JPH1017923A - 真空脱ガス用ランスのシール装置 - Google Patents
真空脱ガス用ランスのシール装置Info
- Publication number
- JPH1017923A JPH1017923A JP19524896A JP19524896A JPH1017923A JP H1017923 A JPH1017923 A JP H1017923A JP 19524896 A JP19524896 A JP 19524896A JP 19524896 A JP19524896 A JP 19524896A JP H1017923 A JPH1017923 A JP H1017923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lance
- seal tube
- vacuum
- vacuum degassing
- sealing device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランスの昇降時にランス外面とシールチュー
ブとを引き離し、シールチューブの破損頻度を低下させ
ることができる真空脱ガス用ランスのシール装置を提供
する。 【解決手段】 溶鋼を真空脱ガス処理する真空槽１のラ
ンス挿入用孔２の内周面に耐熱性シールチューブ３を配
置し、シールチューブ３には加圧源４と真空装置５とを
連結する。ランス６を固定する場合は、シールチューブ
３内を加圧してランス挿入用孔２とランス６外面との隙
間を塞ぎ、真空シールする。ランス６を昇降させる場合
は、シールチューブ３内を強制的に減圧してランス６外
面からシールチューブ３を引き離す。 【効果】 ランス昇降時のシールチューブの破損頻度が
低下して寿命が延長され、脱ガス性能の低下と製品品質
の悪化が防止できる。
ブとを引き離し、シールチューブの破損頻度を低下させ
ることができる真空脱ガス用ランスのシール装置を提供
する。 【解決手段】 溶鋼を真空脱ガス処理する真空槽１のラ
ンス挿入用孔２の内周面に耐熱性シールチューブ３を配
置し、シールチューブ３には加圧源４と真空装置５とを
連結する。ランス６を固定する場合は、シールチューブ
３内を加圧してランス挿入用孔２とランス６外面との隙
間を塞ぎ、真空シールする。ランス６を昇降させる場合
は、シールチューブ３内を強制的に減圧してランス６外
面からシールチューブ３を引き離す。 【効果】 ランス昇降時のシールチューブの破損頻度が
低下して寿命が延長され、脱ガス性能の低下と製品品質
の悪化が防止できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、製鋼工程において
溶鋼を真空脱ガス処理する真空槽のランス挿入用孔に配
置するシール装置に関する。
溶鋼を真空脱ガス処理する真空槽のランス挿入用孔に配
置するシール装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】製鋼工程において溶鋼の真空脱ガス処理
装置、たとえばＲＨ、ＤＨ、ＶＯＤ、ＫＩＰ等では、酸
素等のガスもしくは粉体上吹きランスまたは粉体等の浸
漬吹込みランスが使用される。図２に示すように、これ
らランス６は、真空槽１に設けたランス挿入用孔２を通
して真空槽の外部から真空槽１内に挿入し、取鍋１１内
の溶鋼１２を真空脱ガス処理する際、必要に応じて昇降
し、酸素や粉体を吹き込む。
装置、たとえばＲＨ、ＤＨ、ＶＯＤ、ＫＩＰ等では、酸
素等のガスもしくは粉体上吹きランスまたは粉体等の浸
漬吹込みランスが使用される。図２に示すように、これ
らランス６は、真空槽１に設けたランス挿入用孔２を通
して真空槽の外部から真空槽１内に挿入し、取鍋１１内
の溶鋼１２を真空脱ガス処理する際、必要に応じて昇降
し、酸素や粉体を吹き込む。
【０００３】真空槽１内は高真空度に減圧するため、ラ
ンス挿入用孔２とランス６外面との隙間のシールが重要
である。すなわち、ランス６の真空槽内保持固定時には
真空槽の外部から真空槽１内に空気が侵入するのを十分
に防止し、ランス６の昇降時にはシールを解除してラン
ス６の円滑な昇降を可能にしなければならない。
ンス挿入用孔２とランス６外面との隙間のシールが重要
である。すなわち、ランス６の真空槽内保持固定時には
真空槽の外部から真空槽１内に空気が侵入するのを十分
に防止し、ランス６の昇降時にはシールを解除してラン
ス６の円滑な昇降を可能にしなければならない。
【０００４】このシール性向上のために、従来から種々
のシール装置１０が実用に供されているが、特に図３に
示すような耐熱性を有するゴム製のシールチューブ３を
ランス挿入用孔２に配置し、加圧・減圧配管１３を設け
たシール装置が多く用いられている。これは、図４
（ａ）に示すように、ランス６を固定する場合はシール
チューブ３内をたとえば４〜６気圧に加圧してランス挿
入用孔２とランス６外面との隙間を塞いで真空シール
し、図４（ｂ）に示すように、ランス６を昇降させる場
合はシールチューブ３内を減圧してシールを解除し、ラ
ンス６外面とシールチューブ３とを離してランス６の昇
降を可能とする装置である。
のシール装置１０が実用に供されているが、特に図３に
示すような耐熱性を有するゴム製のシールチューブ３を
ランス挿入用孔２に配置し、加圧・減圧配管１３を設け
たシール装置が多く用いられている。これは、図４
（ａ）に示すように、ランス６を固定する場合はシール
チューブ３内をたとえば４〜６気圧に加圧してランス挿
入用孔２とランス６外面との隙間を塞いで真空シール
し、図４（ｂ）に示すように、ランス６を昇降させる場
合はシールチューブ３内を減圧してシールを解除し、ラ
ンス６外面とシールチューブ３とを離してランス６の昇
降を可能とする装置である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来は
シールチューブ３の減圧手段を大気放散としていたた
め、減圧が十分に行われない問題があった。すなわち、
シールチューブ３の一方は大気圧であり、他方は真空で
あるので、大気放散だけでは図５に示すようにシールチ
ューブ３が真空側に引っ張られてしまって減圧が十分に
行えなかった。このため、図４（ｂ）に示したようにラ
ンス６外面とシールチューブ３とを引き離すことができ
ず、図５に示したようにシールチューブ３がランス６外
面に接触したままになってしまうのである。こうなる
と、ランス６を昇降させたときに、ランス６の外面に付
着している小さな地金等の微小な突起物のためにシール
チューブ３が破損する頻度が高くなる。シールチューブ
３が破損すると、高価なシールチューブ３の物的損失だ
けでなく、真空槽１内に空気が侵入して真空度が悪化
し、脱ガス性能の低下や、窒素ピックアップ等の品質上
の悪影響の原因となる。
シールチューブ３の減圧手段を大気放散としていたた
め、減圧が十分に行われない問題があった。すなわち、
シールチューブ３の一方は大気圧であり、他方は真空で
あるので、大気放散だけでは図５に示すようにシールチ
ューブ３が真空側に引っ張られてしまって減圧が十分に
行えなかった。このため、図４（ｂ）に示したようにラ
ンス６外面とシールチューブ３とを引き離すことができ
ず、図５に示したようにシールチューブ３がランス６外
面に接触したままになってしまうのである。こうなる
と、ランス６を昇降させたときに、ランス６の外面に付
着している小さな地金等の微小な突起物のためにシール
チューブ３が破損する頻度が高くなる。シールチューブ
３が破損すると、高価なシールチューブ３の物的損失だ
けでなく、真空槽１内に空気が侵入して真空度が悪化
し、脱ガス性能の低下や、窒素ピックアップ等の品質上
の悪影響の原因となる。
【０００６】そこで本発明は、ランスの昇降時にシール
チューブ内を十分かつ迅速に減圧し、ランス外面とシー
ルチューブとを確実に引き離すことができる簡便な真空
脱ガス用ランスのシール装置を提供する。
チューブ内を十分かつ迅速に減圧し、ランス外面とシー
ルチューブとを確実に引き離すことができる簡便な真空
脱ガス用ランスのシール装置を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶鋼を内部に
吸い上げてランスにより気体または粉体を吹き込んで真
空脱ガス処理する真空槽のランス挿入用孔内周面に耐熱
性シールチューブを配置し、シールチューブには加圧源
と真空装置とを連結し、挿入したランスを固定する場合
はシールチューブ内を加圧してランス挿入用孔とランス
外面との隙間を塞ぎ、前記ランスを昇降させる場合はシ
ールチューブ内を強制的に減圧してランス外面からシー
ルチューブを引き離すことを特徴とする真空脱ガス用ラ
ンスのシール装置である。なお、前記真空装置として
は、前記真空脱ガス処理装置に標準装備している真空排
気装置を用いることが好ましい。
吸い上げてランスにより気体または粉体を吹き込んで真
空脱ガス処理する真空槽のランス挿入用孔内周面に耐熱
性シールチューブを配置し、シールチューブには加圧源
と真空装置とを連結し、挿入したランスを固定する場合
はシールチューブ内を加圧してランス挿入用孔とランス
外面との隙間を塞ぎ、前記ランスを昇降させる場合はシ
ールチューブ内を強制的に減圧してランス外面からシー
ルチューブを引き離すことを特徴とする真空脱ガス用ラ
ンスのシール装置である。なお、前記真空装置として
は、前記真空脱ガス処理装置に標準装備している真空排
気装置を用いることが好ましい。
【０００８】本発明では、シールチューブを真空装置に
連結したので、ランスを固定する場合には、シールチュ
ーブ内を加圧してシールチューブをランス外面に密着さ
せることによりランス挿入用孔とランス外面との隙間を
塞いで真空シールすることができるだけでなく、ランス
を昇降させる場合は、シールチューブが真空側に引っ張
られていても強制的にシールチューブ内を減圧してシー
ルチューブを確実に収縮させることが可能となる。これ
により、ランス外面とシールチューブとを引き離してシ
ールチューブの破損頻度を低下させることができる。な
お、真空装置としては、シールチューブ内を強制的に減
圧できるものであれば何を用いてもよく、たとえば、シ
ールチューブ専用にベンチュリーポンプ等を設けてもよ
いし、真空槽を減圧するために真空脱ガス処理装置に標
準装備される真空排気装置を利用し、これに弁を介して
連結してもよい。
連結したので、ランスを固定する場合には、シールチュ
ーブ内を加圧してシールチューブをランス外面に密着さ
せることによりランス挿入用孔とランス外面との隙間を
塞いで真空シールすることができるだけでなく、ランス
を昇降させる場合は、シールチューブが真空側に引っ張
られていても強制的にシールチューブ内を減圧してシー
ルチューブを確実に収縮させることが可能となる。これ
により、ランス外面とシールチューブとを引き離してシ
ールチューブの破損頻度を低下させることができる。な
お、真空装置としては、シールチューブ内を強制的に減
圧できるものであれば何を用いてもよく、たとえば、シ
ールチューブ専用にベンチュリーポンプ等を設けてもよ
いし、真空槽を減圧するために真空脱ガス処理装置に標
準装備される真空排気装置を利用し、これに弁を介して
連結してもよい。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１に本発明のシール装置の例を
示す。
示す。
【００１０】図１（ａ）は、シールチューブ３を電磁弁
７を介してベンチュリーポンプ５に接続した例を示す。
シールチューブの材質としては、補強布入りゴムまたは
ゴム単体で作られた中空のガスケットで、断面形状は
円、多角形、Ｕ字形、半楕円形などがある。ゴム材質と
してはふっ素ゴムが好ましい。厚みは５．５ｍｍ、断面
最大長５５ｍｍ、耐熱温度は約２５０℃のものを用い
た。ランス６を昇降させるときには、電磁弁７を図示の
位置として加圧源４から送風すると、ベンチュリーポン
プ５の作用によりシールチューブ３が強制的に減圧され
る。これによりランス６外面からシールチューブ３が引
き離されるので、シールチューブ３を破損することなく
ランス６を昇降させることができる。ランス６を固定し
て酸素や粉体を吹き込む場合は、電磁弁７を切り替えて
から加圧源４からガス圧力４ｋｇ／ｃｍ2 で送風すれ
ば、シールチューブ３内を大気圧に対し更に３〜４ｋｇ
／ｃｍ2（＝気圧）にまで１０秒以内に加圧してランス
挿入用孔２とランス６との隙間を塞ぎ、真空シールする
ことができる。
７を介してベンチュリーポンプ５に接続した例を示す。
シールチューブの材質としては、補強布入りゴムまたは
ゴム単体で作られた中空のガスケットで、断面形状は
円、多角形、Ｕ字形、半楕円形などがある。ゴム材質と
してはふっ素ゴムが好ましい。厚みは５．５ｍｍ、断面
最大長５５ｍｍ、耐熱温度は約２５０℃のものを用い
た。ランス６を昇降させるときには、電磁弁７を図示の
位置として加圧源４から送風すると、ベンチュリーポン
プ５の作用によりシールチューブ３が強制的に減圧され
る。これによりランス６外面からシールチューブ３が引
き離されるので、シールチューブ３を破損することなく
ランス６を昇降させることができる。ランス６を固定し
て酸素や粉体を吹き込む場合は、電磁弁７を切り替えて
から加圧源４からガス圧力４ｋｇ／ｃｍ2 で送風すれ
ば、シールチューブ３内を大気圧に対し更に３〜４ｋｇ
／ｃｍ2（＝気圧）にまで１０秒以内に加圧してランス
挿入用孔２とランス６との隙間を塞ぎ、真空シールする
ことができる。
【００１１】図１（ｂ）は、専用の真空装置を設けるこ
となく、真空槽１を減圧する真空排気装置を利用する例
を示す。シールチューブ３を弁８を介して真空排気装置
の排気系に連結し、図示はしていないが、シールチュー
ブ３の加圧源は別途設けてある。この例では、ランス６
を昇降させるときには弁８を開けば、真空排気装置によ
りシールチューブ３内が強制的に４００Ｔｏｒｒ以下ま
で、好ましくは１００〜１５０Ｔｏｒｒの範囲にまで、
かつ１５秒以内で、好ましくは大気圧から４００Ｔｏｒ
ｒまで５秒以内に減圧され、ランス６外面からシールチ
ューブ３が約２．５ｍｍ程度引き離されるので、シール
チューブ３を破損することなくランス６を昇降させるこ
とができる。ランス６を固定する場合は、弁８を閉じ、
図示しない加圧源からシールチューブ３を加圧してやれ
ばよい。なお、現在使用しているシール装置を改良する
のであれば、図１（ｂ）に示したシール装置のほうが改
良箇所が少なくてすむ点が有利である。
となく、真空槽１を減圧する真空排気装置を利用する例
を示す。シールチューブ３を弁８を介して真空排気装置
の排気系に連結し、図示はしていないが、シールチュー
ブ３の加圧源は別途設けてある。この例では、ランス６
を昇降させるときには弁８を開けば、真空排気装置によ
りシールチューブ３内が強制的に４００Ｔｏｒｒ以下ま
で、好ましくは１００〜１５０Ｔｏｒｒの範囲にまで、
かつ１５秒以内で、好ましくは大気圧から４００Ｔｏｒ
ｒまで５秒以内に減圧され、ランス６外面からシールチ
ューブ３が約２．５ｍｍ程度引き離されるので、シール
チューブ３を破損することなくランス６を昇降させるこ
とができる。ランス６を固定する場合は、弁８を閉じ、
図示しない加圧源からシールチューブ３を加圧してやれ
ばよい。なお、現在使用しているシール装置を改良する
のであれば、図１（ｂ）に示したシール装置のほうが改
良箇所が少なくてすむ点が有利である。
【００１２】
【発明の効果】本発明の真空脱ガス用ランスのシール装
置は、ランスの固定時に十分な真空シールができるだけ
でなく、ランスの昇降時にシールチューブ内を十分に減
圧し、ランス外面とシールチューブとを引き離すことが
できるので、ランス昇降時のシールチューブの破損頻度
を低下させることができる。これにより、シールチュー
ブの寿命が延長され、脱ガス性能の低下と製品品質の悪
化が防止される。
置は、ランスの固定時に十分な真空シールができるだけ
でなく、ランスの昇降時にシールチューブ内を十分に減
圧し、ランス外面とシールチューブとを引き離すことが
できるので、ランス昇降時のシールチューブの破損頻度
を低下させることができる。これにより、シールチュー
ブの寿命が延長され、脱ガス性能の低下と製品品質の悪
化が防止される。
【図１】本発明の例を示す図である。
【図２】溶鋼の真空脱ガス処理の例を示す図である。
【図３】真空脱ガス用ランスのシール装置の例を示す図
である。
である。
【図４】真空脱ガス用ランスのシール装置による真空シ
ールおよびランス昇降のためのシール解除を示す図であ
る。
ールおよびランス昇降のためのシール解除を示す図であ
る。
【図５】従来の真空脱ガス用ランスのシール装置の問題
点を示す図である。
点を示す図である。
１ 真空槽 ２ ランス挿入用孔 ３ シールチューブ ４ 加圧源 ５ ベンチュリーポンプ ６ ランス ７ 電磁弁 ８ 弁 ９ ガスクーラー １０ シール装置 １１ 取鍋 １２ 溶鋼 １３ 加圧・減圧配管
Claims (2)
- 【請求項１】 溶鋼を内部に吸い上げてランスにより気
体または粉体を吹き込んで真空脱ガス処理する真空槽の
ランス挿入用孔内周面に耐熱性シールチューブを配置
し、シールチューブには加圧源と真空装置とを連結し、
挿入したランスを固定する場合はシールチューブ内を加
圧してランス挿入用孔とランス外面との隙間を塞ぎ、前
記ランスを昇降させる場合はシールチューブ内を強制的
に減圧してランス外面からシールチューブを引き離すこ
とを特徴とする真空脱ガス用ランスのシール装置。 - 【請求項２】 前記真空装置が前記真空脱ガス処理装置
に標準装備している真空排気装置である請求項１記載の
真空脱ガス用ランスのシール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19524896A JPH1017923A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | 真空脱ガス用ランスのシール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19524896A JPH1017923A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | 真空脱ガス用ランスのシール装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1017923A true JPH1017923A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=16337975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19524896A Pending JPH1017923A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | 真空脱ガス用ランスのシール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1017923A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000077467A1 (en) * | 1997-12-17 | 2000-12-21 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Through-hole sealing device |
| KR100760329B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2007-09-20 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 실링기구가 있는 처리장치 |
-
1996
- 1996-07-08 JP JP19524896A patent/JPH1017923A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000077467A1 (en) * | 1997-12-17 | 2000-12-21 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Through-hole sealing device |
| KR100760329B1 (ko) * | 2000-07-03 | 2007-09-20 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 실링기구가 있는 처리장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04269822A (ja) | 熱処理装置の封止構造 | |
| CN88102623A (zh) | 反重力金属铸造的设备和方法 | |
| JPH05335264A (ja) | 封止装置 | |
| JPH1017923A (ja) | 真空脱ガス用ランスのシール装置 | |
| JP2004523366A (ja) | 液体金属を収集容器から受容容器に輸送する装置 | |
| CN205599892U (zh) | 一种全密封惰性气体保护浇铸系统 | |
| JP2000119733A (ja) | 真空脱ガス装置用トップランス浸漬装置 | |
| JP2000044269A (ja) | 光ファイバ多孔質母材の脱水・透明ガラス化装置 | |
| ES2264996T3 (es) | Procedimiento para la elaboracion por fundicion de un piston con un anillo soporte enfriado. | |
| JP3687698B2 (ja) | 金属管コイルの熱処理方法及び装置 | |
| JP3046595B1 (ja) | サブランスプロ―ブの交換装置 | |
| JP2700939B2 (ja) | 封止装置 | |
| JP2923534B2 (ja) | コイル状被処理材の焼鈍方法及び熱処理炉 | |
| JPH09122883A (ja) | 金属の鋳造方法およびそれに用いる鋳造装置 | |
| JPH1194085A (ja) | 高圧処理装置における密封チャンバの安全装置 | |
| JP3138136B2 (ja) | 低圧鋳造装置 | |
| JP3228865B2 (ja) | 真空精錬装置のランス把持装置 | |
| JPH06256838A (ja) | 低窒素鋼製造方法 | |
| JP2002118067A (ja) | 真空処理方法及び真空処理装置 | |
| JPH09279226A (ja) | 真空脱ガス用ランスシール装置 | |
| JP2000084656A (ja) | 鋳造装置 | |
| JPH01272715A (ja) | 真空脱ガス装置の浸漬管 | |
| US4964798A (en) | Method and apparatus for quickly purging atmosphere gas from bell furnace | |
| JP3304338B2 (ja) | 熱処理装置及び熱処理方法 | |
| JPS6210207A (ja) | 炉底出鋼用簡易出鋼脱ガス装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030122 |