JPH1018083A - 酸化チタン被覆金属材料の製造方法 - Google Patents
酸化チタン被覆金属材料の製造方法Info
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- JPH1018083A JPH1018083A JP8171245A JP17124596A JPH1018083A JP H1018083 A JPH1018083 A JP H1018083A JP 8171245 A JP8171245 A JP 8171245A JP 17124596 A JP17124596 A JP 17124596A JP H1018083 A JPH1018083 A JP H1018083A
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Abstract
光触媒活性が高く密着性の優れた酸化チタン皮膜の形
成。 【解決手段】 NOn - ,ClOn - ,BrOn - ,I
On - の1種以上を含む酸化剤と、Ti4+イオン及び/
又はコロイド状酸化チタンを含む電解液に、金属材料を
陰極とし、不溶性電極を陽極として、電解処理を施し
て、金属材料表面上に、水和酸化チタン及び/又は酸化
チタンを含有する皮膜を形成し、これを乾燥又は乾燥焼
成する。
Description
属材料の製造方法に関するものである。更に詳しく述べ
るならば、本発明は、ステンレス、アルミニウム、鉄、
亜鉛めっき鋼、および銅、などの金属材料の表面に、陰
極電解により光触媒機能を有する酸化チタン皮膜を形成
する方法に関するものである。
触媒効果を付与させることが可能であり、例えば金属、
ガラス、セラミックなどの素材表面に、光触媒効果を有
する酸化チタン皮膜を形成させることにより、当該材料
表面に付着汚れの分解、大気および水質の浄化、防錆、
並びに細菌および藻類の繁殖防止、などの機能を付与
し、これを各種用途に利用できることが知られている。
材表面に形成することを目的として、これまでに種々の
酸化チタン被覆方法が提案されてきた。
方法としては、チタンのアルコキシドの加水分解生成物
を塗布する方法、すなわちゾル−ゲル法が最も一般的で
あり、これに類する他の技術としては、例えば特開平4
−83537号公報に示されるチタンアルコキシドにア
ミド、および/又はグリコールを添加し、その反応生成
物を利用する方法、および特開平7−100378号公
報に示されているように、チタンアルコキシドにアルコ
ールアミン類を添加し、その反応生成物を塗料成分とし
て用いる方法が開示されている。
9号公報に記載されているように水熱処理により結晶化
させた酸化チタン微粒子を分散剤を使用して水中に分散
させ、これを塗布する方法、および結晶性酸化チタン粒
子に、水ガラス、コロイダルシリカ、弗素系樹脂などの
バインダーを混和し、これを固体材料表面に塗布する方
法などが知られている。
粘度や塗布条件によって形成される皮膜の厚さが変化し
易く、皮膜の性能を高めるために厚膜化すると、乾燥の
際の皮膜の収縮が大きいため皮膜と基体表面との間の密
着性が低くなり、剥離し易くなるなどの問題点がある。
また、ゾル−ゲル法では、原料に有機チタン化合物を使
用するため原料が高価な点も問題であった。
ダーと混合して塗料を調製し、この塗料を基体表面上に
塗布する方法では、得られる皮膜中の酸化チタン含有率
が低いため、光触媒能が充分に発揮されないという問題
があった。
表面に光触媒性を有する酸化チタン皮膜を形成する場合
に、従来のゾル−ゲル法などが有する問題点を解決し、
安価な無機チタン化合物を原料として使用し、形成され
る皮膜の厚さを1μm以上にしても、基体と皮膜との密
着性が損なわれない光触媒性に優れた酸化チタン皮膜被
覆金属材料の製造方法を提供しようとするものである。
的課題を解決する手段について鋭意検討した結果、皮膜
成分である酸化チタンを構成するためのチタンを酸性の
電解浴中に、4価のチタンイオンとして存在せしめ、あ
わせてこの浴に硝酸イオン、亜硝酸イオン等のような酸
化窒素イオンおよびハロゲンを含む酸素酸イオンの少な
くとも1種を酸化剤として共存させ、この電解浴中で導
電性金属材料を陰極体とし、不溶性電極を陽極体として
電解処理することにより浴中のチタンを水和酸化チタン
として陰極金属材料表面に電解析出させうることを見出
した。
成された水和酸化チタン皮膜は、それを乾燥後、200
℃以上で焼成することにより、光触媒活性を有し、密着
性に優れた二酸化チタン皮膜を形成し得ることを見出し
た。
ンを含有させた電解浴中に、4価のチタンイオンの代わ
りにコロイド状酸化チタンを含有させることにより、金
属材料表面上に酸化チタンが析出し、このようにして形
成された酸化チタン皮膜は、80〜200℃程度の乾燥
のみにより、良好な光触媒活性を示す酸化チタン皮膜を
形成し得ることを見出した。
化剤イオンを含む電解浴中に、4価のチタンイオンとコ
ロイド状酸化チタンとの両者を含有させることにより、
形成される酸化チタン皮膜の密着性がさらに向上するこ
とを見出した。
の製造方法(1)は、NOn - ,ClOn - ,BrOn
- 、およびIOn - (nは1,2、または3を表す)か
らなる群より選択された少なくとも1種を含む酸化剤
と、Ti4+イオンとを含み、0.1〜5の範囲内にある
pH値を有する電解液中に、被処理金属材料からなる陰
極体と、不溶性電極からなる陽極体とを配置し、これに
電解処理を施して、前記金属材料表面上に水和酸化チタ
ン含有皮膜を形成し、この皮膜を200℃以上の温度で
焼成することを特徴とするものである。
製造方法(2)は、NOn - ,ClOn - ,BrOn -
およびIOn - (nは1,2、または3を表す)からな
る群より選択された少なくとも1種を含む酸化剤と、コ
ロイド状酸化チタンとを含み、0.1〜5の範囲内にあ
るpH値を有する電解液中に、被処理金属材料からなる
陰極体と、不溶性電極からなる陽極体とを配置し、これ
に電解処理を施して、前記金属材料表面上に、酸化チタ
ンを含有する皮膜を形成し、この皮膜を乾燥または焼成
することを特徴とするものである。
の製造方法(3)は、NOn - ,ClOn - ,BrOn
- およびIOn - (nは1,2、または3を表す)から
なる群より選択された少なくとも1種を含む酸化剤と、
Ti4+イオンと、コロイド状酸化チタンとを含み、0.
1〜5の範囲内にあるpH値を有する電解液中に、被処
理金属材料からなる陰極体と、不溶性電極からなる陽極
体とを配置し、これに電解処理を施して、前記金属材料
表面上に、水和酸化チタンおよび酸化チタンを含有する
皮膜を形成し、この皮膜を乾燥または焼成することを特
徴とするものである。
て、電解浴中に含まれるTi4+イオン濃度の範囲は、好
ましくは0.1〜50g/リットル、より好ましくは
0.5〜20g/リットルである。
ットル未満では、十分な皮膜の厚さが得られないことが
あり、またそれが50g/リットルを超えると電解液の
持ち出し損失が多くなり不経済になることがある。
おいて、電解液に含まれるTi4+イオンは、硫酸チタ
ン、オキシ硫酸チタン、四塩化チタン、オキシ塩化チタ
ンなどの水溶性チタン塩を水中に溶解することにより形
成されることが好ましい。
属材料表面上に析出させるためには、電解液中にNOn
- ,ClOn - ,BrOn - ,IOn - (nは1,2、
または3を表す)例えばNO3 - ,NO2 - ,Cl
O- ,ClO2 - ,BrO- 、およびIO3 - からなる
群より選択された少なくとも1種を含む酸化剤を含むこ
とが必要である。
オンが最も好ましく、次にNO2 -イオンが好ましく、
次にClO- ,ClO2 - ,BrO- 、およびIO3 -
が好ましい。
範囲は、0.1〜20g/リットルであり、より好まし
い合計濃度範囲は0.2〜8g/リットルである。
で電解液に添加されても良いが、硝酸ナトリウム、硝酸
アンモニウム、亜塩素酸ナトリウムなどのようなアルカ
リ金属塩またはアンモニウム塩の形で電解液中に添加さ
れることがより好ましい。
トル未満では、充分な皮膜付着量が得られず、また、一
旦付着したとしても、水素ガスの発生のために金属材料
表面から脱落しやすくなることがあり、またそれが20
g/リットルを超えると、酸化剤イオンが生成した皮膜
中に多く残るため金属材料の腐食が起きやすくなる。
体で構成する金属材料表面には、電解処理の進行ととも
にチタン化合物が皮膜となって析出する。析出するチタ
ン化合物は、本発明方法(1)においては水和酸化チタ
ン(または水酸化チタン)であり、本発明方法(2)の
場合、二酸化チタンであり、本発明方法(3)の場合に
は水和酸化チタンと二酸化チタンとの混合物である。
(3)に使用する電解液のpH値は0.1〜5の範囲で
あることが必要で、好ましい範囲は0.5〜3.5であ
る。電解液のpH値が0.1未満では、酸化剤イオン濃
度が十分であっても陰極表面のpHが十分に上昇せず、
チタン化合物の析出が困難になるため好ましくない。ま
た、pH値が5を超えると、電解液中のチタンイオンま
たはコロイド状チタン粒子が不安定となって沈降し易く
なるため好ましくない。
いて使用される電解液に含まれるコロイド状酸化チタン
は、粒径が1〜10-3μmの範囲内にある酸化チタンコ
ロイド粒子を含むことが好ましく、より好ましい粒径は
10-2〜10-1μmである。このコロイド状酸化チタン
は結晶性酸化チタンのコロイドであることが好ましく、
アナターゼ型酸化チタンのコロイドであることが最も好
ましい。
を超えるとコロイド粒子が沈降しやすく、皮膜と金属材
料表面との密着性も低下することがあるため好ましくな
く、また、それが10-3μm未満では、得られる皮膜の
触媒活性が不十分になることがあるため好ましくない。
電解液中に含まれるコロイド状酸化チタンの好ましい濃
度は、3〜200g/リットルであり、より好ましい濃
度は10〜100g/リットルである。
タン塩溶液、好ましくは硫酸チタン、オキシ硫酸チタ
ン、4塩化チタン、およびオキシ塩化チタン等のチタン
塩溶液を原料とし、この水溶液を、必要に応じて、水酸
化アルカリ溶液等で中和した後、50℃以上の温度で5
分〜数時間加熱処理して調製し、これをそのまま使用し
てもよいが、これをさらにミクロフィルター等で濾過し
てコロイド粒子を再分散させたものを使用するか、又は
これに透析等による脱イオン処理を施して得られる、夾
雑イオンを含まないコロイド状酸化チタンを使用するこ
とにより電解液中の不純物を減少させることができるの
でより好ましい。
において、電解処理は、被処理体を陰極とすることが必
須であり、陽極としては、白金めっきを施されたチタ
ン、又は白金族系酸化物で被覆されたDSE(商標、ペ
ルメレック電極(株)製)のような不溶性電極を使用す
る。陽極として無処理のチタン材を使用すると、陽極表
面が不動態化して電流が流れにくくなるため、このよう
な陽極は好ましくない。
0A/dm2 が好ましく、皮膜の物性向上のためにパル
ス通電する場合は、50A/dm2 以上でもさしつかえ
ない。電解処理の通電時間は3〜180秒が好ましい。
皮膜を水洗または湯洗したのち乾燥することが好まし
い。生成した皮膜に対し、本発明方法(1)においては
焼成を施す必要があり、このため、電解処理により形成
された湿潤皮膜を好ましくは100℃未満の温度で一旦
乾燥した後、これを200℃以上、好ましくは200〜
600℃の温度で焼成する。
は、金属材料表面に形成された皮膜に対し、必ずしも焼
成は必要なく、200℃未満の温度における乾燥のみで
実用に供することができるが、乾燥後、200℃以上の
温度で焼成することが好ましく、より好ましい焼成温度
は200〜400℃である。
おいて乾燥、または焼成後の皮膜は二酸化チタンからな
り、これはアナターゼ型二酸化チタンを主成分とする
が、電解、および焼成の条件に応じて、アナターゼ型酸
化チタンの他に、ルチル型酸化チタン、無定型酸化チタ
ンも含まれることがある。
って酸化チタン皮膜が得られる原理は、電解中に、電解
浴中酸化剤イオンが陰極(金属材料)の表面において還
元を受け、陰極界面近傍のpHが急激に上昇することに
ある。この現象は、本発明方法(1),(2)および
(3)において特定された酸化剤イオンが陰極表面から
電子を受け取ることにより、陰極界面近傍にOH- イオ
ンが発生(またはH + イオンを消費)するという特徴的
な反応を生起することによる。
Ti4+イオンが存在する場合(本発明方法(1)および
(3))、陰極界面で発生したOH- イオンと浴中のT
i4+イオンとが反応してチタンの水酸化物(水和酸化
物)が沈澱析出する。
する場合(本発明方法(2),(3))、酸化チタンコ
ロイドはpH5未満ではほぼ安定であるが、pHが5よ
り高く上昇すると電荷を失い、ゲル化、凝集析出すると
いう特性を有し、前記のような陰極界面近傍におけるp
Hの上昇により陰極表面に析出する。
(1)および(2)に示し、焼成による脱水反応を下記
式(3)に示す。 反応(1)NO3 - +6H2 O+8e→NH3 +9OH- NO2 - +5H2 O+6e→NH3 +7OH- 反応(2)Ti4++4OH- →Ti(OH)4 TiO2 (コロイドゾル)→TiO2 (ゲル) 反応(3)Ti(OH)4 →TiO2 (酸化チタン)+2H2 O
ル法など他の製造方法により得られるものに比較して優
れている理由としては、本発明方法において、水酸化物
が析出する際の陰極表面での過飽和度が非常に高いため
極めて微細な粒子からなる皮膜が析出すること、および
電解中に析出した皮膜から電気浸透作用により徐々に吸
着水や不純物アニオン(SO4 2- ,Cl- 等)が除去さ
れるため、密度、および純度が高く、厚さの厚い皮膜が
形成されることなどが考えられる。
例して上記反応がおこるため、薄膜から厚膜まで皮膜の
厚さを正確に制御することができる。
発明の内容を具体的に説明する。
の、ステンレススチール(SUS304)板、鋼板(S
PCC)、アルミニウム板(5052)、または銅板を
使用し、これらを、電解処理前に、アルカリ性水系脱脂
剤(FC−W1120:日本パーカライジング(株)
製)の20g/リットル濃度溶液により、60℃×3分
間の脱脂処理を施し、水洗した。
の各々において使用された電解液の組成を表1に示す。
電解液中の酸化剤イオンは、これらのナトリウム塩また
はアンモニウム塩の溶解により生成させた。Ti4+イオ
ンは、4塩化チタン水溶液(17%)により所定の濃度
となるよう調製された。コロイド状酸化チタンは、硫酸
チタン水溶液(30%)を水で希釈した液に、水酸化ナ
トリウム溶液を加えてpHを約1とし、この混合液を8
5℃で20分間加熱処理し、得られたコロイド溶液を拡
散透析に供して夾雑イオンの多くを除去する方法により
作製した。生成したコロイド状酸化チタンの濃度は約2
0%であり、そのpHは2.8であった。また、コロイ
ド粒子の平均粒子径は70〜100nmであり、その結晶
型はアナターゼ型であった。
0℃に保持された電解液を、金属材料板を陰極とし、白
金めっきチタン板を陽極として下記の条件において電解
処理し、形成された皮膜を10秒間ディップ水洗したの
ち120℃で5分間乾燥した。実施例1〜5および比較
例2〜4においては、乾燥された皮膜に400℃で10
分間焼成を施した。 (電解条件) 実施例1、実施例3、および比較例1:電流密度 2A
/dm2 、電解時間 30秒 実施例2、実施例5、および比較例2:電流密度 10
A/dm2 、電解時間7秒 実施例4、実施例7、および比較例3:電流密度 0.
5A/dm2 、電解時間90秒 実施例6、実施例8、および比較例4:電流密度 4A
/dm2 、電解時間 25秒
定し、かつ、下記方法により皮膜の密着性および光触媒
性について試験評価した。試験結果を表2に示す。 皮膜密着性:JIS K 5400 碁盤目試験法に従
って、皮膜にカッターナイフで1mm角の碁盤目状のカッ
トを施し、その上に、セロハン粘着テープ((株)ニチ
バン製)を貼付け、引き剥がして剥離された皮膜部分の
面積を測定し、そのデータを下記基準により判定した。
に試験油としてトリステアリン酸を塗布し、UVライト
(15W)による紫外線を72時間照射し、塗布油の分
解量(g/m2)を紫外線照射前後の重量差から算出し
た。
法による実施例1〜8においては、十分な膜厚を有する
酸化チタン皮膜が形成され、その密着性、および光触媒
性はともに優れていた。これに対し、本発明方法の範囲
外の処理条件による比較例1〜4においては、比較例1
〜3では、十分な厚さを有する皮膜が得られないためこ
の皮膜の光触媒性が不十分であり、また比較例4では、
皮膜の密着性が不良であるという問題があった。
媒性が良好で、十分な厚さを有する酸化チタン皮膜によ
り金属材料を被覆することができる。光触媒性に優れて
いる酸化チタン皮膜は、汚れの付着防止、抗菌、防錆、
並びに大気および水質浄化等の用途にも利用し得るもの
であるから、本発明方法の産業上の利用価値は高いもの
である。
Claims (3)
- 【請求項1】 NOn - ,ClOn - ,BrOn - およ
びIOn - (nは1,2、または3を表す)からなる群
より選択された少なくとも1種を含む酸化剤と、Ti4+
イオンとを含み、0.1〜5の範囲内にあるpH値を有
する電解液中に、被処理金属材料からなる陰極体と、不
溶性電極からなる陽極体とを配置し、これに電解処理を
施して前記金属材料表面上に水和酸化チタン含有皮膜を
形成し、この皮膜を200℃以上の温度で焼成すること
を特徴とする酸化チタン被覆金属材料の製造方法。 - 【請求項2】 NOn - ,ClOn - ,BrOn - およ
びIOn - (nは1,2、または3を表す)からなる群
より選択された少なくとも1種を含む酸化剤と、コロイ
ド状酸化チタンとを含み、0.1〜5の範囲内にあるp
H値を有する電解液中に、被処理金属材料からなる陰極
体と、不溶性電極からなる陽極体とを配置し、これに電
解処理を施して、前記金属材料表面に酸化チタン含有皮
膜を形成し、この皮膜を、乾燥または焼成することを特
徴とする酸化チタン被覆金属材料の製造方法。 - 【請求項3】 NOn - ,ClOn - ,BrOn - およ
びIOn - (nは1,2、または3を表す)からなる群
より選択された少なくとも1種を含む酸化剤と、Ti4+
イオンと、コロイド状酸化チタンとを含み、0.1〜5
の範囲内にあるpH値を有する電解液中に、被処理金属
材料からなる陰極体とし、不溶性電極からなる陽極体と
を配置し、これに電解処理を施して、前記金属材料表面
上に水和酸化チタンおよび酸化チタンを含有する皮膜を
形成し、この皮膜を、乾燥または焼成することを特徴と
する酸化チタン被覆金属材料の製造方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP17124596A JP3573574B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 酸化チタン被覆金属材料の製造方法 |
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| JP17124596A JP3573574B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 酸化チタン被覆金属材料の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1018083A true JPH1018083A (ja) | 1998-01-20 |
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| JP17124596A Expired - Lifetime JP3573574B2 (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 酸化チタン被覆金属材料の製造方法 |
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