JPH10178148A - Lead frame member and manufacturing method thereof - Google Patents
Lead frame member and manufacturing method thereofInfo
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- JPH10178148A JPH10178148A JP8352570A JP35257096A JPH10178148A JP H10178148 A JPH10178148 A JP H10178148A JP 8352570 A JP8352570 A JP 8352570A JP 35257096 A JP35257096 A JP 35257096A JP H10178148 A JPH10178148 A JP H10178148A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インナーリード固定部として、高価で金型に
よる切断が必要な固定用テープを用いずに、スクリーン
印刷法、ディスペンス法により直接インナーリード固定
用の樹脂層を形成する場合の問題を解決できる、リード
フレームとインナーリード固定部とからなるリードフレ
ーム部材を提供する。同時に、そのようなリードフレー
ム部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂封止型半導体装置に用いられる、リ
ードフレームとインナーリード固定部とを有するリード
フレーム部材であって、リードフレームは、ダイパッド
を設けたもので、リードフレームの一方の面側のインナ
ーリード面をリードフレーム素材面とし、インナーリー
ド先端には素材の板厚よりも薄肉の薄肉部を形成してお
り、インナーリード固定部は、絶縁性樹脂からなり、前
記薄肉部のリードフレーム素材面より凹んだ面側の先端
箇所において、インナーリード間を橋かけ跨ぐように固
定してタブ吊りバーまで連なり、タブ吊りバーに支持さ
れるもので,且つ、該タブ吊りバーがリードフレーム素
材の板厚で形成されている。
(57) [Problem] To form a resin layer for fixing an inner lead directly by a screen printing method or a dispensing method without using an expensive fixing tape requiring cutting by a mold as an inner lead fixing portion. Provided is a lead frame member including a lead frame and an inner lead fixing portion, which can solve the problem in the case. At the same time, a method for manufacturing such a lead frame member is provided. A lead frame member having a lead frame and an inner lead fixing portion used for a resin-sealed semiconductor device, wherein the lead frame is provided with a die pad, and is provided on one side of the lead frame. The inner lead surface is a lead frame material surface, and a thin portion thinner than the thickness of the material is formed at the tip of the inner lead, and the inner lead fixing portion is made of insulating resin, and the lead frame material of the thin portion is formed. At the leading end on the side of the surface that is recessed from the surface, the inner leads are fixed so as to straddle the bridge and are connected to the tab suspension bar, and are supported by the tab suspension bar, and the tab suspension bar is formed of a lead frame material. It is formed with a plate thickness.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は,樹脂封止型半導体
装置の組立部材であるリードフレーム部材に関するもの
で、特に、微細なインナーリードピッチを有する半導体
装置用リードフレーム部材とその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame member as an assembly member of a resin-sealed semiconductor device, and more particularly to a lead frame member for a semiconductor device having a fine inner lead pitch and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体装置は、電子機器の高性能
化と軽薄短小の傾向からLSIはASICに代表される
ように、ますます高集積化、高機能化の一途をたどって
きている。多端子IC、特にゲートアレイやスタンダー
ドセルに代表されるASICあるいは、マイコン、DS
P(Digital Signal Processo
r)等をコストパーフォーマンス高くユーザに提供する
パッケージとしてリードフレームを用いたプラスチック
QFP(Quad Flat Package)が主流
となり、現在では300ピンを超えるものまで実用化に
至ってきている。2. Description of the Related Art In recent years, with the trend toward higher performance of electronic devices and lighter, thinner and smaller electronic devices, LSIs, as typified by ASICs, have been increasingly integrated and functionalized. Multi-terminal ICs, especially ASICs represented by gate arrays and standard cells, microcomputers, DS
P (Digital Signal Processo)
As a package for providing a user with high cost performance such as r), a plastic QFP (Quad Flat Package) using a lead frame has become mainstream, and has now been put to practical use up to 300 pins or more.
【0003】QFPは、パッケージの4方向に外部回路
と電気的に接続するためのアウターリードを設けた構造
で多端子化に対応できるものとして開発されてきたが、
一般には図5(a)に示すリードフレーム530とイン
ナーリードの固定用テープ540からなるリードフレー
ム部材520を用いており、図5(b)に示すように、
ダイパッド531上に半導体素子510を搭載し、銀め
っき等の表面処理がなされたインナーリード532先端
部と半導体素子510の端子511とをワイヤ512に
て結線し、封止用樹脂513で全体を封止し、さらに、
ダムバー部534をカットし、アウターリード533を
ガルウイング状に成形している。 尚、図5(a)
(ロ)は、図5(a)(イ)のD1−D2における断面
の一部を拡大して示している。ここで用いられる単層リ
ードフレーム530は、通常、42合金(42%ニッケ
ル−鉄合金)あるいは銅合金などの電気伝導率が高く,
且つ機械的強度が大きい金属材を素材とし、フォトエッ
チング法かあるいはスタンピング法により、外形加工さ
れていた。The QFP has been developed as a structure in which outer leads for electrically connecting to an external circuit are provided in four directions of a package and which can cope with multi-terminals.
Generally, a lead frame member 520 composed of a lead frame 530 and an inner lead fixing tape 540 shown in FIG. 5A is used. As shown in FIG.
The semiconductor element 510 is mounted on the die pad 531, and the tip of the inner lead 532, which has been subjected to a surface treatment such as silver plating, is connected to the terminal 511 of the semiconductor element 510 with a wire 512, and the whole is sealed with a sealing resin 513. Stop, and
The dam bar portion 534 is cut, and the outer lead 533 is formed in a gull wing shape. FIG. 5 (a)
5B is an enlarged view of a part of the cross section taken along line D1-D2 in FIGS. The single-layer lead frame 530 used here generally has a high electrical conductivity such as a 42 alloy (42% nickel-iron alloy) or a copper alloy.
In addition, a metal material having high mechanical strength is used as a material, and the outer shape is processed by a photo etching method or a stamping method.
【0004】そして、多端子の樹脂封止型半導体装置
(プラスチック封止型パッケージ)に用いられる図5
(a)に示すリードフレーム部材の作製は、図6に示す
工程で行われていた。以下、簡単に図6に示す工程を説
明しておく。先ず、薄い金属板からなるリードフレーム
素材をエッチングないしスタンピングにより外形加工す
る。(図6(a)) インナーリード532の先端に延設し、インナーリード
532同志を連結する連結部538を設けた状態にして
外形加工は行われる。連結部538は、半導体装置作製
の際には不要で、後述する工程にて除去される。この場
合にダイパッド531とも連結している。次いで、銀め
っき等の貴金属めっき550をインナーリード532先
端部に施す。(図6(b)) 尚、必要な場合は、ダイパッド531にも貴金属めっき
を施す。インナーリード532先端部の貴金属めっき5
50はワイヤボンディングのためのもので、ダイパッド
531の貴金属めっきはダイボンディングのためのもの
である。次に、インナーリードの固定用テープ540を
インナーリード532を跨ぐようにして貼り付けた後、
熱圧着によりインナーリード532に貼り付ける。(図
6(c)) インナーリード532の固定用テープ540は、接着剤
付きポリイミドテープが一般には用いられるが、インナ
ーリード532に貼り付ける前に金型にて所定の形状に
加工した後、熱圧着によりインナーリード532に貼り
付けられる。次いで、インナーリード532に延設さ
れ、インナーリード532同志を連結する連結部538
をプレスにて除去する。(図6(d)) この後、必要に応じ、ダイパッド531をダウンセット
加工する。(図6(e)) 尚、多端子を必要としない樹脂封止型半導体装置に用い
られるリードフレーム部材の場合は、上記連結部538
を設けないで、インナーリード固定用テープ540を貼
りつける場合もある。この場合は、図6に示す工程にお
いて図6(d)の工程を必要としない。FIG. 5 shows a multi-terminal resin-sealed semiconductor device (plastic-sealed package).
The production of the lead frame member shown in (a) was performed in the process shown in FIG. Hereinafter, the process shown in FIG. 6 will be briefly described. First, a lead frame material made of a thin metal plate is externally processed by etching or stamping. (FIG. 6A) The outer shape processing is performed in a state where the connecting portion 538 is provided to extend to the tip of the inner lead 532 and connect the inner leads 532 to each other. The connecting portion 538 is unnecessary when manufacturing a semiconductor device, and is removed in a step described later. In this case, it is also connected to the die pad 531. Next, a noble metal plating 550 such as silver plating is applied to the tip of the inner lead 532. (FIG. 6B) If necessary, the die pad 531 is also plated with a noble metal. Noble metal plating 5 at the tip of inner lead 532
50 is for wire bonding, and the noble metal plating of the die pad 531 is for die bonding. Next, after attaching the inner lead fixing tape 540 so as to straddle the inner lead 532,
It is attached to the inner lead 532 by thermocompression bonding. (FIG. 6 (c)) As the fixing tape 540 for the inner leads 532, a polyimide tape with an adhesive is generally used. It is attached to the inner lead 532 by crimping. Next, a connecting portion 538 extending to the inner lead 532 and connecting the inner leads 532 to each other.
Is removed with a press. (FIG. 6D) Thereafter, if necessary, the die pad 531 is down-set. (FIG. 6E) In the case of a lead frame member used for a resin-encapsulated semiconductor device that does not require multiple terminals, the connecting portion 538 is used.
In some cases, the inner lead fixing tape 540 is stuck without providing the tape. In this case, the step shown in FIG. 6D is not required in the step shown in FIG.
【0005】しかし、半導体装置のさらなる多端子化の
要求は強く、リードフレームの外形加工にますます微細
化が求められるようになってきた。そして、図5(a)
に示すリードフレーム部材520におけるリードフレー
ム素材の薄板化による微細化加工では、リード強度や実
装の際の必要な強度からくる制限があり、もはや限界を
超えるものとなってきた。この為、インナーリード先端
部のみをリードフレーム素材より薄肉化し、一層の微細
化加工を可能とし、リードおよびリードフレーム全体の
強度を確保したリードフレームが開発されるようになっ
てきた。[0005] However, there is a strong demand for more terminals in a semiconductor device, and there is an increasing demand for miniaturization of the outer shape of a lead frame. Then, FIG.
In the miniaturization processing by thinning the lead frame material in the lead frame member 520 shown in (1), there are limitations due to the lead strength and the strength required at the time of mounting, and have exceeded the limit. For this reason, a lead frame has been developed in which only the tip of the inner lead is made thinner than the lead frame material, and further miniaturization is possible, and the strength of the lead and the entire lead frame is secured.
【0006】ここで、インナーリード先端部のみをリー
ドフレーム素材より薄肉化したリードフレームの外形加
工方法を分かり易く説明するため、リードフレーム素材
から一部を薄肉状に形成する1例を図4に挙げる。図4
は、インナーリード先端部の薄肉状に形成するインナー
リード先端部の各工程の断面図である。尚、リードフレ
ーム素材の厚さのままで外形加工する箇所については、
リードフレーム素材の両面にほぼ同じ形状、サイズのレ
ジストパターンを形成してエッチングを行う。図4中、
410はリードフレーム素材、410Aは薄肉部、42
0A、420Bはレジストパターン、430は第一の開
口部、440は第二の開口部、450は第一の凹部、4
60は第二の凹部、470は平坦状面、480はエッチ
ング抵抗層(充填材層)である。先ず、銅合金からな
り、厚さが0.15mmの帯び状板からなるリードフレ
ーム素材の両面を洗浄、脱脂処理等を行った後に、重ク
ロム酸カリウムを感光剤としたカゼイン水溶液の混合液
からなるレジストを両面に塗布し、レジストを乾燥後、
所定のパターン版を用いてリードフレーム素材の両面の
レジストの所定領域をそれぞれ露光し、現像処理を行
い、所定形状の第一の開口部430、第二の開口部44
0をもつレジストパターン420A、420Bを形成し
た。(図4(a)) 第一の開口部430は、後のエッチング加工においてリ
ードフレーム素材410をこの開口部からベタ状にリー
ドフレーム素材410よりも薄肉に腐蝕するためのもの
で、レジストの第二の開口部440は、インナーリード
先端部の形状を形成するためのものである。次いで、液
温50°C、比重46ボーメの塩化第二鉄溶液を用い
て、スプレー圧3.0kg/cm2 にて、レジストパタ
ーンが形成されたリードフレーム素材410の両面をエ
ッチングし、ベタ状(平坦状)に腐蝕された第一の凹部
450の深さhがリードフレーム部材の約2/3程度に
達した時点でエッチングを止めた。(図4(b)) 第1回目のエッチングにおいてリードフレーム素材41
0の両面から同時にエッチングする理由は、両面からエ
ッチングすることにより、後述する第2回目のエッチン
グ時間を短縮するためで、レジストパターン420B側
からのみの片面エッチングの場合と比べ、第1回目エッ
チングと第2回目エッチングのトータル時間が短縮され
る。FIG. 4 shows an example in which a part of a lead frame material is formed to be thinner in order to easily explain a method of processing the outer shape of a lead frame in which only the tip of the inner lead is made thinner than the lead frame material. I will. FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of each step of the inner lead tip portion formed in a thin shape at the inner lead tip portion. In addition, about the place to process the outer shape with the thickness of the lead frame material,
A resist pattern having substantially the same shape and size is formed on both sides of the lead frame material and etching is performed. In FIG.
410 is a lead frame material, 410A is a thin portion, 42
0A and 420B are resist patterns, 430 is a first opening, 440 is a second opening, 450 is a first recess,
60 is a second concave portion, 470 is a flat surface, and 480 is an etching resistance layer (filler layer). First, after cleaning and degreasing both sides of a lead frame material made of a copper alloy and having a thickness of 0.15 mm and having a strip shape, a mixed solution of a casein aqueous solution using potassium dichromate as a photosensitive agent is used. Resist on both sides and after drying the resist,
Using a predetermined pattern plate, predetermined regions of the resist on both sides of the lead frame material are respectively exposed and developed, and a first opening 430 and a second opening 44 having a predetermined shape are formed.
The resist patterns 420A and 420B having 0 were formed. (FIG. 4 (a)) The first opening 430 is for etching the lead frame material 410 from the opening to a thinner thickness than the lead frame material 410 in a later etching process. The second opening 440 is for forming the shape of the tip of the inner lead. Next, using a ferric chloride solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a specific gravity of 46 Baume, a spray pressure of 3.0 kg / cm 2 was used to etch both surfaces of the lead frame material 410 on which the resist pattern was formed, thereby forming a solid state. The etching was stopped when the depth h of the first recess 450 corroded (flat) reached about / of the lead frame member. (FIG. 4B) Lead frame material 41 in the first etching
The reason for simultaneous etching from both sides is to shorten the second etching time, which will be described later, by etching from both sides. Compared to the case of single-side etching only from the resist pattern 420B side, the first etching The total time of the second etching is reduced.
【0007】次いで、第一の開口部430側の腐蝕され
た第一の凹部450にエッチング抵抗層480としての
耐エッチング性のあるホットメルト型ワックス(ザ・イ
ンクテック社製の酸ワックス、型番MR−WB6)を、
ダイコータを用いて、塗布し、ベタ状(平坦状)に腐蝕
された第一の凹部450に埋め込んだ。レジストパター
ン420B上も該エッチング抵抗層480に塗布された
状態とした。(図4(c)) エッチング抵抗層480を、レジストパターン420B
上全面に塗布する必要はないが、第一の凹部450を含
む一部にのみ塗布することは難しい為に、図4(c)に
示すように、第一の凹部450とともに、第一の開口部
430側全面にエッチング抵抗層480を塗布した。本
実施例で使用したエッチング抵抗層480は、アルカリ
溶解型のワックスであるが、基本的にエッチング液に耐
性があり、エッチング時にある程度の柔軟性のあるもの
が好ましく、特に上記ワックスに限定されず、UV硬化
型のものでも良い。このようにエッチング抵抗層480
をインナーリード先端部の形状を形成するためのパター
ンが形成された面側の腐蝕された第一の凹部450に埋
め込むことにより、後工程でのエッチング時に第一の凹
部450が腐蝕されて大きくならないようにしていると
ともに、高精細なエッチング加工に対しての機械的な強
度補強をしており、スプレー圧を高く(3.0kg/c
m2 )することができ、これによりエッチングが深さ方
向に進行し易すくなる。この後、第2回目エッチングを
行い、ベタ状(平坦状)に腐蝕された第一の凹部450
形成面とは反対側の凹部460側からリードフレーム素
材410をエッチングし、貫通させ、インナーリード先
端薄肉部を形成した。(図4(d)) 第1回目のエッチング加工にて作製された、リードフレ
ーム面に平行なエッチング形成面は平坦であるが、この
面を挟む2面はインナーリード側にへこんだ凹状であ
る。次いで、洗浄、エッチング抵抗層480の除去、レ
ジスト膜(レジストパターン420A、420B)の除
去を行い、インナーリード先端薄肉部が微細加工された
リードフレームを得た。(図4(e)) エッチング抵抗層480とレジスト膜(レジストパター
ン420A、420B)の除去は水酸化ナトリウム水溶
液により溶解除去した。Next, an etching-resistant hot-melt type wax (acid wax manufactured by The Inktec Co., Ltd., model no. MR) is used as an etching resistance layer 480 in the corroded first concave portion 450 on the first opening 430 side. −WB6),
It was applied using a die coater and embedded in the first concave portion 450 which was corroded in a solid shape (flat shape). The resist pattern 420B was also applied to the etching resistance layer 480. (FIG. 4C) The etching resistance layer 480 is formed by using a resist pattern 420B.
Although it is not necessary to apply to the entire upper surface, it is difficult to apply only to a part including the first concave portion 450. Therefore, as shown in FIG. An etching resistance layer 480 was applied to the entire surface of the part 430 side. Although the etching resistance layer 480 used in this embodiment is an alkali-soluble wax, it is preferably a layer which is basically resistant to an etchant and has some flexibility at the time of etching, and is not particularly limited to the above wax. , UV curing type may be used. Thus, the etching resistance layer 480
Is embedded in the corroded first concave portion 450 on the surface side on which the pattern for forming the shape of the tip of the inner lead is formed, so that the first concave portion 450 does not become corroded during etching in a later step. As well as mechanical strength reinforcement for high-definition etching, and high spray pressure (3.0 kg / c
m 2 ), which facilitates the progress of etching in the depth direction. Thereafter, a second etching is performed to remove the first concave portion 450 which has been corroded in a solid shape (flat shape).
The lead frame material 410 was etched and penetrated from the side of the concave portion 460 opposite to the formation surface to form a thin portion at the tip of the inner lead. (FIG. 4 (d)) The etching-formed surface parallel to the lead frame surface produced by the first etching process is flat, but the two surfaces sandwiching this surface are concave toward the inner lead. . Next, cleaning, removal of the etching resistance layer 480, and removal of the resist film (resist patterns 420A and 420B) were performed to obtain a lead frame in which the thin portion at the tip of the inner lead was finely processed. (FIG. 4E) The etching resistance layer 480 and the resist films (resist patterns 420A and 420B) were removed by dissolving them with an aqueous sodium hydroxide solution.
【0008】尚、上記のように、エッチングを2段階に
わけて行うエッチング加工方法を、一般には2段エッチ
ング加工方法と言っており、特に、精度的に優れた加工
方法である。図4に示す、リードフレームの製造におい
ては、2段エッチング加工方法と、パターン形状を工夫
することにより部分的にリードフレーム素材を薄くしな
がら外形加工する方法とが伴行して採られている。尚、
リードフレームのインナーリード先端を薄肉に形成する
方法は、上記エッチング加工方法に限定されるものでは
ない。As described above, the etching method in which etching is performed in two stages is generally referred to as a two-step etching method, and is a processing method excellent in accuracy in particular. In the manufacture of the lead frame shown in FIG. 4, a two-step etching method and a method of externally processing the lead frame material while partially reducing the lead frame material by devising a pattern shape are employed. . still,
The method of forming the thinner end of the inner lead of the lead frame is not limited to the above etching method.
【0009】上記の方法によるインナーリード先端薄肉
部の微細化加工は、第二の凹部860の形状と、最終的
に得られるインナーリード先端部の厚さtに左右される
もので、例えば、板厚tを50μmまで薄くすると、図
4(e)に示す、平坦幅W1を100μmとして、イン
ナーリード先端部ピッチpが0.15mmまで微細加工
可能となる。板厚tを30μm程度まで薄くし、平坦幅
W1を70μm程度とすると、インナーリード先端部ピ
ッチpが0.12mm程度まで微細加工ができるが、板
厚t、平坦幅W1のとり方次第ではインナーリード先端
部ピッチpは更に狭いピッチまで作製が可能となる。The fine processing of the thin portion at the tip of the inner lead by the above method depends on the shape of the second concave portion 860 and the thickness t of the tip of the inner lead finally obtained. When the thickness t is reduced to 50 μm, fine processing can be performed up to the inner lead tip pitch p of 0.15 mm with the flat width W1 shown in FIG. When the plate thickness t is reduced to about 30 μm and the flat width W1 is set to about 70 μm, fine processing can be performed until the tip p of the inner lead is about 0.12 mm. However, depending on how the thickness t and the flat width W1 are set, the inner lead may be formed. The tip pitch p can be manufactured to a smaller pitch.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
してインナーリード先端部のみを薄肉に形成したリード
フレームにおいては、前述のインナーリード固定用テー
プを用いた場合、薄肉部とリードフレーム素材の厚さの
部分とで段差があるため、段差部においては、固定用テ
ープの均一な貼り付けが難しく、場合によっては貼り付
けができないという問題があった。固定用テープの均一
な貼り付けができてない場合には、ワイヤボンディング
時におけるクランプが安定してできない。また、別に、
固定用テープのベースに用いられるポリイミドフィルム
は高価な上、その外形加工には金型を用いる必要がある
ため、少量生産品に対しては、コスト高となり、納期も
かかるという問題があり、その対応が求められていた。However, in such a lead frame in which only the tip of the inner lead is formed thin, when the above-described tape for fixing the inner lead is used, the thickness of the thin portion and the thickness of the lead frame material are reduced. Since there is a step between the first and second portions, it is difficult to apply the fixing tape uniformly at the step, and in some cases, there is a problem that the fixing tape cannot be attached. If the fixing tape cannot be uniformly attached, the clamp during wire bonding cannot be stably performed. Also, separately
The polyimide film used as the base of the fixing tape is expensive, and since it is necessary to use a mold for its outer shape processing, there is a problem that for small-volume products, the cost is high and the delivery time is long. Response was required.
【0011】また、固定用テープを用いずに、リードフ
レームに直接スクリーン印刷によりインナーリード固定
用の樹脂層を形成する方法も知られている。このスクリ
ーン印刷による方法では、塗布量が少ない場合にはリー
ド上面にのみ樹脂が選択的に塗布され、リード間の橋渡
し構造が形成できず、塗布量が多い場合には、リードな
らびにステージ上まで樹脂が塗布されるため樹脂の清掃
を行う必要があり、塗布量を適切に設定できた場合にお
いても印刷用の比較的低粘度に設定され、硬化反応時に
リード間の橋渡し部に位置する樹脂がリード間に落ち込
み、且つリード上の樹脂の表面が曲面になってしまい、
ボンディング時のクランプが不十分となる場合が生じる
という問題がある。そしてまた、固定用テープを用いず
に、ディスペンス法により直接インナーリード固定用の
樹脂層を形成する方法も知られているが、この方法も、
基本的には、スクリーン印刷法と同じ問題を抱えてい
る。これら、スクリーン印刷法、ディスペンス法により
インナーリード固定用の樹脂層を形成した場合には、リ
ード上の樹脂の表面を平面形状としワイヤボンディング
時のクランプを十分なものとする為、樹脂の本硬化前
に、即ち半硬化の状態で熱圧着により樹脂を押し潰し、
表面の高さを揃えることが行われているが、押し潰し時
に樹脂のリード上面への滲みが生じ樹脂層形状精度を悪
くしている。更にディスペンス法では、ディスペンス開
始点と終了点において、塗布量が多くなる為、適用でき
るリードは、タブ吊りバーを開始点、終了点とするよう
な一定の制約があり、タブ吊りバーの幅広化が必要等、
適用できるリードの形状に制限がある。このように、固
定用テープを用いずに、スクリーン印刷法、ディスペン
ス法により直接インナーリード固定用の樹脂層を形成す
る場合にも種々問題があり、その対応が求められてい
た。本発明は、このような状況のもと、固定用テープを
用いた場合の問題や、固定用テープを用いずに、スクリ
ーン印刷法、ディスペンス法により直接インナーリード
固定用の樹脂層を形成する場合の問題を解決できる、リ
ードフレームとインナーリード固定部と有するリードフ
レーム部材を提供しようとするものである。同時に、該
リードフレーム部材の製造方法を提供しようとするもの
である。There is also known a method of forming an inner lead fixing resin layer by screen printing directly on a lead frame without using a fixing tape. According to this screen printing method, when the coating amount is small, the resin is selectively applied only to the upper surface of the lead, and a bridge structure between the leads cannot be formed. When the coating amount is large, the resin extends to the lead and the stage. It is necessary to clean the resin because it is applied, and even if the application amount can be set appropriately, the viscosity is set to a relatively low viscosity for printing, and the resin located at the bridge between the leads during the curing reaction It falls between, and the surface of the resin on the lead becomes a curved surface,
There is a problem that the clamp at the time of bonding may be insufficient. In addition, a method of directly forming a resin layer for fixing the inner lead by a dispensing method without using a fixing tape is also known.
Basically, it has the same problems as screen printing. When a resin layer for fixing the inner lead is formed by the screen printing method or the dispensing method, the resin is completely cured in order to make the surface of the resin on the lead a planar shape and to sufficiently clamp the wire bonding. Before, that is, crush the resin by thermocompression bonding in a semi-cured state,
Although the height of the surface is made uniform, the resin bleeds to the upper surface of the lead when being crushed, thereby deteriorating the accuracy of the resin layer shape. Furthermore, in the dispensing method, since the amount of application is large at the dispense start point and the dispense point, applicable leads have certain restrictions such that the tab suspension bar is used as a start point and an end point, and the width of the tab suspension bar is increased. Is necessary,
There are restrictions on applicable lead shapes. As described above, even when the resin layer for fixing the inner leads is directly formed by the screen printing method or the dispensing method without using the fixing tape, there are various problems, and a measure has been required. Under such circumstances, the present invention is based on the problem of using a fixing tape and the case where the inner lead fixing resin layer is directly formed by a screen printing method and a dispensing method without using the fixing tape. It is an object of the present invention to provide a lead frame member having a lead frame and an inner lead fixing portion, which can solve the above problem. At the same time, it is intended to provide a method for manufacturing the lead frame member.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明のリードフレーム
部材は、樹脂封止型半導体装置に用いられる、リードフ
レームとインナーリード固定部とを有するリードフレー
ム部材であって、リードフレームは、ダイパッドを設け
たもので、リードフレームの一方の面側のインナーリー
ド面をリードフレーム素材面とし、インナーリード先端
には素材の板厚よりも薄肉の薄肉部を形成しており、イ
ンナーリード固定部は、絶縁性樹脂からなり、前記薄肉
部のリードフレーム素材面より凹んだ面側の先端箇所に
おいて、インナーリード間を橋かけ跨ぐように固定して
タブ吊りバーまで連なり、タブ吊りバーに支持されるも
ので,且つ、該タブ吊りバーがリードフレーム素材の板
厚で形成されていることを特徴とするものである。そし
て、上記のインナーリード固定部は単層の絶縁性樹脂か
らなることを特徴とするものである。A lead frame member of the present invention is a lead frame member having a lead frame and an inner lead fixing portion used for a resin-encapsulated semiconductor device, wherein the lead frame comprises a die pad. With the inner lead surface on one side of the lead frame as the lead frame material surface, a thin portion thinner than the material thickness is formed at the tip of the inner lead, the inner lead fixing portion is At the front end portion of the thin-walled portion, which is recessed from the lead frame material surface, made of an insulating resin, the inner leads are fixed so as to bridge over the inner leads, are connected to the tab hanging bar, and are supported by the tab hanging bar. And the tab suspension bar is formed with the thickness of the lead frame material. The inner lead fixing portion is made of a single-layer insulating resin.
【0013】また、本発明のリードフレーム部材の製造
方法は、(A)インナーリード先端に一体的に連結し、
且つインナーリード同志を連結する連結部を設けた状態
でリードフレームを外形加工する工程と、(B)インナ
ーリード固定部を作成するための絶縁性の樹脂部を、半
硬化状態で所定形状に形成する工程と、(C)半硬化状
態で所定形状に形成された絶縁性の樹脂部を、リードフ
レームの所定の位置に熱圧着にて固定する絶縁性の樹脂
部固定工程と、(D)樹脂部固定工程にて固定された絶
縁性の樹脂部を、加熱手段およびまたは紫外線照射手段
によりキュアするキュア工程と、(E)キュア工程後、
リードフレームの連結部を除去する工程とを有すること
を特徴とするものである。Further, the method for manufacturing a lead frame member according to the present invention comprises the steps of:
In addition, a step of processing the outer shape of the lead frame in a state where a connecting portion for connecting the inner leads is provided, and (B) forming an insulating resin portion for forming an inner lead fixing portion into a predetermined shape in a semi-cured state. (C) an insulating resin portion fixing step of fixing an insulating resin portion formed in a predetermined shape in a semi-cured state to a predetermined position of a lead frame by thermocompression bonding, and (D) resin Curing the insulating resin part fixed in the part fixing step by heating means and / or ultraviolet irradiation means; and (E) after the curing step,
Removing the connecting portion of the lead frame.
【0014】尚、ここでは、リードフレーム素材の厚さ
とは、エッチング加工等によりリードフレームを作成す
る場合の元厚で、エッチングが入らない箇所における厚
さを言い、図4に示すエッチング加工においては、図4
(e)に示すt0 の厚さを言う。また、インナーリード
先端とは、インナーリードのダイパッド側の先端部を言
っている。Here, the thickness of the lead frame material is the original thickness when a lead frame is formed by etching or the like, and refers to the thickness at a location where etching does not enter. In the etching shown in FIG. , FIG.
This refers to the thickness of t 0 shown in (e). In addition, the tip of the inner lead means the tip of the inner lead on the die pad side.
【0015】[0015]
【作用】本発明のリードフレーム部材は、このような構
成にすることにより、固定用テープを用いた場合の問題
や、固定用テープを用いずに、スクリーン印刷法、ディ
スペンス法により直接インナーリード固定用の樹脂層を
形成する場合の問題を解決できる、リードフレームとイ
ンナーリード固定部とからなるリードフレーム部材の提
供を可能としており、タブ吊りバーの板厚をリードフレ
ーム素材の板厚と同じに設けてあることより、リードフ
レーム製造工程での変形不良の発生を少なくしており、
半導体組立工程でのリード変形不良を少ないものとして
いる。この結果、リードフレーム部材を用いた樹脂封止
型半導体装置の一層の多端子化を可能としている。具体
的には、リードフレームは、ダイパッドを設けたもの
で、リードフレームの一方の面側のインナーリード面を
リードフレーム素材面とし、インナーリード先端には素
材の板厚よりも薄肉の薄肉部を形成しており、インナー
リード固定部は、絶縁性樹脂からなり、前記薄肉部のリ
ードフレーム素材面より凹んだ面側の先端箇所におい
て、インナーリード間を橋かけ跨ぐように固定してタブ
吊りバーまで連なり、タブ吊りバーに支持されるもの
で,且つ、該タブ吊りバーがリードフレーム素材の板厚
で形成されていることにより、インナーリード先端部で
の微細加工を可能とし、ワイヤボンディングにおけるク
ランプを安定的にでき、且つ、リードフレーム製造工程
での変形不良の発生や半導体組立工程でのリード変形不
良の発生を少ないものとしている。また、インナーリー
ド固定部を単層の絶縁性樹脂から形成することにより、
処理性の良いものとしている。尚、本発明のリードフレ
ーム部材においては、インナーリード固定部の露出した
面が、リードフレーム素材面と同じないし凹んだよう
に、インナーリード固定部の厚みを調整することによ
り、積み重ねの際には、リードフレームの厚みで安定的
に積み重ねることができ、ワイヤボンディング時の搬送
の際には、インナーリード固定部にて引っかかりが生じ
ないものとできる。According to the lead frame member of the present invention having such a structure, the problem in the case of using the fixing tape or the direct fixing of the inner lead by the screen printing method or the dispensing method without using the fixing tape is adopted. To provide a lead frame member consisting of a lead frame and an inner lead fixing portion, which can solve the problem of forming a resin layer for use, and make the thickness of the tab suspension bar the same as the thickness of the lead frame material. Because it is provided, the occurrence of deformation defects in the lead frame manufacturing process is reduced,
The lead deformation defect in the semiconductor assembly process is reduced. As a result, it is possible to further increase the number of terminals of the resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame member. Specifically, the lead frame is provided with a die pad, the inner lead surface on one side of the lead frame is used as the lead frame material surface, and the inner lead tip has a thin portion thinner than the material thickness. The inner lead fixing portion is formed of an insulating resin, and is fixed so as to bridge over the inner leads at the end portion of the thin portion, which is recessed from the lead frame material surface, so as to straddle the tab suspension bar. The tab suspension bar is supported by the tab suspension bar, and the tab suspension bar is formed with the thickness of the lead frame material. And the occurrence of deformation defects in the lead frame manufacturing process and the occurrence of lead deformation defects in the semiconductor assembly process are small. It is set to. Also, by forming the inner lead fixing part from a single layer of insulating resin,
It has good processability. Incidentally, in the lead frame member of the present invention, by adjusting the thickness of the inner lead fixing portion so that the exposed surface of the inner lead fixing portion is the same as or recessed from the lead frame material surface, when stacking, In addition, stacking can be performed stably with the thickness of the lead frame, and no jamming occurs at the inner lead fixing portion during transfer during wire bonding.
【0016】本発明のリードフレーム部材の製造方法
は、このような構成にすることにより、リードフレーム
部材を用いた樹脂封止型半導体装置の一層の多端子化を
可能としている。尚、本製造方法においては、インナー
リードの最先端部にてインナーリード固定部を形成し、
連結部を設けて外形加工されたリードフレームの連結部
のみを、即ち金属部のみを先端カットすることにより、
インナーリード固定部を形成する樹脂とともに連結部を
切断しない為、先端カットによる樹脂バリの発生がない
ものとできる。また、先端カットの寿命を、インナーリ
ード固定部を形成する樹脂とともに連結部を切断する場
合に比べ、先端カット金型の寿命を長くできる。In the method of manufacturing a lead frame member of the present invention, by adopting such a configuration, it is possible to further increase the number of terminals of the resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame member. In the present manufacturing method, the inner lead fixing portion is formed at the foremost portion of the inner lead,
By cutting the tip of only the connection part of the lead frame that has been processed by providing the connection part, that is, only the metal part,
Since the connecting portion is not cut together with the resin forming the inner lead fixing portion, it is possible to eliminate the occurrence of resin burrs due to the cutting at the end. Further, the life of the tip cutting die can be made longer than the case of cutting the connecting part together with the resin forming the inner lead fixing part.
【0017】[0017]
【実施例】本発明のリードフレーム部材の実施例を挙
げ、図を用いて説明する。図1(a)は実施例のリード
フレーム部材の平面図、図1(b)はインナーリード部
における断面図で、図1(a)のA1−A2における断
面の一部を示したもので、図1(c)は、図1(b)の
A3−A4における断面を示したものである。また、図
2(a)は、図1に示すリードフレーム部材のタブ吊り
バーを含むコーナー部を拡大した平面図で、図2(b)
は、図2(a)のB1−B2における断面の一部を示し
た図で、図2(c)はタブ吊りバー付近のインナーリー
ドの固定状態の一部を拡大して示した斜視図ある。図1
中、100はリードフレーム部材、110はリードフレ
ーム、111はダイパッド、112はインナーリード、
112Aは薄肉部、112Bは厚肉部、112Cは切断
面、112Eはエッチング面、112Sはリードフレー
ム素材面、113はアウターリード、114はダムバ
ー、115はタブ吊りバー、116はフレーム部、12
0はインナーリード固定部、120Cは切断面、150
は銀めっきである。本実施例のリードフレーム部材10
0は、樹脂封止型半導体装置に用いられる、リードフレ
ーム110と熱硬化性の絶縁性樹脂で形成されたインナ
ーリード固定部120とからなるリードフレーム部材で
ある。特に、インナーリード固定部120をインナーリ
ード先端に設けていることにより、半導体装置の多端子
化に対応できるものである。リードフレーム110は、
ダイパッド111を設けたもので、一方の面全面をリー
ドフレーム素材面とし、インナーリード112の先端は
素材の板厚よりも薄肉に形成されており、インナーリー
ド固定部120は、絶縁性樹脂からなり、リードフレー
ム110の薄肉部形成面側において、インナーリード1
12の薄肉領域のダイパッド111側の先端部を、イン
ナーリード112間を橋かけ跨ぐように固定してタブ吊
りバー115まで連なり、タブ吊りバー115に支持さ
れるもので,且つ、該タブ吊りバー115がリードフレ
ーム素材の板厚に形成されている。リードフレーム11
0は0.15mm厚の銅材を素材としたもので、アウタ
ーリードピッチは0.4mmのもので、リードフレーム
部材100は、パッケージサイズ28mm角のQFP
(Quad Flat Package)に適用される
ものである。リードフレーム110は、図4に示すエッ
チング加工にて外形加工されたもので、インナーリード
111の先端部は、リードフレーム素材の板厚よりも薄
肉に形成された薄肉部112Aを設けており、一面をエ
ッチング面112Eとし、他面をリードフレーム素材面
112Sとしている。インナーリード111の先端部の
みが50μm厚と薄肉で、それ以外はリードフレーム素
材の厚さ0.15mmである。インナーリード固定部1
20は、インナーリード先端に形成されたもので、薄肉
部112Aのエッチング面112E側にてインナーリー
ド112を跨ぎ、橋渡しし、タブ吊りリード115にま
で延びて形成されている。図1(c)に示すように、イ
ンナーリード固定部120に、インナーリード112の
一部を埋め込んだ状態でインナーリード同志を互いに固
定している。尚、インナーリード112のインナーリー
ド固定部120への埋め込み量については、インナーリ
ード同志を互いに固定できる程度で良いが、インナーリ
ードの埋まり込み量のバラツキは少ない程良く、埋め込
み量のバラツキは平均値に対し10%以内が好ましい。
また、インナーリード固定部120の厚さは本実施例で
は25μmとしたが、好ましくは30μm以下で、厚さ
のバラツキは、平均値の5%以内が好ましい。本実施例
においては、銀めっき150をインナーリード固定部1
20の下には設けていないが、銀めっき部150上にイ
ンナーリード固定部120を設けても良い。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a lead frame member according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view of the lead frame member of the embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view of an inner lead portion, showing a part of a cross section taken along line A1-A2 of FIG. FIG. 1C shows a cross section taken along line A3-A4 in FIG. FIG. 2A is an enlarged plan view of a corner portion including a tab suspension bar of the lead frame member shown in FIG. 1, and FIG.
FIG. 2A is a diagram showing a part of a cross section taken along line B1-B2 in FIG. 2A, and FIG. 2C is a perspective view showing an enlarged part of a fixed state of an inner lead near a tab suspension bar. . FIG.
Inside, 100 is a lead frame member, 110 is a lead frame, 111 is a die pad, 112 is an inner lead,
112A is a thin portion, 112B is a thick portion, 112C is a cut surface, 112E is an etched surface, 112S is a lead frame material surface, 113 is an outer lead, 114 is a dam bar, 115 is a tab hanging bar, 116 is a frame portion, 12
0 is an inner lead fixing portion, 120C is a cut surface, 150
Is silver plating. Lead frame member 10 of the present embodiment
Reference numeral 0 denotes a lead frame member used for a resin-encapsulated semiconductor device and including a lead frame 110 and an inner lead fixing portion 120 formed of a thermosetting insulating resin. In particular, by providing the inner lead fixing portion 120 at the tip of the inner lead, it is possible to cope with a multi-terminal semiconductor device. The lead frame 110 is
A die pad 111 is provided, one surface of the entire surface is a lead frame material surface, the tip of the inner lead 112 is formed thinner than the thickness of the material, and the inner lead fixing portion 120 is made of an insulating resin. The inner lead 1 is formed on the thin-frame portion forming surface side of the lead frame 110.
12 is fixed to the die pad 111 side of the thin region in such a manner as to bridge over the inner leads 112, continues to the tab hanging bar 115, is supported by the tab hanging bar 115, and is supported by the tab hanging bar 115. Reference numeral 115 is formed to a thickness of the lead frame material. Lead frame 11
0 is a copper material having a thickness of 0.15 mm, the outer lead pitch is 0.4 mm, and the lead frame member 100 is a QFP having a package size of 28 mm square.
(Quad Flat Package). The lead frame 110 has been subjected to an outer shape processing by etching shown in FIG. 4, and a tip portion of the inner lead 111 is provided with a thin portion 112A formed thinner than the plate thickness of the lead frame material. Is an etching surface 112E, and the other surface is a lead frame material surface 112S. Only the tip portion of the inner lead 111 is as thin as 50 μm, and the other portions are 0.15 mm in thickness of the lead frame material. Inner lead fixing part 1
Numeral 20 is formed at the tip of the inner lead, and extends across the inner lead 112 on the etching surface 112E side of the thin portion 112A, extends to the tab suspension lead 115, and extends. As shown in FIG. 1C, the inner leads 112 are fixed to each other in a state where a part of the inner lead 112 is embedded in the inner lead fixing portion 120. The embedded amount of the inner lead 112 into the inner lead fixing portion 120 may be such that the inner leads can be fixed to each other. However, the smaller the variation in the embedded amount of the inner lead, the better. Is preferably 10% or less.
The thickness of the inner lead fixing portion 120 is 25 μm in this embodiment, but is preferably 30 μm or less, and the thickness variation is preferably within 5% of the average value. In the present embodiment, the silver plating 150 is
Although not provided below 20, the inner lead fixing portion 120 may be provided on the silver plating portion 150.
【0018】図2(a)に示すように、インナーリード
固定部120はタブ吊りバー115まで延び、これによ
りインナーリードの固定を強固のものとしている。即
ち、タブ吊りバー115によりインナーリード固定部は
支持されている。As shown in FIG. 2A, the inner lead fixing portion 120 extends to the tab hanging bar 115, thereby firmly fixing the inner lead. That is, the inner lead fixing portion is supported by the tab hanging bar 115.
【0019】本実施例のインナーリード先端面は、後述
する図3に示す製造方法にて作成されるため、切断面1
12Cで、インナーリード固定部120のダイパッド側
も切断面120Cとなり、両切断面は同一面を形成す
る。尚、本実施例では、インナーリード先端面を形成す
る際にインナーリード固定部のダイパッド側面も切断し
ているが、切断しないようにすると、切断(プレス)金
型の寿命の点では好ましい。The tip surface of the inner lead of this embodiment is formed by a manufacturing method shown in FIG.
At 12C, the die pad side of the inner lead fixing portion 120 also becomes the cut surface 120C, and both cut surfaces form the same surface. In the present embodiment, the die pad side surface of the inner lead fixing portion is also cut when forming the inner lead tip surface, but it is preferable not to cut the die in terms of the life of the cutting (press) die.
【0020】上記実施例においては、リードフレーム素
材としては銅合金を用いたが、特にこれに限定されな
い。42合金(42%ニッケル−鉄合金)等でも良い。
インナーリード固定部としてエポキシ系の熱硬化型樹脂
を用いたが、他には、耐熱性を有するもの、例えば、熱
硬化性ポリイミド樹脂等が挙げられる。In the above embodiment, a copper alloy was used as the lead frame material, but the invention is not limited to this. For example, a 42 alloy (42% nickel-iron alloy) may be used.
Although an epoxy-based thermosetting resin was used as the inner lead fixing portion, another material having heat resistance, such as a thermosetting polyimide resin, may be used.
【0021】次に、本発明のリードフレーム部材の製造
方法の実施例を挙げ、図3を用いて説明する。本実施例
の製造方法は、図1に示すリードフレーム部材の製造方
法である。先ず、図4に示すエッチング加工方法によ
り、インナーリード112の先端をリードフレーム素材
の板厚よりも薄肉に形成した薄肉部112Aをもつリー
ドフレーム110を用意した。(図3(a)) エッチング加工により外形加工されたリードフレーム1
10のインナーリード112先端は延設された連結部1
18によりダイパッド111と一体的に連結している。
この連結部118は半導体装置作製の際には不要である
ので後述する工程にてプレスにて除去する。次に、イン
ナーリード112のワイヤボンディング領域に銀めっき
150を通常の部分めっき法により施した。(図3
(b)) 必要に応じてダイパッド111にもダイボンディング用
の銀めっき等の貴金属めっきを施す。Next, an embodiment of a method for manufacturing a lead frame member of the present invention will be described with reference to FIG. The manufacturing method of the present embodiment is a manufacturing method of the lead frame member shown in FIG. First, a lead frame 110 having a thin portion 112A in which the tip of the inner lead 112 was formed thinner than the thickness of the lead frame material was prepared by the etching method shown in FIG. (FIG. 3 (a)) Lead frame 1 whose outer shape has been processed by etching
The tip of the inner lead 112 is connected to the extended connecting portion 1.
18 integrally connects with the die pad 111.
Since the connecting portion 118 is unnecessary when fabricating the semiconductor device, it is removed by a press in a step described later. Next, silver plating 150 was applied to the wire bonding area of the inner lead 112 by an ordinary partial plating method. (FIG. 3
(B) If necessary, the die pad 111 is also plated with a noble metal such as silver plating for die bonding.
【0022】一方、リードフレーム110におけるイン
ナーリード固定部120に対応する形状に、インナーリ
ード固定部120を作成するためのエポキシ樹脂を主成
分とする熱硬化性絶縁樹脂160を、厚さ100μmの
PET(ポリエチレンテレフタレート)からなる樹脂フ
ィルム基板170上にスクリーン印刷により40μmの
厚さに塗布形成した後、樹脂フィルム基板170上に塗
布形成されたエポキシ樹脂を主成分とする熱硬化性絶縁
樹脂に対し、溶剤分を揮発させる揮発処理を行った。
(図3(c)) 尚、図3(c)(ロ)は図3(c)(イ)のC1−C2
における拡大断面図である。エポキシ樹脂の粘度は樹脂
にフィラーを添加して200000cpsに調整したも
のを用いたが、30000cps〜300000cps
の範囲が好ましい。溶剤としては、スクリーン上での樹
脂の粘度変化を防ぐ為に、沸点120°C以上のものを
用いることが好ましく、本実施例では、沸点206°C
のN−メチル−2ピロリドンを用いた。フィラーは半導
体パッケージ用の低イオン性不純物、低放射性物質含有
物を用いる。本実施例では、日本エアロジル社製R−2
00(平均粒径0.5μm)をを用いた。必要に応じて
3〜30重量%添加する。樹脂フィルム基板170とし
ては、スクリーン印刷する熱硬化性樹脂であるエポキシ
樹脂の溶剤に対しての耐溶剤性を持ち、耐熱性があり、
且つエポキシ樹脂に剥離性のあるものが適する。PET
の他にはPPS(ポリフェニレンサルファイド)、ポリ
プロピレン、PI(ポリイミド)、アラミド繊維、PE
(ポリエチレン)等が使用できる。樹脂フィルム基板1
70の板厚としては、12.5μm〜120μmが望ま
しく、材料費や機械的強度の面から30μm〜100μ
mが好ましい。エポキシ樹脂の樹脂フィルム基板170
への印刷に用いるスクリーン版は、耐溶剤性のある乳剤
(村上スクリーン社製MSP−2)40μm#150メ
ッシュスクリーンを用いた。揮発処理は、80°Cに加
熱して、30分間行った。揮発条件は80°C、20分
間でも良く、温度を上げるに従い時間は短くて済む。1
00°Cの場合は1分間で良い。しかし、温度が高い場
合は作業効率は良くなるが、気泡が発生し易くなるた
め、温度としては60°C〜120°Cが好ましい。8
0°Cの場合は10分間、100°Cの場合は2分間は
必要である。On the other hand, a thermosetting insulating resin 160 mainly composed of an epoxy resin for forming the inner lead fixing portion 120 is formed into a shape corresponding to the inner lead fixing portion 120 of the lead frame 110 by a 100 μm thick PET. After coating and forming to a thickness of 40 μm on a resin film substrate 170 made of (polyethylene terephthalate) by screen printing, a thermosetting insulating resin mainly composed of an epoxy resin applied and formed on the resin film substrate 170 is A volatilization treatment for volatilizing the solvent was performed.
(FIG. 3 (c)) Incidentally, FIGS. 3 (c) and (b) are C1-C2 in FIGS. 3 (c) and (a).
FIG. The viscosity of the epoxy resin was adjusted to 200,000 cps by adding a filler to the resin, but the viscosity was from 30,000 cps to 300,000 cps.
Is preferable. It is preferable to use a solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher in order to prevent a change in the viscosity of the resin on the screen.
N-methyl-2-pyrrolidone was used. As the filler, a low ionic impurity or a low radioactive substance containing material for a semiconductor package is used. In this embodiment, R-2 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. is used.
00 (average particle size: 0.5 μm) was used. If necessary, 3 to 30% by weight is added. The resin film substrate 170 has solvent resistance to a solvent of an epoxy resin which is a thermosetting resin to be screen-printed, and has heat resistance,
Also, an epoxy resin having releasability is suitable. PET
Besides, PPS (polyphenylene sulfide), polypropylene, PI (polyimide), aramid fiber, PE
(Polyethylene) and the like can be used. Resin film substrate 1
The thickness of 70 is desirably 12.5 μm to 120 μm, and 30 μm to 100 μm from the viewpoint of material cost and mechanical strength.
m is preferred. Epoxy resin film substrate 170
As a screen plate used for printing on the surface, a solvent-resistant emulsion (MSP-2 manufactured by Murakami Screen Co., Ltd.) 40 μm # 150 mesh screen was used. The volatilization treatment was performed by heating to 80 ° C. for 30 minutes. The volatilization condition may be 80 ° C. for 20 minutes, and the time is shorter as the temperature is increased. 1
In the case of 00 ° C., one minute is sufficient. However, when the temperature is high, the working efficiency is improved, but air bubbles are easily generated. Therefore, the temperature is preferably 60 ° C to 120 ° C. 8
It takes 10 minutes at 0 ° C and 2 minutes at 100 ° C.
【0023】次に、図3(b)に示す工程により得られ
た銀めっき後のリードフレームに対し、図3(c)に示
す工程で得られた揮発処理を行った樹脂フィルム基板1
70上に塗布形成されたエポキシ樹脂を主成分とする熱
硬化性絶縁樹脂160を、位置合わせしながら、リード
フレーム110のインナーリード112の薄肉部120
Aと厚肉部120Bに跨がる位置に治具180、181
を用いてリードフレームの両側から加熱圧着した。(図
3(d)) 圧着した熱硬化性絶縁樹脂160が平坦状になるよう
に、熱硬化性絶縁樹脂160をリードフレーム110と
挟む治具181のリードフレーム110側にリードフレ
ーム110の形状に合った突起181Aを設けている。
本実施例では、熱圧着条件は160°C、0.3秒間行
ったが、熱圧着条件は40〜260°C、圧着時間は温
度に対応するが0.1〜60秒程度が好ましい。Next, the resin film substrate 1 subjected to the volatilization treatment obtained in the step shown in FIG. 3C is applied to the lead frame after the silver plating obtained in the step shown in FIG.
The thin portion 120 of the inner lead 112 of the lead frame 110 is aligned with the thermosetting insulating resin 160 mainly composed of an epoxy resin applied and formed on the
Jigs 180 and 181 at positions straddling A and thick portion 120B.
And heat-pressed from both sides of the lead frame. (FIG. 3D) The jig 181 sandwiching the thermosetting insulating resin 160 with the lead frame 110 is formed in the shape of the lead frame 110 so that the thermosetting insulating resin 160 that has been crimped becomes flat. A matching projection 181A is provided.
In this embodiment, the thermocompression bonding was performed at 160 ° C. for 0.3 seconds, but the thermocompression bonding was performed at 40 to 260 ° C., and the compression time corresponds to the temperature, but is preferably about 0.1 to 60 seconds.
【0024】次に、樹脂フィルム基板170をリードフ
レーム110に熱硬化性絶縁樹脂160を付けたままの
状態でリードフレーム110から剥離した後、130°
C、3分間熱硬化性絶縁樹脂160を加熱して硬化させ
る硬化処理を行った。(図3(e))Next, the resin film substrate 170 is peeled off from the lead frame 110 while the thermosetting insulating resin 160 is still attached to the lead frame 110,
C, a curing treatment of heating and curing the thermosetting insulating resin 160 for 3 minutes was performed. (FIG. 3 (e))
【0025】この後、半導体装置作製の際には不要であ
る連結部118をプレスにて除去し、図1に示す実施例
1のリードフレーム部材100を作製した。(図3
(f)) さらに、必要に応じて、ダイパッド111のダウンセッ
ト加工を行う。Thereafter, the connecting portion 118, which is unnecessary when the semiconductor device is manufactured, is removed by a press, and the lead frame member 100 of Example 1 shown in FIG. 1 is manufactured. (FIG. 3
(F) Further, if necessary, a down-set processing of the die pad 111 is performed.
【0026】尚、図3に示す本実施例のリードフレーム
部材の製造方法においては、スクリーン印刷による熱硬
化性絶縁樹脂の塗布形成に替え、タコ印刷、ディスペン
ス法等を用いても良い。また、図3に示す本実施例のリ
ードフレーム部材の製造方法においては、樹脂フィルム
基板170をリードフレーム110から剥離した後に、
熱硬化性絶縁樹脂160を硬化させる硬化処理を行って
いるが、熱硬化性絶縁樹脂160を硬化させる硬化処理
を行った後に、樹脂フィルム基板170をリードフレー
ム110から剥離しても良い。In the method of manufacturing the lead frame member of this embodiment shown in FIG. 3, an octopus printing, a dispensing method or the like may be used instead of the application of the thermosetting insulating resin by screen printing. In the method for manufacturing a lead frame member of the present embodiment shown in FIG. 3, after the resin film substrate 170 is peeled off from the lead frame 110,
Although the hardening process for hardening the thermosetting insulating resin 160 is performed, the resin film substrate 170 may be separated from the lead frame 110 after the hardening process for hardening the thermosetting insulating resin 160 is performed.
【0027】本発明のリードフレーム部材の製造方法と
しては、上記実施例のリードフレーム部材の製造方法に
限定はされない。例えば、ワニス状の溶剤を含有しない
無溶剤型熱硬化性樹脂を、該熱硬化性樹脂に対して剥離
性を有するフィルム上に所定形状に形成した後、室温放
置、加熱ないし減圧により、熱硬化性樹脂の粘度を増加
させる粘度増加処理を行い、図3(e)の工程と同じよ
うに治具を用い、熱圧着により、熱硬化性樹脂をリード
フレームのインナーリードの所定部分に貼り付け、フイ
ルムをリードフレームから剥離除去し、熱硬化性樹脂を
硬化させる熱処理を行っても良い。この方法において
も、熱硬化性絶縁樹脂を硬化させる硬化処理を行った後
に、樹脂フィルム基板をリードフレームから剥離しても
良い。The method for manufacturing the lead frame member of the present invention is not limited to the method for manufacturing the lead frame member of the above embodiment. For example, after forming a solvent-free thermosetting resin containing no varnish-like solvent in a predetermined shape on a film having releasability from the thermosetting resin, the mixture is left at room temperature and heated or depressurized to be thermoset. A viscosity increasing process for increasing the viscosity of the thermosetting resin is performed, and a thermosetting resin is attached to a predetermined portion of the inner lead of the lead frame by thermocompression bonding using a jig in the same manner as in the step of FIG. A heat treatment for peeling and removing the film from the lead frame and curing the thermosetting resin may be performed. Also in this method, the resin film substrate may be peeled off from the lead frame after performing a curing treatment for curing the thermosetting insulating resin.
【0028】[0028]
【発明の効果】本発明は、上記のように、半導体装置に
おける多端子化に対応するには、インナーリード固定部
を設けることが必要であるが、インナーリード固定部と
して、高価で金型による切断加工が必要な固定用テープ
を用いずに、スクリーン印刷法、ディスペンス法により
直接インナーリード固定用の樹脂層を形成する場合の問
題点を解決できる、リードフレームとインナーリード固
定部とからなるリードフレーム部材の提供を可能として
いる。また、そのようなリードフレーム部材の製造方法
の提供を可能としている。特に、本発明のリードフレー
ム部材はインナーリード先端を薄肉とし、且つインナー
リード先端にインナーリード固定部を設けていることに
より、インナーリード先端部での微細加工を可能とし、
且つ、ワイヤボンディングにおけるクランプを安定的に
できるものとしている。結局、本発明は、半導体素子の
高集積化に伴う、樹脂封止型半導体装置における多端子
化に対応できる樹脂封止型半導体装置の提供を可能とす
るものである。According to the present invention, as described above, it is necessary to provide an inner lead fixing portion in order to cope with the increase in the number of terminals in a semiconductor device. A lead consisting of a lead frame and an inner lead fixing part that can solve the problem of directly forming the inner lead fixing resin layer by a screen printing method or a dispensing method without using a fixing tape requiring cutting processing. It is possible to provide a frame member. Further, it is possible to provide a method for manufacturing such a lead frame member. In particular, the lead frame member of the present invention makes the tip of the inner lead thin, and by providing the inner lead fixing portion at the tip of the inner lead, enables fine processing at the tip of the inner lead,
In addition, the clamp in wire bonding can be stably performed. As a result, the present invention makes it possible to provide a resin-encapsulated semiconductor device that can cope with the increase in the number of terminals in a resin-encapsulated semiconductor device accompanying the high integration of semiconductor elements.
【図1】実施例のリードフレーム部材の平面図および要
部断面図FIG. 1 is a plan view and a main part cross-sectional view of a lead frame member of an embodiment.
【図2】実施例のリードフレーム部材の部分拡大平面図FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the lead frame member of the embodiment.
【図3】実施例のリードフレーム部材の製造工程図FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the lead frame member of the embodiment.
【図4】実施例のリードフレーム部材に使用されるリー
ドフレームの製造工程図FIG. 4 is a manufacturing process diagram of a lead frame used for the lead frame member of the embodiment.
【図5】従来のリードフレーム部材とそれを用いた樹脂
封止型半導体装置を説明するための図FIG. 5 is a view for explaining a conventional lead frame member and a resin-sealed semiconductor device using the same.
【図6】従来のリードフレーム部材の製造工程図FIG. 6 is a manufacturing process diagram of a conventional lead frame member.
100 リードフレーム部材 110 リードフレーム 111 ダイパッド(タブ) 112 インナーリード 112A 薄肉部 112B 厚肉部 112C 切断面 112E エッチング面 112S リードフレーム素材面 113 アウターリード 114 ダムバー 115 タブ吊りリード 116 フレーム部 118 連結部 120 インナーリード固定部 120C 切断面 150 銀めっき 160 熱硬化性絶縁樹脂 170 樹脂フィルム基板 180、181 治具 181A 突起部 410 リードフレーム素材 410A 410Aは薄肉部 420A、420B レジストパターン 430 第一の開口部 440 第二の開口部 450 第一の凹部 460 第二の凹部 470 平坦状面 480 エッチング抵抗層(充填材層) 500 半導体装置 510 半導体素子 511 半導体素子のパッド 512 ワイヤ 513 樹脂部 520 リードフレーム部材 530 リードフレーム 531 ダイパッド部 532 インナーリード部 533 アウターリード部 534 ダムバー 535 ダム吊りバー 536 フレーム(枠)部 538 連結部 540 固定用テープ 550 銀めっき REFERENCE SIGNS LIST 100 Lead frame member 110 Lead frame 111 Die pad (tab) 112 Inner lead 112A Thin portion 112B Thick portion 112C Cutting surface 112E Etching surface 112S Lead frame material surface 113 Outer lead 114 Dam bar 115 Tab suspension lead 116 Frame portion 118 Connecting portion 120 Inner Lead fixing portion 120C Cut surface 150 Silver plating 160 Thermosetting insulating resin 170 Resin film substrate 180, 181 Jig 181A Projection 410 Lead frame material 410A 410A is thin portion 420A, 420B Resist pattern 430 First opening 440 Second Opening 450 first recess 460 second recess 470 flat surface 480 etching resistance layer (filler layer) 500 semiconductor device 510 semiconductor element 51 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pad of semiconductor element 512 Wire 513 Resin part 520 Lead frame member 530 Lead frame 531 Die pad part 532 Inner lead part 533 Outer lead part 534 Dam bar 535 Dam suspension bar 536 Frame (frame) part 538 Connection part 540 Fixing tape 550 Silver plating
Claims (3)
ードフレームとインナーリード固定部とを有するリード
フレーム部材であって、リードフレームは、ダイパッド
を設けたもので、リードフレームの一方の面側のインナ
ーリード面をリードフレーム素材面とし、インナーリー
ド先端には素材の板厚よりも薄肉の薄肉部を形成してお
り、インナーリード固定部は、絶縁性樹脂からなり、前
記薄肉部のリードフレーム素材面より凹んだ面側の先端
箇所において、インナーリード間を橋かけ跨ぐように固
定してタブ吊りバーまで連なり、タブ吊りバーに支持さ
れるもので,且つ、該タブ吊りバーがリードフレーム素
材の板厚で形成されていることを特徴とするリードフレ
ーム部材。1. A lead frame member having a lead frame and an inner lead fixing portion used in a resin-sealed semiconductor device, wherein the lead frame is provided with a die pad, and is provided on one side of the lead frame. The inner lead surface is a lead frame material surface, and a thin portion thinner than the thickness of the material is formed at the tip of the inner lead, and the inner lead fixing portion is made of an insulating resin, and the lead frame of the thin portion is formed. At the leading end on the surface side recessed from the material surface, the inner leads are fixed so as to cross over the inner leads, are connected to the tab hanging bar, are supported by the tab hanging bar, and the tab hanging bar is a lead frame material. A lead frame member characterized by being formed with a thickness of:
単層の絶縁性樹脂からなることを特徴とするリードフレ
ーム部材。2. The lead frame member according to claim 1, wherein the inner lead fixing portion is made of a single-layer insulating resin.
の製造方法であって、(A)インナーリード先端に一体
的に連結し、且つインナーリード同志を連結する連結部
を設けた状態でリードフレームを外形加工する工程と、
(B)インナーリード固定部を作成するための絶縁性の
樹脂部を、半硬化状態で所定形状に形成する工程と、
(C)半硬化状態で所定形状に形成された絶縁性の樹脂
部を、リードフレームの所定の位置に熱圧着にて固定す
る絶縁性の樹脂部固定工程と、(D)樹脂部固定工程に
て固定された絶縁性の樹脂部を、加熱手段およびまたは
紫外線照射手段によりキュアするキュア工程と、(E)
キュア工程後、リードフレームの連結部を除去する工程
とを有することを特徴とするリードフレーム部材の製造
方法。3. The method for manufacturing a lead frame member according to claim 1, wherein (A) the lead frame is provided with a connecting portion integrally connected to the tip of the inner lead and connecting the inner leads. The step of external processing,
(B) a step of forming an insulating resin part for forming an inner lead fixing part into a predetermined shape in a semi-cured state;
(C) an insulating resin part fixing step of fixing an insulating resin part formed in a predetermined shape in a semi-cured state to a predetermined position of a lead frame by thermocompression bonding; and (D) a resin part fixing step. Curing the insulating resin portion fixed by heating with heating means and / or ultraviolet irradiation means; and (E)
Removing the connection portion of the lead frame after the curing step.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8352570A JPH10178148A (en) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | Lead frame member and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8352570A JPH10178148A (en) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | Lead frame member and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10178148A true JPH10178148A (en) | 1998-06-30 |
Family
ID=18424965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8352570A Withdrawn JPH10178148A (en) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | Lead frame member and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10178148A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004887A (en) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | Shマテリアル株式会社 | Lead frame, and method of manufacturing lead frame |
-
1996
- 1996-12-16 JP JP8352570A patent/JPH10178148A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004887A (en) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | Shマテリアル株式会社 | Lead frame, and method of manufacturing lead frame |
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