JPH10195202A - ブロックポリマーおよびその製造方法 - Google Patents
ブロックポリマーおよびその製造方法Info
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- JPH10195202A JPH10195202A JP8357681A JP35768196A JPH10195202A JP H10195202 A JPH10195202 A JP H10195202A JP 8357681 A JP8357681 A JP 8357681A JP 35768196 A JP35768196 A JP 35768196A JP H10195202 A JPH10195202 A JP H10195202A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/46—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
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- Organic Chemistry (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリオルガノシロキサンユニットとポリアル
キレンオキサイドユニットとを含みかつ疎水性と親水性
とを均衡させたブロックポリマーを実現する。 【解決手段】 ブロックポリマーの製造方法は、下記の
一般式（３）で示されるアクリル系化合物に対し、ポリ
アルキレンオキサイドユニットおよびポリオルガノシロ
キサンユニットからなる群から選ばれた一方のユニット
を含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基を有するジア
ミン化合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程
と、当該生成物と、ジアミン化合物に含まれる一方のユ
ニットとは異なる他方のユニットを含みかつ両末端にそ
れぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合物とをさらに
反応させる工程とを含んでいる。 【化１】
キレンオキサイドユニットとを含みかつ疎水性と親水性
とを均衡させたブロックポリマーを実現する。 【解決手段】 ブロックポリマーの製造方法は、下記の
一般式（３）で示されるアクリル系化合物に対し、ポリ
アルキレンオキサイドユニットおよびポリオルガノシロ
キサンユニットからなる群から選ばれた一方のユニット
を含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基を有するジア
ミン化合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程
と、当該生成物と、ジアミン化合物に含まれる一方のユ
ニットとは異なる他方のユニットを含みかつ両末端にそ
れぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合物とをさらに
反応させる工程とを含んでいる。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ブロックポリマーおよ
びその製造方法、特に、ポリオルガノシロキサンユニッ
トとポリアルキレンオキサイドユニットとを含む新規な
ブロックポリマーおよびその製造方法に関する。
びその製造方法、特に、ポリオルガノシロキサンユニッ
トとポリアルキレンオキサイドユニットとを含む新規な
ブロックポリマーおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術とその課題】例えば合成高分子、天然高分
子、金属、窯業材料などの各種基材の表面を保護する場
合には、一般に、当該表面に対してコーティング材料に
よるコーティング膜が付与される。この際、コーティン
グ材料中に所定の表面改質剤を添加しておくと、当該表
面改質剤による特性、例えば、表面密着性、柔軟性、紫
外線吸収性などをコーティング膜に対して付与すること
ができる。
子、金属、窯業材料などの各種基材の表面を保護する場
合には、一般に、当該表面に対してコーティング材料に
よるコーティング膜が付与される。この際、コーティン
グ材料中に所定の表面改質剤を添加しておくと、当該表
面改質剤による特性、例えば、表面密着性、柔軟性、紫
外線吸収性などをコーティング膜に対して付与すること
ができる。
【０００３】ところが、上述のような目的でコーティン
グ材料に添加される各種の表面改質剤は、通常、コーテ
ィング膜の表面だけではなく、その内部にも均質に分散
してしまうので、添加量が少ないと表面改質効果を発揮
しにくい。言い替えると、表面改質剤による十分な効果
を得ようとすると、表面改質剤を多量に用いる必要があ
り、不経済であるばかりではなく、表面改質剤によりコ
ーティング膜そのものの特性が阻害されるおそれがあ
る。
グ材料に添加される各種の表面改質剤は、通常、コーテ
ィング膜の表面だけではなく、その内部にも均質に分散
してしまうので、添加量が少ないと表面改質効果を発揮
しにくい。言い替えると、表面改質剤による十分な効果
を得ようとすると、表面改質剤を多量に用いる必要があ
り、不経済であるばかりではなく、表面改質剤によりコ
ーティング膜そのものの特性が阻害されるおそれがあ
る。
【０００４】本発明の目的は、少量の使用でコーティン
グ膜に対して各種の表面改質効果を付与することができ
る新規なブロックポリマーを実現することにある。
グ膜に対して各種の表面改質効果を付与することができ
る新規なブロックポリマーを実現することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のブロックポリマ
ーは、下記の一般式（１）で示される。
ーは、下記の一般式（１）で示される。
【０００６】
【化２５】
【０００７】（式中、
【０００８】
【化２６】
【０００９】ここで、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭
素数７〜９のアラルキル基である。
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭
素数７〜９のアラルキル基である。
【００１０】
【化２７】
【００１１】Ｒ4 は、水素またはメチル基である。ａは
１〜１３５、ｂは２〜２３０およびｃは１〜４のそれぞ
れ整数である。Ａは、隣接する−ＣＨＲ4 −とカルボニ
ル基を介して結合している有機基である。ｎは、１〜１
６の整数である。）
１〜１３５、ｂは２〜２３０およびｃは１〜４のそれぞ
れ整数である。Ａは、隣接する−ＣＨＲ4 −とカルボニ
ル基を介して結合している有機基である。ｎは、１〜１
６の整数である。）
【００１２】また、本発明に係る他のブロックポリマー
は、下記の一般式（２）で示される。
は、下記の一般式（２）で示される。
【００１３】
【化２８】
【００１４】（式中、Ｕ1 、Ｕ2 、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、
Ｒ4 、Ａおよびｎ、並びにａ、ｂおよびｃは、一般式
（１）の場合と同様である。また、Ｒ10は、炭素数が１
〜８でありかつ水酸基を有していてもよいアルキル基で
ある。）
Ｒ4 、Ａおよびｎ、並びにａ、ｂおよびｃは、一般式
（１）の場合と同様である。また、Ｒ10は、炭素数が１
〜８でありかつ水酸基を有していてもよいアルキル基で
ある。）
【００１５】なお、一般式（１）および（２）中のＡに
含まれる有機基は、例えば、非反応性の炭化水素基、水
酸基、酸基、アミノ基、アンモニウム基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アミド結合、環状エーテル基、アルキレン
オキサイドユニット、アルコキシシリル基、紫外線吸収
性基およびテトラメチル−４−ピペリジル基からなる群
から選ばれた少なくとも１つの化学構造部位を含んでい
る。
含まれる有機基は、例えば、非反応性の炭化水素基、水
酸基、酸基、アミノ基、アンモニウム基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アミド結合、環状エーテル基、アルキレン
オキサイドユニット、アルコキシシリル基、紫外線吸収
性基およびテトラメチル−４−ピペリジル基からなる群
から選ばれた少なくとも１つの化学構造部位を含んでい
る。
【００１６】本発明に係るブロックポリマーの製造方法
は、下記の一般式（３）で示されるアクリル系化合物に
対し、ポリアルキレンオキサイドユニットおよびポリオ
ルガノシロキサンユニットからなる群から選ばれた一方
のユニットを含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基を
有するジアミン化合物をマイケル付加反応させて生成物
を得る工程と、当該生成物と、ジアミン化合物に含まれ
る一方のユニットとは異なる他方のユニットを含みかつ
両末端にそれぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合物
とをさらに反応させる工程とを含んでいる。
は、下記の一般式（３）で示されるアクリル系化合物に
対し、ポリアルキレンオキサイドユニットおよびポリオ
ルガノシロキサンユニットからなる群から選ばれた一方
のユニットを含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基を
有するジアミン化合物をマイケル付加反応させて生成物
を得る工程と、当該生成物と、ジアミン化合物に含まれ
る一方のユニットとは異なる他方のユニットを含みかつ
両末端にそれぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合物
とをさらに反応させる工程とを含んでいる。
【００１７】
【化２９】
【００１８】（式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基であ
る。Ａは、隣接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合
している有機基である。）
る。Ａは、隣接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合
している有機基である。）
【００１９】なお、この製造方法では、通常、ジアミン
化合物に対してアクリル系化合物を１．８〜２．２倍モ
ル用い、かつ生成物のＸモルに対してジエポキシ化合物
をＸ＋０．８〜Ｘ＋１．２モル用いる。
化合物に対してアクリル系化合物を１．８〜２．２倍モ
ル用い、かつ生成物のＸモルに対してジエポキシ化合物
をＸ＋０．８〜Ｘ＋１．２モル用いる。
【００２０】本発明に係る他のブロックポリマーの製造
方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系化合物
に対し、ポリアルキレンオキサイドユニットおよびポリ
オルガノシロキサンユニットからなる群から選ばれた一
方のユニットを含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基
を有するジアミン化合物をマイケル付加反応させて生成
物を得る工程と、当該生成物と、ジアミン化合物に含ま
れる一方のユニットとは異なる他方のユニットを含みか
つ両末端にそれぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合
物とをさらに反応させて両末端にエポキシ基を有するブ
ロックポリマーを得る工程と、得られたブロックポリマ
ーの両末端のエポキシ基に対して２級アミン化合物を反
応させる工程とを含んでいる。
方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系化合物
に対し、ポリアルキレンオキサイドユニットおよびポリ
オルガノシロキサンユニットからなる群から選ばれた一
方のユニットを含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基
を有するジアミン化合物をマイケル付加反応させて生成
物を得る工程と、当該生成物と、ジアミン化合物に含ま
れる一方のユニットとは異なる他方のユニットを含みか
つ両末端にそれぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合
物とをさらに反応させて両末端にエポキシ基を有するブ
ロックポリマーを得る工程と、得られたブロックポリマ
ーの両末端のエポキシ基に対して２級アミン化合物を反
応させる工程とを含んでいる。
【００２１】本発明に係るさらに他のブロックポリマー
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し下記の一般式（４）で示されるジアミン化
合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当
該生成物と下記の一般式（５）で示されるジエポキシ化
合物とをさらに反応させる工程とを含んでいる。
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し下記の一般式（４）で示されるジアミン化
合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当
該生成物と下記の一般式（５）で示されるジエポキシ化
合物とをさらに反応させる工程とを含んでいる。
【００２２】
【化３０】
【００２３】（式中、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭
素数７〜９のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整
数である。）
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭
素数７〜９のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整
数である。）
【００２４】
【化３１】
【００２５】（式中、
【００２６】
【化３２】
【００２７】ｂは、２〜２３０の整数である。）
【００２８】本発明に係るさらに他のブロックポリマー
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し下記の一般式（６）で示されるジアミン化
合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当
該生成物と下記の一般式（７）で示されるジエポキシ化
合物をさらに反応させる工程とを含んでいる。
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し下記の一般式（６）で示されるジアミン化
合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当
該生成物と下記の一般式（７）で示されるジエポキシ化
合物をさらに反応させる工程とを含んでいる。
【００２９】
【化３３】
【００３０】（式中、
【００３１】
【化３４】
【００３２】ｂは、２〜２３０の整数である。）
【００３３】
【化３５】
【００３４】（式中、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭
素数７〜９のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整
数である。）
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭
素数７〜９のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整
数である。）
【００３５】本発明に係るさらに他のブロックポリマー
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し上記一般式（４）で示されるジアミン化合
物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当該
生成物と上記一般式（５）で示されるジエポキシ化合物
とをさらに反応させて、両末端にエポキシ基を有するブ
ロックポリマーを得る工程と、得られたブロックポリマ
ーの両末端のエポキシ基に対して２級アミン化合物を反
応させる工程とを含んでいる。
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し上記一般式（４）で示されるジアミン化合
物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当該
生成物と上記一般式（５）で示されるジエポキシ化合物
とをさらに反応させて、両末端にエポキシ基を有するブ
ロックポリマーを得る工程と、得られたブロックポリマ
ーの両末端のエポキシ基に対して２級アミン化合物を反
応させる工程とを含んでいる。
【００３６】本発明に係るさらに他のブロックポリマー
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し上記一般式（６）で示されるジアミン化合
物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当該
生成物と上記一般式（７）で示されるジエポキシ化合物
とをさらに反応させて、両末端にエポキシ基を有するブ
ロックポリマーを得る工程と、得られたブロックポリマ
ーの両末端の前記エポキシ基に対して２級アミン化合物
を反応させる工程とを含んでいる。
の製造方法は、上記一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し上記一般式（６）で示されるジアミン化合
物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、当該
生成物と上記一般式（７）で示されるジエポキシ化合物
とをさらに反応させて、両末端にエポキシ基を有するブ
ロックポリマーを得る工程と、得られたブロックポリマ
ーの両末端の前記エポキシ基に対して２級アミン化合物
を反応させる工程とを含んでいる。
【００３７】
【発明の実施の形態】ブロックポリマー 本発明のブロックポリマーは、ポリオルガノシロキサン
ユニットとポリアルキレンオキサイドユニットとの両ユ
ニットを含むものであり、下記の一般式（１）および
（２）で示される。
ユニットとポリアルキレンオキサイドユニットとの両ユ
ニットを含むものであり、下記の一般式（１）および
（２）で示される。
【００３８】
【化３６】
【００３９】
【化３７】
【００４０】上記一般式（１）および（２）において、
Ｕ1 およびＵ2 は、ポリオルガノシロキサンユニットま
たはポリアルキレンオキサイドユニットを示している。
ここで、Ｕ1 およびＵ2 の一般式を示すと下記のように
なる。
Ｕ1 およびＵ2 は、ポリオルガノシロキサンユニットま
たはポリアルキレンオキサイドユニットを示している。
ここで、Ｕ1 およびＵ2 の一般式を示すと下記のように
なる。
【００４１】（態様１）Ｕ1 がポリアルキレンオキサイ
ドユニットでありかつＵ2 がポリオルガノシロキサンユ
ニットである場合。
ドユニットでありかつＵ2 がポリオルガノシロキサンユ
ニットである場合。
【００４２】
【化３８】
【００４３】（態様２）Ｕ1 がポリオルガノシロキサン
ユニットでありかつＵ2 がポリアルキレンオキサイドユ
ニットである場合。
ユニットでありかつＵ2 がポリアルキレンオキサイドユ
ニットである場合。
【００４４】
【化３９】
【００４５】Ｕ1 およびＵ2 についての上述の一般式に
おいて、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基を示している。ここで、炭素数１〜８の
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチ
ル基、２−エチルヘキシル基などが例示できる。アリー
ル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ｔ
−ブチルフェニル基などが例示できる。アラルキル基と
しては、ベンジル基、プロピルフェニル基などが例示で
きる。
おいて、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基を示している。ここで、炭素数１〜８の
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチ
ル基、２−エチルヘキシル基などが例示できる。アリー
ル基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ｔ
−ブチルフェニル基などが例示できる。アラルキル基と
しては、ベンジル基、プロピルフェニル基などが例示で
きる。
【００４６】また、Ｒ3 は、下記の一般式で示されるも
のである。
のである。
【００４７】
【化４０】
【００４８】ここで、ｃは、１〜４の整数である。ｃが
４を超えると、親水性と疎水性とのバランスが崩れ、本
発明のブロックポリマーが表面改質効果を発揮しにくく
なる場合がある。
４を超えると、親水性と疎水性とのバランスが崩れ、本
発明のブロックポリマーが表面改質効果を発揮しにくく
なる場合がある。
【００４９】上述のＵ1 およびＵ2 に含まれるＲ1 とＲ
2 とは、互いに同じであってもよいし異なっていてもよ
い。また、Ｕ1 およびＵ2 に含まれる全Ｒ1 、全Ｒ2 お
よび全Ｒ3 は、それぞれ互いに同じであってもよいし異
なっていてもよい。
2 とは、互いに同じであってもよいし異なっていてもよ
い。また、Ｕ1 およびＵ2 に含まれる全Ｒ1 、全Ｒ2 お
よび全Ｒ3 は、それぞれ互いに同じであってもよいし異
なっていてもよい。
【００５０】さらに、上記一般式（１）および（２）に
含まれるＵ1 およびＵ2 において、ａは１〜１３５の整
数であり、ｂは２〜２３０の整数である。ａが０の場合
は、本発明のブロックポリマーを例えばコーティング材
用の表面改質剤として用いた場合に、所要の効果が得ら
れにくい。逆に、ａが１３５を超えると、本発明のブロ
ックポリマーを例えば表面改質剤として塗料に添加した
場合に、ハジキなどの不具合が生じるおそれがある。一
方、ｂが１または０の場合は、本発明のブロックポリマ
ーを例えばコーティング材用の表面改質剤として用いた
場合に、所要の効果が得られにくい。逆に、ｂが２３０
を超えると、本発明のブロックポリマーの溶剤溶解性が
低下するおそれがある。
含まれるＵ1 およびＵ2 において、ａは１〜１３５の整
数であり、ｂは２〜２３０の整数である。ａが０の場合
は、本発明のブロックポリマーを例えばコーティング材
用の表面改質剤として用いた場合に、所要の効果が得ら
れにくい。逆に、ａが１３５を超えると、本発明のブロ
ックポリマーを例えば表面改質剤として塗料に添加した
場合に、ハジキなどの不具合が生じるおそれがある。一
方、ｂが１または０の場合は、本発明のブロックポリマ
ーを例えばコーティング材用の表面改質剤として用いた
場合に、所要の効果が得られにくい。逆に、ｂが２３０
を超えると、本発明のブロックポリマーの溶剤溶解性が
低下するおそれがある。
【００５１】なお、上記一般式（１）および（２）中に
含まれるＵ1 は、１種類のもののみであってもよいし、
数種類のものであってもよい。この点、Ｕ2 についても
同様である。
含まれるＵ1 は、１種類のもののみであってもよいし、
数種類のものであってもよい。この点、Ｕ2 についても
同様である。
【００５２】また、上記一般式（１）および（２）中に
含まれるＲ4 は、水素またはメチル基である。
含まれるＲ4 は、水素またはメチル基である。
【００５３】さらに、上記一般式（１）および（２）中
に含まれるＡは、隣接する−ＣＨＲ4 −とカルボニル基
を介して結合している有機基である。ここで、当該Ａ基
に含まれる有機基としては、非反応性の炭化水素基、水
酸基、酸基、アミノ基、アンモニウム基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アミド結合、環状エーテル基、アルキレン
オキサイドユニット、アルコキシシリル基、紫外線吸収
性基およびテトラメチル−４−ピペリジル基からなる群
から選ばれた少なくとも１つの化学構造部位を含むもの
を例示することができる。したがって、Ａの具体例とし
ては、下記のＡ（１）〜Ａ（１３）の１３種類のものを
挙げることができる。
に含まれるＡは、隣接する−ＣＨＲ4 −とカルボニル基
を介して結合している有機基である。ここで、当該Ａ基
に含まれる有機基としては、非反応性の炭化水素基、水
酸基、酸基、アミノ基、アンモニウム基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、アミド結合、環状エーテル基、アルキレン
オキサイドユニット、アルコキシシリル基、紫外線吸収
性基およびテトラメチル−４−ピペリジル基からなる群
から選ばれた少なくとも１つの化学構造部位を含むもの
を例示することができる。したがって、Ａの具体例とし
ては、下記のＡ（１）〜Ａ（１３）の１３種類のものを
挙げることができる。
【００５４】〔Ａ（１）：非反応性の炭化水素基を含む
有機基〕この場合、Ａは下記の一般式で示すことができ
る。
有機基〕この場合、Ａは下記の一般式で示すことができ
る。
【００５５】
【化４１】
【００５６】ここで、Ｒ5 は、炭素原子数が１〜２２個
の炭化水素基を示している。この炭化水素基は、脂肪族
炭化水素基であってもよいし、芳香族炭化水素基であっ
てもよい。また、分岐していてもよいし、飽和、不飽和
および環状の構造部分を含んでいてもよい。さらに、少
なくとも１つの炭素原子が酸素原子に置き換わっていて
もよい。
の炭化水素基を示している。この炭化水素基は、脂肪族
炭化水素基であってもよいし、芳香族炭化水素基であっ
てもよい。また、分岐していてもよいし、飽和、不飽和
および環状の構造部分を含んでいてもよい。さらに、少
なくとも１つの炭素原子が酸素原子に置き換わっていて
もよい。
【００５７】このような炭化水素基の具体例としては、
メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、イソアミル
基、イソオクチル基、イソデシル基、ｎ−ラウリル基、
トリデシル基、イソミリスチル基、ｎ−ステアリル基、
イソステアリル基、ベヘニル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、フェノキシエチル基、イソボルニル基および
ビニル基などを挙げることができる。
メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、イソアミル
基、イソオクチル基、イソデシル基、ｎ−ラウリル基、
トリデシル基、イソミリスチル基、ｎ−ステアリル基、
イソステアリル基、ベヘニル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、フェノキシエチル基、イソボルニル基および
ビニル基などを挙げることができる。
【００５８】〔Ａ（２）：水酸基を含む有機基〕この場
合、Ａは下記の一般式で示すことができる。
合、Ａは下記の一般式で示すことができる。
【００５９】
【化４２】
【００６０】ここで、Ｒ6 は、水酸基を含む有機基を示
している。Ｒ6 の具体例としては、２−ヒドロキシエチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基の他、下
記の一般式（ａ）、（ｂ）および（ｃ）で示されるもの
を挙げることができる。
している。Ｒ6 の具体例としては、２−ヒドロキシエチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基の他、下
記の一般式（ａ）、（ｂ）および（ｃ）で示されるもの
を挙げることができる。
【００６１】
【化４３】
【００６２】一般式（ａ）中、Ｒ7 は、フェニレン基、
シクロヘキシル基またはエチレン基を示している。ま
た、Ｒ8 は、２−ヒドロキシプロピル基または２−ヒド
ロキシエチル基である。また、一般式（ｂ）中、Ｕ3
は、隣接する水素原子との結合点に酸素原子が位置す
る、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドおよび
ブチレンオキサイドからなる群から選ばれた少なくとも
１種類のユニットを示す。また、ｍは、１〜３０の整数
である。さらに、一般式（ｃ）中、ｐは１〜１２の整数
である。
シクロヘキシル基またはエチレン基を示している。ま
た、Ｒ8 は、２−ヒドロキシプロピル基または２−ヒド
ロキシエチル基である。また、一般式（ｂ）中、Ｕ3
は、隣接する水素原子との結合点に酸素原子が位置す
る、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドおよび
ブチレンオキサイドからなる群から選ばれた少なくとも
１種類のユニットを示す。また、ｍは、１〜３０の整数
である。さらに、一般式（ｃ）中、ｐは１〜１２の整数
である。
【００６３】また、このようなＡは、下記の一般式で示
すこともできる。
すこともできる。
【００６４】
【化４４】
【００６５】ここで、Ｒ9 は、水素原子、または炭素原
子数が８個以下の分岐していてもよいアルキル基であっ
て、少なくとも一部の水素原子が水酸基で置換されてい
るものである。このようなＲ9 の具体例としては、トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル基、ヒドロキシメチル基
などを挙げることができる。
子数が８個以下の分岐していてもよいアルキル基であっ
て、少なくとも一部の水素原子が水酸基で置換されてい
るものである。このようなＲ9 の具体例としては、トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル基、ヒドロキシメチル基
などを挙げることができる。
【００６６】〔Ａ（３）：酸基を含む有機基〕このよう
な有機基に含まれる酸基としては、カルボキシル基、リ
ン酸基およびスルホン酸基を挙げることができる。ここ
で、カルボキシル基を含むＡは、例えば下記の一般式で
示すことができる。
な有機基に含まれる酸基としては、カルボキシル基、リ
ン酸基およびスルホン酸基を挙げることができる。ここ
で、カルボキシル基を含むＡは、例えば下記の一般式で
示すことができる。
【００６７】
【化４５】
【００６８】式中、Ｒ7 は、上述の一般式（ａ）の場合
と同様である。また、リン酸基を含むＡは、例えば下記
の一般式で示すことができる。
と同様である。また、リン酸基を含むＡは、例えば下記
の一般式で示すことができる。
【００６９】
【化４６】
【００７０】さらに、スルホン酸基を含むＡは、例えば
下記の一般式で示すことができる。
下記の一般式で示すことができる。
【００７１】
【化４７】
【００７２】〔Ａ（４）：アミノ基を含む有機基〕ここ
でのアミノ基は、２級アミノ基または３級アミノ基であ
る。このようなＡは、例えば下記の式で示すことができ
る。
でのアミノ基は、２級アミノ基または３級アミノ基であ
る。このようなＡは、例えば下記の式で示すことができ
る。
【００７３】
【化４８】
【００７４】式中、Ｒ10およびＲ11は、２級アミノ基の
場合は一方が水素原子でありかつ他方がｔ−ブチル基で
あり、３級アミノ基の場合は双方がメチル基、エチル基
またはｔ−ブチル基である。
場合は一方が水素原子でありかつ他方がｔ−ブチル基で
あり、３級アミノ基の場合は双方がメチル基、エチル基
またはｔ−ブチル基である。
【００７５】〔Ａ（５）：アンモニウム基を含む有機
基〕ここでのＡは、例えば上述のＡ（４）の場合におけ
る３級アミノ基を、メチルクロライドなどのアルキルク
ロライドにより４級化したものである。
基〕ここでのＡは、例えば上述のＡ（４）の場合におけ
る３級アミノ基を、メチルクロライドなどのアルキルク
ロライドにより４級化したものである。
【００７６】〔Ａ（６）：シアノ基を含む有機基〕ここ
でのＡは、例えば下記の式で示される。
でのＡは、例えば下記の式で示される。
【００７７】
【化４９】
【００７８】〔Ａ（７）：ハロゲン原子を含む有機基〕
ここでのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子
および臭素原子を挙げることができる。但し、フッ素原
子を含むものを用いるのが好ましい。フッ素原子を含む
場合、Ａは、例えば下記の一般式で示される。
ここでのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子
および臭素原子を挙げることができる。但し、フッ素原
子を含むものを用いるのが好ましい。フッ素原子を含む
場合、Ａは、例えば下記の一般式で示される。
【００７９】
【化５０】
【００８０】一般式中、Ｃｆは、少なくとも１つの水素
原子がフッ素原子で置換された炭化水素基を示し、具体
的には下記の構造式で示されるものを挙げることができ
る。
原子がフッ素原子で置換された炭化水素基を示し、具体
的には下記の構造式で示されるものを挙げることができ
る。
【００８１】
【化５１】
【００８２】〔Ａ（８）：アミド結合を含む有機基〕こ
こでのＡは、例えば下記の一般式で示される。
こでのＡは、例えば下記の一般式で示される。
【００８３】
【化５２】
【００８４】一般式中、Ｒ12およびＲ13は、水素原子、
または炭素原子数が８個以下の分岐していてもよいアル
キル基である。このようなアルキル基は、それを構成す
る一部の炭素原子がカルボニル基を構成していてもよい
し、また、一部の炭素原子が酸素原子により置換されて
いてもよい。さらに、アミノ基を有していてもよい。こ
のようなＲ12およびＲ13がアルキル基の場合、その具体
例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル基、イソブトキシメチ
ル基などを挙げることができる。
または炭素原子数が８個以下の分岐していてもよいアル
キル基である。このようなアルキル基は、それを構成す
る一部の炭素原子がカルボニル基を構成していてもよい
し、また、一部の炭素原子が酸素原子により置換されて
いてもよい。さらに、アミノ基を有していてもよい。こ
のようなＲ12およびＲ13がアルキル基の場合、その具体
例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル基、イソブトキシメチ
ル基などを挙げることができる。
【００８５】さらに、Ｒ12とＲ13とは、酸素原子を介し
て互いに結合し、環構造を形成していてもよい。このよ
うな環構造としては、例えばモルホリノ基を挙げること
ができる。Ｒ12とＲ13とがモルホリノ基を構成している
場合、Ａは下記の式で示される。
て互いに結合し、環構造を形成していてもよい。このよ
うな環構造としては、例えばモルホリノ基を挙げること
ができる。Ｒ12とＲ13とがモルホリノ基を構成している
場合、Ａは下記の式で示される。
【００８６】
【化５３】
【００８７】〔Ａ（９）：環状エーテル基を含む有機
基〕ここでのＡは、例えば下記の一般式で示される。
基〕ここでのＡは、例えば下記の一般式で示される。
【００８８】
【化５４】
【００８９】一般式中、Ｃｙｃは、例えばエポキシ基、
フルフリル基を示している。
フルフリル基を示している。
【００９０】〔Ａ（１０）：アルキレンオキサイドユニ
ットを含む有機基〕ここでのＡは、例えば下記の一般式
で示される。
ットを含む有機基〕ここでのＡは、例えば下記の一般式
で示される。
【００９１】
【化５５】
【００９２】一般式中、Ｕ3 およびｍは、上述の一般式
（ｂ）の場合と同様である。また、Ｒ14は、炭素原子数
が８個以下の分岐していてもよいアルキル基、フェニル
基、ノニルフェニル基またはジシクロペンテニル基を示
している。
（ｂ）の場合と同様である。また、Ｒ14は、炭素原子数
が８個以下の分岐していてもよいアルキル基、フェニル
基、ノニルフェニル基またはジシクロペンテニル基を示
している。
【００９３】〔Ａ（１１）：アルコキシシリル基を含む
有機基〕ここでのＡは、例えば下記の一般式で示され
る。
有機基〕ここでのＡは、例えば下記の一般式で示され
る。
【００９４】
【化５６】
【００９５】一般式中、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は、メチ
ル基やエチル基などのアルキル基、フェニル基などのア
リール基を示している。Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は、全て
が同一であってもよいし、異なっていてもよい。
ル基やエチル基などのアルキル基、フェニル基などのア
リール基を示している。Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は、全て
が同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００９６】〔Ａ（１２）：紫外線吸収性基を含む有機
基〕ここでのＡは、例えば下記の式で示される。
基〕ここでのＡは、例えば下記の式で示される。
【００９７】
【化５７】
【００９８】〔Ａ（１３）：テトラメチル−４−ピペリ
ジル基を含む有機基〕ここでのＡは、例えば下記の式で
示される。
ジル基を含む有機基〕ここでのＡは、例えば下記の式で
示される。
【００９９】
【化５８】
【０１００】なお、一般式（１）および（２）中には、
２種以上のＡが含まれていてもよい。
２種以上のＡが含まれていてもよい。
【０１０１】さらに、上記一般式（１）および（２）中
に含まれるｎは、１〜１６の整数である。ｎが０の場合
は、本発明のブロックポリマーを例えばコーティング材
用の表面改質剤として用いた場合に、所要の効果が得ら
れにくい。逆に、１６を超えると、本発明のブロックポ
リマーの溶剤溶解性が低下するおそれがある。
に含まれるｎは、１〜１６の整数である。ｎが０の場合
は、本発明のブロックポリマーを例えばコーティング材
用の表面改質剤として用いた場合に、所要の効果が得ら
れにくい。逆に、１６を超えると、本発明のブロックポ
リマーの溶剤溶解性が低下するおそれがある。
【０１０２】なお、上記一般式（２）に含まれるＲ18
は、炭素数が１〜８のアルキル基である。このアルキル
基は水酸基を含んでいてもよい。このようなアルキル基
としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ヒ
ドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキ
シプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ
ブチル、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル
を挙げることができる。
は、炭素数が１〜８のアルキル基である。このアルキル
基は水酸基を含んでいてもよい。このようなアルキル基
としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ヒ
ドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキ
シプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ
ブチル、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル
を挙げることができる。
【０１０３】ブロックポリマーの製造方法 本発明のブロックポリマーは、例えば、下記の工程を含
む方法に従って製造することができる。 （工程１）下記の一般式（３）で示されるアクリル系化
合物に対してポリオルガノシロキサンユニットまたはポ
リアルキレンオキサイドユニットのいずれか一方のユニ
ットを含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基を有する
ジアミン化合物をマイケル付加反応させて生成物を得
る。
む方法に従って製造することができる。 （工程１）下記の一般式（３）で示されるアクリル系化
合物に対してポリオルガノシロキサンユニットまたはポ
リアルキレンオキサイドユニットのいずれか一方のユニ
ットを含みかつ両末端にそれぞれ１級アミノ基を有する
ジアミン化合物をマイケル付加反応させて生成物を得
る。
【０１０４】
【化５９】
【０１０５】一般式（３）中、Ｒ4 およびＡは、上術の
一般式（１）および（２）の場合と同様である。なお、
このような一般式（３）で示されるアクリル系化合物の
具体例をＡの種類ごとに例示すると、次のようになる。
一般式（１）および（２）の場合と同様である。なお、
このような一般式（３）で示されるアクリル系化合物の
具体例をＡの種類ごとに例示すると、次のようになる。
【０１０６】〔ＡがＡ（１）の場合〕メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチ
ルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、
２−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルアクリ
レート、イソデシルメタクリレート、ｎ−ラウリルアク
リレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、トリデシルア
クリレート、トリデシルメタクリレート、ｎ−ステアリ
ルアクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタ
クリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニル
メタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルメタクリレート、イソステアリルアクリレ
ート、イソステアリルメタクリレート、イソオクチルア
クリレート、イソオクチルメタクリレート、イソミリス
チルアクリレート、イソミリスチルメタクリレート、イ
ソステアリルアクリレート、イソステアリルメタクリレ
ート、ベヘニルアクリレート、ベヘニルメタクリレー
ト、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレー
ト、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレートおよび２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートのε−カプロラクトン開環付加物
（例えば、ダイセル化学工業株式会社製の商品名”ＦＭ
シリーズ”および”ＦＡシリーズ”）。
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチ
ルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、
２−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルアクリ
レート、イソデシルメタクリレート、ｎ−ラウリルアク
リレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、トリデシルア
クリレート、トリデシルメタクリレート、ｎ−ステアリ
ルアクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタ
クリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニル
メタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルメタクリレート、イソステアリルアクリレ
ート、イソステアリルメタクリレート、イソオクチルア
クリレート、イソオクチルメタクリレート、イソミリス
チルアクリレート、イソミリスチルメタクリレート、イ
ソステアリルアクリレート、イソステアリルメタクリレ
ート、ベヘニルアクリレート、ベヘニルメタクリレー
ト、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレー
ト、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレートおよび２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートのε−カプロラクトン開環付加物
（例えば、ダイセル化学工業株式会社製の商品名”ＦＭ
シリーズ”および”ＦＡシリーズ”）。
【０１０７】〔ＡがＡ（２）の場合〕２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルア
クリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、３
−クロロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−
クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールアクリル酸安息香酸エステ
ル、ネオペンチルグリコールメタクリル酸安息香酸エス
テル、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプ
ロピルフタレート、２−メタクリロイロキシエチル−２
−ヒドロキシプロピルフタレート、２−アクリロイロキ
シエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−メタ
クリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレー
ト、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエ
チレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノメタクリレート、ポリエチレングリコールポリプ
ロピレングリコールモノアクリレート、ポリエチレング
リコールポリプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコ
ールモノアクリレート、ポリエチレングリコールポリテ
トラメチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールポリテトラメチレングリコールモノア
クリレート、ポリプロピレングリコールポリテトラメチ
レングリコールモノメタクリレート、Ｎ−（トリス（ヒ
ドロキシメチル）メチル）アクリルアミド、Ｎ−（トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ヒドロキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロ
キシメチル）メタクリルアミド。
チルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルア
クリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、３
−クロロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−
クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールアクリル酸安息香酸エステ
ル、ネオペンチルグリコールメタクリル酸安息香酸エス
テル、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプ
ロピルフタレート、２−メタクリロイロキシエチル−２
−ヒドロキシプロピルフタレート、２−アクリロイロキ
シエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−メタ
クリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレー
ト、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエ
チレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノメタクリレート、ポリエチレングリコールポリプ
ロピレングリコールモノアクリレート、ポリエチレング
リコールポリプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコ
ールモノアクリレート、ポリエチレングリコールポリテ
トラメチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールポリテトラメチレングリコールモノア
クリレート、ポリプロピレングリコールポリテトラメチ
レングリコールモノメタクリレート、Ｎ−（トリス（ヒ
ドロキシメチル）メチル）アクリルアミド、Ｎ−（トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ヒドロキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロ
キシメチル）メタクリルアミド。
【０１０８】〔ＡがＡ（３）の場合〕アクリル酸、メタ
クリル酸、２−アクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−メ
タクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキ
シエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキ
シエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸。
クリル酸、２−アクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート、２−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−メ
タクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキ
シエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキ
シエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸。
【０１０９】〔ＡがＡ（４）の場合〕ジメチルアミノエ
チルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート。
チルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート。
【０１１０】〔ＡがＡ（５）の場合〕ジメチルアミノエ
チルアクリレート４級化物、ジメチルアミノエチルメタ
クリレート４級化物、ジエチルアミノエチルアクリレー
ト４級化物、ジエチルアミノエチルメタクリレート４級
化物。
チルアクリレート４級化物、ジメチルアミノエチルメタ
クリレート４級化物、ジエチルアミノエチルアクリレー
ト４級化物、ジエチルアミノエチルメタクリレート４級
化物。
【０１１１】〔ＡがＡ（６）の場合〕２−シアノエチル
アクリレート、２−シアノエチルメタクリレート。
アクリレート、２−シアノエチルメタクリレート。
【０１１２】〔ＡがＡ（７）の場合〕トリフロロエチル
アクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、テト
ラフロロプロピルアクリレート、テトラフロロプロピル
メタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフロ
ロブチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキ
サフロロブチルメタクリレート、パーフルオロオクチル
エチルアクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタ
クリレート。
アクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、テト
ラフロロプロピルアクリレート、テトラフロロプロピル
メタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフロ
ロブチルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキ
サフロロブチルメタクリレート、パーフルオロオクチル
エチルアクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタ
クリレート。
【０１１３】〔ＡがＡ（８）の場合〕Ｎ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ−イ
ソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジエチルメタクリルアミド、Ｎ−（トリス（ヒドロキシ
メチル）メチル）アクリルアミド、Ｎ−（トリス（ヒド
ロキシメチル）メチル）メタクリルアミド、Ｎ−（イソ
ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（イソブトキシ
メチル）メタクリルアミド、２−アクリルアミド−２−
メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２
−メチルプロパンスルホン酸、Ｎ−（ヒドロキシメチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）メタク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジアセトンメ
タクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリロ
イルモルホリン。
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ−イ
ソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジエチルメタクリルアミド、Ｎ−（トリス（ヒドロキシ
メチル）メチル）アクリルアミド、Ｎ−（トリス（ヒド
ロキシメチル）メチル）メタクリルアミド、Ｎ−（イソ
ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（イソブトキシ
メチル）メタクリルアミド、２−アクリルアミド−２−
メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２
−メチルプロパンスルホン酸、Ｎ−（ヒドロキシメチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）メタク
リルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジアセトンメ
タクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリロ
イルモルホリン。
【０１１４】〔ＡがＡ（９）の場合〕テトラヒドロフル
フリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート。
フリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート。
【０１１５】〔ＡがＡ（１０）の場合〕メトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタ
クリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレ
ート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレー
ト、ｎ−ブトキシエチルアクリレート、ｎ−ブトキシエ
チルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールア
クリレート、エトキシジエチレングリコールメタクリレ
ート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、
メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、フェ
ノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキ
シポリエチレングリコールメタクリレート、ノニルフェ
ノールエチレンオキサイド付加物アクリレート、ノニル
フェノールエチレンオキサイド付加物メタクリレート、
２−エチルヘキシルジグリコールアクリレート、２−エ
チルヘキシルジグリコールメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリ
レート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコ
ールモノアクリレート、ポリエチレングリコールポリプ
ロピレングリコールモノメタクリレート、ポリエチレン
グリコールポリテトラメチレングリコールモノアクリレ
ート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリ
コールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ポリテトラメチレングリコールモノアクリレート、ポリ
プロピレングリコールポリテトラメチレングリコールモ
ノメタクリレート。
レングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタ
クリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレ
ート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレー
ト、ｎ−ブトキシエチルアクリレート、ｎ−ブトキシエ
チルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールア
クリレート、エトキシジエチレングリコールメタクリレ
ート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、
メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、フェ
ノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキ
シポリエチレングリコールメタクリレート、ノニルフェ
ノールエチレンオキサイド付加物アクリレート、ノニル
フェノールエチレンオキサイド付加物メタクリレート、
２−エチルヘキシルジグリコールアクリレート、２−エ
チルヘキシルジグリコールメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリ
レート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコ
ールモノアクリレート、ポリエチレングリコールポリプ
ロピレングリコールモノメタクリレート、ポリエチレン
グリコールポリテトラメチレングリコールモノアクリレ
ート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリ
コールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ポリテトラメチレングリコールモノアクリレート、ポリ
プロピレングリコールポリテトラメチレングリコールモ
ノメタクリレート。
【０１１６】〔ＡがＡ（１１）の場合〕３−アクリルオ
キシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−アクリルオキシプ
ロピルトリエトキシシラン、３−メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン、３−アクリルオキシプロピル
モノメチルジメトキシシラン、３−メタクリルオキシプ
ロピルモノメチルジメトキシシラン、３−アクリルオキ
シプロピルモノメチルジエトキシシラン、３−メタクリ
ルオキシプロピルモノメチルジエトキシシラン、３−メ
タクリルオキシエチルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン。
キシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−アクリルオキシプ
ロピルトリエトキシシラン、３−メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン、３−アクリルオキシプロピル
モノメチルジメトキシシラン、３−メタクリルオキシプ
ロピルモノメチルジメトキシシラン、３−アクリルオキ
シプロピルモノメチルジエトキシシラン、３−メタクリ
ルオキシプロピルモノメチルジエトキシシラン、３−メ
タクリルオキシエチルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン。
【０１１７】〔ＡがＡ（１２）の場合〕２−（２’−ヒ
ドロキシ−５’−アクリロイロキシエチルフェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メタクリロイロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−（２
−アクリロイロキシエトキシ）ジベンゾイルメタン、４
−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−（２−メタクリロイロキシ
エトキシ）ジベンゾイルメタン。
ドロキシ−５’−アクリロイロキシエチルフェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メタクリロイロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−（２
−アクリロイロキシエトキシ）ジベンゾイルメタン、４
−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−（２−メタクリロイロキシ
エトキシ）ジベンゾイルメタン。
【０１１８】〔ＡがＡ（１３）の場合〕２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルアクリレート、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレ
ート、Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルアクリレート、Ｎ−メチル−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート。
−テトラメチル−４−ピペリジルアクリレート、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレ
ート、Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルアクリレート、Ｎ−メチル−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート。
【０１１９】（工程２）ポリオルガノシロキサンユニッ
トまたはポリアルキレンオキサイドユニットのうち、工
程１で用いたジアミン化合物に含まれるユニットとは異
なる他方のユニットを含みかつ両末端にそれぞれエポキ
シ基を有するジエポキシ化合物と、工程１で得られた生
成物とを反応させる工程。ここでは、両末端にエポキシ
キ基を有するブロックポリマーが得られる。
トまたはポリアルキレンオキサイドユニットのうち、工
程１で用いたジアミン化合物に含まれるユニットとは異
なる他方のユニットを含みかつ両末端にそれぞれエポキ
シ基を有するジエポキシ化合物と、工程１で得られた生
成物とを反応させる工程。ここでは、両末端にエポキシ
キ基を有するブロックポリマーが得られる。
【０１２０】（工程３）製造しようとするブロックポリ
マーの末端がアミノ基である場合（即ち、一般式（２）
の場合）には、上述の工程２の反応で得られたブロック
ポリマーの両末端のエポキシ基に対して２級アミン化合
物をさらに反応させる。
マーの末端がアミノ基である場合（即ち、一般式（２）
の場合）には、上述の工程２の反応で得られたブロック
ポリマーの両末端のエポキシ基に対して２級アミン化合
物をさらに反応させる。
【０１２１】以下に、一般式（１）および（２）で示さ
れる本発明のブロックポリマーの具体的な製造方法につ
いて説明する。
れる本発明のブロックポリマーの具体的な製造方法につ
いて説明する。
【０１２２】［Ｉ］一般式（１）で示されるブロックポ
リマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述の態
様１の場合。ここでは、工程１で用いるジアミン化合物
として下記の一般式（４）で示されるものを用い、ま
た、工程２で用いるジエポキシ化合物として下記の一般
式（５）で示されるものを用いる。
リマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述の態
様１の場合。ここでは、工程１で用いるジアミン化合物
として下記の一般式（４）で示されるものを用い、ま
た、工程２で用いるジエポキシ化合物として下記の一般
式（５）で示されるものを用いる。
【０１２３】
【化６０】
【０１２４】
【化６１】
【０１２５】この場合、一般式（４）で示されるジアミ
ン化合物の両末端に位置する１級アミノ基が、それぞれ
一般式（３）で示されるアクリル系化合物の二重結合部
分にマイケル付加し、下記の一般式（８）で示される化
合物が生成物として得られる（工程１）。なお、一般式
（４）、（５）および（８）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
4 、Ａ、ａおよびｂは、上述の一般式（１）の場合と同
様である。
ン化合物の両末端に位置する１級アミノ基が、それぞれ
一般式（３）で示されるアクリル系化合物の二重結合部
分にマイケル付加し、下記の一般式（８）で示される化
合物が生成物として得られる（工程１）。なお、一般式
（４）、（５）および（８）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
4 、Ａ、ａおよびｂは、上述の一般式（１）の場合と同
様である。
【０１２６】
【化６２】
【０１２７】なお、ここでは、通常、ジアミン化合物に
対してアクリル系化合物を１．８〜２．２倍モル用いる
のが好ましく、１．９〜２．１倍モル用いるのがより好
ましい。アクリル系化合物の使用量が１．８倍モル未満
の場合は、残存アミノ基が多くなり、ジエポキシ化合物
を反応させるとゲル化するおそれがある。逆に、２．２
倍モルを超えると、残存アミノ基が少なくなり、ジエポ
キシ化合物との反応が進行しにくい。また、マイケル付
加反応時の温度条件は、特に限定されるものではなく、
通常は室温で反応させることができる。
対してアクリル系化合物を１．８〜２．２倍モル用いる
のが好ましく、１．９〜２．１倍モル用いるのがより好
ましい。アクリル系化合物の使用量が１．８倍モル未満
の場合は、残存アミノ基が多くなり、ジエポキシ化合物
を反応させるとゲル化するおそれがある。逆に、２．２
倍モルを超えると、残存アミノ基が少なくなり、ジエポ
キシ化合物との反応が進行しにくい。また、マイケル付
加反応時の温度条件は、特に限定されるものではなく、
通常は室温で反応させることができる。
【０１２８】次に、得られた生成物に対して、一般式
（５）で示されるジエポキシ化合物を反応させる。これ
により、目的とするブロックポリマー、即ち、一般式
（１）で示されるブロックポリマーが得られる（工程
２）。
（５）で示されるジエポキシ化合物を反応させる。これ
により、目的とするブロックポリマー、即ち、一般式
（１）で示されるブロックポリマーが得られる（工程
２）。
【０１２９】この反応を行なう際には、工程１での生成
物のＸモルに対してジエポキシ化合物をＸ＋０．８〜Ｘ
＋１．２モル用いるのが好ましく、Ｘ＋０．９〜Ｘ＋
１．１モル用いるのがより好ましい。ジエポキシ化合物
の使用量がＸ＋０．８モル未満の場合は、残存エポキシ
基が少なくなり、後の反応が進行しにくい。逆に、Ｘ＋
１．２モルを超えると、残存エポキシ基が多くなり、耐
候性に悪影響を及ぼすおそれがある。
物のＸモルに対してジエポキシ化合物をＸ＋０．８〜Ｘ
＋１．２モル用いるのが好ましく、Ｘ＋０．９〜Ｘ＋
１．１モル用いるのがより好ましい。ジエポキシ化合物
の使用量がＸ＋０．８モル未満の場合は、残存エポキシ
基が少なくなり、後の反応が進行しにくい。逆に、Ｘ＋
１．２モルを超えると、残存エポキシ基が多くなり、耐
候性に悪影響を及ぼすおそれがある。
【０１３０】また、反応に際しては、通常、溶媒を用い
る。溶媒としては、例えば、ｎ−ブタノール、ブチルセ
ロソルブおよびキシレン等を用いることができる。な
お、反応温度は、５０〜１２０℃に設定するのが好まし
く、６０〜１００℃に設定するのがより好ましい。
る。溶媒としては、例えば、ｎ−ブタノール、ブチルセ
ロソルブおよびキシレン等を用いることができる。な
お、反応温度は、５０〜１２０℃に設定するのが好まし
く、６０〜１００℃に設定するのがより好ましい。
【０１３１】［ＩＩ］一般式（２）で示されるブロック
ポリマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述の
態様１の場合。このブロックポリマーを製造する場合
は、［Ｉ］の場合で得られたブロックポリマー（即ち、
一般式（１）で示されるブロックポリマー）の両末端に
それぞれ位置するエポキシ基に対し、２級アミン化合物
をさらに反応させる（工程３）。
ポリマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述の
態様１の場合。このブロックポリマーを製造する場合
は、［Ｉ］の場合で得られたブロックポリマー（即ち、
一般式（１）で示されるブロックポリマー）の両末端に
それぞれ位置するエポキシ基に対し、２級アミン化合物
をさらに反応させる（工程３）。
【０１３２】ここで用いられる２級アミン化合物は、一
般式（２）に含まれるＲ18と同様の基が窒素原子に２つ
結合したものであり、通常、［Ｉ］で得られたブロック
ポリマーに対して１．８〜２．２倍モル、好ましくは
１．９〜２．１倍モル用いられる。また、この際の反応
温度は、通常、５０〜１２０℃に設定される。
般式（２）に含まれるＲ18と同様の基が窒素原子に２つ
結合したものであり、通常、［Ｉ］で得られたブロック
ポリマーに対して１．８〜２．２倍モル、好ましくは
１．９〜２．１倍モル用いられる。また、この際の反応
温度は、通常、５０〜１２０℃に設定される。
【０１３３】［ＩＩＩ］一般式（１）で示されるブロッ
クポリマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述
の態様２の場合。工程１で用いるジアミン化合物として
下記の一般式（６）で示されるものを用い、また、工程
２で用いるジエポキシ化合物として下記の一般式（７）
で示されるものを用いる点を除き、［Ｉ］の場合と同様
にして目的とするブロックポリマーを製造することがで
きる。
クポリマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述
の態様２の場合。工程１で用いるジアミン化合物として
下記の一般式（６）で示されるものを用い、また、工程
２で用いるジエポキシ化合物として下記の一般式（７）
で示されるものを用いる点を除き、［Ｉ］の場合と同様
にして目的とするブロックポリマーを製造することがで
きる。
【０１３４】
【化６３】
【０１３５】
【化６４】
【０１３６】なお、工程１および工程２におけるジアミ
ン化合物とジエポキシ化合物との使用量や反応条件等
は、［Ｉ］の場合と同様に設定され得る。因に、工程１
で得られる生成物は、下記の一般式（９）で示されるも
のである。なお、一般式（６）、（７）および（９）
中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ａ、ａおよびｂは、上述
の一般式（１）の場合と同様である。
ン化合物とジエポキシ化合物との使用量や反応条件等
は、［Ｉ］の場合と同様に設定され得る。因に、工程１
で得られる生成物は、下記の一般式（９）で示されるも
のである。なお、一般式（６）、（７）および（９）
中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ａ、ａおよびｂは、上述
の一般式（１）の場合と同様である。
【０１３７】
【化６５】
【０１３８】［ＩＶ］一般式（２）で示されるブロック
ポリマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述の
態様２の場合。この場合、［ＩＩＩ］で得られたブロッ
クポリマー（即ち、一般式（１）で示されるブロックポ
リマー）に対し、［ＩＩ］の工程３の場合と同様にして
同様の２級アミン化合物を反応させると、目的とするブ
ロックポリマーが得られる。ここでの２級アミンの使用
量や反応条件等は、［ＩＩ］の場合と同様に設定され得
る。
ポリマーにおいて、Ｕ1 とＵ2 との組み合わせが上述の
態様２の場合。この場合、［ＩＩＩ］で得られたブロッ
クポリマー（即ち、一般式（１）で示されるブロックポ
リマー）に対し、［ＩＩ］の工程３の場合と同様にして
同様の２級アミン化合物を反応させると、目的とするブ
ロックポリマーが得られる。ここでの２級アミンの使用
量や反応条件等は、［ＩＩ］の場合と同様に設定され得
る。
【０１３９】なお、上述の［Ｉ］〜［ＩＶ］において用
いられる各種化合物、即ち、一般式（３）で示されるア
クリル系化合物、一般式（４）または（６）で示される
ジアミン化合物、一般式（５）または（７）で示される
ジエポキシ化合物、および２級アミン化合物は、それぞ
れ置換基の異なる２種以上のものが混合して用いられて
もよい。
いられる各種化合物、即ち、一般式（３）で示されるア
クリル系化合物、一般式（４）または（６）で示される
ジアミン化合物、一般式（５）または（７）で示される
ジエポキシ化合物、および２級アミン化合物は、それぞ
れ置換基の異なる２種以上のものが混合して用いられて
もよい。
【０１４０】ブロックポリマーの利用 本発明に係る上述のブロックポリマーは、例えば、コー
ティング材の表面改質剤として有用である。ここで、コ
ーティング材としては、皮膜形成性成分を含むものであ
れば特に限定されるものではなく、公知の種々のものが
対象となり、例えば、塗料、繊維処理剤、頭髪改質剤
（リンス）などが挙げられる。
ティング材の表面改質剤として有用である。ここで、コ
ーティング材としては、皮膜形成性成分を含むものであ
れば特に限定されるものではなく、公知の種々のものが
対象となり、例えば、塗料、繊維処理剤、頭髪改質剤
（リンス）などが挙げられる。
【０１４１】本発明にかかるブロックポリマーが表面改
質剤として発揮し得る機能は、例えば、表面張力調整機
能、付着性付与機能、抗菌・防カビ性付与機能および耐
候性付与機能等である。これらの機能は、上述の一般式
（１）および（２）中に含まれるＡ基の種類により異な
る。以下に、各機能毎にそれを発揮し得るＡ基の種類を
挙げる。
質剤として発揮し得る機能は、例えば、表面張力調整機
能、付着性付与機能、抗菌・防カビ性付与機能および耐
候性付与機能等である。これらの機能は、上述の一般式
（１）および（２）中に含まれるＡ基の種類により異な
る。以下に、各機能毎にそれを発揮し得るＡ基の種類を
挙げる。
【０１４２】〔表面張力調整機能〕この機能は、コーテ
ィング材に親水性、親油性または撥水性などを付与し得
る機能である。親水性の付与機能は、主に、Ａ基が上述
のＡ（２）、Ａ（３）、Ａ（４）（但し、２級アミノ基
の場合）、Ａ（５）、Ａ（１０）、Ａ（８）、Ａ（４）
（但し、３級アミノ基の場合）およびＡ（６）の場合に
発揮され、列挙した順に効果が小さくなる。したがっ
て、Ａ基の種類を選択することにより、本発明のブロッ
クポリマーがコーティング材に付与し得る親水性の程度
を種々に設定することができる。
ィング材に親水性、親油性または撥水性などを付与し得
る機能である。親水性の付与機能は、主に、Ａ基が上述
のＡ（２）、Ａ（３）、Ａ（４）（但し、２級アミノ基
の場合）、Ａ（５）、Ａ（１０）、Ａ（８）、Ａ（４）
（但し、３級アミノ基の場合）およびＡ（６）の場合に
発揮され、列挙した順に効果が小さくなる。したがっ
て、Ａ基の種類を選択することにより、本発明のブロッ
クポリマーがコーティング材に付与し得る親水性の程度
を種々に設定することができる。
【０１４３】また、親油性の付与機能は、主にＡ基が上
述のＡ（１）の場合に発揮され得る。この場合、Ａ基に
含まれる炭化水素基の鎖長が長くなる程に、親油性の付
与機能は高まる。
述のＡ（１）の場合に発揮され得る。この場合、Ａ基に
含まれる炭化水素基の鎖長が長くなる程に、親油性の付
与機能は高まる。
【０１４４】さらに、撥水性の付与機能は、主にＡ基が
上述のＡ（７）の場合、特にハロゲン原子としてフッ素
原子を含む場合に発揮され得る。
上述のＡ（７）の場合、特にハロゲン原子としてフッ素
原子を含む場合に発揮され得る。
【０１４５】〔付着性付与機能〕この機能は、コーティ
ング材を、それが適用される基材に対して付着し易くす
るための機能である。このような機能は、主にＡ基に反
応性基が含まれている場合に発揮され、具体的にはＡ基
が上述のＡ（２）、Ａ（３）、Ａ（４）（但し、２級ア
ミノ基の場合）、Ａ（９）およびＡ（１１）の場合に発
揮され易い。なお、基材の種類に応じてＡ基の種類が選
択されると、付着性付与機能をより高めることができ
る。
ング材を、それが適用される基材に対して付着し易くす
るための機能である。このような機能は、主にＡ基に反
応性基が含まれている場合に発揮され、具体的にはＡ基
が上述のＡ（２）、Ａ（３）、Ａ（４）（但し、２級ア
ミノ基の場合）、Ａ（９）およびＡ（１１）の場合に発
揮され易い。なお、基材の種類に応じてＡ基の種類が選
択されると、付着性付与機能をより高めることができ
る。
【０１４６】〔抗菌・防カビ性付与機能〕この機能は、
コーティング材に抗菌性や防カビ性を付与するための機
能である。このような機能は、主にＡ基が上述のＡ
（４）およびＡ（５）の場合に発揮され易い。
コーティング材に抗菌性や防カビ性を付与するための機
能である。このような機能は、主にＡ基が上述のＡ
（４）およびＡ（５）の場合に発揮され易い。
【０１４７】〔耐候性付与機能〕この機能は、コーティ
ング材に耐候性を付与するための機能である。このよう
な機能は、主にＡ基が上述のＡ（１２）およびＡ（１
３）の場合に発揮され易い。
ング材に耐候性を付与するための機能である。このよう
な機能は、主にＡ基が上述のＡ（１２）およびＡ（１
３）の場合に発揮され易い。
【０１４８】本発明のブロックポリマーを含む上述のよ
うなコーディング材により皮膜を形成すると、当該皮膜
には、その内部よりも表層部に当該ブロックポリマーが
多く含まれるようになる。このため、本発明のブロック
ポリマーは、コーティング材に対する添加量が少量であ
っても、当該皮膜の表面に所望の改質効果を効果的に付
与することができる。なお、ブロックポリマーが皮膜の
表層部に多く含まれるようになるのは、ブロックポリマ
ーがポリオルガノシロキサンユニットを有しているため
に膜形成過程において塗膜の表層部に移行しやすいため
であると考えられる。
うなコーディング材により皮膜を形成すると、当該皮膜
には、その内部よりも表層部に当該ブロックポリマーが
多く含まれるようになる。このため、本発明のブロック
ポリマーは、コーティング材に対する添加量が少量であ
っても、当該皮膜の表面に所望の改質効果を効果的に付
与することができる。なお、ブロックポリマーが皮膜の
表層部に多く含まれるようになるのは、ブロックポリマ
ーがポリオルガノシロキサンユニットを有しているため
に膜形成過程において塗膜の表層部に移行しやすいため
であると考えられる。
【０１４９】
【実施例】実施例１〜３２（一般式（１）で示されるブロックポリ
マー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様１の場合）の製造） 表１（表１−１および表１−２を総称する。以下同じ）
に示す通りのジアミン化合物を表１に示す分量と、キシ
レン５０重量部とをフラスコに仕込み、乾燥窒素を吹き
込みながら７０℃に加熱した。そして、表１に示す通り
のアクリル系化合物を表１に示す分量と、ノルマルブタ
ノール２０重量部とを３０分かけて同時に滴下した。
マー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様１の場合）の製造） 表１（表１−１および表１−２を総称する。以下同じ）
に示す通りのジアミン化合物を表１に示す分量と、キシ
レン５０重量部とをフラスコに仕込み、乾燥窒素を吹き
込みながら７０℃に加熱した。そして、表１に示す通り
のアクリル系化合物を表１に示す分量と、ノルマルブタ
ノール２０重量部とを３０分かけて同時に滴下した。
【０１５０】滴下終了後、上述の温度で１時間保持し、
表１に示す通りのジエポキシ化合物を表１に示す分量
と、キシレン２０重量部とを３０分かけて同時に滴下し
た。
表１に示す通りのジエポキシ化合物を表１に示す分量
と、キシレン２０重量部とを３０分かけて同時に滴下し
た。
【０１５１】
【表１】
【０１５２】
【表２】
【０１５３】表１において、ジアミン化合物を示すＤＡ
−１およびＤＡ−２、アクリル系化合物を示すＡｃ−
１，Ａｃ−２，Ａｃ−３，Ａｃ−４，Ａｃ−５およびＡ
ｃ−６、並びにジエポキシ化合物を示すＤＥ−１および
ＤＥ−２は、下記の通りである。
−１およびＤＡ−２、アクリル系化合物を示すＡｃ−
１，Ａｃ−２，Ａｃ−３，Ａｃ−４，Ａｃ−５およびＡ
ｃ−６、並びにジエポキシ化合物を示すＤＥ−１および
ＤＥ−２は、下記の通りである。
【０１５４】〔ジアミン化合物〕 ＤＡ−１：東レダウコーニング株式会社製の商品名”Ｂ
Ｙ１６−８５３Ｃ”（上述の一般式（４）中のＲ1 およ
びＲ2 がいずれもメチル基でありかつａが４〜８の混合
物。分子量＝７５０） ＤＡ−２：信越化学工業株式会社製の商品名”ＫＦ−１
０５”（上述の一般式（４）中のＲ1 およびＲ2 がいず
れもメチル基でありかつａが８〜１０の混合物。分子量
＝９８０）
Ｙ１６−８５３Ｃ”（上述の一般式（４）中のＲ1 およ
びＲ2 がいずれもメチル基でありかつａが４〜８の混合
物。分子量＝７５０） ＤＡ−２：信越化学工業株式会社製の商品名”ＫＦ−１
０５”（上述の一般式（４）中のＲ1 およびＲ2 がいず
れもメチル基でありかつａが８〜１０の混合物。分子量
＝９８０）
【０１５５】〔アクリル系化合物〕 Ａｃ−１：２−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量
＝１１６） Ａｃ−２：２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子
量＝１３０） Ａｃ−３：４−ヒドロキシブチルアクリレート（分子量
＝１４４） Ａｃ−４：２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロ
イロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（分子量＝３２３） Ａｃ−５：Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルメタクリレート（分子量＝２３９） Ａｃ−６：２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジルメタクリレート（分子量＝２２５）
＝１１６） Ａｃ−２：２−ヒドロキシプロピルアクリレート（分子
量＝１３０） Ａｃ−３：４−ヒドロキシブチルアクリレート（分子量
＝１４４） Ａｃ−４：２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロ
イロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（分子量＝３２３） Ａｃ−５：Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルメタクリレート（分子量＝２３９） Ａｃ−６：２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジルメタクリレート（分子量＝２２５）
【０１５６】〔ジエポキシ化合物〕 ＤＥ−１：ナガセ化成株式会社製の商品名”デナコール
ＥＸ−８１０”（上述の一般式（５）中のＲ3 がエチレ
ン基でありかつｂが１〜３の混合物。分子量＝２２４） ＤＥ−２：ナガセ化成株式会社製の商品名”デナコール
ＥＸ−８２１”（上述の一般式（５）中のＲ3 がエチレ
ン基でありかつｂが約４の混合物。分子量＝３９０）
ＥＸ−８１０”（上述の一般式（５）中のＲ3 がエチレ
ン基でありかつｂが１〜３の混合物。分子量＝２２４） ＤＥ−２：ナガセ化成株式会社製の商品名”デナコール
ＥＸ−８２１”（上述の一般式（５）中のＲ3 がエチレ
ン基でありかつｂが約４の混合物。分子量＝３９０）
【０１５７】以上の結果、一般式（１）中のＵ1 および
Ｕ2 が下記の通りであり、また、Ｕ1 およびＵ2 中のａ
およびｂ、Ｒ4 、Ａ並びにｎが表２（表２−１および表
２−２の総称。以下同じ）に示す通りの構造のブロック
ポリマーが得られた。
Ｕ2 が下記の通りであり、また、Ｕ1 およびＵ2 中のａ
およびｂ、Ｒ4 、Ａ並びにｎが表２（表２−１および表
２−２の総称。以下同じ）に示す通りの構造のブロック
ポリマーが得られた。
【０１５８】
【化６６】
【０１５９】
【表３】
【０１６０】
【表４】
【０１６１】なお、表２において、Ａの種類を示すＡ−
１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５およびＡ−６は、
下記の通りである。
１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５およびＡ−６は、
下記の通りである。
【０１６２】
【化６７】
【０１６３】実施例３３〜６４（一般式（２）で示され
るブロックポリマー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様１の
場合）の製造） 実施例１〜３２において得られた、一般式（１）で示さ
れるブロックポリマーを含む上述の反応液を上述の温度
でさらに１時間保持し、これにジエタノールアミン５．
１重量部とノルマルブタノール１０重量部とを３０分か
けて同時に滴下した。滴下終了後、同温度でさらに１時
間保持したところ、一般式（２）中のＵ1 およびＵ2 、
Ｒ4 、Ａ並びにｎが実施例１〜３２と同じであり、Ｒ10
の全てが”−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ”である構造のブロックポ
リマーが得られた。なお、実施例３３〜６４と実施例１
〜３２との対応関係および各実施例で得られたブロック
ポリマーの設計分子量を表３に示す。
るブロックポリマー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様１の
場合）の製造） 実施例１〜３２において得られた、一般式（１）で示さ
れるブロックポリマーを含む上述の反応液を上述の温度
でさらに１時間保持し、これにジエタノールアミン５．
１重量部とノルマルブタノール１０重量部とを３０分か
けて同時に滴下した。滴下終了後、同温度でさらに１時
間保持したところ、一般式（２）中のＵ1 およびＵ2 、
Ｒ4 、Ａ並びにｎが実施例１〜３２と同じであり、Ｒ10
の全てが”−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ”である構造のブロックポ
リマーが得られた。なお、実施例３３〜６４と実施例１
〜３２との対応関係および各実施例で得られたブロック
ポリマーの設計分子量を表３に示す。
【０１６４】
【表５】
【０１６５】実施例６５〜９６（一般式（１）で示され
るブロックポリマー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様２の
場合）の製造） 表４（表４−１および表４−２を総称する。以下同じ）
に示す通りのジアミン化合物を表１に示す分量と、キシ
レン５０重量部とをフラスコに仕込み、乾燥窒素を吹き
込みながら７０℃に加熱した。そして、表４に示す通り
のアクリル系化合物を表４に示す分量と、ノルマルブタ
ノール２０重量部とを３０分かけて同時に滴下した。
るブロックポリマー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様２の
場合）の製造） 表４（表４−１および表４−２を総称する。以下同じ）
に示す通りのジアミン化合物を表１に示す分量と、キシ
レン５０重量部とをフラスコに仕込み、乾燥窒素を吹き
込みながら７０℃に加熱した。そして、表４に示す通り
のアクリル系化合物を表４に示す分量と、ノルマルブタ
ノール２０重量部とを３０分かけて同時に滴下した。
【０１６６】滴下終了後、上述の温度で１時間保持し、
表４に示す通りのジエポキシ化合物を表４に示す分量
と、キシレン２０重量部とを３０分かけて同時に滴下し
た。
表４に示す通りのジエポキシ化合物を表４に示す分量
と、キシレン２０重量部とを３０分かけて同時に滴下し
た。
【０１６７】
【表６】
【０１６８】
【表７】
【０１６９】表４において、ジアミン化合物を示すＤＡ
−３およびＤＡ−４、並びにジエポキシ化合物を示すＤ
Ｅ−３およびＤＥ−４は、下記の通りである。なお、ア
クリル系化合物を示すＡｃ−１，Ａｃ−２，Ａｃ−３，
Ａｃ−４，Ａｃ−５およびＡｃ−６は、実施例１〜３２
の場合と同様である。
−３およびＤＡ−４、並びにジエポキシ化合物を示すＤ
Ｅ−３およびＤＥ−４は、下記の通りである。なお、ア
クリル系化合物を示すＡｃ−１，Ａｃ−２，Ａｃ−３，
Ａｃ−４，Ａｃ−５およびＡｃ−６は、実施例１〜３２
の場合と同様である。
【０１７０】〔ジアミン化合物〕 ＤＡ−３：川研ファインケミカル株式会社製の商品名”
ＰＥＯアミン＃１０００”（上述の一般式（６）中のＲ
3 がエチレン基でありかつｂが１８〜２４の混合物。分
子量＝１，０００） ＤＡ−４：三洋化成工業株式会社製の商品名”イオネッ
トＹＢ４００”（上述の一般式（６）中のＲ3 がエチレ
ン基でありかつｂが８０〜１００の混合物。分子量＝
４，０００）
ＰＥＯアミン＃１０００”（上述の一般式（６）中のＲ
3 がエチレン基でありかつｂが１８〜２４の混合物。分
子量＝１，０００） ＤＡ−４：三洋化成工業株式会社製の商品名”イオネッ
トＹＢ４００”（上述の一般式（６）中のＲ3 がエチレ
ン基でありかつｂが８０〜１００の混合物。分子量＝
４，０００）
【０１７１】〔ジエポキシ化合物〕 ＤＥ−３：東芝シリコーン株式会社製の商品名”ＴＳＬ
−９９４６”（上述の一般式（７）中のＲ1 およびＲ2
がいずれもメチル基でありかつａが２〜６の混合物。分
子量＝６００） ＤＥ−４：信越化学工業株式会社製の商品名”ＫＦ−１
０５”（上述の一般式（７）中のＲ1 およびＲ2 がいず
れもメチル基でありかつａが６〜１０の混合物。分子量
＝９８０）
−９９４６”（上述の一般式（７）中のＲ1 およびＲ2
がいずれもメチル基でありかつａが２〜６の混合物。分
子量＝６００） ＤＥ−４：信越化学工業株式会社製の商品名”ＫＦ−１
０５”（上述の一般式（７）中のＲ1 およびＲ2 がいず
れもメチル基でありかつａが６〜１０の混合物。分子量
＝９８０）
【０１７２】以上の結果、一般式（１）中のＵ1 および
Ｕ2 が下記の通りであり、また、Ｕ1 およびＵ2 中のａ
およびｂ、Ｒ4 、Ａ並びにｎが表５（表５−１および表
５−２の総称。以下同じ）に示す通りの構造のブロック
ポリマーが得られた。
Ｕ2 が下記の通りであり、また、Ｕ1 およびＵ2 中のａ
およびｂ、Ｒ4 、Ａ並びにｎが表５（表５−１および表
５−２の総称。以下同じ）に示す通りの構造のブロック
ポリマーが得られた。
【０１７３】
【化６８】
【０１７４】
【表８】
【０１７５】
【表９】
【０１７６】なお、表５において、Ａの種類を示すＡ−
１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５およびＡ−６は、
実施例１〜３２の場合と同様である。
１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５およびＡ−６は、
実施例１〜３２の場合と同様である。
【０１７７】実施例９７〜１２８（一般式（２）で示さ
れるブロックポリマー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様２
の場合）の製造） 実施例６５〜９６において得られた、一般式（１）で示
されるブロックポリマーを含む上述の反応液を上述の温
度でさらに１時間保持し、これにジエタノールアミン
３．３重量部とノルマルブタノール１０重量部とを３０
分かけて同時に滴下した。滴下終了後、同温度でさらに
１時間保持したところ、一般式（２）中のＵ1 およびＵ
2 、Ｒ4 、Ａ並びにｎが実施例１〜３２と同じであり、
Ｒ10の全てが”−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ”である構造のブロッ
クポリマーが得られた。なお、実施例９７〜１２８と実
施例６５〜９６との対応関係および各実施例で得られた
ブロックポリマーの設計分子量を表６に示す。
れるブロックポリマー（但し、Ｕ1 およびＵ2 が態様２
の場合）の製造） 実施例６５〜９６において得られた、一般式（１）で示
されるブロックポリマーを含む上述の反応液を上述の温
度でさらに１時間保持し、これにジエタノールアミン
３．３重量部とノルマルブタノール１０重量部とを３０
分かけて同時に滴下した。滴下終了後、同温度でさらに
１時間保持したところ、一般式（２）中のＵ1 およびＵ
2 、Ｒ4 、Ａ並びにｎが実施例１〜３２と同じであり、
Ｒ10の全てが”−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ”である構造のブロッ
クポリマーが得られた。なお、実施例９７〜１２８と実
施例６５〜９６との対応関係および各実施例で得られた
ブロックポリマーの設計分子量を表６に示す。
【０１７８】
【表１０】
【０１７９】
【発明の効果】本発明によれば、少量の使用でコーティ
ング膜に対して各種の表面改質効果を付与するのに有用
な新規なブロックポリマーを実現することができる。
ング膜に対して各種の表面改質効果を付与するのに有用
な新規なブロックポリマーを実現することができる。
【０１８０】本発明に係るブロックポリマーの製造方法
によれば、少量の使用でコーティング膜に対して各種の
表面改質効果を付与するのに有用な新規なブロックポリ
マーを製造することができる。
によれば、少量の使用でコーティング膜に対して各種の
表面改質効果を付与するのに有用な新規なブロックポリ
マーを製造することができる。
Claims (11)
- 【請求項１】下記の一般式（１）で示されるブロックポ
リマー。 【化１】 （式中、 【化２】 ここで、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基である。 【化３】 Ｒ4 は、水素またはメチル基である。ａは１〜１３５、
ｂは２〜２３０およびｃは１〜４のそれぞれ整数であ
る。Ａは、隣接する−ＣＨＲ4 −とカルボニル基を介し
て結合している有機基である。ｎは、１〜１６の整数で
ある。） - 【請求項２】前記一般式（１）中のＡに含まれる有機基
が、非反応性の炭化水素基、水酸基、酸基、アミノ基、
アンモニウム基、シアノ基、ハロゲン原子、アミド結
合、環状エーテル基、アルキレンオキサイドユニット、
アルコキシシリル基、紫外線吸収性基およびテトラメチ
ル−４−ピペリジル基からなる群から選ばれた少なくと
も１つの化学構造部位を含んでいる、請求項１に記載の
ブロックポリマー。 - 【請求項３】下記の一般式（２）で示されるブロックポ
リマー。 【化４】 （式中、 【化５】 ここで、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基である。 【化６】 Ｒ4 は、水素またはメチル基である。ａは１〜１３５、
ｂは２〜２３０およびｃは１〜４のそれぞれ整数であ
る。Ａは、隣接する−ＣＨＲ4 −とカルボニル基を介し
て結合している有機基である。ｎは、１〜１６の整数で
ある。Ｒ10は、炭素数が１〜８でありかつ水酸基を有し
ていてもよいアルキル基である。） - 【請求項４】前記一般式（２）中のＡに含まれる有機基
が、非反応性の炭化水素基、水酸基、酸基、アミノ基、
アンモニウム基、シアノ基、ハロゲン原子、アミド結
合、環状エーテル基、アルキレンオキサイドユニット、
アルコキシシリル基、紫外線吸収性基およびテトラメチ
ル−４−ピペリジル基からなる群から選ばれた少なくと
も１つの化学構造部位を含んでいる、請求項３に記載の
ブロックポリマー。 - 【請求項５】下記の一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し、ポリアルキレンオキサイドユニットおよ
びポリオルガノシロキサンユニットからなる群から選ば
れた一方のユニットを含みかつ両末端にそれぞれ１級ア
ミノ基を有するジアミン化合物をマイケル付加反応させ
て生成物を得る工程と、前記生成物と、前記ジアミン化
合物に含まれる前記一方のユニットとは異なる他方のユ
ニットを含みかつ両末端にそれぞれエポキシ基を有する
ジエポキシ化合物とをさらに反応させる工程と、を含む
ブロックポリマーの製造方法。 【化７】 （式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基である。Ａは、隣
接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合している有機
基である。） - 【請求項６】前記ジアミン化合物に対して前記アクリル
系化合物を１．８〜２．２倍モル用い、かつ前記生成物
のＸモルに対して前記ジエポキシ化合物をＸ＋０．８〜
Ｘ＋１．２モル用いる、請求項５に記載のブロックポリ
マーの製造方法。 - 【請求項７】下記の一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し、ポリアルキレンオキサイドユニットおよ
びポリオルガノシロキサンユニットからなる群から選ば
れた一方のユニットを含みかつ両末端にそれぞれ１級ア
ミノ基を有するジアミン化合物をマイケル付加反応させ
て生成物を得る工程と、 前記生成物と、前記ジアミン化合物に含まれる前記一方
のユニットとは異なる他方のユニットを含みかつ両末端
にそれぞれエポキシ基を有するジエポキシ化合物とをさ
らに反応させて両末端にエポキシ基を有するブロックポ
リマーを得る工程と、 前記ブロックポリマーの両末端の前記エポキシ基に対し
て２級アミン化合物を反応させる工程と、を含むブロッ
クポリマーの製造方法。 【化８】 （式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基である。Ａは、隣
接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合している有機
基である。） - 【請求項８】下記の一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し下記の一般式（４）で示されるジアミン化
合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、 前記生成物と下記の一般式（５）で示されるジエポキシ
化合物とをさらに反応させる工程と、を含むブロックポ
リマーの製造方法。 【化９】 （式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基である。Ａは、隣
接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合している有機
基である。） 【化１０】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整数であ
る。） 【化１１】 （式中、 【化１２】 ｂは、２〜２３０の整数である。） - 【請求項９】下記の一般式（３）で示されるアクリル系
化合物に対し下記の一般式（６）で示されるジアミン化
合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、 前記生成物と下記の一般式（７）で示されるジエポキシ
化合物をさらに反応させる工程と、を含むブロックポリ
マーの製造方法。 【化１３】 （式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基である。Ａは、隣
接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合している有機
基である。） 【化１４】 （式中、 【化１５】 ｂは、２〜２３０の整数である。） 【化１６】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整数であ
る。） - 【請求項１０】下記の一般式（３）で示されるアクリル
系化合物に対し下記の一般式（４）で示されるジアミン
化合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、 前記生成物と下記の一般式（５）で示されるジエポキシ
化合物とをさらに反応させて、両末端にエポキシ基を有
するブロックポリマーを得る工程と、 前記ブロックポリマーの両末端の前記エポキシ基に対し
て２級アミン化合物を反応させる工程と、を含むブロッ
クポリマーの製造方法。 【化１７】 （式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基である。Ａは、隣
接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合している有機
基である。） 【化１８】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整数であ
る。） 【化１９】 （式中、 【化２０】 ｂは、２〜２３０の整数である。） - 【請求項１１】下記の一般式（３）で示されるアクリル
系化合物に対し下記の一般式（６）で示されるジアミン
化合物をマイケル付加反応させて生成物を得る工程と、 前記生成物と下記の一般式（７）で示されるジエポキシ
化合物とをさらに反応させて、両末端にエポキシ基を有
するブロックポリマーを得る工程と、 前記ブロックポリマーの両末端の前記エポキシ基に対し
て２級アミン化合物を反応させる工程と、を含むブロッ
クポリマーの製造方法。 【化２１】 （式中、Ｒ4 は、水素またはメチル基である。Ａは、隣
接するＣＲ4 とカルボニル基を介して結合している有機
基である。） 【化２２】 （式中、 【化２３】 ｂは、２〜２３０の整数である。） 【化２４】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は、炭素数１〜８のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９
のアラルキル基である。ａは１〜１３５の整数であ
る。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35768196A JP3656971B2 (ja) | 1996-12-29 | 1996-12-29 | ブロックポリマーおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35768196A JP3656971B2 (ja) | 1996-12-29 | 1996-12-29 | ブロックポリマーおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10195202A true JPH10195202A (ja) | 1998-07-28 |
| JP3656971B2 JP3656971B2 (ja) | 2005-06-08 |
Family
ID=18455368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35768196A Expired - Lifetime JP3656971B2 (ja) | 1996-12-29 | 1996-12-29 | ブロックポリマーおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3656971B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007015294A1 (ja) | 2005-08-03 | 2007-02-08 | Nippon Paint Marine Coatings Co., Ltd. | 水性塗料組成物及び塗装鋼板 |
| JP2010222511A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Kansai Paint Co Ltd | マイケル付加反応生成物及びこの反応生成物を用いた水性樹脂組成物 |
| WO2020003971A1 (ja) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | 信越化学工業株式会社 | シリコーン組成物及びそれを用いた繊維処理剤 |
| CN111819222A (zh) * | 2018-11-20 | 2020-10-23 | 瓦克化学股份公司 | 一种嵌段改性聚硅氧烷及其组合物 |
-
1996
- 1996-12-29 JP JP35768196A patent/JP3656971B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007015294A1 (ja) | 2005-08-03 | 2007-02-08 | Nippon Paint Marine Coatings Co., Ltd. | 水性塗料組成物及び塗装鋼板 |
| JPWO2007015294A1 (ja) * | 2005-08-03 | 2009-02-19 | 日本ペイントマリン株式会社 | 水性塗料組成物 |
| KR100967331B1 (ko) * | 2005-08-03 | 2010-07-05 | 닛뽄 페인트 마린 가부시키가이샤 | 수성 도료 조성물 |
| JP4540711B2 (ja) * | 2005-08-03 | 2010-09-08 | 日本ペイントマリン株式会社 | 水性塗料組成物及び塗装鋼板 |
| JP2010222511A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Kansai Paint Co Ltd | マイケル付加反応生成物及びこの反応生成物を用いた水性樹脂組成物 |
| WO2020003971A1 (ja) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | 信越化学工業株式会社 | シリコーン組成物及びそれを用いた繊維処理剤 |
| CN111819222A (zh) * | 2018-11-20 | 2020-10-23 | 瓦克化学股份公司 | 一种嵌段改性聚硅氧烷及其组合物 |
| EP3790923A4 (en) * | 2018-11-20 | 2021-08-18 | Wacker Chemie AG | BLOCK MODIFIED POLYSILOXANE AND COMPOSITIONS PRODUCED THEREOF |
| CN111819222B (zh) * | 2018-11-20 | 2022-05-31 | 瓦克化学股份公司 | 一种嵌段改性聚硅氧烷及其组合物 |
| US11746193B2 (en) | 2018-11-20 | 2023-09-05 | Wacker Chemie Ag | Block-modified polysiloxanes and compositions formed thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3656971B2 (ja) | 2005-06-08 |
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