JPH10197892A - 反射型表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 内部の屈折率の周期的な変化によって可視光
中の特定波長の光を反射する反射型表示素子の製造方法
において、それぞれ多層にわたる複数種類の媒質層を、
それぞれ均一な厚みに形成することができ、屈折率の変
化の周期を均一にすることができるようにする。 【解決手段】 電極１２が形成された基板１１の電極１
２上に、高分子層２１ａ，２１ｂ…２１ｎ、および液晶
層２２ａ，２２ｂ…２２ｍを、それぞれスクリーン印刷
などの印刷、または転写によって、一層ずつ交互に形成
して、その積層された多層膜内において屈折率が周期的
に変化する反射層２０を得る。その反射層２０上に、電
極１４が形成された基板１３の電極１４側を接着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、カラー表示が可
能な反射型表示素子の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示素子などの反射型表示素
子は、透過型液晶表示素子などの透過型表示素子のよう
にバックライトのような専用の光源を必要とせず、消費
電力が少ないとともに、小型・軽量に構成できることか
ら、小型情報機器や携帯情報端末などの表示装置に適す
る。

【０００３】カラー表示が可能な反射型表示素子として
は、従来、ＴＮ液晶またはＳＴＮ液晶のセルの両側に偏
光板を配して光シャッタを構成し、外光である入射光を
カラーフィルタで着色し、光シャッタを透過させて、反
射板で反射させるものが知られている。しかしながら、
この反射型表示素子は、偏光板およびカラーフィルタを
使用するので、光のロスが大きく、出力の反射光が微弱
となって、輝度が低くなる欠点がある。

【０００４】そこで、偏光板やカラーフィルタなどを用
いない反射型表示素子として、それぞれ電極が形成され
た２枚の基板の電極間に、少なくとも一方が電界によっ
て屈折率が変化し、かつ互いに屈折率が異なる２種の媒
質層を交互に、多層にわたって形成して、屈折率の周期
的な変化によって可視光中の特定波長の光を反射する反
射層を構成したものが考えられている。

【０００５】例えば、特開平４−３５５４２４号や特開
平５−１３４２６６号には、図１０（Ｃ）に示すよう
に、電極１２，１４が形成された基板１１，１３の電極
１２，１４間に、高分子層２１と液晶層２２が交互に積
層形成された反射層を挟持させたものが示されている。

【０００６】この表示素子では、電極１２，１４間に印
加される電圧に応じて屈折率が変化する液晶層２２と、
屈折率の変化を生じない高分子層２１との周期的な屈折
率の違いによって、干渉フィルタの原理により、入射光
中の特定波長の光を反射し、他の波長領域の光を透過さ
せる。

【０００７】例えば、液晶の通常光に対する屈折率が高
分子の屈折率と等しくなるようにすることによって、電
極１２，１４間に電圧を印加しない状態では、液晶がラ
ンダムな方向に向くことにより、高分子層２１と液晶層
２２との間に屈折率の違いを生じて、電極１２，１４間
において屈折率の周期的な変化を生じ、図１０（Ｃ）に
示すように、表示素子は入射光５５中の特定波長の光５
６を反射する。反射波長は、屈折率の変化の周期によっ
て、すなわち高分子層２１と液晶層２２の厚みによって
決まる。

【０００８】これに対して、電極１２，１４間に十分な
電圧を印加した状態では、液晶が基板１１，１３と垂直
な方向に配列されることにより、高分子層２１と液晶層
２２の屈折率が等しくなって、電極１２，１４間の屈折
率の周期的な変化が消失し、入射光５５はすべて表示素
子を透過する。

【０００９】この反射型表示素子は、偏光板やカラーフ
ィルタなどを用いないため、光のロスが少ないととも
に、高い反射率が得られるので、高輝度の表示が得られ
る。

【００１０】この反射型表示素子の製造方法として、従
来、電極１２，１４間に液晶と光重合性モノマーとの混
合液を注入し、その混合液に所定波長の同位相のレーザ
光を照射して、両者の干渉により光重合性モノマーを重
合して高分子層２１を形成し、その高分子層２１以外の
領域に液晶を析出させて液晶層２２を形成する方法が考
えられている。

【００１１】例えば、SPIE Vol.2152/303('94)「Develo
pment of photopolymer-liquid crystal composite mat
erials for dynamic hologram applications」には、図
１０（Ａ）（Ｂ）に示すように電極１２，１４間に上記
のような混合液１９を注入して、同図（Ａ）に示すよう
に基板１３，１１の両側からレーザ光５１，５２を照射
し、または同図（Ｂ）に示すように基板１３側からレー
ザ光５３，５４を照射することによって、同図（Ｃ）に
示したように高分子層２１と液晶層２２が交互に積層形
成された反射層を得ることが示されている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】図１０（Ｃ）に示した
ような反射型表示素子では、液晶層２２と高分子層２１
の周期構造が均一で、屈折率の変化の周期が均一である
ほど、多重反射によって反射光の強度が増加し、高輝度
の表示が得られる。逆に、液晶層２２と高分子層２１の
周期構造が不均一であると、入射光が反射層内において
乱反射して、反射光の強度が大幅に低下してしまう。

【００１３】しかしながら、上述した従来の製造方法で
は、それぞれ多層にわたる液晶層２２および高分子層２
１を、それぞれ均一な厚みに形成し、屈折率の変化の周
期を均一にすることが難しく、そのため十分な強度の反
射光を得ることが困難な欠点がある。

【００１４】そこで、この発明は、内部の屈折率の周期
的な変化によって可視光中の特定波長の光を反射する反
射型表示素子の製造方法において、それぞれ多層にわた
る複数種類の媒質層を、それぞれ均一な厚みに形成する
ことができ、屈折率の変化の周期を均一にすることがで
きるようにしたものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明では、電
極が形成された第１基板の電極側に、電界によって屈折
率が変化する第１媒質層、およびこの第１媒質層とは屈
折率が異なる第２媒質層を、それぞれ印刷または転写に
よって一層ずつ交互に形成して、その積層された多層膜
内において屈折率が周期的に変化する反射層を得、その
反射層上に、電極が形成された第２基板の電極側を接着
する。

【００１６】請求項２の発明では、電極が形成された第
１基板の電極側に、電界によって屈折率が変化する第１
媒質層、およびこの第１媒質層とは屈折率が異なる第２
媒質層を、それぞれ印刷または転写によって一層ずつ交
互に形成するとともに、電極が形成された第２基板の電
極側に、上記第１媒質層および上記第２媒質層を、それ
ぞれ印刷または転写によって一層ずつ交互に形成し、そ
の後、上記第１基板と上記第２基板を接着して、それぞ
れの電極間に、積層された多層膜内において屈折率が周
期的に変化する反射層を得る。

【００１７】この場合、電界によって屈折率が変化する
第１媒質層としては、液晶または強誘電体を用いること
ができる。

【００１８】

【作用】スクリーン印刷などの印刷、または転写による
と、ごく薄い層ないし膜を定められた厚みで確実かつ容
易に形成することができる。

【００１９】この発明の製造方法においては、第１媒質
層および第２媒質層を、それぞれ印刷または転写によっ
て一層ずつ交互に形成するので、それぞれ多層にわたる
第１媒質層および第２媒質層を、それぞれ均一な厚みに
形成することができ、屈折率の変化の周期を均一にする
ことができる。したがって、十分な強度の反射光が得ら
れる、高輝度の反射型表示素子を確実かつ容易に得るこ
とができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】

〔製造方法としての実施例１〕図１および図２は、この
発明の製造方法の一例の一連の工程を示す。

【００２１】この例では、まず、図１（Ａ）に示すよう
に、一面側に電極１２が形成された基板１１の電極１２
上に、高分子層２１ａとなる樹脂を印刷し、レベリング
した後、樹脂の形態に応じて熱または光により硬化させ
て、高分子層２１ａを形成する。基板１１および電極１
２は、それぞれ光透過性のものである。

【００２２】樹脂の印刷方法としては、例えば、スクリ
ーン印刷を用いる。スクリーン印刷では、図４に示すよ
うに、電極１２が形成された基板１１を台座３１上に設
置し、穴３２ａが形成されたスクリーン３２を基板１１
と対向させて配置して、スクレッパー３３によってスク
リーン３２上に樹脂ペースト３４を塗布し、スキージ３
５によって樹脂ペースト３４をスクリーン３２の穴３２
ａから押し出して、基板１１上に印刷する。ただし、ス
キージ３５によって樹脂ペースト３４が押し出される方
向に樹脂ペースト３４を置けば、スクレッパー３３を用
いなくてもよい。

【００２３】通常、スクリーン印刷１回で印刷される膜
厚は、０．数μｍ〜数１０μｍである。しかし、スクリ
ーン３２として、乳剤膜厚の薄いスクリーンやプレート
状のスクリーン（ワイヤが織り合っていないので、薄い
膜厚やファインラインが得られる）を用いると、より薄
い膜厚の印刷物が得られる。また、材料となるペースト
の形態によっても、印刷膜厚は変わる。微粒子を含ま
ず、材料溶解性のメタロオーガニックペーストの膜厚
は、０．２μｍ以下であり、樹脂ペーストは、メタロオ
ーガニックペーストより、印刷膜厚を薄くすることがで
きる。さらに、樹脂成分を溶剤で希釈し、または溶剤を
蒸発させれば、任意の膜厚にすることができる。

【００２４】ここでは、樹脂ペースト３４の膜厚を０．
０５〜０．１μｍ程度とし、１回の印刷によって一層分
の高分子層２１ａを形成する。

【００２５】次に、液晶を少量の熱硬化性または光硬化
性の樹脂に分散させたものを、高分子層２１ａ上に印刷
し、レベリングした後、熱または光により硬化させて、
図１（Ｂ）に示すように、高分子層２１ａ上に液晶層２
２ａを形成する。

【００２６】この場合、樹脂成分が多いと、液晶が樹脂
で固定されてしまって、液晶に電圧を印加しても液晶が
配向しなくなってしまう。用いる樹脂の種類によっても
異なるが、液晶１００部に対して樹脂成分は１０部以
下、好ましくは５部以下がよい。液晶層２２ａも、１回
の印刷によって形成する。

【００２７】次に、図１（Ｃ）に示すように、液晶層２
２ａ上に、高分子層２１ｂとなる樹脂を印刷し、レベリ
ングした後、熱または光により硬化させて、高分子層２
１ｂを形成する。次に、液晶を少量の熱硬化性または光
硬化性の樹脂に分散させたものを、高分子層２１ｂ上に
印刷し、レベリングした後、熱または光により硬化させ
て、図１（Ｄ）に示すように、高分子層２１ｂ上に液晶
層２２ｂを形成する。

【００２８】このようにして、図２（Ａ）に示すよう
に、電極１２上に、高分子層２１ａ，２１ｂ…２１ｎお
よび液晶層２２ａ，２２ｂ…２２ｍを、それぞれスクリ
ーン印刷によって一層ずつ交互に形成して、反射層２０
を得る。

【００２９】実際上、高分子層２１ａ，２１ｂ…２１ｎ
および液晶層２２ａ，２２ｂ…２２ｍの総数は、１０層
から１００層程度とする。積層数が多いほど、得られる
表示素子の反射光強度が増加するが、工程数も増加す
る。したがって、表示素子として必要な反射光強度との
兼ね合いで、積層数を決定する。

【００３０】次に、図２（Ｂ）に示すように、一面側に
電極１４が形成された基板１３の電極１４側を、高分子
層２１ａ，２１ｂ…２１ｎおよび液晶層２２ａ，２２ｂ
…２２ｍからなる反射層２０上に配置して、反射層２０
の外周を封止し、表示素子１０を得る。基板１３および
電極１４は、それぞれ光透過性のものである。

【００３１】基板１１，１３間のギャップを均一にする
のに、封止材料中にガラス、樹脂製の繊維、ビーズなど
を添加して、スペーサとして利用することもできるが、
高分子層２１ａ，２１ｂ…２１ｎおよび液晶層２２ａ，
２２ｂ…２２ｍは、それぞれスクリーン印刷により均一
な厚みに形成できるので、電極１２上に反射層２０が形
成された基板１１と、電極１４が形成された基板１３と
を、単に貼り合わせるだけで、基板１１，１３間のギャ
ップが均一な表示素子を得ることができる。

【００３２】高分子層２１ａ，２１ｂ…２１ｎおよび液
晶層２２ａ，２２ｂ…２２ｍを、スクリーン印刷によっ
て形成すると、図４に示したスキージ３５によって印刷
方向にラビングされるので、自動的に配向性を持たせる
ことができる。

【００３３】なお、図１および図２に示した例は、最初
および最後に高分子層２１ａおよび２１ｎを形成する場
合であるが、高分子層および液晶層を一層ずつ交互に形
成すれば、いずれが最初または最後でもよい。

【００３４】なお、高分子層２１ａ，２１ｂ…２１ｎお
よび液晶層２２ａ，２２ｂ…２２ｍを、それぞれ均一な
厚みに形成するというのは、高分子層２１ａ，２１ｂ…
２１ｎを均一な厚みに形成するとともに、液晶層２２
ａ，２２ｂ…２２ｍを均一な厚みに形成するという意味
であって、高分子層と液晶層の厚みを等しくするという
意味ではない。

【００３５】〔製造方法としての実施例２〕図３は、こ
の発明の製造方法の他の例の一連の工程を示す。

【００３６】この例では、図３（Ａ）に示すように、電
極１２が形成された基板１１の電極１２上に、高分子層
２１および液晶層２２を、それぞれスクリーン印刷によ
って一層ずつ交互に形成する。

【００３７】これと同時に、またはこれと相前後して、
同図（Ｂ）に示すように、電極１４が形成された基板１
３の電極１４上に、高分子層２１および液晶層２２を、
それぞれスクリーン印刷によって一層ずつ交互に形成す
る。

【００３８】ただし、基板１１上の最上層を高分子層２
１とするときは、基板１３上の最上層を液晶層２２とす
る。

【００３９】次に、同図（Ｃ）に示すように、基板１３
の高分子層２１および液晶層２２が形成された側を、基
板１１の高分子層２１および液晶層２２が形成された側
の上に配置して、両者の高分子層２１および液晶層２２
の外周を封止し、電極１２，１４間に反射層２０が形成
された表示素子１０を得る。

【００４０】この場合も、高分子層２１および液晶層２
２は、それぞれスクリーン印刷により均一な厚みに形成
できるので、高分子層２１および液晶層２２が形成され
た基板１１と、高分子層２１および液晶層２２が形成さ
れた基板１３とを、単に貼り合わせるだけで、基板１
１，１３間のギャップが均一な表示素子を得ることがで
きる。

【００４１】〔製造方法としての他の例〕上記の例は、
高分子層および液晶層をスクリーン印刷によって形成す
る場合であるが、他の印刷方法によって形成することも
できる。

【００４２】また、高分子層および液晶層を転写によっ
て形成することもできる。転写による場合には、印刷物
を一旦、転写体に塗布した後、被印刷物に転写する。例
えば、図５に示すように、電極１２が形成された基板１
１を台座３１上に設置し、転写物補給ローラ３７から転
写体３８に転写物３９を補給して、転写体３８を回転さ
せながら、転写物３９を基板１１上に転写する。転写体
３８が１回転して転写物３９がなくなると、転写物補給
ローラ３７から転写物３９を補給する。ただし、転写体
３８の１回転で基板１１への転写が終了するのが望まし
い。転写体３８の径が小さく、転写体３８を数回回転さ
せて転写を行う場合には、回転の切れ目が重なったり、
切れ目に隙間が空かないように調整する。

【００４３】このような転写による場合にも、高分子層
２１および液晶層２２を、それぞれ均一な厚みに形成す
ることができる。

【００４４】また、上記の例は、電界によって屈折率が
変化する媒質層を液晶層とする場合であるが、電界によ
って屈折率が変化する媒質層を強誘電体層とすることも
できる。強誘電体層とする場合には、強誘電体層となる
ペーストを印刷または転写し、レベリングした後、溶剤
分を乾燥させ、所定の温度で焼成させることによって、
強誘電体層を得る。

【００４５】〔表示素子としての動作〕図６（Ａ）
（Ｂ）は、上述した製造方法によって得られた表示素子
を示し、電界によって屈折率が変化する媒質層が液晶層
の場合、すなわち、電極１２，１４が形成された基板１
１，１３の電極１２，１４間に、高分子層２１と液晶層
２２が交互に形成された反射層２０が挟持された場合で
ある。

【００４６】この場合、同図（Ａ）に示すように電極１
２，１４間に電圧が印加されないときの液晶層２２の屈
折率をｎ１、同図（Ｂ）に示すように電極１２，１４間
に十分な電圧が印加されたときの液晶層２２の屈折率を
ｎ２とする。ただし、ｎ１＜ｎ２である。高分子層２１
の屈折率ｎ３は、液晶層２２の屈折率ｎ１，ｎ２との関
係で、例えば、ｎ１＜ｎ２≦ｎ３とする。

【００４７】これによれば、同図（Ａ）のように電極１
２，１４間に電圧を印加しない状態では、高分子層２１
と液晶層２２との間の屈折率の差が大きくなって、表示
素子１０は入射光（外光）５５中の特定波長の光５６を
反射し、それ以外の光を透過させる。反射波長は、屈折
率の変化の周期によって、すなわち高分子層２１と液晶
層２２の厚みによって決まる。

【００４８】これに対して、同図（Ｂ）のように電極１
２，１４間に十分な電圧を印加した状態では、高分子層
２１と液晶層２２との間の屈折率の差が小さくなって、
入射光５５は大部分が表示素子１０を透過する。

【００４９】ｎ１＜ｎ２≦ｎ３ではなく、ｎ３≦ｎ１＜
ｎ２とする場合には、逆に、電極１２，１４間に電圧を
印加しない状態では、高分子層２１と液晶層２２との間
の屈折率の差が小さくなって、入射光５５は大部分が表
示素子１０を透過し、電極１２，１４間に十分な電圧を
印加した状態では、高分子層２１と液晶層２２との間の
屈折率の差が大きくなって、表示素子１０は入射光５５
中の特定波長の光５６を反射する。

【００５０】また、ｎ１＜ｎ３＜ｎ２でも、ｎ３がｎ１
またはｎ２に近ければ、同様に電極１２，１４間に十分
な電圧が印加されるか否かに応じて状態が変化する。

【００５１】〔フルカラー表示装置としての例〕この発
明の製造方法によって得られた表示素子は、上述したよ
うに、電極１２，１４間に電圧が印加されないとき、ま
たは十分な電圧が印加されたとき、屈折率の変化の周期
によって決まる波長の光を反射する。

【００５２】したがって、３種類の表示素子の、それぞ
れ屈折率の変化の周期によって決まる波長を、赤、緑、
青の波長領域とすることによって、３種類の表示素子と
して、それぞれ赤、緑、青の色光を選択的に反射するも
のを得ることができる。また、それぞれの表示素子にお
いては、電極１２，１４間に印加される電圧に応じて液
晶層２２または強誘電体層の屈折率が変化するので、そ
の電圧を変えることによって、反射率が０％の透過状態
から一定の反射率の状態まで、反射率を制御することが
できる。したがって、高輝度の反射型フルカラー表示装
置を実現することができる。

【００５３】図７は、その反射型フルカラー表示装置の
一例を示し、この発明の方法によって製造した、それぞ
れ赤、緑、青の色光を選択的に反射する表示素子１０
Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを、同一平面内において一方向に並
べて、一つの画素１を形成する。

【００５４】ただし、上記の基板１１，１３は、それぞ
れの表示素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ、およびそれぞれ
の画素１で共通とし、高分子層２１および液晶層２２を
一層ずつ交互に形成した反射層２０を、それぞれの表示
素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂごとに別個に形成する。ま
た、外光の入射側とは反対側の基板の背面には、黒色ま
たは灰色の層１５を形成する。

【００５５】この例のフルカラー表示装置においては、
ある画素の表示素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか
一つが反射状態とされるときには、その画素では赤、緑
または青が表示され、いずれか２つが反射状態とされる
ときには、シアン、マゼンタまたはイエローが表示さ
れ、すべてが反射状態とされるときには、白が表示され
る。

【００５６】また、表示素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの
すべてが透過状態とされるときには、黒色が表示され
る。表示素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがすべて透過状態
とされたときでも、基板１１，１３、電極１２，１４、
高分子層２１および液晶層２２によって入射光の一部が
複屈折して、入射光に対する透過光の強度が著しく低下
するので、層１５が灰色でも、黒色が表示されることに
なる。

【００５７】各色の表示色の表示素子の面積は、均等で
なくてもよい。図８は、この場合の例で、一つの画素１
を４分割して、その一つの領域に赤の色光を反射する表
示素子１０Ｒを、これに対して対角方向に位置する一つ
の領域に緑の色光を反射する表示素子１０Ｇを、残りの
２つの領域に青の色光を反射する表示素子１０Ｂを、そ
れぞれ形成する。この例は、一つの画素１中に青の色光
を反射する表示素子１０Ｂを２つ配置する場合である
が、反射光強度の低い表示色の表示素子を２つ配置する
とよい。

【００５８】図９は、反射型フルカラー表示装置のさら
に他の例で、それぞれ青、赤、緑の色光を反射する表示
素子１０Ｂ，１０Ｒ，１０Ｇを、外光の入射側とは反対
側から、この順序で積層する。表示素子１０Ｂの背面に
は、黒色または灰色の層１５を形成する。それぞれの表
示素子を上記の順序で積層することによって、鮮明なフ
ルカラー表示ができるが、必ずしも、この順序で積層す
る必要はない。

【００５９】図７、図８および図９の例では、黒色また
は灰色の層１５を形成することによってコントラストを
高くすることができるが、必ずしも層１５を形成する必
要はない。

【００６０】

【発明の効果】上述したように、この発明によれば、そ
れぞれ多層にわたる複数種類の媒質層を、それぞれ均一
な厚みに形成することができ、屈折率の変化の周期を均
一にすることができる。したがって、十分な強度の反射
光が得られる、高輝度の反射型表示素子を確実かつ容易
に得ることができる。また、高い輝度が得られるので、
その輝度が若干低下するものの、散乱板を配置して視野
角を広げることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の製造方法の第１の例の一部の工程を
示す図である。

【図２】この発明の製造方法の第１の例の残りの工程を
示す図である。

【図３】この発明の製造方法の第２の例を示す図であ
る。

【図４】スクリーン印刷による媒質層の形成方法を概略
的に示す図である。

【図５】転写による媒質層の形成方法を概略的に示す図
である。

【図６】この発明の製造方法によって得られる表示素子
の動作の説明に供する図である。

【図７】この発明の製造方法によって得られる反射型フ
ルカラー表示装置の一例を示す図である。

【図８】この発明の製造方法によって得られる反射型フ
ルカラー表示装置の他の例を示す図である。

【図９】この発明の製造方法によって得られる反射型フ
ルカラー表示装置のさらに他の例を示す図である。

【図１０】従来の製造方法と、それによって得られる表
示素子の一例を示す図である。

【符号の説明】

１０，１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ 表示素子 １１，１３ 基板 １２，１４ 電極 ２０ 反射層 ２１，２１ａ，２１ｂ…２１ｎ 高分子層（第２媒質
層） ２２，２２ａ，２２ｂ…２２ｍ 液晶層（第１媒質層）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 曳地 丈人 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリーン テクなか い 富士ゼロックス株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】電極が形成された第１基板の電極側に、電
   界によって屈折率が変化する第１媒質層、およびこの第
   １媒質層とは屈折率が異なる第２媒質層を、それぞれ印
   刷または転写によって一層ずつ交互に形成して、その積
   層された多層膜内において屈折率が周期的に変化する反
   射層を得、 その反射層上に、電極が形成された第２基板の電極側を
   接着することを特徴とする、反射型表示素子の製造方
   法。
2. 【請求項２】電極が形成された第１基板の電極側に、電
   界によって屈折率が変化する第１媒質層、およびこの第
   １媒質層とは屈折率が異なる第２媒質層を、それぞれ印
   刷または転写によって一層ずつ交互に形成するととも
   に、電極が形成された第２基板の電極側に、上記第１媒
   質層および上記第２媒質層を、それぞれ印刷または転写
   によって一層ずつ交互に形成し、 その後、上記第１基板と上記第２基板を接着して、それ
   ぞれの電極間に、積層された多層膜内において屈折率が
   周期的に変化する反射層を得ることを特徴とする、反射
   型表示素子の製造方法。
3. 【請求項３】請求項１または２の製造方法において、上
   記第１媒質層として液晶を用いることを特徴とする、反
   射型表示素子の製造方法。
4. 【請求項４】請求項１または２の製造方法において、上
   記第１媒質層として強誘電体を用いることを特徴とす
   る、反射型表示素子の製造方法。