダウンシュートとを連絡する配管途中にリ
ファイナが介装されており、該リファイナは濾過器、ク
ーラ、吸引ファン、脱酸素器及び除湿器を備えていて、
該リファイナにより該間接加熱帯から吸引した汚染雰囲
気ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去した後の
精製雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウンシュ
ートへ戻すようにした。
ッキ製品を得ることができる金属ストリップの連続焼鈍
炉を提供する。 【解決手段】下流側がメッキ浴へ接続された金属ストリ
ップの連続焼鈍炉において、間接加熱帯と保持帯、冷却
帯及び／又はダウンシュートとを連絡する配管途中にリ
ファイナが介装されており、該リファイナは濾過器、ク
ーラ、吸引ファン、脱酸素器及び除湿器を備えていて、
該リファイナにより該間接加熱帯から吸引した汚染雰囲
気ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去した後の
精製雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウンシュ
ートへ戻すようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は金属ストリップの連
続焼鈍炉、特に下流側がメッキ浴へ接続された金属スト
リップの連続焼鈍炉に関する。金属ストリップを炉内搬
送しつつ所定の雰囲気ガス下に焼鈍処理し、引き続きメ
ッキ浴に浸漬して、その表面にメッキを施すことが行な
われる。本発明はかかる場合に使用される連続焼鈍炉の
改良に関する。
続焼鈍炉、特に下流側がメッキ浴へ接続された金属スト
リップの連続焼鈍炉に関する。金属ストリップを炉内搬
送しつつ所定の雰囲気ガス下に焼鈍処理し、引き続きメ
ッキ浴に浸漬して、その表面にメッキを施すことが行な
われる。本発明はかかる場合に使用される連続焼鈍炉の
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、上記のような金属ストリップの連
続焼鈍炉として一般に、炉の上流側から下流側に向かい
予熱帯、加熱帯、保持帯及び冷却帯がこの順で形成され
たものが使用されている。加熱帯は上流側の直接加熱帯
と下流側の間接加熱帯とに分けられ、直接加熱帯では加
熱源として直火バーナを用い、この直火バーナを空気比
１．０未満で燃焼させ、結果的に形成される無酸化雰囲
気ガス下に金属ストリップを直接加熱し、また間接加熱
帯では加熱源としてラジアントチューブを用い、還元雰
囲気ガス下に金属ストリップを間接加熱している。保持
帯及び冷却帯も還元雰囲気ガス下に保持されており、最
下流側の冷却帯はダウンシュート及びスナウトを介しメ
ッキ浴へ接続されていて、予熱帯、加熱帯、保持帯及び
冷却帯を備える連続焼鈍炉で所定通りに連続焼鈍処理し
た金属ストリップを引き続きダウンシュート及びスナウ
トを介しメッキ浴に浸漬し、その表面にメッキを施して
いる。
続焼鈍炉として一般に、炉の上流側から下流側に向かい
予熱帯、加熱帯、保持帯及び冷却帯がこの順で形成され
たものが使用されている。加熱帯は上流側の直接加熱帯
と下流側の間接加熱帯とに分けられ、直接加熱帯では加
熱源として直火バーナを用い、この直火バーナを空気比
１．０未満で燃焼させ、結果的に形成される無酸化雰囲
気ガス下に金属ストリップを直接加熱し、また間接加熱
帯では加熱源としてラジアントチューブを用い、還元雰
囲気ガス下に金属ストリップを間接加熱している。保持
帯及び冷却帯も還元雰囲気ガス下に保持されており、最
下流側の冷却帯はダウンシュート及びスナウトを介しメ
ッキ浴へ接続されていて、予熱帯、加熱帯、保持帯及び
冷却帯を備える連続焼鈍炉で所定通りに連続焼鈍処理し
た金属ストリップを引き続きダウンシュート及びスナウ
トを介しメッキ浴に浸漬し、その表面にメッキを施して
いる。
【０００３】ところで、上記のように金属ストリップを
連続焼鈍処理し、引き続きメッキ処理すると、間接加熱
帯、保持帯、冷却帯及びダウンシュート内の還元雰囲気
ガスは金属ストリップと共に持ち込まれた酸素や水分、
更にはメッキ浴から蒸発してこれらの内部へと逆流して
きたメッキ浴成分により汚染される。従来の連続焼鈍炉
では、このような汚染雰囲気ガスを直接加熱帯で燃焼し
て排気している。しかし、汚染雰囲気ガスとはいっても
その殆どは本来の還元雰囲気ガスであるので、かかる汚
染雰囲気ガスをそのまま直接加熱帯で燃焼して排気する
のは還元雰囲気ガスの著しい無駄使いである。また汚染
雰囲気ガスをいわばその炉内ガス流にまかせて単に直接
加熱帯で燃焼するだけでは、メッキ浴から蒸発してダウ
ンシュート、冷却帯、保持帯及び間接加熱帯内へ逆流し
てきたメッキ浴成分を充分に除去できず、そのためメッ
キ浴成分がこれらの内部における金属ストリップ表面や
機械部品表面に固着し、結局は得られるメッキ製品にメ
ッキ斑や傷を生じてその品質を損なう。
連続焼鈍処理し、引き続きメッキ処理すると、間接加熱
帯、保持帯、冷却帯及びダウンシュート内の還元雰囲気
ガスは金属ストリップと共に持ち込まれた酸素や水分、
更にはメッキ浴から蒸発してこれらの内部へと逆流して
きたメッキ浴成分により汚染される。従来の連続焼鈍炉
では、このような汚染雰囲気ガスを直接加熱帯で燃焼し
て排気している。しかし、汚染雰囲気ガスとはいっても
その殆どは本来の還元雰囲気ガスであるので、かかる汚
染雰囲気ガスをそのまま直接加熱帯で燃焼して排気する
のは還元雰囲気ガスの著しい無駄使いである。また汚染
雰囲気ガスをいわばその炉内ガス流にまかせて単に直接
加熱帯で燃焼するだけでは、メッキ浴から蒸発してダウ
ンシュート、冷却帯、保持帯及び間接加熱帯内へ逆流し
てきたメッキ浴成分を充分に除去できず、そのためメッ
キ浴成分がこれらの内部における金属ストリップ表面や
機械部品表面に固着し、結局は得られるメッキ製品にメ
ッキ斑や傷を生じてその品質を損なう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来の連続焼鈍炉では、汚染雰囲気ガスを
単にそのまま直接加熱帯で燃焼して排気するだけである
ため、還元雰囲気ガスが無駄になっており、また得られ
るメッキ製品の品質を損なう点である。
する課題は、従来の連続焼鈍炉では、汚染雰囲気ガスを
単にそのまま直接加熱帯で燃焼して排気するだけである
ため、還元雰囲気ガスが無駄になっており、また得られ
るメッキ製品の品質を損なう点である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する本
発明は、下流側がメッキ浴へ接続された金属ストリップ
の連続焼鈍炉において、間接加熱帯と保持帯、冷却帯及
び／又はダウンシュートとを連絡する配管途中にリファ
イナが介装されており、該リファイナは濾過器、クー
ラ、吸引ファン、脱酸素器及び除湿器を備えていて、該
リファイナにより該間接加熱帯から吸引した汚染雰囲気
ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去した後の精
製雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウンシュー
トへ戻すようにして成ることを特徴とする金属ストリッ
プの連続焼鈍炉に係る。
発明は、下流側がメッキ浴へ接続された金属ストリップ
の連続焼鈍炉において、間接加熱帯と保持帯、冷却帯及
び／又はダウンシュートとを連絡する配管途中にリファ
イナが介装されており、該リファイナは濾過器、クー
ラ、吸引ファン、脱酸素器及び除湿器を備えていて、該
リファイナにより該間接加熱帯から吸引した汚染雰囲気
ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去した後の精
製雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウンシュー
トへ戻すようにして成ることを特徴とする金属ストリッ
プの連続焼鈍炉に係る。
【０００６】本発明に係る連続焼鈍炉でも、炉の上流側
から下流側に向かい予熱帯、加熱帯、保持帯及び冷却帯
がこの順で形成されており、場合によっては加熱帯と保
持帯との間に別の冷却帯が形成されている。加熱帯は上
流側の直接加熱帯と下流側の間接加熱帯とに分けられ、
最下流側の冷却帯はダウンシュート及びスナウトを介し
メッキ浴へ接続されている。間接加熱帯、保持帯、冷却
帯及び結果的にダウンシュート内は還元雰囲気ガス下に
保持されており、したがって金属ストリップは、予熱
帯、加熱帯（直接加熱帯及び間接加熱帯）、保持帯及び
冷却帯を備える連続焼鈍炉で所定通り連続焼鈍処理され
た後、引き続きダウンシュート及びスナウトを介しメッ
キ処理される。
から下流側に向かい予熱帯、加熱帯、保持帯及び冷却帯
がこの順で形成されており、場合によっては加熱帯と保
持帯との間に別の冷却帯が形成されている。加熱帯は上
流側の直接加熱帯と下流側の間接加熱帯とに分けられ、
最下流側の冷却帯はダウンシュート及びスナウトを介し
メッキ浴へ接続されている。間接加熱帯、保持帯、冷却
帯及び結果的にダウンシュート内は還元雰囲気ガス下に
保持されており、したがって金属ストリップは、予熱
帯、加熱帯（直接加熱帯及び間接加熱帯）、保持帯及び
冷却帯を備える連続焼鈍炉で所定通り連続焼鈍処理され
た後、引き続きダウンシュート及びスナウトを介しメッ
キ処理される。
【０００７】本発明に係る連続焼鈍炉では、炉外に汚染
雰囲気ガスを精製するリファイナが設置されており、こ
のリファイナは間接加熱帯と保持帯、冷却帯及び／又は
ダウンシュートとを連絡する配管途中に介装されてい
る。リファイナは濾過器、クーラ、吸引ファン、脱酸素
器及び除湿器を備えており、このリファイナによって間
接加熱帯から吸引した汚染雰囲気ガス中のメッキ浴成
分、酸素及び水分を除去した後の精製雰囲気ガスを保持
帯、冷却帯及び／又はダウンシュートへ戻すようになっ
ている。
雰囲気ガスを精製するリファイナが設置されており、こ
のリファイナは間接加熱帯と保持帯、冷却帯及び／又は
ダウンシュートとを連絡する配管途中に介装されてい
る。リファイナは濾過器、クーラ、吸引ファン、脱酸素
器及び除湿器を備えており、このリファイナによって間
接加熱帯から吸引した汚染雰囲気ガス中のメッキ浴成
分、酸素及び水分を除去した後の精製雰囲気ガスを保持
帯、冷却帯及び／又はダウンシュートへ戻すようになっ
ている。
【０００８】リファイナの濾過器は密閉系容器内にフィ
ルタメディア、例えば濾紙、濾布或は濾網等を備えるも
ので、汚染雰囲気ガス中の主としてメッキ浴成分を除去
するためのものである。また脱酸素器は密閉系容器内に
脱酸素剤、例えば鉄、炭化鉄、第二鉄塩等の鉄系粉粒を
備えるもので、汚染雰囲気ガス中の酸素を除去するため
のものである。更に除湿器は密閉系容器内に脱水剤、例
えばモレキュラーシーブを備えるもので、汚染雰囲気ガ
ス中の水分を除去するためのものである。
ルタメディア、例えば濾紙、濾布或は濾網等を備えるも
ので、汚染雰囲気ガス中の主としてメッキ浴成分を除去
するためのものである。また脱酸素器は密閉系容器内に
脱酸素剤、例えば鉄、炭化鉄、第二鉄塩等の鉄系粉粒を
備えるもので、汚染雰囲気ガス中の酸素を除去するため
のものである。更に除湿器は密閉系容器内に脱水剤、例
えばモレキュラーシーブを備えるもので、汚染雰囲気ガ
ス中の水分を除去するためのものである。
【０００９】本発明によると、リファイナによって間接
加熱帯から汚染雰囲気ガスを強制的に吸引し、吸引した
汚染雰囲気ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去
して、これらを除去した後の精製雰囲気ガスすなわち還
元雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウンシュー
トへと戻して循環再使用するので、還元雰囲気ガスの無
駄がなく、また高品質のメッキ製品を得ることができ
る。かかる本発明の効果は、メッキ浴成分として融点が
低い亜鉛或は亜鉛合金、特に亜鉛−アルミニウム合金を
用いる場合に大きい。亜鉛の融点は４６０℃程度であっ
てもともとそれだけ蒸発し易いことに加え、メッキ浴成
分として亜鉛−アルミニウム合金を用いる場合にはアル
ミニウムの融点との関係でメッキ浴を６００℃程度に加
熱保持するので、更にそれだけ亜鉛が蒸発し易くなるか
らである。
加熱帯から汚染雰囲気ガスを強制的に吸引し、吸引した
汚染雰囲気ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去
して、これらを除去した後の精製雰囲気ガスすなわち還
元雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウンシュー
トへと戻して循環再使用するので、還元雰囲気ガスの無
駄がなく、また高品質のメッキ製品を得ることができ
る。かかる本発明の効果は、メッキ浴成分として融点が
低い亜鉛或は亜鉛合金、特に亜鉛−アルミニウム合金を
用いる場合に大きい。亜鉛の融点は４６０℃程度であっ
てもともとそれだけ蒸発し易いことに加え、メッキ浴成
分として亜鉛−アルミニウム合金を用いる場合にはアル
ミニウムの融点との関係でメッキ浴を６００℃程度に加
熱保持するので、更にそれだけ亜鉛が蒸発し易くなるか
らである。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る連続焼鈍炉の
全体を略示する縦断面図、図２は図１と同じ連続焼鈍炉
のリファイナを示す部分拡大正面図である。図示した連
続焼鈍炉は炉の上流側から下流側に向かい予熱帯１１、
直接加熱帯１２、間接加熱帯１３、冷却帯１４、保持帯
１５及び冷却帯１６を備え、最下流側の冷却帯１６はダ
ウンシュート２１及びスナウト２２を介しポット２３に
加熱保持したメッキ浴２４へ接続されている。後述する
リファイナ及びこれに関連する部分を除き、図示した連
続焼鈍炉を構成する予熱帯１１、直接加熱帯１２、間接
加熱帯１３、冷却帯１４、保持帯１５及び冷却帯１６は
従来の連続焼鈍炉と同様である。間接加熱帯１３、冷却
帯１４、保持帯１５、冷却帯１６及び結果的にダウンシ
ュート２１内は例えばＨ2＋Ｎ2の還元雰囲気ガス下に保
持されており、したがって金属ストリップＳは、予熱帯
１１、直接加熱帯１２、間接加熱帯１３、冷却帯１４、
保持帯１５及び冷却帯１６を備える連続焼鈍炉で所定通
り連続焼鈍処理された後、引き続きダウンシュート２１
及びスナウト２２を介しメッキ処理される。
全体を略示する縦断面図、図２は図１と同じ連続焼鈍炉
のリファイナを示す部分拡大正面図である。図示した連
続焼鈍炉は炉の上流側から下流側に向かい予熱帯１１、
直接加熱帯１２、間接加熱帯１３、冷却帯１４、保持帯
１５及び冷却帯１６を備え、最下流側の冷却帯１６はダ
ウンシュート２１及びスナウト２２を介しポット２３に
加熱保持したメッキ浴２４へ接続されている。後述する
リファイナ及びこれに関連する部分を除き、図示した連
続焼鈍炉を構成する予熱帯１１、直接加熱帯１２、間接
加熱帯１３、冷却帯１４、保持帯１５及び冷却帯１６は
従来の連続焼鈍炉と同様である。間接加熱帯１３、冷却
帯１４、保持帯１５、冷却帯１６及び結果的にダウンシ
ュート２１内は例えばＨ2＋Ｎ2の還元雰囲気ガス下に保
持されており、したがって金属ストリップＳは、予熱帯
１１、直接加熱帯１２、間接加熱帯１３、冷却帯１４、
保持帯１５及び冷却帯１６を備える連続焼鈍炉で所定通
り連続焼鈍処理された後、引き続きダウンシュート２１
及びスナウト２２を介しメッキ処理される。
【００１１】炉外には間接加熱帯１３と冷却帯１４、保
持帯１５、冷却帯１６及びダウンシュート２１とを連絡
する配管３１が設けられており、配管３１の最上流側に
リファイナ３２が介装されている。リファイナ３２は、
上流側から下流側に向かい、切替バルブ４１〜４４及び
バルブ５１ａ，５１ｂ〜５５ａ，５５ｂを介して接続さ
れた濾過器６１，６２、クーラ７１、吸引ファン７２、
脱酸素器８１及び除湿器９１，９２を備えている。濾過
器６１，６２は密閉系容器内にフィルタメディアを備え
るもので、切替使用が可能に２基が並設されている。ま
た脱酸素器８１は密閉系容器内に脱酸素剤を備えるもの
である。更に除湿器９１，９２は密閉系容器内に脱水剤
を備えるもので、切替使用が可能に２基が並設されてい
る。
持帯１５、冷却帯１６及びダウンシュート２１とを連絡
する配管３１が設けられており、配管３１の最上流側に
リファイナ３２が介装されている。リファイナ３２は、
上流側から下流側に向かい、切替バルブ４１〜４４及び
バルブ５１ａ，５１ｂ〜５５ａ，５５ｂを介して接続さ
れた濾過器６１，６２、クーラ７１、吸引ファン７２、
脱酸素器８１及び除湿器９１，９２を備えている。濾過
器６１，６２は密閉系容器内にフィルタメディアを備え
るもので、切替使用が可能に２基が並設されている。ま
た脱酸素器８１は密閉系容器内に脱酸素剤を備えるもの
である。更に除湿器９１，９２は密閉系容器内に脱水剤
を備えるもので、切替使用が可能に２基が並設されてい
る。
【００１２】間接加熱帯１３内の汚染雰囲気ガスを吸引
ファン７２で吸引する。吸引した汚染雰囲気ガス中の主
としてメッキ浴成分を濾過器６１，６２で除去する。次
にメッキ浴成分を除去した汚染雰囲気ガスをクーラ７１
で冷却した後、該汚染雰囲気ガス中の酸素を脱酸素器８
１で除去する。最後にメッキ浴成分及び酸素を除去した
汚染雰囲気ガス中の水分を除湿器９１，９２で除去す
る。かくして汚染雰囲気ガスからメッキ浴成分、酸素及
び水分を除去した精製雰囲気ガスすなわち還元雰囲気ガ
スを、バルブ３１ａ〜３１ｄの開閉操作により冷却帯１
４、保持帯１５、冷却帯１６及び／又はダウンシュート
２１へ戻して循環再使用する。
ファン７２で吸引する。吸引した汚染雰囲気ガス中の主
としてメッキ浴成分を濾過器６１，６２で除去する。次
にメッキ浴成分を除去した汚染雰囲気ガスをクーラ７１
で冷却した後、該汚染雰囲気ガス中の酸素を脱酸素器８
１で除去する。最後にメッキ浴成分及び酸素を除去した
汚染雰囲気ガス中の水分を除湿器９１，９２で除去す
る。かくして汚染雰囲気ガスからメッキ浴成分、酸素及
び水分を除去した精製雰囲気ガスすなわち還元雰囲気ガ
スを、バルブ３１ａ〜３１ｄの開閉操作により冷却帯１
４、保持帯１５、冷却帯１６及び／又はダウンシュート
２１へ戻して循環再使用する。
【００１３】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、還元雰囲気ガスの無駄がなく、また高品質のメ
ッキ製品を得ることができるという効果がある。
明には、還元雰囲気ガスの無駄がなく、また高品質のメ
ッキ製品を得ることができるという効果がある。
【図１】本発明に係る連続焼鈍炉の全体を略示する縦断
面図。
面図。
【図２】図１と同じ連続焼鈍炉のリファイナを示す部分
拡大正面図。
拡大正面図。
１１・・・予熱帯、１２・・・直接加熱帯、１３・・・
間接加熱帯、１４，１６・・・冷却帯、１５・・・保持
帯、２３・・・ポット、２４・・・メッキ浴、３２・・
・リファイナ、６１，６２・・・濾過器、７１・・・ク
ーラ、７２・・・吸引ファン、８１・・・脱酸素器、９
１，９２・・・除湿器
間接加熱帯、１４，１６・・・冷却帯、１５・・・保持
帯、２３・・・ポット、２４・・・メッキ浴、３２・・
・リファイナ、６１，６２・・・濾過器、７１・・・ク
ーラ、７２・・・吸引ファン、８１・・・脱酸素器、９
１，９２・・・除湿器
Claims (2)
- 【請求項１】 下流側がメッキ浴へ接続された金属スト
リップの連続焼鈍炉において、間接加熱帯と保持帯、冷
却帯及び／又はダウンシュートとを連絡する配管途中に
リファイナが介装されており、該リファイナは濾過器、
クーラ、吸引ファン、脱酸素器及び除湿器を備えてい
て、該リファイナにより該間接加熱帯から吸引した汚染
雰囲気ガス中のメッキ浴成分、酸素及び水分を除去した
後の精製雰囲気ガスを保持帯、冷却帯及び／又はダウン
シュートへ戻すようにして成ることを特徴とする金属ス
トリップの連続焼鈍炉。 - 【請求項２】 メッキ浴成分が亜鉛或は亜鉛合金である
請求項１記載の金属ストリップの連続焼鈍炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35293396A JPH10176225A (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | 金属ストリップの連続焼鈍炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35293396A JPH10176225A (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | 金属ストリップの連続焼鈍炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10176225A true JPH10176225A (ja) | 1998-06-30 |
Family
ID=18427450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35293396A Pending JPH10176225A (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | 金属ストリップの連続焼鈍炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10176225A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2013153790A1 (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-17 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 焼鈍炉内雰囲気ガスの露点低減方法、その装置及び冷延焼鈍鋼板の製造方法 |
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-
1996
- 1996-12-13 JP JP35293396A patent/JPH10176225A/ja active Pending
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