JPH10197872A - 液晶表示素子の配向膜の配向処理方法 - Google Patents
液晶表示素子の配向膜の配向処理方法Info
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- JPH10197872A JPH10197872A JP9327643A JP32764397A JPH10197872A JP H10197872 A JPH10197872 A JP H10197872A JP 9327643 A JP9327643 A JP 9327643A JP 32764397 A JP32764397 A JP 32764397A JP H10197872 A JPH10197872 A JP H10197872A
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- alignment
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 工程の清潔性を保ち、かつ実施しやすい配向
膜の配向処理方法を提供する。 【解決手段】 基板上に光配向性ポリマーよりなる配向
膜を形成する段階と、光を多方向に放出させる光屈折手
段を用いて前記基板であって前記配向膜を備える面に光
を照射する段階とを含む。これにより、ただ１回の光照
射で配向膜を配向させうるので、従来の場合に比べて製
造工程が単純化でき、生産性が向上する。
膜の配向処理方法を提供する。 【解決手段】 基板上に光配向性ポリマーよりなる配向
膜を形成する段階と、光を多方向に放出させる光屈折手
段を用いて前記基板であって前記配向膜を備える面に光
を照射する段階とを含む。これにより、ただ１回の光照
射で配向膜を配向させうるので、従来の場合に比べて製
造工程が単純化でき、生産性が向上する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子の配向
膜の配向処理方法に係り、特に工程の清潔性を保ち、か
つ実施しやすい配向膜の配向処理方法に関する。
膜の配向処理方法に係り、特に工程の清潔性を保ち、か
つ実施しやすい配向膜の配向処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常の液晶表示素子は次のような構造を
有する。
有する。
【０００３】所定の間隔に離隔されて対向している上、
下基板上には透明電極層が形成されおり、この透明電極
層の上部には液晶の配向のための配向膜(alignment la
yer）が形成されている。そして、前記上、下基板上の
配向膜の間には液晶層が形成されている。
下基板上には透明電極層が形成されおり、この透明電極
層の上部には液晶の配向のための配向膜(alignment la
yer）が形成されている。そして、前記上、下基板上の
配向膜の間には液晶層が形成されている。
【０００４】前述したような液晶表示素子において、液
晶の配列は外部の電圧印加の可否により変化し、このよ
うな液晶の配列変化により液晶表示素子に流入する外部
の光が遮断及び透過される。即ち、前記透明電極層に電
圧が印加されれば液晶層に電界が形成される。その結
果、液晶は一定方向に配向し、液晶の配向の可否により
表示素子の液晶の内部に流入する光が遮断または透過さ
れてディスプレースクリーン膜にイメージが具現される
ことになる。
晶の配列は外部の電圧印加の可否により変化し、このよ
うな液晶の配列変化により液晶表示素子に流入する外部
の光が遮断及び透過される。即ち、前記透明電極層に電
圧が印加されれば液晶層に電界が形成される。その結
果、液晶は一定方向に配向し、液晶の配向の可否により
表示素子の液晶の内部に流入する光が遮断または透過さ
れてディスプレースクリーン膜にイメージが具現される
ことになる。
【０００５】このような液晶表示素子は液晶分子の配列
特性に応じて光透過性、応答速度、視野角、コントラス
トのような特性が決定づけられる。従って、液晶分子の
配向を均一に制御するのは非常に重要である。
特性に応じて光透過性、応答速度、視野角、コントラス
トのような特性が決定づけられる。従って、液晶分子の
配向を均一に制御するのは非常に重要である。
【０００６】液晶の均一な配向状態は単純に液晶を上、
下基板間に介在させるのみでは得にくい。従って、前述
した液晶表示素子の構造から分かるように透明電極層の
上部に配向膜を形成することになる。
下基板間に介在させるのみでは得にくい。従って、前述
した液晶表示素子の構造から分かるように透明電極層の
上部に配向膜を形成することになる。
【０００７】一般的に配向膜は、その製造工程中の最後
の段階で配向処理されることにより液晶分子を配向させ
る機能を有することになる。このような配向処理方法と
してはラビング方法が多用されてきた。即ち、基板上に
高分子よりなる配向膜を形成した後、前記配向膜を特殊
形態の布でラビングする段階よりなる。
の段階で配向処理されることにより液晶分子を配向させ
る機能を有することになる。このような配向処理方法と
してはラビング方法が多用されてきた。即ち、基板上に
高分子よりなる配向膜を形成した後、前記配向膜を特殊
形態の布でラビングする段階よりなる。
【０００８】最近に開発された方法としては、光を利用
する配向法(光配向法）がある。図1に基づき光配向法を
説明すれば次の通りである。
する配向法(光配向法）がある。図1に基づき光配向法を
説明すれば次の通りである。
【０００９】まず、基板11上に光配向性高分子よりなる
配向膜12を形成する。フォトマスク13を用いて前記配向
膜12に光を局部的に照射すると該当領域の配向膜の光配
向性高分子が配列される。その後、配向膜の他の領域に
対してはフォトマスク13を用いて再び光を照射すべきで
ある。
配向膜12を形成する。フォトマスク13を用いて前記配向
膜12に光を局部的に照射すると該当領域の配向膜の光配
向性高分子が配列される。その後、配向膜の他の領域に
対してはフォトマスク13を用いて再び光を照射すべきで
ある。
【００１０】前述した配向処理方法のうち、ラビング法
は実施しやすく工程が単純であり、一回に広い面積の液
晶を配向処理しうる。しかし、ラビング時に使われた特
殊形態の布から微細粒子または繊維素が離脱して配向膜
を汚染させる恐れがある。そして、配向膜材料に応じて
配向が良くならない場合もあり、ラビング時に発生する
静電気により薄膜トランジスタが損傷する問題点があ
る。
は実施しやすく工程が単純であり、一回に広い面積の液
晶を配向処理しうる。しかし、ラビング時に使われた特
殊形態の布から微細粒子または繊維素が離脱して配向膜
を汚染させる恐れがある。そして、配向膜材料に応じて
配向が良くならない場合もあり、ラビング時に発生する
静電気により薄膜トランジスタが損傷する問題点があ
る。
【００１１】光配向法は静電気が発生することなく、工
程の清潔性が保たれる。しかし、前述したようにフォト
マスクを用いた光照射段階を数回反復すべきなので製造
上煩わしいという問題点がある。
程の清潔性が保たれる。しかし、前述したようにフォト
マスクを用いた光照射段階を数回反復すべきなので製造
上煩わしいという問題点がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
問題点を解決して工程の清潔性が保たれると共に、実施
しやすい配向膜の配向処理方法を提供することにある。
問題点を解決して工程の清潔性が保たれると共に、実施
しやすい配向膜の配向処理方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明では、基板上に光配向性ポリマーよりなる配向
膜を形成する段階と、光を多方向に放出させる光屈折手
段を用いて前記基板であって前記配向膜を備える面に光
を照射する段階とを含むことを特徴とする配向膜の配向
処理方法を提供する。
に本発明では、基板上に光配向性ポリマーよりなる配向
膜を形成する段階と、光を多方向に放出させる光屈折手
段を用いて前記基板であって前記配向膜を備える面に光
を照射する段階とを含むことを特徴とする配向膜の配向
処理方法を提供する。
【００１４】前記光屈折手段としては、三角錐、四角錐
などの多角錐状、三角柱、四角柱などの多角柱状または
多角錐の先端部を切断した形のプリズムを用いることが
好ましい。
などの多角錐状、三角柱、四角柱などの多角柱状または
多角錐の先端部を切断した形のプリズムを用いることが
好ましい。
【００１５】前記光配向性ポリマーは特に制限されな
く、ポリビニルシンナメート(polyvinyl cinnamate)、
ポリビニルメトキシシンナメート(polyvinyl methoxyc
innamate)、ポリイミドのような従来のフォトポリマー
(photopolymer)を使用することが好ましい。
く、ポリビニルシンナメート(polyvinyl cinnamate)、
ポリビニルメトキシシンナメート(polyvinyl methoxyc
innamate)、ポリイミドのような従来のフォトポリマー
(photopolymer)を使用することが好ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】図2に基づき本発明による配向膜
の配向処理方法を説明する。
の配向処理方法を説明する。
【００１７】まず、基板21上に光配向性ポリマーよりな
る配向膜22を形成する。光屈折手段の多角錐状のプリズ
ム23を用いて光を照射する。ここで、前記プリズム23は
入射光を多方向に屈折させうる形を有している。
る配向膜22を形成する。光屈折手段の多角錐状のプリズ
ム23を用いて光を照射する。ここで、前記プリズム23は
入射光を多方向に屈折させうる形を有している。
【００１８】このような多角状のプリズムを用いて光を
照射させると、光はプリズム23を通過して一定角度で配
向膜22に照射して配向膜を配向させることになる。図２
において、実線は入射光の経路を示し、点線はプリズム
を通過した光の経路を示すものである。
照射させると、光はプリズム23を通過して一定角度で配
向膜22に照射して配向膜を配向させることになる。図２
において、実線は入射光の経路を示し、点線はプリズム
を通過した光の経路を示すものである。
【００１９】以下、本発明を実施例に基づき詳しく説明
するが、本発明が下記実施例にのみ限定されることでは
ない。
するが、本発明が下記実施例にのみ限定されることでは
ない。
【００２０】＜実施例＞ＩＴＯ電極がコーティングされ
た上、下ガラス基板上にポリビニルシンナメート及びＮ
−メチルピロリドンを含む組成物を塗布した後、乾燥さ
せて配向膜を形成した。それから、前記基板の上部に四
角錐状のプリズムを設置した後、約３６５ｎｍの紫外線
を照射した。
た上、下ガラス基板上にポリビニルシンナメート及びＮ
−メチルピロリドンを含む組成物を塗布した後、乾燥さ
せて配向膜を形成した。それから、前記基板の上部に四
角錐状のプリズムを設置した後、約３６５ｎｍの紫外線
を照射した。
【００２１】スペーサを用いて一定のギャップが保たれ
た状態で2枚の上、下基板を接合して空セルを製造し
た。その後、前記空セルに液晶を注入することにより液
晶表示素子を完成した。
た状態で2枚の上、下基板を接合して空セルを製造し
た。その後、前記空セルに液晶を注入することにより液
晶表示素子を完成した。
【００２２】＜比較例＞ＩＴＯ電極がコーティングされ
た上、下ガラス基板上にポリビニールシンナメート及び
Ｎ−メチルピロリドンを含む組成物を塗布した後、乾燥
させて配向膜を形成した。
た上、下ガラス基板上にポリビニールシンナメート及び
Ｎ−メチルピロリドンを含む組成物を塗布した後、乾燥
させて配向膜を形成した。
【００２３】それから前記基板の一側あるいはある領域
の上部にフォトマスクを位置させた後、約３６５ｎｍの
紫外線を照射した。次いで、前記基板の他側面あるいは
その他の領域にフォトマスクを位置させた後、前記とは
別の方向に紫外線を照射した。このような光照射過程を
繰返して前記配向膜を配向させた。
の上部にフォトマスクを位置させた後、約３６５ｎｍの
紫外線を照射した。次いで、前記基板の他側面あるいは
その他の領域にフォトマスクを位置させた後、前記とは
別の方向に紫外線を照射した。このような光照射過程を
繰返して前記配向膜を配向させた。
【００２４】スペーサを用いて一定のギャップが保たれ
た状態で2枚の上、下基板を接合して空セルを製造し
た。その後、前記空セルに液晶を注入することにより液
晶表示素子を完成した。
た状態で2枚の上、下基板を接合して空セルを製造し
た。その後、前記空セルに液晶を注入することにより液
晶表示素子を完成した。
【００２５】前述したように、比較例の場合にはフォト
マスクを用いた紫外線照射過程を反復的に行うべきなの
で非常に煩わしい。反面、実施例の場合にはただ１回の
紫外線照射で配向膜を配向処理しうるので配向処理工程
が非常に単純である。
マスクを用いた紫外線照射過程を反復的に行うべきなの
で非常に煩わしい。反面、実施例の場合にはただ１回の
紫外線照射で配向膜を配向処理しうるので配向処理工程
が非常に単純である。
【００２６】
【発明の効果】本発明により配向膜を配向処理すると、
ただ１回の光照射で配向膜を配向させうるので、従来の
場合に比べて製造工程が短縮でき、生産性が向上する。
ただ１回の光照射で配向膜を配向させうるので、従来の
場合に比べて製造工程が短縮でき、生産性が向上する。
【図１】従来の技術による配向膜の光配向方法を示した
概略図面である。
概略図面である。
【図２】本発明による配向膜の一つの光配向方法を示し
た概略図面である。
た概略図面である。
１１−−−基板 １２−−−配向膜 １３−−−フォトマスク ２１−−−基板 ２２−−−配向膜 ２３−−−プリズム
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上に光配向性ポリマーよりなる配向
膜を形成する段階と、 光を多方向に放出させる光屈折手段を用いて前記基板で
あって前記配向膜を備える面に光を照射する段階とを含
むことを特徴とする配向膜の配向処理方法。 - 【請求項２】 前記光屈折手段が多角錐状のプリズムで
あることを特徴とする請求項１に記載の配向膜の配向処
理方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960059826A KR19980040604A (ko) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 액정의 배향처리방법 |
| KR96P59826 | 1996-11-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197872A true JPH10197872A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=19484708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9327643A Withdrawn JPH10197872A (ja) | 1996-11-29 | 1997-11-28 | 液晶表示素子の配向膜の配向処理方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10197872A (ja) |
| KR (1) | KR19980040604A (ja) |
| CN (1) | CN1184951A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103399431A (zh) * | 2013-08-22 | 2013-11-20 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种液晶显示器光配向曝光装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100662489B1 (ko) * | 2000-10-20 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 멀티도메인 액정패널의 제조방법 |
| CN102221758A (zh) * | 2011-07-18 | 2011-10-19 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种混合垂直光配向液晶显示装置的配向方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3127576B2 (ja) * | 1992-06-12 | 2001-01-29 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示パネル、及び液晶表示パネルの製造方法 |
| JPH06265927A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-22 | Seiko Epson Corp | 液晶空間光変調器 |
| KR100319871B1 (ko) * | 1994-01-28 | 2002-08-21 | 삼성전자 주식회사 | 액정배향제어막및그제조방법,이를제조하기위한제조장치및제조장치에이용되는마스크의제조방법 |
| JP3075917B2 (ja) * | 1994-05-27 | 2000-08-14 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置、その製造方法およびその製造装置 |
-
1996
- 1996-11-29 KR KR1019960059826A patent/KR19980040604A/ko not_active Ceased
-
1997
- 1997-11-28 CN CN97114104A patent/CN1184951A/zh active Pending
- 1997-11-28 JP JP9327643A patent/JPH10197872A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103399431A (zh) * | 2013-08-22 | 2013-11-20 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种液晶显示器光配向曝光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MX9709235A (es) | 1998-09-30 |
| KR19980040604A (ko) | 1998-08-17 |
| CN1184951A (zh) | 1998-06-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050201 |