JPH1019460A - 真空乾燥装置 - Google Patents
真空乾燥装置Info
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- JPH1019460A JPH1019460A JP18852196A JP18852196A JPH1019460A JP H1019460 A JPH1019460 A JP H1019460A JP 18852196 A JP18852196 A JP 18852196A JP 18852196 A JP18852196 A JP 18852196A JP H1019460 A JPH1019460 A JP H1019460A
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- dried
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 構造を簡単にして、小型にし、廉価にして、
メンテナンス性にも優れ、かつ、従来の洗浄装置に容易
に組込むことのできる真空乾燥装置を得る。 【解決手段】 真空乾燥装置本体20の架台21の側部に搬
送路に沿った基盤22を設け、この基盤22の前記搬送路側
の内側面22′を垂直面に形成する。また、基盤22に搬送
路に直交する方向に延び、かつ、搬送路の両側に位置す
る被乾燥物載置台24を配置する。さらに、被乾燥物載置
台24の下部の略中間部に、搬送装置の侵入領域Rを設
け、また、基盤22の内側面22′と対向する、前記搬送路
を挟んだ位置に、先端部が開口し、かつ、中空部27′を
有する真空乾燥釜27を配設する。さらに、真空乾燥釜27
を内側面22′に対して進退動させるシリンダ装置31を設
ける。真空乾燥釜27が基盤22の内側面22′に当接した
際、気密に密着させる中抜きシール部材26を設ける。
メンテナンス性にも優れ、かつ、従来の洗浄装置に容易
に組込むことのできる真空乾燥装置を得る。 【解決手段】 真空乾燥装置本体20の架台21の側部に搬
送路に沿った基盤22を設け、この基盤22の前記搬送路側
の内側面22′を垂直面に形成する。また、基盤22に搬送
路に直交する方向に延び、かつ、搬送路の両側に位置す
る被乾燥物載置台24を配置する。さらに、被乾燥物載置
台24の下部の略中間部に、搬送装置の侵入領域Rを設
け、また、基盤22の内側面22′と対向する、前記搬送路
を挟んだ位置に、先端部が開口し、かつ、中空部27′を
有する真空乾燥釜27を配設する。さらに、真空乾燥釜27
を内側面22′に対して進退動させるシリンダ装置31を設
ける。真空乾燥釜27が基盤22の内側面22′に当接した
際、気密に密着させる中抜きシール部材26を設ける。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば洗浄後の被
洗浄物のように、水分が付着した被乾燥物を真空室内に
載置し、該真空室内の気圧を減圧して沸点を下げ、被乾
燥物に付着した水分を蒸発乾燥させるようにした真空乾
燥装置に関するものである。
洗浄物のように、水分が付着した被乾燥物を真空室内に
載置し、該真空室内の気圧を減圧して沸点を下げ、被乾
燥物に付着した水分を蒸発乾燥させるようにした真空乾
燥装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】上記従来の真空乾燥装置を図4に基づい
て説明する。図において、符号1で示すものは洗浄装置
の真空乾燥室Sに設けた真空乾燥装置本体である。真空
乾燥装置本体1の下部には基盤2が配設され、基盤2は
支持部材3によって支持されている。基盤2の上部適所
には被洗浄物載置台4が設けられ、被洗浄物載置台4の
上方には、基盤2に対して昇降自在の真空乾燥釜5が配
設されている。
て説明する。図において、符号1で示すものは洗浄装置
の真空乾燥室Sに設けた真空乾燥装置本体である。真空
乾燥装置本体1の下部には基盤2が配設され、基盤2は
支持部材3によって支持されている。基盤2の上部適所
には被洗浄物載置台4が設けられ、被洗浄物載置台4の
上方には、基盤2に対して昇降自在の真空乾燥釜5が配
設されている。
【0003】この真空乾燥釜5の下部開口部には開口部
を囲繞するシール部材6が装着されている。従って、真
空乾燥釜5が下降してシール部材6が基盤2に気密に密
着することにより、真空乾燥釜5の中空部5′と、基盤
2の上面2′とにより真空室が構成されることになる。
を囲繞するシール部材6が装着されている。従って、真
空乾燥釜5が下降してシール部材6が基盤2に気密に密
着することにより、真空乾燥釜5の中空部5′と、基盤
2の上面2′とにより真空室が構成されることになる。
【0004】真空乾燥室Sの頂部には基盤7が設けられ
ており、基盤7にはシリンダ装置8が固着している。こ
のシリンダ装置8のピストンロッド8′は真空乾燥釜5
の上部に固着している。また、ピストンロッド8′の両
側には、基盤7に固着した一対のガイドホルダ9が配設
されている。この一対のガイドホルダ9には、一端が真
空乾燥釜5に固着した一対のガイドシャフト10が摺動自
在に嵌合している。
ており、基盤7にはシリンダ装置8が固着している。こ
のシリンダ装置8のピストンロッド8′は真空乾燥釜5
の上部に固着している。また、ピストンロッド8′の両
側には、基盤7に固着した一対のガイドホルダ9が配設
されている。この一対のガイドホルダ9には、一端が真
空乾燥釜5に固着した一対のガイドシャフト10が摺動自
在に嵌合している。
【0005】一対のガイドシャフト10には通気孔11が穿
設されており、通気孔11の一側は真空乾燥釜5の中空部
5′と連通している。一方側のガイドシャフト10に穿設
された通気孔11の他側は、図示しない真空ポンプに接続
されており、他方側のガイドシャフト10に穿設されてい
る通気孔11の他側は、図示しないエアバルブに接続され
ている。なお、符号Wで示すものは被乾燥物である。
設されており、通気孔11の一側は真空乾燥釜5の中空部
5′と連通している。一方側のガイドシャフト10に穿設
された通気孔11の他側は、図示しない真空ポンプに接続
されており、他方側のガイドシャフト10に穿設されてい
る通気孔11の他側は、図示しないエアバルブに接続され
ている。なお、符号Wで示すものは被乾燥物である。
【0006】このように構成された真空乾燥装置本体1
の作用について説明する。真空乾燥装置本体1は、図示
しない洗浄装置に組込まれており、この洗浄装置により
洗浄された被洗浄物である、水分の付着した被乾燥物W
を乾燥させるものである。
の作用について説明する。真空乾燥装置本体1は、図示
しない洗浄装置に組込まれており、この洗浄装置により
洗浄された被洗浄物である、水分の付着した被乾燥物W
を乾燥させるものである。
【0007】洗浄装置は、一般的に被洗浄物を洗浄する
洗浄室と、洗浄後の被洗浄物の水切りを行うエアーブロ
ー室と、この洗浄室及びエアーブロー室に被洗浄物を間
欠搬送する搬送装置、上昇、前進、下降及び後退するト
ランスファーバーを有する搬送装置とから概略構成され
ており、真空乾燥室Sは、前記エアーブロー室に隣接し
て設けられている。また、真空乾燥室Sの被洗浄物(被
乾燥物W)の搬送装置は、洗浄室のものとは別に設けら
れた、載置台に被洗浄物(被乾燥物W)を搬出入するマ
ニピュレータが使用されている。
洗浄室と、洗浄後の被洗浄物の水切りを行うエアーブロ
ー室と、この洗浄室及びエアーブロー室に被洗浄物を間
欠搬送する搬送装置、上昇、前進、下降及び後退するト
ランスファーバーを有する搬送装置とから概略構成され
ており、真空乾燥室Sは、前記エアーブロー室に隣接し
て設けられている。また、真空乾燥室Sの被洗浄物(被
乾燥物W)の搬送装置は、洗浄室のものとは別に設けら
れた、載置台に被洗浄物(被乾燥物W)を搬出入するマ
ニピュレータが使用されている。
【0008】そこで、図示しない洗浄装置の洗浄室で洗
浄され、水分の付着した被乾燥物Wは、洗浄装置に設け
た搬送装置によりエアーブロー室に送られ、エアーブロ
ー室において、熱風により水切りが行われると共に、加
温される。なお、エアーブロー室においては、被乾燥物
Wは完全に乾燥されない。
浄され、水分の付着した被乾燥物Wは、洗浄装置に設け
た搬送装置によりエアーブロー室に送られ、エアーブロ
ー室において、熱風により水切りが行われると共に、加
温される。なお、エアーブロー室においては、被乾燥物
Wは完全に乾燥されない。
【0009】エアーブロー室において、適当な温度にま
で加温された被乾燥物Wは、今度は真空乾燥室Sに設け
た、図示しないマニピュレータにより真空乾燥装置本体
1の被洗浄物載置台4に載置される。
で加温された被乾燥物Wは、今度は真空乾燥室Sに設け
た、図示しないマニピュレータにより真空乾燥装置本体
1の被洗浄物載置台4に載置される。
【0010】被乾燥物Wが被乾燥物載置台4に載置され
ると、シリンダ装置8が作動して、ピストンロッド8′
が伸長し真空乾燥釜5を下降させる。すると、真空乾燥
釜5のシール部材6が基盤2の上面2′に気密に密着
し、被乾燥物Wは、真空乾燥釜5の中空部5′内に収納
される。すなわち、被乾燥物Wは真空乾燥釜5の中空部
5′と基盤2の上面2′とにより構成された真空室内に
収納される。
ると、シリンダ装置8が作動して、ピストンロッド8′
が伸長し真空乾燥釜5を下降させる。すると、真空乾燥
釜5のシール部材6が基盤2の上面2′に気密に密着
し、被乾燥物Wは、真空乾燥釜5の中空部5′内に収納
される。すなわち、被乾燥物Wは真空乾燥釜5の中空部
5′と基盤2の上面2′とにより構成された真空室内に
収納される。
【0011】真空室に被乾燥物Wが収納されると、一方
側のガイドシャフト10の他側に接続されている、図示し
ない真空ポンプが作動して真空室内を減圧する。真空室
内が減圧されると、真空室内の沸点が下がり、また、被
乾燥物Wは適当な温度にまで加温されているので、被乾
燥物Wに付着している水分は沸騰し、蒸発して被乾燥物
Wは乾燥する。
側のガイドシャフト10の他側に接続されている、図示し
ない真空ポンプが作動して真空室内を減圧する。真空室
内が減圧されると、真空室内の沸点が下がり、また、被
乾燥物Wは適当な温度にまで加温されているので、被乾
燥物Wに付着している水分は沸騰し、蒸発して被乾燥物
Wは乾燥する。
【0012】この乾燥は、加温されている被乾燥物Wの
沸点温度を真空によって下げて、被乾燥物Wに付着して
いる水分を蒸発させるものであるので、被乾燥物Wの表
面温度が下がらない間に短時間で行う必要がある。
沸点温度を真空によって下げて、被乾燥物Wに付着して
いる水分を蒸発させるものであるので、被乾燥物Wの表
面温度が下がらない間に短時間で行う必要がある。
【0013】被乾燥物Wが乾燥すると、真空ポンプの作
動が停止し、次に、他方側のガイドシャフト10の他側に
接続されている、図示しない、エアバルブが開き、真空
室内の真空破壊が行われる。
動が停止し、次に、他方側のガイドシャフト10の他側に
接続されている、図示しない、エアバルブが開き、真空
室内の真空破壊が行われる。
【0014】真空室内の真空破壊が完了すると、シリン
ダ装置8が作動して、ピストンロッド8′が短縮し、真
空乾燥釜5を上昇させると共に、エアバルブを閉鎖す
る。
ダ装置8が作動して、ピストンロッド8′が短縮し、真
空乾燥釜5を上昇させると共に、エアバルブを閉鎖す
る。
【0015】このようにして、真空乾燥装置本体1の1
サイクルが完了すると、図示しないマニピュレータが被
乾燥物載置台4に載置されている乾燥した被乾燥物Wを
取り出し、次工程に送る。
サイクルが完了すると、図示しないマニピュレータが被
乾燥物載置台4に載置されている乾燥した被乾燥物Wを
取り出し、次工程に送る。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来技術
において、真空乾燥装置本体(真空乾燥室)を、例え
ば、上述したように洗浄装置に組込む場合は、真空乾燥
装置本体に被乾燥物を搬出入する手段(例えば、マニピ
ュレータ)が必要となる。この搬出入の手段は、洗浄装
置の洗浄室やエアーブロー室の搬出入の手段(トランス
ファーバー)とは別に設けなければならないので、真空
乾燥装置本体が大型化して、複雑な構造となると共に、
製作費用が高価なものとなり、また、メンテナンスも困
難になるという問題がある。
において、真空乾燥装置本体(真空乾燥室)を、例え
ば、上述したように洗浄装置に組込む場合は、真空乾燥
装置本体に被乾燥物を搬出入する手段(例えば、マニピ
ュレータ)が必要となる。この搬出入の手段は、洗浄装
置の洗浄室やエアーブロー室の搬出入の手段(トランス
ファーバー)とは別に設けなければならないので、真空
乾燥装置本体が大型化して、複雑な構造となると共に、
製作費用が高価なものとなり、また、メンテナンスも困
難になるという問題がある。
【0017】
【本発明の目的】本発明は、上記従来の問題を解決する
ためになされたもので、構造を簡単にして、小型にする
と共に、廉価にして、メンテナンス性にも優れ、かつ、
従来の洗浄装置に容易に組込むことのできる真空乾燥装
置を提供することを目的とする。
ためになされたもので、構造を簡単にして、小型にする
と共に、廉価にして、メンテナンス性にも優れ、かつ、
従来の洗浄装置に容易に組込むことのできる真空乾燥装
置を提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
真空乾燥装置本体の架台の側部に搬送装置用の搬送路に
沿った基盤を設け、該基盤の前記搬送路側の内側面を垂
直面に形成し、前記基盤に、搬送路に直交する方向に延
び、かつ、搬送路の両側に配置された被乾燥物載置台を
設け、該被乾燥物載置台の下部の略中間部に、搬送装置
の進入領域を設けると共に、前記基盤の内側面と対向す
る、前記搬送路を挟んだ位置に、先端部が開口し、中空
部を有する真空乾燥釜を配設し、該真空乾燥釜を前記内
側面に対して進退動可能させる駆動手段を設け、前記真
空乾燥釜が前記基盤の内側面に当接した際、気密に密着
させる手段を設けたことを特徴とするものである。
真空乾燥装置本体の架台の側部に搬送装置用の搬送路に
沿った基盤を設け、該基盤の前記搬送路側の内側面を垂
直面に形成し、前記基盤に、搬送路に直交する方向に延
び、かつ、搬送路の両側に配置された被乾燥物載置台を
設け、該被乾燥物載置台の下部の略中間部に、搬送装置
の進入領域を設けると共に、前記基盤の内側面と対向す
る、前記搬送路を挟んだ位置に、先端部が開口し、中空
部を有する真空乾燥釜を配設し、該真空乾燥釜を前記内
側面に対して進退動可能させる駆動手段を設け、前記真
空乾燥釜が前記基盤の内側面に当接した際、気密に密着
させる手段を設けたことを特徴とするものである。
【0019】請求項1記載の発明は、真空乾燥装置本体
の架台の側部に搬送装置用の搬送路に沿って基盤を設
け、この基盤に搬送路に直交する方向に延び、かつ、搬
送路の両側に配置した被乾燥物載置台を設け、この被乾
燥物載置台の略中間部に、搬送装置の進入領域を設け
て、洗浄装置の搬送装置(例えば、トランスファーバ
ー)が、前工程から真空乾燥装置本体に、真空乾燥装置
本体から搬出部に被乾燥物を移動できるようにする。
の架台の側部に搬送装置用の搬送路に沿って基盤を設
け、この基盤に搬送路に直交する方向に延び、かつ、搬
送路の両側に配置した被乾燥物載置台を設け、この被乾
燥物載置台の略中間部に、搬送装置の進入領域を設け
て、洗浄装置の搬送装置(例えば、トランスファーバ
ー)が、前工程から真空乾燥装置本体に、真空乾燥装置
本体から搬出部に被乾燥物を移動できるようにする。
【0020】また、基盤の内側面と対向する、前記搬送
路を挟んだ位置に配設した、先端部が開口し、中空部を
有する真空乾燥釜を、駆動手段により、基盤の内側面に
対して進退動させる。真空乾燥釜が進出して、基盤の内
側面に当接した際、気密に密着するようにして、被乾燥
物の真空乾燥を可能にさせる。
路を挟んだ位置に配設した、先端部が開口し、中空部を
有する真空乾燥釜を、駆動手段により、基盤の内側面に
対して進退動させる。真空乾燥釜が進出して、基盤の内
側面に当接した際、気密に密着するようにして、被乾燥
物の真空乾燥を可能にさせる。
【0021】
【発明の実施の形態】請求項1の記載から把握される本
発明において、図2及び図3に示すように、真空乾燥装
置本体20の架台21の側部に搬送路に沿った基盤22を設
け、この基盤22の前記搬送路側の内側面22′を垂直面に
形成する。また、基盤22に、搬送路に直交する方向に延
び、かつ、搬送路の両側に位置する被乾燥物載置台24を
配置する。さらに、被乾燥物載置台24の下部の略中間部
に、搬送装置の進入領域Rを設け、また、基盤22の内側
面22′と対向する、前記搬送路を挟んだ位置に、先端部
が開口し、かつ、中空部27′を有する真空乾燥釜27を配
設する。さらに、真空乾燥釜27を内側面22′に対して進
退動させるシリンダ装置31を設ける。真空乾燥釜27が基
盤22の内側面22′に当接した際、気密に密着させる中抜
きシール部材26を設ける。
発明において、図2及び図3に示すように、真空乾燥装
置本体20の架台21の側部に搬送路に沿った基盤22を設
け、この基盤22の前記搬送路側の内側面22′を垂直面に
形成する。また、基盤22に、搬送路に直交する方向に延
び、かつ、搬送路の両側に位置する被乾燥物載置台24を
配置する。さらに、被乾燥物載置台24の下部の略中間部
に、搬送装置の進入領域Rを設け、また、基盤22の内側
面22′と対向する、前記搬送路を挟んだ位置に、先端部
が開口し、かつ、中空部27′を有する真空乾燥釜27を配
設する。さらに、真空乾燥釜27を内側面22′に対して進
退動させるシリンダ装置31を設ける。真空乾燥釜27が基
盤22の内側面22′に当接した際、気密に密着させる中抜
きシール部材26を設ける。
【0022】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1乃至図3に基
づいて説明する。図において、符号20で示すものは、本
発明に係る真空乾燥装置本体であり、符号21で示すもの
は真空乾燥装置本体20の架台である。
づいて説明する。図において、符号20で示すものは、本
発明に係る真空乾燥装置本体であり、符号21で示すもの
は真空乾燥装置本体20の架台である。
【0023】この架台21の側部には基盤22が固着支持さ
れている。基盤22は、真空乾燥装置本体22を組込む本装
置(例えば洗浄装置)の搬送路の一側に配設されてお
り、その内側面22′(図2に於いては右側面)が前記搬
送路に平行な垂直面となっている。
れている。基盤22は、真空乾燥装置本体22を組込む本装
置(例えば洗浄装置)の搬送路の一側に配設されてお
り、その内側面22′(図2に於いては右側面)が前記搬
送路に平行な垂直面となっている。
【0024】基盤22の垂直の内側面22′には、面が搬送
路に直交するように、開口部を下側に向けた略C字状の
一対の支持部材23が固着支持されている。この一対の支
持部材23にはそれぞれ前記搬送路を挟んで両側となるよ
うに一対の被乾燥物載置台24が固着されている。
路に直交するように、開口部を下側に向けた略C字状の
一対の支持部材23が固着支持されている。この一対の支
持部材23にはそれぞれ前記搬送路を挟んで両側となるよ
うに一対の被乾燥物載置台24が固着されている。
【0025】二組の一対の被乾燥物載置台24,24の中間
部は、図2に示すように、前記搬送路に設けた搬送装置
のトランスファーバーTの進入領域R(搬送装置進入領
域)となっている。
部は、図2に示すように、前記搬送路に設けた搬送装置
のトランスファーバーTの進入領域R(搬送装置進入領
域)となっている。
【0026】なお、トランスファーバーTは上昇、前
進、下降及び後退動作をし、被乾燥物W(例えば、洗浄
装置であるならば被洗浄物)を所定の間隔で間欠搬送す
るものである。
進、下降及び後退動作をし、被乾燥物W(例えば、洗浄
装置であるならば被洗浄物)を所定の間隔で間欠搬送す
るものである。
【0027】また、図2に示すように、一対の支持部材
23の適所には位置決めピン25が固着されており、基盤22
の内側面22′には一対の支持部材23を囲繞するように矩
形の中抜きシール部材26が装着されている。
23の適所には位置決めピン25が固着されており、基盤22
の内側面22′には一対の支持部材23を囲繞するように矩
形の中抜きシール部材26が装着されている。
【0028】この中抜きシール部材26と対向する位置に
は、中抜きシール部材26と係合可能に、先端部が開口し
た、中空部27′を備えた真空乾燥釜27が配設されてい
る。すなわち、真空乾燥釜27は、基盤22の垂直な内側面
22′の前記搬送路を挟んだ反対側に、内側面22′に対し
て移動可能に配設されている。この真空乾燥釜27の両側
面にはマウントブラケット28が固着されている。
は、中抜きシール部材26と係合可能に、先端部が開口し
た、中空部27′を備えた真空乾燥釜27が配設されてい
る。すなわち、真空乾燥釜27は、基盤22の垂直な内側面
22′の前記搬送路を挟んだ反対側に、内側面22′に対し
て移動可能に配設されている。この真空乾燥釜27の両側
面にはマウントブラケット28が固着されている。
【0029】さらに、図3に示すように、真空乾燥釜27
の両側の真空乾燥釜27を挟んだ位置には、一対のガイド
レール29が水平に配設されている。この一対のガイドレ
ール29は、真空乾燥釜27の移動中心線と平行になるよう
に架台21に固着されている。そして、一対のガイドレー
ル29には真空乾燥釜27に設けたマウントブラケット28に
固着した二組の一対のベアリング30,30が摺動自在に嵌
合している。
の両側の真空乾燥釜27を挟んだ位置には、一対のガイド
レール29が水平に配設されている。この一対のガイドレ
ール29は、真空乾燥釜27の移動中心線と平行になるよう
に架台21に固着されている。そして、一対のガイドレー
ル29には真空乾燥釜27に設けたマウントブラケット28に
固着した二組の一対のベアリング30,30が摺動自在に嵌
合している。
【0030】真空乾燥釜27の、基盤22の内側面22′と反
対側に位置する架台21にはシリンダ装置31が固着されて
いる。シリンダ装置31のピストンロッド31′は真空乾燥
釜27の後部に連結されている。従って、一対のガイドレ
ール29、二組の一対のベアリング30,30及びシリンダ装
置31によって、真空乾燥釜27を基盤22の垂直の内側面2
2′に対し進退動させる手段が構成される。これによっ
て、シリンダ装置31のピストンロッド31′が伸縮するこ
とにより、真空乾燥釜27は基盤22に対して進退動する。
対側に位置する架台21にはシリンダ装置31が固着されて
いる。シリンダ装置31のピストンロッド31′は真空乾燥
釜27の後部に連結されている。従って、一対のガイドレ
ール29、二組の一対のベアリング30,30及びシリンダ装
置31によって、真空乾燥釜27を基盤22の垂直の内側面2
2′に対し進退動させる手段が構成される。これによっ
て、シリンダ装置31のピストンロッド31′が伸縮するこ
とにより、真空乾燥釜27は基盤22に対して進退動する。
【0031】また、真空乾燥釜27が前進して真空乾燥釜
27の先端が基盤22の内側面22′に装着した矩形の中抜シ
ール部材26に気密に密着することにより、真空乾燥釜27
の中空部27′と基盤22の内側面22′とで真空室が構成さ
れることになる。
27の先端が基盤22の内側面22′に装着した矩形の中抜シ
ール部材26に気密に密着することにより、真空乾燥釜27
の中空部27′と基盤22の内側面22′とで真空室が構成さ
れることになる。
【0032】なお、基盤22に装着した矩形の中抜シール
部材26の中抜部適所には、図1及び図2に示すように、
通気孔32,33が穿孔されている。一方の通気孔32は、図
示しない、真空ポンプに接続されており、他方の通気孔
33は、図示しないエアバルブに接続されている。なお、
図1乃至図3において、符号34は基盤22に設けた覗き窓
であり、図2及び図3において、符号35は真空乾燥釜27
に設けた覗き窓である。
部材26の中抜部適所には、図1及び図2に示すように、
通気孔32,33が穿孔されている。一方の通気孔32は、図
示しない、真空ポンプに接続されており、他方の通気孔
33は、図示しないエアバルブに接続されている。なお、
図1乃至図3において、符号34は基盤22に設けた覗き窓
であり、図2及び図3において、符号35は真空乾燥釜27
に設けた覗き窓である。
【0033】次に、本実施例の作用について説明する。
本実施例の真空乾燥装置本体20は、従来の真空乾燥装置
本体1と同様に、図示しない洗浄装置に組込まれている
ものである。また、被乾燥物Wは、洗浄装置により洗浄
された被洗浄物で、水分の付着したものをいう。
本実施例の真空乾燥装置本体20は、従来の真空乾燥装置
本体1と同様に、図示しない洗浄装置に組込まれている
ものである。また、被乾燥物Wは、洗浄装置により洗浄
された被洗浄物で、水分の付着したものをいう。
【0034】洗浄装置は、一般的に被洗浄物を洗浄する
洗浄室と、洗浄後の被洗浄物の水切りを行うエアーブロ
ー室と、被洗浄物を搬入部、洗浄室、エアーブロー室及
び搬出部へと間欠搬送する搬送装置とにより概略構成さ
れている。本実施例の真空乾燥装置本体20は、エアーブ
ロー室に隣接した搬出部に組込まれている。
洗浄室と、洗浄後の被洗浄物の水切りを行うエアーブロ
ー室と、被洗浄物を搬入部、洗浄室、エアーブロー室及
び搬出部へと間欠搬送する搬送装置とにより概略構成さ
れている。本実施例の真空乾燥装置本体20は、エアーブ
ロー室に隣接した搬出部に組込まれている。
【0035】そこで、被乾燥物Wである被洗浄物は、洗
浄装置の搬送路に設けた搬送装置のトランスファーバー
Tにより搬入部から洗浄室へと搬送され、洗浄室にて洗
浄されて、洗浄後にエアーブロー室に送られ、エアーブ
ロー室において、熱風により水切りが行われると共に、
加温される。
浄装置の搬送路に設けた搬送装置のトランスファーバー
Tにより搬入部から洗浄室へと搬送され、洗浄室にて洗
浄されて、洗浄後にエアーブロー室に送られ、エアーブ
ロー室において、熱風により水切りが行われると共に、
加温される。
【0036】このようにして、洗浄装置内を搬送装置の
トランスファーバーTが上昇、前進、下降及び後退動作
することにより、被乾燥物Wが間欠搬送される。すなわ
ち、エアーブロー室において、熱風により水切り加温さ
れた被乾燥物Wは、トランスファーバーTが上昇するこ
とにより、トランスファーバーTの上部に載置され、持
上げられ、前進することにより真空乾燥装置本体20の搬
送装置進入領域R内に搬送され、下降することにより、
位置決めピン25により位置決めされながら被乾燥物載置
台24,24上に載置される。
トランスファーバーTが上昇、前進、下降及び後退動作
することにより、被乾燥物Wが間欠搬送される。すなわ
ち、エアーブロー室において、熱風により水切り加温さ
れた被乾燥物Wは、トランスファーバーTが上昇するこ
とにより、トランスファーバーTの上部に載置され、持
上げられ、前進することにより真空乾燥装置本体20の搬
送装置進入領域R内に搬送され、下降することにより、
位置決めピン25により位置決めされながら被乾燥物載置
台24,24上に載置される。
【0037】被乾燥物Wが被乾燥物載置台24,24上に載
置されると、トランスファーバーTは後退して元位置に
復帰すると共に、シリンダ装置31が作動してピストンロ
ッド31′が伸長し、真空乾燥釜27を前進させて、真空乾
燥釜27の先端の開口部を基盤22の垂直の内側面22′に装
着した矩形の中抜シール部材26に当接させ、気密に密着
させる。
置されると、トランスファーバーTは後退して元位置に
復帰すると共に、シリンダ装置31が作動してピストンロ
ッド31′が伸長し、真空乾燥釜27を前進させて、真空乾
燥釜27の先端の開口部を基盤22の垂直の内側面22′に装
着した矩形の中抜シール部材26に当接させ、気密に密着
させる。
【0038】この時、真空乾燥釜27の中空部27′と、基
盤22の内側面22′と、矩形の中抜シール部材26とにより
真空室が構成され、被乾燥物Wはこの真空室内に載置さ
れることになる。
盤22の内側面22′と、矩形の中抜シール部材26とにより
真空室が構成され、被乾燥物Wはこの真空室内に載置さ
れることになる。
【0039】なお、この実施例では、基盤22の内側面2
2′に矩形の中抜シール部材26を装着し、真空乾燥釜27
の先端の開口部を矩形の中抜シール部材26に当接させて
気密な真空室を構成するようにしたが、真空乾燥釜27の
先端開口部にシール部材を装着させて基盤22の垂直な内
側面22′に押圧して気密な真空室を形成してもよい。要
するに、基盤22の垂直の内側面22′と、真空乾燥釜27の
中空部27′とにより気密な真空室を構成すればよい。
2′に矩形の中抜シール部材26を装着し、真空乾燥釜27
の先端の開口部を矩形の中抜シール部材26に当接させて
気密な真空室を構成するようにしたが、真空乾燥釜27の
先端開口部にシール部材を装着させて基盤22の垂直な内
側面22′に押圧して気密な真空室を形成してもよい。要
するに、基盤22の垂直の内側面22′と、真空乾燥釜27の
中空部27′とにより気密な真空室を構成すればよい。
【0040】真空乾燥釜27の先端の開口部が基盤22の垂
直な内側面22′に装着した矩形の中抜シール部材26に当
接し、気密な真空室が構成されると、通気孔32に接続さ
れている、図示しない真空ポンプが作動して真空室内を
減圧する。
直な内側面22′に装着した矩形の中抜シール部材26に当
接し、気密な真空室が構成されると、通気孔32に接続さ
れている、図示しない真空ポンプが作動して真空室内を
減圧する。
【0041】真空室内が減圧されると、真空室内の沸点
が下がり、被乾燥物Wは適当な温度まで加温されている
ので、被乾燥物Wに付着している水分は沸騰し、蒸発し
て被乾燥物Wを乾燥する。
が下がり、被乾燥物Wは適当な温度まで加温されている
ので、被乾燥物Wに付着している水分は沸騰し、蒸発し
て被乾燥物Wを乾燥する。
【0042】被乾燥物Wが乾燥すると、真空ポンプの作
動が停止し、次に、通気孔33に接続されている、図示し
ないエアバルブが開き、真空室内の真空破壊が行われ
る。真空室内の真空破壊が完了すると、シリンダ装置31
が作動して、ピストンロッド31′が短縮し真空乾燥釜27
を元位置に後退させると共に、エアバルブを閉じる。
動が停止し、次に、通気孔33に接続されている、図示し
ないエアバルブが開き、真空室内の真空破壊が行われ
る。真空室内の真空破壊が完了すると、シリンダ装置31
が作動して、ピストンロッド31′が短縮し真空乾燥釜27
を元位置に後退させると共に、エアバルブを閉じる。
【0043】真空乾燥釜27を元位置に後退すると、上述
したように搬送装置のトランスファーバーTが上昇、前
進、下降及び後退動作することにより、被乾燥物Wは被
乾燥物載置台24,24から持ち上げられ、搬出部に設け
た、例えばローラコンベア上に載置され、次工程に搬出
される。
したように搬送装置のトランスファーバーTが上昇、前
進、下降及び後退動作することにより、被乾燥物Wは被
乾燥物載置台24,24から持ち上げられ、搬出部に設け
た、例えばローラコンベア上に載置され、次工程に搬出
される。
【0044】
【発明の効果】請求項1に記載の発明は、以上説明した
ように真空乾燥装置本体の架台の側部に基盤を設け、該
基盤の内側面と対向する位置に真空乾燥釜を配設したの
で、乾燥釜を横方向に移動させることができる。これに
よって、基盤に設けた被乾燥物載置台の下部に搬送装置
用の搬送路、すなわち、搬送装置の進入領域を設けるこ
とができる。したがって、真空乾燥装置本体を、例え
ば、洗浄装置に組込む場合、洗浄装置の洗浄室等が使用
しているトランスファーバーを有する搬送装置を利用す
ることができる。
ように真空乾燥装置本体の架台の側部に基盤を設け、該
基盤の内側面と対向する位置に真空乾燥釜を配設したの
で、乾燥釜を横方向に移動させることができる。これに
よって、基盤に設けた被乾燥物載置台の下部に搬送装置
用の搬送路、すなわち、搬送装置の進入領域を設けるこ
とができる。したがって、真空乾燥装置本体を、例え
ば、洗浄装置に組込む場合、洗浄装置の洗浄室等が使用
しているトランスファーバーを有する搬送装置を利用す
ることができる。
【0045】その場合、搬送装置のトランスファーバー
の長さを、被乾燥物を被乾燥物載置台に載置し、さら
に、被乾燥物載置台から搬出部の例えばローラコンベア
上に載置できる分だけ長く形成するだけで、真空乾燥装
置本体を洗浄装置の搬出部に組込むことができる。これ
により、従来の洗浄装置と同じ規模で洗浄装置を製作で
きると共に、従来の洗浄装置に容易に取付けることがで
きる。
の長さを、被乾燥物を被乾燥物載置台に載置し、さら
に、被乾燥物載置台から搬出部の例えばローラコンベア
上に載置できる分だけ長く形成するだけで、真空乾燥装
置本体を洗浄装置の搬出部に組込むことができる。これ
により、従来の洗浄装置と同じ規模で洗浄装置を製作で
きると共に、従来の洗浄装置に容易に取付けることがで
きる。
【0046】被乾燥物は、従来の洗浄装置の間欠搬送サ
イクルと同期して搬送されるので、従来の洗浄装置の搬
送サイクルを維持することができ効率的である。したが
って、装置全体を変更する必要がなく、製作費用を廉価
にすることができる。
イクルと同期して搬送されるので、従来の洗浄装置の搬
送サイクルを維持することができ効率的である。したが
って、装置全体を変更する必要がなく、製作費用を廉価
にすることができる。
【0047】被乾燥物を被乾燥物載置台に載置し、該被
乾燥物載置台から搬出するのに、従来のような特別な装
置(マニピュレータ等)を必要としないので、洗浄装置
全体が極めて簡素なものとなり、メンテナンス費用を低
減させることができる。
乾燥物載置台から搬出するのに、従来のような特別な装
置(マニピュレータ等)を必要としないので、洗浄装置
全体が極めて簡素なものとなり、メンテナンス費用を低
減させることができる。
【図1】真空乾燥装置本体の正面図である。
【図2】図1の右側面図である。
【図3】図1の平面図である。
【図4】従来の真空乾燥装置本体の正面図である。
20 真空乾燥装置本体 21 架台 22 基盤 22′内側面 24 被乾燥物載置台 26 中抜きシール部材 27 真空乾燥釜 27′中空部 31 シリンダ装置 R 進入領域
Claims (1)
- 【請求項1】 真空乾燥装置本体の架台の側部に搬送装
置用の搬送路に沿った基盤を設け、該基盤の前記搬送路
側の内側面を垂直面に形成し、前記基盤に、搬送路に直
交する方向に延び、かつ、搬送路の両側に配置された被
乾燥物載置台を設け、該被乾燥物載置台の下部の略中間
部に、搬送装置の進入領域を設けると共に、前記基盤の
内側面と対向する、前記搬送路を挟んだ位置に、先端部
が開口し、中空部を有する真空乾燥釜を配設し、該真空
乾燥釜を前記内側面に対して進退動可能させる駆動手段
を設け、前記真空乾燥釜が前記基盤の内側面に当接した
際、気密に密着させる手段を設けたことを特徴とする真
空乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18852196A JP3467718B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 真空乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18852196A JP3467718B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 真空乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1019460A true JPH1019460A (ja) | 1998-01-23 |
| JP3467718B2 JP3467718B2 (ja) | 2003-11-17 |
Family
ID=16225175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18852196A Expired - Fee Related JP3467718B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 真空乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3467718B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114264128A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-04-01 | 常州市润邦干燥设备科技有限公司 | 脉动真空干燥机 |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP18852196A patent/JP3467718B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114264128A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-04-01 | 常州市润邦干燥设备科技有限公司 | 脉动真空干燥机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3467718B2 (ja) | 2003-11-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |