JPH1019652A - 電子天びん - Google Patents
電子天びんInfo
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- JPH1019652A JPH1019652A JP16786596A JP16786596A JPH1019652A JP H1019652 A JPH1019652 A JP H1019652A JP 16786596 A JP16786596 A JP 16786596A JP 16786596 A JP16786596 A JP 16786596A JP H1019652 A JPH1019652 A JP H1019652A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 2つの内蔵分銅とその加除機構を備えた電子
天びんにおいて、偏置誤差が生じても正確な較正を行う
ことのできる電子天びんを提供する。 【解決手段】 2つの内蔵分銅41,42のそれぞれ
を、皿1の中心を通る鉛直軸Cv上においてロバーバル
機構の可動柱21に負荷する構成を採用することによ
り、各内蔵分銅41,42の一方または双方の負荷状態
における荷重を、皿1の中心軸上に作用させ、偏置誤差
の影響を受けることなくスパン並びにリニアリティ較正
を行うことを可能とする。
天びんにおいて、偏置誤差が生じても正確な較正を行う
ことのできる電子天びんを提供する。 【解決手段】 2つの内蔵分銅41,42のそれぞれ
を、皿1の中心を通る鉛直軸Cv上においてロバーバル
機構の可動柱21に負荷する構成を採用することによ
り、各内蔵分銅41,42の一方または双方の負荷状態
における荷重を、皿1の中心軸上に作用させ、偏置誤差
の影響を受けることなくスパン並びにリニアリティ較正
を行うことを可能とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子天びんに関し、
更に詳しくは、ロバーバル機構および内蔵分銅並びにそ
の加除機構を備えた電子天びんに関する。
更に詳しくは、ロバーバル機構および内蔵分銅並びにそ
の加除機構を備えた電子天びんに関する。
【0002】
【従来の技術】電子天びんにおいては、一般に、皿をロ
バーバル機構ないしはパラレルガイドと称される機構に
よって支承することにより、その変位の方向を鉛直方向
に規制するとともに、皿に対する偏置荷重による誤差、
つまり偏置誤差(四隅誤差)を解消するように考慮され
ている。ロバーバル機構は、天びんベース等に固定され
る固定柱に、互いに平行な上下の梁を介して可動柱を支
承した機構であり、その可動柱に皿が支承され、また、
その可動柱が荷重感応部に連結される。
バーバル機構ないしはパラレルガイドと称される機構に
よって支承することにより、その変位の方向を鉛直方向
に規制するとともに、皿に対する偏置荷重による誤差、
つまり偏置誤差(四隅誤差)を解消するように考慮され
ている。ロバーバル機構は、天びんベース等に固定され
る固定柱に、互いに平行な上下の梁を介して可動柱を支
承した機構であり、その可動柱に皿が支承され、また、
その可動柱が荷重感応部に連結される。
【0003】また、このような電子天びんにおいて、較
正用の既知質量の分銅を内蔵するとともに、その分銅の
加除機構を備えたものがある。この較正用の内蔵分銅
は、スパン較正およびリニアリティ較正の双方を可能と
するためには2つ必要であり、通常、それぞれが質量既
知で、互いに略等しい質量を持ち、かつ、その合計質量
が天びんひょう量の近傍の質量となるような分銅が内蔵
される。そして、スパン較正時には2つの分銅が同時に
可動柱に負荷され、その状態での荷重データとこれらの
合計質量値とからスパン係数が算出されるとともに、リ
ニアリティ較正時には、一方の分銅の負荷状態における
荷重データとその分銅質量値、および2つの分銅の負荷
状態における荷重データとその合計質量値とから、リニ
アリティ補正係数が算出される。
正用の既知質量の分銅を内蔵するとともに、その分銅の
加除機構を備えたものがある。この較正用の内蔵分銅
は、スパン較正およびリニアリティ較正の双方を可能と
するためには2つ必要であり、通常、それぞれが質量既
知で、互いに略等しい質量を持ち、かつ、その合計質量
が天びんひょう量の近傍の質量となるような分銅が内蔵
される。そして、スパン較正時には2つの分銅が同時に
可動柱に負荷され、その状態での荷重データとこれらの
合計質量値とからスパン係数が算出されるとともに、リ
ニアリティ較正時には、一方の分銅の負荷状態における
荷重データとその分銅質量値、および2つの分銅の負荷
状態における荷重データとその合計質量値とから、リニ
アリティ補正係数が算出される。
【0004】このような2つの内蔵分銅を持つ電子天び
んにおいては、従来、各分銅は、例えば可動柱の左右両
側等、互いに水平方向に所定の距離だけ離れた位置にお
いて可動柱に負荷されるように構成されている。
んにおいては、従来、各分銅は、例えば可動柱の左右両
側等、互いに水平方向に所定の距離だけ離れた位置にお
いて可動柱に負荷されるように構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ロバーバル
機構は、上下の梁が水平である場合に偏置誤差を解消す
ることができるものであり、その調整は天びんの製造工
程において、皿上への荷重の負荷位置を変更しつつ厳密
に行われる。
機構は、上下の梁が水平である場合に偏置誤差を解消す
ることができるものであり、その調整は天びんの製造工
程において、皿上への荷重の負荷位置を変更しつつ厳密
に行われる。
【0006】しかし、このような偏置誤差の調整を厳密
に行った後においても、例えば天びん機構内部の温度分
布等に起因して、僅かではあるが偏置誤差が生じること
がある。このような偏置誤差が生じた場合、2つの内蔵
分銅を備えた従来の電子天びんでは、正確な較正を行う
ことができないという問題がある。
に行った後においても、例えば天びん機構内部の温度分
布等に起因して、僅かではあるが偏置誤差が生じること
がある。このような偏置誤差が生じた場合、2つの内蔵
分銅を備えた従来の電子天びんでは、正確な較正を行う
ことができないという問題がある。
【0007】すなわち、2つの内蔵分銅とその加除機構
を備えた従来の電子天びんにおいては、前記したよう
に、2つの内蔵分銅は水平方向に互いに所定の距離だけ
離れた位置で可動柱に対して負荷されるため、2つの分
銅の負荷位置が皿の中心軸を挟んで水平方向に互いに等
距離であり、かつ、これら2つの分銅の質量が互いに等
しいという条件のもとに、2つの分銅の負荷状態におい
てその合計質量の重心が皿の中心軸上に位置するが故に
偏置誤差の影響は受けないものの、このような条件が揃
っていても、リニアリティ較正時における片方の分銅の
みの負荷状態では常に偏置誤差の影響を受けることにな
る。また、2つの分銅の質量が相違したり、あるいは2
つの分銅の負荷位置の皿の中心軸からの距離が互いに異
なる場合には、両方の分銅を負荷した状態でも偏置誤差
の影響を受ける。このような偏置誤差の影響を受けた荷
重データを元に、リニアリティ較正およびスパン較正を
行ってしまうと、当然のことながら正しい較正を行うこ
とができず、較正後の測定結果の全てに誤差が含まれる
結果となる。
を備えた従来の電子天びんにおいては、前記したよう
に、2つの内蔵分銅は水平方向に互いに所定の距離だけ
離れた位置で可動柱に対して負荷されるため、2つの分
銅の負荷位置が皿の中心軸を挟んで水平方向に互いに等
距離であり、かつ、これら2つの分銅の質量が互いに等
しいという条件のもとに、2つの分銅の負荷状態におい
てその合計質量の重心が皿の中心軸上に位置するが故に
偏置誤差の影響は受けないものの、このような条件が揃
っていても、リニアリティ較正時における片方の分銅の
みの負荷状態では常に偏置誤差の影響を受けることにな
る。また、2つの分銅の質量が相違したり、あるいは2
つの分銅の負荷位置の皿の中心軸からの距離が互いに異
なる場合には、両方の分銅を負荷した状態でも偏置誤差
の影響を受ける。このような偏置誤差の影響を受けた荷
重データを元に、リニアリティ較正およびスパン較正を
行ってしまうと、当然のことながら正しい較正を行うこ
とができず、較正後の測定結果の全てに誤差が含まれる
結果となる。
【0008】本発明はこのような実情に鑑みてなされた
もので、2つの内蔵分銅とその加除機構を備えた電子天
びんにおいて、天びん機構内部の温度分布等に起因して
偏置誤差が生じても、常に正確なスパン較正並びにリニ
アリティ較正を行うことのできる電子天びんの提供を目
的としている。
もので、2つの内蔵分銅とその加除機構を備えた電子天
びんにおいて、天びん機構内部の温度分布等に起因して
偏置誤差が生じても、常に正確なスパン較正並びにリニ
アリティ較正を行うことのできる電子天びんの提供を目
的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの構成を、実施の形態を表す図1,図2を参照しつつ
説明すると、本発明の電子天びんは、皿1がロバーバル
機構2で支承され、かつ、そのロバーバル機構2の可動
柱21が荷重感応部3に連結されるとともに、リニアリ
ティおよびスパン較正用として2つの内蔵分銅41,4
2と、これらの内蔵分銅41,42の一方または両方を
可動柱21に対して負荷/負荷解除する分銅加除機構5
を備えた電子天びんにおいて、2つの内蔵分銅41,4
2の可動柱21への負荷位置が、それぞれ皿1の中心を
通る鉛直軸Cv上であることによって特徴づけられる。
めの構成を、実施の形態を表す図1,図2を参照しつつ
説明すると、本発明の電子天びんは、皿1がロバーバル
機構2で支承され、かつ、そのロバーバル機構2の可動
柱21が荷重感応部3に連結されるとともに、リニアリ
ティおよびスパン較正用として2つの内蔵分銅41,4
2と、これらの内蔵分銅41,42の一方または両方を
可動柱21に対して負荷/負荷解除する分銅加除機構5
を備えた電子天びんにおいて、2つの内蔵分銅41,4
2の可動柱21への負荷位置が、それぞれ皿1の中心を
通る鉛直軸Cv上であることによって特徴づけられる。
【0010】2つの内蔵分銅41,42は、それぞれに
皿1の中心線上において互いに上下の位置関係のもとに
可動柱21に負荷されることになり、互いの質量がある
程度異なっていても、その両方または片方を負荷したい
ずれの状態においても、常にその荷重は皿1の中心線上
に作用する。従って、電子天びんに何らかの理由で偏置
誤差が生じていても、スパン較正時およびリニアリティ
較正時における内蔵分銅負荷時の荷重データにはその偏
置誤差の影響は及ばない。
皿1の中心線上において互いに上下の位置関係のもとに
可動柱21に負荷されることになり、互いの質量がある
程度異なっていても、その両方または片方を負荷したい
ずれの状態においても、常にその荷重は皿1の中心線上
に作用する。従って、電子天びんに何らかの理由で偏置
誤差が生じていても、スパン較正時およびリニアリティ
較正時における内蔵分銅負荷時の荷重データにはその偏
置誤差の影響は及ばない。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施の形態の模式
的な全体構成図で、内蔵分銅41,42の可動柱21へ
の負荷位置を明確にすべく分銅加除機構5を取り除いた
状態で示す図である。
的な全体構成図で、内蔵分銅41,42の可動柱21へ
の負荷位置を明確にすべく分銅加除機構5を取り除いた
状態で示す図である。
【0012】試料を載せるための皿1は、皿受け軸11
を介してロバーバル機構2の可動柱21に支承されてい
る。ロバーバル機構2は、互いに平行で、かつ、それぞ
れの両端部に可撓部eを備えた上下の梁22,23によ
り、可動柱21と固定柱24とを連結した構造を持ち、
可動柱21は連結部材31aを介してレバー31の一端
に連結されている。
を介してロバーバル機構2の可動柱21に支承されてい
る。ロバーバル機構2は、互いに平行で、かつ、それぞ
れの両端部に可撓部eを備えた上下の梁22,23によ
り、可動柱21と固定柱24とを連結した構造を持ち、
可動柱21は連結部材31aを介してレバー31の一端
に連結されている。
【0013】レバー31は弾性支点31bによって回動
自在に支承されており、その他端の変位は変位センサ3
2によって検出される。また、レバー31には電磁力発
生装置33のフォースコイル33aが固着されている。
電磁力発生装置33は、永久磁石を主体とする磁気回路
33bとそれが作る静磁場中に変位自在に配置されたフ
ォースコイル33aによって構成されている。そして、
これらレバー31,変位センサ32,および電磁力発生
装置33が荷重感応部3を構成している。すなわち、皿
1に作用する荷重は可動柱21を介してレバー31に伝
達されるが、そのレバー31の変位が変位センサ32で
検出され、その変位検出結果が常に零となるように電磁
力発生装置33のフォースコイル33aに流れる電流が
制御され、その電流の大きさから皿1に対する荷重の大
きさが検出される。
自在に支承されており、その他端の変位は変位センサ3
2によって検出される。また、レバー31には電磁力発
生装置33のフォースコイル33aが固着されている。
電磁力発生装置33は、永久磁石を主体とする磁気回路
33bとそれが作る静磁場中に変位自在に配置されたフ
ォースコイル33aによって構成されている。そして、
これらレバー31,変位センサ32,および電磁力発生
装置33が荷重感応部3を構成している。すなわち、皿
1に作用する荷重は可動柱21を介してレバー31に伝
達されるが、そのレバー31の変位が変位センサ32で
検出され、その変位検出結果が常に零となるように電磁
力発生装置33のフォースコイル33aに流れる電流が
制御され、その電流の大きさから皿1に対する荷重の大
きさが検出される。
【0014】さて、この例においては、皿受け軸11は
クランク状に屈曲しており、その上端部に支承された皿
1は、可動柱21に対して外側、つまり固定柱24と反
対側に持ち出された状態となっている。これにより、皿
1の中心を通る鉛直軸Cvは可動柱21の外側を通るこ
とになり、その鉛直軸Cv上に、2つの内蔵分銅41と
42がそれぞれ可動柱21に対して負荷される。すなわ
ち、可動柱21の側面に上下2つの分銅受け211,2
12が鉛直軸Cvを横切るように突出形成されており、
この各分銅受け211,212に内蔵分銅41,42が
それぞれ負荷される。
クランク状に屈曲しており、その上端部に支承された皿
1は、可動柱21に対して外側、つまり固定柱24と反
対側に持ち出された状態となっている。これにより、皿
1の中心を通る鉛直軸Cvは可動柱21の外側を通るこ
とになり、その鉛直軸Cv上に、2つの内蔵分銅41と
42がそれぞれ可動柱21に対して負荷される。すなわ
ち、可動柱21の側面に上下2つの分銅受け211,2
12が鉛直軸Cvを横切るように突出形成されており、
この各分銅受け211,212に内蔵分銅41,42が
それぞれ負荷される。
【0015】この各内蔵分銅41,42は、分銅加除機
構5によって各分銅受け211,212に対して個別に
負荷または負荷解除され、2つの内蔵分銅41,42が
いずれも負荷されない状態と、一方の内蔵分銅42のみ
が負荷される状態、および双方の内蔵分銅41,42が
負荷される状態の3つの状態を取ることが可能となって
いる。
構5によって各分銅受け211,212に対して個別に
負荷または負荷解除され、2つの内蔵分銅41,42が
いずれも負荷されない状態と、一方の内蔵分銅42のみ
が負荷される状態、および双方の内蔵分銅41,42が
負荷される状態の3つの状態を取ることが可能となって
いる。
【0016】図2は分銅加除機構5の詳細構造の説明図
で、図1にA−Aで表される面で切断した断面図を示し
ている。なお、この図2では、一方の内蔵分銅42のみ
の負荷状態を示している。
で、図1にA−Aで表される面で切断した断面図を示し
ている。なお、この図2では、一方の内蔵分銅42のみ
の負荷状態を示している。
【0017】この図2に示すように、分銅加除機構5
は、枠体51と、その枠体51に形成されたガイド部5
1a,51bによって上下方向に変位自在にガイドされ
た第1の分銅持ち上げ軸52と、同じく枠体51に形成
されたガイド部51cによって上下方向に変位自在にガ
イドされた第2の分銅持ち上げ軸53、各分銅持ち上げ
軸52,53を上下動させるための端面カム54、およ
びその端面カム54を回動させるためのモータ55等に
よって構成されている。
は、枠体51と、その枠体51に形成されたガイド部5
1a,51bによって上下方向に変位自在にガイドされ
た第1の分銅持ち上げ軸52と、同じく枠体51に形成
されたガイド部51cによって上下方向に変位自在にガ
イドされた第2の分銅持ち上げ軸53、各分銅持ち上げ
軸52,53を上下動させるための端面カム54、およ
びその端面カム54を回動させるためのモータ55等に
よって構成されている。
【0018】端面カム54は、図3に平面図で示すよう
に、円板54aの上面にその回転中心と同心のピッチ円
Pに沿って3つの突起部54b,54cおよび54dが
形成されたもので、そのピッチ円P上に第1および第2
の分銅持ち上げ軸52および53の下端が当接するよう
になっている。従って、この端面カム54を回動位置に
応じて、図3(A)の回動位置では双方の分銅持ち上げ
軸52,53が上方に移動し、同図(B)の位置では一
方の分銅持ち上げ軸52のみが上方に移動し、同図
(C)の位置では各分銅持ち上げ軸52,53がいずれ
も下方に位置した状態となる。
に、円板54aの上面にその回転中心と同心のピッチ円
Pに沿って3つの突起部54b,54cおよび54dが
形成されたもので、そのピッチ円P上に第1および第2
の分銅持ち上げ軸52および53の下端が当接するよう
になっている。従って、この端面カム54を回動位置に
応じて、図3(A)の回動位置では双方の分銅持ち上げ
軸52,53が上方に移動し、同図(B)の位置では一
方の分銅持ち上げ軸52のみが上方に移動し、同図
(C)の位置では各分銅持ち上げ軸52,53がいずれ
も下方に位置した状態となる。
【0019】可動柱21の側面に突出形成された各分銅
受け211,212はそれぞれ枠体51の内部に挿入さ
れており、各内蔵分銅41および42は、それぞれ、モ
ータ55の駆動による端面カム54の回動に伴う第1お
よび第2の分銅持ち上げ軸52および53の上下動によ
って、鉛直軸Cv上で分銅受け211,212上に載せ
られた状態か、あるいは各分銅持ち上げ軸52,53に
よって持ち上げられた状態のいずれかとなる。
受け211,212はそれぞれ枠体51の内部に挿入さ
れており、各内蔵分銅41および42は、それぞれ、モ
ータ55の駆動による端面カム54の回動に伴う第1お
よび第2の分銅持ち上げ軸52および53の上下動によ
って、鉛直軸Cv上で分銅受け211,212上に載せ
られた状態か、あるいは各分銅持ち上げ軸52,53に
よって持ち上げられた状態のいずれかとなる。
【0020】すなわち、各分銅持ち上げ軸52,53に
は内蔵分銅41,42を持ち上げるための持ち上げ部材
52a,53aが装着されており、各分銅受け211,
212にはその持ち上げ部材52a,53aを貫通させ
得る貫通孔211a,212bが形成されている。各分
銅持ち上げ軸52,53が上方に移動した状態では、内
蔵分銅41,42は持ち上げ部材52a,53aと、枠
体51に設けられた分銅当たり51d,51eの間に挟
み込まれた状態となり、この状態では各内蔵分銅41,
42および分銅持ち上げ軸52,53はいずれも分銅受
け211,212に対して非接触の状態となる。一方、
分銅持ち上げ軸52,53が下方に位置する状態では、
内蔵分銅41,42は自重により鉛直軸Cv上で分銅受
け211,212の上に載った状態となり、また、この
状態においても分銅持ち上げ軸52,53は分銅受け2
11,212には非接触の状態が保たれる。
は内蔵分銅41,42を持ち上げるための持ち上げ部材
52a,53aが装着されており、各分銅受け211,
212にはその持ち上げ部材52a,53aを貫通させ
得る貫通孔211a,212bが形成されている。各分
銅持ち上げ軸52,53が上方に移動した状態では、内
蔵分銅41,42は持ち上げ部材52a,53aと、枠
体51に設けられた分銅当たり51d,51eの間に挟
み込まれた状態となり、この状態では各内蔵分銅41,
42および分銅持ち上げ軸52,53はいずれも分銅受
け211,212に対して非接触の状態となる。一方、
分銅持ち上げ軸52,53が下方に位置する状態では、
内蔵分銅41,42は自重により鉛直軸Cv上で分銅受
け211,212の上に載った状態となり、また、この
状態においても分銅持ち上げ軸52,53は分銅受け2
11,212には非接触の状態が保たれる。
【0021】以上の本発明の実施の形態において、各内
蔵分銅41,42は、いずれも皿1の中心を通る鉛直軸
Cv上において分銅受け211,212を介して可動柱
21に負荷されるため、各内蔵分銅41,42の質量が
一致していなくても、双方の内蔵分銅41,42の負荷
状態、および、一方の内蔵分銅42の負荷状態のいずれ
においても、その荷重は皿1の中心軸上に作用し、偏置
誤差の影響を受けることがない。よってこの実施の形態
においては、何らかの原因で偏置誤差が生じていても、
その影響を受けることなく、正確なスパン較正並びにリ
ニアリティ較正が可能となる。
蔵分銅41,42は、いずれも皿1の中心を通る鉛直軸
Cv上において分銅受け211,212を介して可動柱
21に負荷されるため、各内蔵分銅41,42の質量が
一致していなくても、双方の内蔵分銅41,42の負荷
状態、および、一方の内蔵分銅42の負荷状態のいずれ
においても、その荷重は皿1の中心軸上に作用し、偏置
誤差の影響を受けることがない。よってこの実施の形態
においては、何らかの原因で偏置誤差が生じていても、
その影響を受けることなく、正確なスパン較正並びにリ
ニアリティ較正が可能となる。
【0022】なお、以上の実施の形態では、皿1の中心
を通る鉛直線Cv上において各内蔵分銅41,42を可
動柱21に負荷すべく、皿受け軸1aをクランク状に屈
曲させた例を示したが、本発明はこれに限られることな
く、例えば可動柱21の中心軸上に皿1を支承するとと
もに、その可動柱21の中心部分を空洞とし、その空洞
部分に各内蔵分銅41,42の分銅受けを設けることに
よって、皿受け軸を屈曲させることなく、皿1の中心を
通る鉛直軸Cv上に各内蔵分銅を負荷することが可能と
なる。
を通る鉛直線Cv上において各内蔵分銅41,42を可
動柱21に負荷すべく、皿受け軸1aをクランク状に屈
曲させた例を示したが、本発明はこれに限られることな
く、例えば可動柱21の中心軸上に皿1を支承するとと
もに、その可動柱21の中心部分を空洞とし、その空洞
部分に各内蔵分銅41,42の分銅受けを設けることに
よって、皿受け軸を屈曲させることなく、皿1の中心を
通る鉛直軸Cv上に各内蔵分銅を負荷することが可能と
なる。
【0023】また、各内蔵分銅の加除機構は、上記した
例に限られることなく、皿を通る鉛直軸上において各内
蔵分銅を負荷し得る機構であれば、他の公知の任意の機
構を採用し得ることは言うまでもない。
例に限られることなく、皿を通る鉛直軸上において各内
蔵分銅を負荷し得る機構であれば、他の公知の任意の機
構を採用し得ることは言うまでもない。
【0024】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、スパン
並びにリニアリティ較正用の2つの内蔵分銅が、それぞ
れ皿の中心を通る鉛直軸上において可動柱に負荷される
から、天びん機構の温度分布等の何らかの原因によって
偏置誤差が生じている状態で較正動作を行っても、各内
蔵分銅の荷重はそれぞれ独立的に皿の中心軸上に作用す
るため、偏置誤差の影響を受けることなく、常に正確な
較正を行うことが可能となった。
並びにリニアリティ較正用の2つの内蔵分銅が、それぞ
れ皿の中心を通る鉛直軸上において可動柱に負荷される
から、天びん機構の温度分布等の何らかの原因によって
偏置誤差が生じている状態で較正動作を行っても、各内
蔵分銅の荷重はそれぞれ独立的に皿の中心軸上に作用す
るため、偏置誤差の影響を受けることなく、常に正確な
較正を行うことが可能となった。
【図1】本発明の実施の形態の模式的な全体構成図で、
内蔵分銅41,42の可動柱21への負荷位置を明確に
すべく分銅加除機構5を取り除いた状態で示す図
内蔵分銅41,42の可動柱21への負荷位置を明確に
すべく分銅加除機構5を取り除いた状態で示す図
【図2】図1においてA−Aで表される面で切断した断
面図で示す分銅加除機構5の詳細構造の説明図
面図で示す分銅加除機構5の詳細構造の説明図
【図3】平面図で示す端面カム54の作用説明図
1 皿 1a 皿受け軸 2 ロバーバル機構 21 可動柱 211,212 分銅受け 3 荷重感応部 31 レバー 32 変位センサ 33 電磁力発生装置 41,42 内蔵分銅 5 分銅加除機構 51 枠体 52 第1の分銅持ち上げ軸 53 第2の分銅持ち上げ軸 54 端面カム 54a,54b,54c 突起部 55 モータ
Claims (1)
- 【請求項1】 皿がロバーバル機構で支承され、かつ、
そのロバーバル機構の可動柱が荷重感応部に連結される
とともに、リニアリティおよびスパン較正用として2つ
の内蔵分銅と、これらの内蔵分銅の一方または両方を上
記可動柱に対して負荷/負荷解除する分銅加除機構を備
えた電子天びんにおいて、上記2つの内蔵分銅の上記可
動柱への負荷位置が、それぞれ皿の中心を通る鉛直軸上
であることを特徴とする電子天びん。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16786596A JPH1019652A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 電子天びん |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16786596A JPH1019652A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 電子天びん |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1019652A true JPH1019652A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=15857525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16786596A Pending JPH1019652A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 電子天びん |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1019652A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1098177A3 (en) * | 1999-11-05 | 2002-01-16 | Secretary of Agency of Industrial Science and Technology | Automatic submultiple and multiple test weight calibration apparatus |
| US8162635B2 (en) | 2005-10-25 | 2012-04-24 | Nitto Kohki Co., Ltd. | Low vibration pump |
| DE10157804B4 (de) * | 2001-11-27 | 2014-04-24 | Mettler-Toledo Ag | Gewichtssatz für eine elektronische Waage |
| JP2017058220A (ja) * | 2015-09-16 | 2017-03-23 | 株式会社島津製作所 | 電子天秤 |
-
1996
- 1996-06-27 JP JP16786596A patent/JPH1019652A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1098177A3 (en) * | 1999-11-05 | 2002-01-16 | Secretary of Agency of Industrial Science and Technology | Automatic submultiple and multiple test weight calibration apparatus |
| DE10157804B4 (de) * | 2001-11-27 | 2014-04-24 | Mettler-Toledo Ag | Gewichtssatz für eine elektronische Waage |
| US8162635B2 (en) | 2005-10-25 | 2012-04-24 | Nitto Kohki Co., Ltd. | Low vibration pump |
| JP2017058220A (ja) * | 2015-09-16 | 2017-03-23 | 株式会社島津製作所 | 電子天秤 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040527 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040817 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041012 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041116 |