JPH1020507A - レーザ露光方法 - Google Patents
レーザ露光方法Info
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- JPH1020507A JPH1020507A JP8188930A JP18893096A JPH1020507A JP H1020507 A JPH1020507 A JP H1020507A JP 8188930 A JP8188930 A JP 8188930A JP 18893096 A JP18893096 A JP 18893096A JP H1020507 A JPH1020507 A JP H1020507A
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- laser exposure
- exposure head
- making roll
- laser
- plate making
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Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000004397 blinking Effects 0.000 claims description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000002649 leather substitute Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ露光装置における超精密位置決めが実
現でき、特に、ロールに感光膜をコーティングしレーザ
露光装置によりレーザ露光し現像しエッチングしレジス
ト剥離する工程を複数回繰り返して段丘状である凹部を
形成するエンボスロールの製作に有用であるレーザ露光
方法。 【構成】 レーザ露光ヘッド8を移動しかつマーク検出
手段15により被製版ロールRの端縁に付けられた円周
線Xを検出して、円周線アの検出位置を軸方向原点位置
として扱う。また、レーザ露光ヘッド8を位置決めして
被製版ロールRを一回転してマーク検出手段15により
被製版ロールRに付けられた短直線Yを検出して、短直
線を検出したときの周方向原点位置からの到達角度を周
方向原点位置として扱う。
現でき、特に、ロールに感光膜をコーティングしレーザ
露光装置によりレーザ露光し現像しエッチングしレジス
ト剥離する工程を複数回繰り返して段丘状である凹部を
形成するエンボスロールの製作に有用であるレーザ露光
方法。 【構成】 レーザ露光ヘッド8を移動しかつマーク検出
手段15により被製版ロールRの端縁に付けられた円周
線Xを検出して、円周線アの検出位置を軸方向原点位置
として扱う。また、レーザ露光ヘッド8を位置決めして
被製版ロールRを一回転してマーク検出手段15により
被製版ロールRに付けられた短直線Yを検出して、短直
線を検出したときの周方向原点位置からの到達角度を周
方向原点位置として扱う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光膜を塗布した被製
版ロールを両端チャックして回転するとともに、レーザ
露光ヘッドを被製版ロールに沿って移動制御し、かつレ
ーザ露光ヘッドよりレーザを発振して被製版ロールに照
射し、画像を焼き付けるレーザ露光方法に関し、特に、
繰り返し位置決めを超精密に実現できてエンボスロール
の製作に有用なレーザ露光方法に関する。
版ロールを両端チャックして回転するとともに、レーザ
露光ヘッドを被製版ロールに沿って移動制御し、かつレ
ーザ露光ヘッドよりレーザを発振して被製版ロールに照
射し、画像を焼き付けるレーザ露光方法に関し、特に、
繰り返し位置決めを超精密に実現できてエンボスロール
の製作に有用なレーザ露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エンボスロールは、紙、ビニールクロ
ス、レザークロス、合成皮革あるいはクッションタイル
に様々な幾何学的模様や不規則な凹凸や、印刷模様に一
致させた凹条部をプレス形成するために使用される。従
来、エンボスロールの製作は、専ら熟練工による彫金に
頼っており日数と高額な費用を要し、また熟練工の確保
が大変であった。そこで、本願出願人は、ロールに感光
膜をコーティングしレーザ露光し現像しエッチングしレ
ジスト剥離する工程を複数回繰り返し、その際、後の工
程の未露光部分を、先の工程の未露光部分に一致するよ
うに、かつ先の工程の未露光部分よりも未露光域が少な
くなるようにして、側壁部がエッヂのある段丘状である
溝または穴を形成し、次いで、ロール全面にエッチン
グ、サンドブラストまたは液体ホーニングを施して側壁
部がエッヂのない段丘状である凹部を形成するエンボス
ロールの製作方法(特願平4−20410号)を発明
し、また、ロールに感光膜をコーティングしレーザ露光
し現像しエッチングしレジスト剥離する工程を複数回繰
り返し、その際、後の工程の未露光部分を、先の工程の
未露光部分に一致するように、かつ先の工程の未露光部
分よりも未露光域が大きくなるようにして、側壁部が滑
らかな段丘状である凹部を形成することを特徴とするエ
ンボスロールの製作方法(特願平4−21844号)を
発明した。しかしながら、従来のレーザ露光装置は、精
密な繰り返し位置決め精度を確保できなかった。詳述す
ると、エンボスロール用の被製版ロールを両端チャック
してレーザ露光ヘッドを被製版ロールに沿って移動し、
レーザ露光ヘッドの側方に付設された近接センサーの信
号を軸方向位置決め制御回路に入力して被製版ロールの
端面を検出しレーザ露光ヘッドの移動を停止し、次い
で、被製版ロールを回転させるとともにレーザ露光ヘッ
ドの移動して、製版すべき画像のロール版面に対する露
光位置にレーザ露光ヘッドが到達したらレーザを発振し
て被製版ロールに照射し画像の焼き付けを行っていた。
被製版ロールの回転駆動は汎用の定速回転モータで行っ
ており、被製版ロールの回転に比例したレーザ露光ヘッ
ドの軸方向移動制御は、レーザ露光ヘッドを搭載してい
る二次元移動テーブルの軸方向移動用のパルス制御モー
タのモータドライバーに前記チャック軸に設けたロータ
リーエンコーダのパルスを入力することにより行ってお
り、被製版ロールに対する画像の焼き付け位置の軸方向
の位置決めは、被製版ロールの端面から何mmという数
値をコントローラへ人的に入力しており、被製版ロール
に対する画像の焼き付け位置の周方向の位置決めは、前
記ロータリーエンコーダのパルスを回転角度計算回路に
入力して毎回の原点信号パルスを検出してカウントしな
おすようにして一回転当たりのパルス数に対する比を算
出して到達角度を演算し、この信号をレーザ露光ヘッド
に対して点滅信号を与える画像信号出力回路に入力して
画像データを見当させて出力するようになっている。
ス、レザークロス、合成皮革あるいはクッションタイル
に様々な幾何学的模様や不規則な凹凸や、印刷模様に一
致させた凹条部をプレス形成するために使用される。従
来、エンボスロールの製作は、専ら熟練工による彫金に
頼っており日数と高額な費用を要し、また熟練工の確保
が大変であった。そこで、本願出願人は、ロールに感光
膜をコーティングしレーザ露光し現像しエッチングしレ
ジスト剥離する工程を複数回繰り返し、その際、後の工
程の未露光部分を、先の工程の未露光部分に一致するよ
うに、かつ先の工程の未露光部分よりも未露光域が少な
くなるようにして、側壁部がエッヂのある段丘状である
溝または穴を形成し、次いで、ロール全面にエッチン
グ、サンドブラストまたは液体ホーニングを施して側壁
部がエッヂのない段丘状である凹部を形成するエンボス
ロールの製作方法(特願平4−20410号)を発明
し、また、ロールに感光膜をコーティングしレーザ露光
し現像しエッチングしレジスト剥離する工程を複数回繰
り返し、その際、後の工程の未露光部分を、先の工程の
未露光部分に一致するように、かつ先の工程の未露光部
分よりも未露光域が大きくなるようにして、側壁部が滑
らかな段丘状である凹部を形成することを特徴とするエ
ンボスロールの製作方法(特願平4−21844号)を
発明した。しかしながら、従来のレーザ露光装置は、精
密な繰り返し位置決め精度を確保できなかった。詳述す
ると、エンボスロール用の被製版ロールを両端チャック
してレーザ露光ヘッドを被製版ロールに沿って移動し、
レーザ露光ヘッドの側方に付設された近接センサーの信
号を軸方向位置決め制御回路に入力して被製版ロールの
端面を検出しレーザ露光ヘッドの移動を停止し、次い
で、被製版ロールを回転させるとともにレーザ露光ヘッ
ドの移動して、製版すべき画像のロール版面に対する露
光位置にレーザ露光ヘッドが到達したらレーザを発振し
て被製版ロールに照射し画像の焼き付けを行っていた。
被製版ロールの回転駆動は汎用の定速回転モータで行っ
ており、被製版ロールの回転に比例したレーザ露光ヘッ
ドの軸方向移動制御は、レーザ露光ヘッドを搭載してい
る二次元移動テーブルの軸方向移動用のパルス制御モー
タのモータドライバーに前記チャック軸に設けたロータ
リーエンコーダのパルスを入力することにより行ってお
り、被製版ロールに対する画像の焼き付け位置の軸方向
の位置決めは、被製版ロールの端面から何mmという数
値をコントローラへ人的に入力しており、被製版ロール
に対する画像の焼き付け位置の周方向の位置決めは、前
記ロータリーエンコーダのパルスを回転角度計算回路に
入力して毎回の原点信号パルスを検出してカウントしな
おすようにして一回転当たりのパルス数に対する比を算
出して到達角度を演算し、この信号をレーザ露光ヘッド
に対して点滅信号を与える画像信号出力回路に入力して
画像データを見当させて出力するようになっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、同一の被製
版ロールを何回も両端チャックする場合、軸方向の位置
決め精度は、チャックする度に数十ミクロン〜百数十ミ
クロンの誤差が生じることに加えて、近接センサーによ
り被製版ロールの端面を検出する方法では位置決め精度
が粗すぎて、上記の二つの発明に係るエンボスロールの
製作方法が実現に必要な超精密な繰り返し位置決め精度
は到底得られないことが判明した。また上記のように、
被製版ロールの端面から何mmという数値をコントロー
ラへ人的に入力することは面倒であり、数値を間違えて
入力してしまうと、不良品を出してしまい、それ以前の
作業が全て徒労に終わってしまう。また、同一の被製版
ロールを何回も両端チャックする場合、周方向の位置決
め精度についてもチャックする度に軸方向に数十ミクロ
ンの誤差が生じるので、このことからも上記の二つの発
明に係るエンボスロールの製作方法が実現に必要な超精
密な繰り返し位置決め精度は到底得られないことが判明
した。
版ロールを何回も両端チャックする場合、軸方向の位置
決め精度は、チャックする度に数十ミクロン〜百数十ミ
クロンの誤差が生じることに加えて、近接センサーによ
り被製版ロールの端面を検出する方法では位置決め精度
が粗すぎて、上記の二つの発明に係るエンボスロールの
製作方法が実現に必要な超精密な繰り返し位置決め精度
は到底得られないことが判明した。また上記のように、
被製版ロールの端面から何mmという数値をコントロー
ラへ人的に入力することは面倒であり、数値を間違えて
入力してしまうと、不良品を出してしまい、それ以前の
作業が全て徒労に終わってしまう。また、同一の被製版
ロールを何回も両端チャックする場合、周方向の位置決
め精度についてもチャックする度に軸方向に数十ミクロ
ンの誤差が生じるので、このことからも上記の二つの発
明に係るエンボスロールの製作方法が実現に必要な超精
密な繰り返し位置決め精度は到底得られないことが判明
した。
【0004】本発明は、上述した点に鑑み案出したもの
で、レーザ露光装置における繰り返し位置決めを超精密
に実現でき、特に、ロールに感光膜をコーティングしレ
ーザ露光装置によりレーザ露光し現像しエッチングしレ
ジスト剥離する工程を複数回繰り返して段丘状である凹
部を形成するエンボスロールの製作に有用であるレーザ
露光方法を提供することを目的としている。
で、レーザ露光装置における繰り返し位置決めを超精密
に実現でき、特に、ロールに感光膜をコーティングしレ
ーザ露光装置によりレーザ露光し現像しエッチングしレ
ジスト剥離する工程を複数回繰り返して段丘状である凹
部を形成するエンボスロールの製作に有用であるレーザ
露光方法を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本願発明は、上記の課題
を解決するための手段として、感光膜を塗布した被製版
ロールを両端チャックして回転するとともに、レーザ露
光ヘッドを被製版ロールに沿って移動制御し、かつレー
ザ露光ヘッドよりレーザを発振して被製版ロールに照射
し、画像を焼き付けるレーザ露光方法において、前記レ
ーザ露光ヘッドを移動しかつ前記レーザ露光ヘッドの側
方に備えた非接触でマークを検出するマーク検出手段に
より前記被製版ロールの端縁に付けられた周方向に一周
する円周線を検出して、前記円周線の検出位置を軸方向
原点位置として扱うとともに、前記レーザ露光ヘッドを
位置決めして前記被製版ロールを一回転して前記マーク
検出手段により被製版ロールに付けられた軸方向に伸び
た短直線を検出して、短直線を検出した位置を周方向原
点位置として扱うことを特徴とするレーザ露光方法を提
供するものである。
を解決するための手段として、感光膜を塗布した被製版
ロールを両端チャックして回転するとともに、レーザ露
光ヘッドを被製版ロールに沿って移動制御し、かつレー
ザ露光ヘッドよりレーザを発振して被製版ロールに照射
し、画像を焼き付けるレーザ露光方法において、前記レ
ーザ露光ヘッドを移動しかつ前記レーザ露光ヘッドの側
方に備えた非接触でマークを検出するマーク検出手段に
より前記被製版ロールの端縁に付けられた周方向に一周
する円周線を検出して、前記円周線の検出位置を軸方向
原点位置として扱うとともに、前記レーザ露光ヘッドを
位置決めして前記被製版ロールを一回転して前記マーク
検出手段により被製版ロールに付けられた軸方向に伸び
た短直線を検出して、短直線を検出した位置を周方向原
点位置として扱うことを特徴とするレーザ露光方法を提
供するものである。
【0006】好ましくは、本願発明は、感光膜を塗布し
た被製版ロールを両端チャックして回転するとともに、
軸方向位置決め制御回路によりレーザ露光ヘッドを被製
版ロールに沿って移動制御し、回転角度計算回路により
レーザ露光ヘッドよりレーザを発振して被製版ロールに
照射し、画像を焼き付けるレーザ露光方法において、マ
ーク検出手段を前記レーザ露光ヘッドと一体に移動する
ように前記レーザ露光ヘッドの側方に備えて、マーク検
出手段と前記レーザ露光ヘッドとの偏差を前記軸方向位
置決め制御回路に入力しておき、前記マーク検出手段に
より前記被製版ロールの端縁に付けられた周方向に一周
する円周線を検出して、前記軸方向位置決め制御回路に
おいて、前記偏差と円周線検出位置から所要の演算を行
うことにより、前記円周線の検出位置を軸方向原点位置
として扱うとともに、前記レーザ露光ヘッドを位置決め
して前記マーク検出手段により前記円周線からずらた位
置を照射し前記被製版ロールを一回転して前記マーク検
出手段により被製版ロールに付けられた軸方向に伸びた
短直線を検出して、短直線を検出した位置を前記回転角
度計算回路に入力し所要の演算を行うことにより、短直
線を検出した位置を周方向原点として扱うことを特徴と
するレーザ露光方法を提供するものである。
た被製版ロールを両端チャックして回転するとともに、
軸方向位置決め制御回路によりレーザ露光ヘッドを被製
版ロールに沿って移動制御し、回転角度計算回路により
レーザ露光ヘッドよりレーザを発振して被製版ロールに
照射し、画像を焼き付けるレーザ露光方法において、マ
ーク検出手段を前記レーザ露光ヘッドと一体に移動する
ように前記レーザ露光ヘッドの側方に備えて、マーク検
出手段と前記レーザ露光ヘッドとの偏差を前記軸方向位
置決め制御回路に入力しておき、前記マーク検出手段に
より前記被製版ロールの端縁に付けられた周方向に一周
する円周線を検出して、前記軸方向位置決め制御回路に
おいて、前記偏差と円周線検出位置から所要の演算を行
うことにより、前記円周線の検出位置を軸方向原点位置
として扱うとともに、前記レーザ露光ヘッドを位置決め
して前記マーク検出手段により前記円周線からずらた位
置を照射し前記被製版ロールを一回転して前記マーク検
出手段により被製版ロールに付けられた軸方向に伸びた
短直線を検出して、短直線を検出した位置を前記回転角
度計算回路に入力し所要の演算を行うことにより、短直
線を検出した位置を周方向原点として扱うことを特徴と
するレーザ露光方法を提供するものである。
【0007】さらに好ましくは、本願発明は、感光膜を
塗布した被製版ロールを両端チャックして回転するとと
もに、被製版ロールの回転に比例したレーザ露光ヘッド
の軸方向移動制御は、レーザ露光ヘッドを搭載している
二次元移動テーブルの軸方向移動用の制御用モータのモ
ータドライバーに制御信号を出力する位置決め制御回路
に対して、チャック軸に設けたロータリーエンコーダの
パルスを入力することにより、レーザ露光ヘッドを被製
版ロールに沿って移動制御し、また前記ロータリーエン
コーダのパルスを回転角度計算回路に入力して毎回の原
点信号パルスを検出してカウントしなおすようにして一
回転当たりのパルス数に対する比を算出して到達角度を
演算し、この信号をレーザ露光ヘッドに対して点滅信号
を与える画像信号出力回路に入力して画像データと見当
させてレーザ露光ヘッドに対して信号出力を行いレーザ
露光ヘッドからレーザを発振して被製版ロールに照射
し、画像を焼き付けるレーザ露光方法において、マーク
検出用レーザを前記被製版ロールに照射して反射光の変
化によりマークを検出するマーク検出手段を前記レーザ
露光ヘッドと一体に移動するように前記レーザ露光ヘッ
ドの側方に備えて、マーク検出用レーザと前記レーザ露
光ヘッドから照射されるレーザとのレーザビーム間距離
を予め測定してこの距離を前記位置決め制御回路に入力
しておき、前記レーザ露光ヘッドを前記被製版ロールの
軸方向に移動しかつ前記マーク検出手段により前記被製
版ロールの端縁に付けられた周方向に一周する円周線を
検出して、前記位置決め制御回路において、円周線検出
位置とレーザビーム間距離から所要の演算を行って軸方
向原点位置補正信号を前記画像信号出力回路に入力し、
画像信号出力回路において前記円周線の検出位置を軸方
向原点位置として扱うとともに、前記レーザ露光ヘッド
を位置決めして前記マーク検出手段によりマーク検出用
レーザを前記円周線からずらして照射し前記被製版ロー
ルを一回転して前記マーク検出手段により被製版ロール
に付けられた軸方向に伸びた短直線を検出して、前記回
転角度計算回路において短直線を検出したときの到達角
度を演算しさらに到達角度分だけ周方向原点位置をずら
すように演算して周方向原点位置補正信号を前記画像信
号出力回路に入力し、画像信号出力回路において短直線
を検出した位置を周方向原点位置として扱うことを特徴
とするレーザ露光方法を提供するものである。
塗布した被製版ロールを両端チャックして回転するとと
もに、被製版ロールの回転に比例したレーザ露光ヘッド
の軸方向移動制御は、レーザ露光ヘッドを搭載している
二次元移動テーブルの軸方向移動用の制御用モータのモ
ータドライバーに制御信号を出力する位置決め制御回路
に対して、チャック軸に設けたロータリーエンコーダの
パルスを入力することにより、レーザ露光ヘッドを被製
版ロールに沿って移動制御し、また前記ロータリーエン
コーダのパルスを回転角度計算回路に入力して毎回の原
点信号パルスを検出してカウントしなおすようにして一
回転当たりのパルス数に対する比を算出して到達角度を
演算し、この信号をレーザ露光ヘッドに対して点滅信号
を与える画像信号出力回路に入力して画像データと見当
させてレーザ露光ヘッドに対して信号出力を行いレーザ
露光ヘッドからレーザを発振して被製版ロールに照射
し、画像を焼き付けるレーザ露光方法において、マーク
検出用レーザを前記被製版ロールに照射して反射光の変
化によりマークを検出するマーク検出手段を前記レーザ
露光ヘッドと一体に移動するように前記レーザ露光ヘッ
ドの側方に備えて、マーク検出用レーザと前記レーザ露
光ヘッドから照射されるレーザとのレーザビーム間距離
を予め測定してこの距離を前記位置決め制御回路に入力
しておき、前記レーザ露光ヘッドを前記被製版ロールの
軸方向に移動しかつ前記マーク検出手段により前記被製
版ロールの端縁に付けられた周方向に一周する円周線を
検出して、前記位置決め制御回路において、円周線検出
位置とレーザビーム間距離から所要の演算を行って軸方
向原点位置補正信号を前記画像信号出力回路に入力し、
画像信号出力回路において前記円周線の検出位置を軸方
向原点位置として扱うとともに、前記レーザ露光ヘッド
を位置決めして前記マーク検出手段によりマーク検出用
レーザを前記円周線からずらして照射し前記被製版ロー
ルを一回転して前記マーク検出手段により被製版ロール
に付けられた軸方向に伸びた短直線を検出して、前記回
転角度計算回路において短直線を検出したときの到達角
度を演算しさらに到達角度分だけ周方向原点位置をずら
すように演算して周方向原点位置補正信号を前記画像信
号出力回路に入力し、画像信号出力回路において短直線
を検出した位置を周方向原点位置として扱うことを特徴
とするレーザ露光方法を提供するものである。
【0008】
【実施の形態】図1は、本願発明の実施の形態のレーザ
露光方法を示す。この実施の形態では、感光膜を塗布し
たエンボスロール用の被製版ロールRを、汎用の定速モ
ータ1により回転される回転駆動側チャック2とスライ
ドブロック3に回転自在かつ軸方向移動自在に支持され
シリンダ装置4により軸方向移動自在な移動チャック5
により両端チャックして回転するとともに、回転駆動側
チャック2のチャック軸6に設けたロータリーエンコー
ダ7のパルスをレーザ露光ヘッド8を搭載している二次
元移動テーブル9の軸方向移動用の制御用モータ10の
モータドライバー11に制御信号を出力する位置決め制
御回路12に対して入力することにより被製版ロールR
の回転に比例したレーザ露光ヘッド8の軸方向移動制御
を行い、また前記ロータリーエンコーダ7のパルスを回
転角度計算回路13に入力して毎回の原点信号パルスを
検出してカウントしなおすようにして一回転当たりのパ
ルス数に対する比を算出して到達角度を演算し、この信
号をレーザ露光ヘッド8に対して点滅信号を与える画像
信号出力回路14に入力して画像データと見当させてレ
ーザ露光ヘッド8に対して信号出力を行いレーザ露光ヘ
ッド8からレーザを発振して被製版ロールRに照射し、
画像を焼き付けるものであり、画像の焼き付けに先立っ
て、軸方向原点位置の補正及び周方向原点位置の補正を
行うものである。。
露光方法を示す。この実施の形態では、感光膜を塗布し
たエンボスロール用の被製版ロールRを、汎用の定速モ
ータ1により回転される回転駆動側チャック2とスライ
ドブロック3に回転自在かつ軸方向移動自在に支持され
シリンダ装置4により軸方向移動自在な移動チャック5
により両端チャックして回転するとともに、回転駆動側
チャック2のチャック軸6に設けたロータリーエンコー
ダ7のパルスをレーザ露光ヘッド8を搭載している二次
元移動テーブル9の軸方向移動用の制御用モータ10の
モータドライバー11に制御信号を出力する位置決め制
御回路12に対して入力することにより被製版ロールR
の回転に比例したレーザ露光ヘッド8の軸方向移動制御
を行い、また前記ロータリーエンコーダ7のパルスを回
転角度計算回路13に入力して毎回の原点信号パルスを
検出してカウントしなおすようにして一回転当たりのパ
ルス数に対する比を算出して到達角度を演算し、この信
号をレーザ露光ヘッド8に対して点滅信号を与える画像
信号出力回路14に入力して画像データと見当させてレ
ーザ露光ヘッド8に対して信号出力を行いレーザ露光ヘ
ッド8からレーザを発振して被製版ロールRに照射し、
画像を焼き付けるものであり、画像の焼き付けに先立っ
て、軸方向原点位置の補正及び周方向原点位置の補正を
行うものである。。
【0009】軸方向原点位置の補正及び周方向原点位置
の補正の方法は、マーク検出手段15をレーザ露光ヘッ
ド8と一体に移動するようにレーザ露光ヘッド8の側方
に備え、該マーク検出手段14により被製版ロールRの
端縁に付けられた周方向に一周する円周線Xと、該円周
線Xに対して直交している短直線Yを検出し、円周線X
が軸方向原点位置となるように補正するとともに、短直
線Yが周方向原点位置となるように補正することにより
達成している。円周線Xと短直線Yはロール面に傷を付
けるのが極細線が得られて好ましいが、ボールペン等に
よりマーキングしても良い。該マーク検出手段15は、
半導体レーザ15aから発振されるマーク検出用レーザ
をレンズ15bで光径5ミクロン位に絞って被製版ロー
ルRに照射して反射光の方向をプリズム15cにより9
0°替えて該反射光を二次元CCD15dで受光してマ
ーク検出用レーザがマークに照射したとき光の吸収もし
くは散乱により反射光に変化を生じて該反射光の変化を
二次元CCD15dのアナログ電流の変化としてマーク
を検出するように構成されている。そして、前記ロータ
リーエンコーダ7のパルスを位置決め制御回路12に入
力してレーザ露光ヘッド8から照射されるレーザが回転
駆動側チャック2の円錐面の中途付近に位置しかつ一つ
の原点信号パルスを入力したときの位置を軸方向原点位
置P0 と決めて位置決め制御回路12に記憶しておき、
さらに、軸方向原点位置P0 にマーク検出用レーザMLを
照射するようにしたときのレーザ露光ヘッド8の軸方向
原点位置P0 からの変位a(=マーク検出用レーザとレ
ーザー露光ヘッド8から照射されるレーザとのレーザビ
ーム間距離)を、前記ロータリーエンコーダ7のパルス
をカウントすることにより算出して位置決め制御回路1
2に記憶しておく。そうして、被製版ロールRを回転さ
せないでレーザ露光ヘッド8を被製版ロールRに沿って
移動してマーク検出手段15により被製版ロールRの端
縁に付けられた円周線Xを検出し、その検出位置を位置
決め制御回路12に入力し、該位置決め制御回路12に
おいて、円周線検出位置と予め設定された軸方向原点位
置P0 と前記レーザビーム間距離aから所要の演算を行
って位置決め制御回路12から画像信号出力回路14に
軸方向原点位置補正信号を出力し、画像信号出力回路1
4において、円周線検出位置を軸方向原点位置として扱
うように補正する。次いで、マーク検出用レーザMLを円
周線Xから数mmずらして照射するようにレーザ露光ヘ
ッド8を位置決めし、マーク検出手段15によりマーク
検出用レーザMLを被製版ロールRに照射し被製版ロール
Rを一回転し、前記ロータリーエンコーダ7のパルスを
回転角度計算回路13に入力して原点信号パルスを検出
してからパルスをカウント開始しマーク検出手段15に
より被製版ロールRに付けられた軸方向に伸びた短直線
Yを検出した信号を回転角度計算回路12に入力し該回
転角度計算回路12において短直線Yを検出した信号を
入力したときにカウントしたパルス数から、周方向原点
位置から短直線Yまでの回転角度を到達角度として演算
しさらに到達角度分だけ周方向原点位置をずらすように
演算して到達角度分の補正信号を前記画像信号出力回路
14に出力し、画像信号出力回路14において、短直線
検出位置を周方向原点位置として扱うように補正する。
上記のように原点位置を補正することにより、繰り返し
位置決め精度を5ミクロン〜10ミクロンとすることが
できる。
の補正の方法は、マーク検出手段15をレーザ露光ヘッ
ド8と一体に移動するようにレーザ露光ヘッド8の側方
に備え、該マーク検出手段14により被製版ロールRの
端縁に付けられた周方向に一周する円周線Xと、該円周
線Xに対して直交している短直線Yを検出し、円周線X
が軸方向原点位置となるように補正するとともに、短直
線Yが周方向原点位置となるように補正することにより
達成している。円周線Xと短直線Yはロール面に傷を付
けるのが極細線が得られて好ましいが、ボールペン等に
よりマーキングしても良い。該マーク検出手段15は、
半導体レーザ15aから発振されるマーク検出用レーザ
をレンズ15bで光径5ミクロン位に絞って被製版ロー
ルRに照射して反射光の方向をプリズム15cにより9
0°替えて該反射光を二次元CCD15dで受光してマ
ーク検出用レーザがマークに照射したとき光の吸収もし
くは散乱により反射光に変化を生じて該反射光の変化を
二次元CCD15dのアナログ電流の変化としてマーク
を検出するように構成されている。そして、前記ロータ
リーエンコーダ7のパルスを位置決め制御回路12に入
力してレーザ露光ヘッド8から照射されるレーザが回転
駆動側チャック2の円錐面の中途付近に位置しかつ一つ
の原点信号パルスを入力したときの位置を軸方向原点位
置P0 と決めて位置決め制御回路12に記憶しておき、
さらに、軸方向原点位置P0 にマーク検出用レーザMLを
照射するようにしたときのレーザ露光ヘッド8の軸方向
原点位置P0 からの変位a(=マーク検出用レーザとレ
ーザー露光ヘッド8から照射されるレーザとのレーザビ
ーム間距離)を、前記ロータリーエンコーダ7のパルス
をカウントすることにより算出して位置決め制御回路1
2に記憶しておく。そうして、被製版ロールRを回転さ
せないでレーザ露光ヘッド8を被製版ロールRに沿って
移動してマーク検出手段15により被製版ロールRの端
縁に付けられた円周線Xを検出し、その検出位置を位置
決め制御回路12に入力し、該位置決め制御回路12に
おいて、円周線検出位置と予め設定された軸方向原点位
置P0 と前記レーザビーム間距離aから所要の演算を行
って位置決め制御回路12から画像信号出力回路14に
軸方向原点位置補正信号を出力し、画像信号出力回路1
4において、円周線検出位置を軸方向原点位置として扱
うように補正する。次いで、マーク検出用レーザMLを円
周線Xから数mmずらして照射するようにレーザ露光ヘ
ッド8を位置決めし、マーク検出手段15によりマーク
検出用レーザMLを被製版ロールRに照射し被製版ロール
Rを一回転し、前記ロータリーエンコーダ7のパルスを
回転角度計算回路13に入力して原点信号パルスを検出
してからパルスをカウント開始しマーク検出手段15に
より被製版ロールRに付けられた軸方向に伸びた短直線
Yを検出した信号を回転角度計算回路12に入力し該回
転角度計算回路12において短直線Yを検出した信号を
入力したときにカウントしたパルス数から、周方向原点
位置から短直線Yまでの回転角度を到達角度として演算
しさらに到達角度分だけ周方向原点位置をずらすように
演算して到達角度分の補正信号を前記画像信号出力回路
14に出力し、画像信号出力回路14において、短直線
検出位置を周方向原点位置として扱うように補正する。
上記のように原点位置を補正することにより、繰り返し
位置決め精度を5ミクロン〜10ミクロンとすることが
できる。
【0010】
【発明の効果】以上説明してきたように、本願発明のレ
ーザ露光方法によれば、被製版ロールRにマークした円
周線Xと短直線Yをレーザ露光ヘッドに並べて設けるマ
ーク検出手段により検出して軸方向原点位置及び周方向
原点位置を円周線Xと短直線Yの位置にシフトするもの
であるから、同一の被製版ロールを何回も両端チャック
する場合、軸方向の位置決め精度は、チャックする度に
数十ミクロン〜百数十ミクロンの誤差が生じ、また、周
方向の位置決め精度についてもチャックする度に軸方向
に数十ミクロンの誤差が生じるが、このような誤差に関
係なく軸方向原点位置及び周方向原点位置を正確に決定
することができ、もって、レーザ露光装置における繰り
返し位置決めを超精密に実現できるから、特に、ロール
に感光膜をコーティングしレーザ露光装置によりレーザ
露光し現像しエッチングしレジスト剥離する工程を複数
回繰り返して段丘状である凹部を形成するエンボスロー
ルの製作に有用である。
ーザ露光方法によれば、被製版ロールRにマークした円
周線Xと短直線Yをレーザ露光ヘッドに並べて設けるマ
ーク検出手段により検出して軸方向原点位置及び周方向
原点位置を円周線Xと短直線Yの位置にシフトするもの
であるから、同一の被製版ロールを何回も両端チャック
する場合、軸方向の位置決め精度は、チャックする度に
数十ミクロン〜百数十ミクロンの誤差が生じ、また、周
方向の位置決め精度についてもチャックする度に軸方向
に数十ミクロンの誤差が生じるが、このような誤差に関
係なく軸方向原点位置及び周方向原点位置を正確に決定
することができ、もって、レーザ露光装置における繰り
返し位置決めを超精密に実現できるから、特に、ロール
に感光膜をコーティングしレーザ露光装置によりレーザ
露光し現像しエッチングしレジスト剥離する工程を複数
回繰り返して段丘状である凹部を形成するエンボスロー
ルの製作に有用である。
【図1】本願発明の実施の形態に係るレーザ露光方法の
説明図であり、(a)は、全体図、(b)は部分図。
説明図であり、(a)は、全体図、(b)は部分図。
R ・・・被製版ロール 6 ・・・チャック軸 7 ・・・ロータリーエンコーダ 8 ・・・レーザ露光ヘッド 9 ・・・二次元移動テーブル 10 ・・・制御用モータ 11 ・・・モータドライバー 12 ・・・位置決め制御回路 13 ・・・回転角度計算回路 14 ・・・画像信号出力回路 15 ・・・マーク検出手段
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年8月5日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
Claims (3)
- 【請求項1】 感光膜を塗布した被製版ロールを両端チ
ャックして回転するとともに、レーザ露光ヘッドを被製
版ロールに沿って移動制御し、かつレーザ露光ヘッドよ
りレーザを発振して被製版ロールに照射し、画像を焼き
付けるレーザ露光方法において、 前記レーザ露光ヘッドを移動しかつ前記レーザ露光ヘッ
ドの側方に備えた非接触でマークを検出するマーク検出
手段により前記被製版ロールの端縁に付けられた周方向
に一周する円周線を検出して、前記円周線の検出位置を
軸方向原点位置として扱うとともに、 前記レーザ露光ヘッドを位置決めして前記被製版ロール
を一回転して前記マーク検出手段により被製版ロールに
付けられた軸方向に伸びた短直線を検出して、短直線を
検出した位置を周方向原点位置として扱うことを特徴と
するレーザ露光方法。 - 【請求項2】 感光膜を塗布した被製版ロールを両端チ
ャックして回転するとともに、軸方向位置決め制御回路
によりレーザ露光ヘッドを被製版ロールに沿って移動制
御し、回転角度計算回路によりレーザ露光ヘッドよりレ
ーザを発振して被製版ロールに照射し、画像を焼き付け
るレーザ露光方法において、 マーク検出手段を前記レーザ露光ヘッドと一体に移動す
るように前記レーザ露光ヘッドの側方に備えて、マーク
検出手段と前記レーザ露光ヘッドとの偏差を前記軸方向
位置決め制御回路に入力しておき、 前記マーク検出手段により前記被製版ロールの端縁に付
けられた周方向に一周する円周線を検出して、前記軸方
向位置決め制御回路において、前記偏差と円周線検出位
置から所要の演算を行うことにより、前記円周線の検出
位置を軸方向原点位置として扱うとともに、 前記レーザ露光ヘッドを位置決めして前記マーク検出手
段により前記円周線からずらた位置を照射し前記被製版
ロールを一回転して前記マーク検出手段により被製版ロ
ールに付けられた軸方向に伸びた短直線を検出して、短
直線を検出した位置を前記回転角度計算回路に入力し所
要の演算を行うことにより、短直線を検出した位置を周
方向原点として扱うことを特徴とするレーザ露光方法。 - 【請求項3】 感光膜を塗布した被製版ロールを両端チ
ャックして回転するとともに、被製版ロールの回転に比
例したレーザ露光ヘッドの軸方向移動制御は、レーザ露
光ヘッドを搭載している二次元移動テーブルの軸方向移
動用の制御用モータのモータドライバーに制御信号を出
力する位置決め制御回路に対して、チャック軸に設けた
ロータリーエンコーダのパルスを入力することにより、
レーザ露光ヘッドを被製版ロールに沿って移動制御し、
また前記ロータリーエンコーダのパルスを回転角度計算
回路に入力して毎回の原点信号パルスを検出してカウン
トしなおすようにして一回転当たりのパルス数に対する
比を算出して到達角度を演算し、この信号をレーザ露光
ヘッドに対して点滅信号を与える画像信号出力回路に入
力して画像データと見当させてレーザ露光ヘッドに対し
て信号出力を行いレーザ露光ヘッドからレーザを発振し
て被製版ロールに照射し、画像を焼き付けるレーザ露光
方法において、 マーク検出用レーザを前記被製版ロールに照射して反射
光の変化によりマークを検出するマーク検出手段を前記
レーザ露光ヘッドと一体に移動するように前記レーザ露
光ヘッドの側方に備えて、マーク検出用レーザと前記レ
ーザ露光ヘッドから照射されるレーザとのレーザビーム
間距離を予め測定してこの距離を前記位置決め制御回路
に入力しておき、 前記レーザ露光ヘッドを前記被製版ロールの軸方向に移
動しかつ前記マーク検出手段により前記被製版ロールの
端縁に付けられた周方向に一周する円周線を検出して、
前記位置決め制御回路において、円周線検出位置とレー
ザビーム間距離から所要の演算を行って軸方向原点位置
補正信号を前記画像信号出力回路に入力し、画像信号出
力回路において前記円周線の検出位置を軸方向原点位置
として扱うとともに、 前記レーザ露光ヘッドを位置決めして前記マーク検出手
段によりマーク検出用レーザを前記円周線からずらして
照射し前記被製版ロールを一回転して前記マーク検出手
段により被製版ロールに付けられた軸方向に伸びた短直
線を検出して、前記回転角度計算回路において短直線を
検出したときの到達角度を演算しさらに到達角度分だけ
周方向原点位置をずらすように演算して周方向原点位置
補正信号を前記画像信号出力回路に入力し、画像信号出
力回路において短直線を検出した位置を周方向原点位置
として扱うことを特徴とするレーザ露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8188930A JPH1020507A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | レーザ露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8188930A JPH1020507A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | レーザ露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1020507A true JPH1020507A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=16232389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8188930A Pending JPH1020507A (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | レーザ露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1020507A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102114576A (zh) * | 2009-12-31 | 2011-07-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 滚轮加工方法及其采用的激光加工系统 |
| JP2011143647A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | グラビア版胴の製造方法 |
| JP2011173225A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Tsukatani Hamono Seisakusho:Kk | ダイカッターおよびその製造方法 |
| JP2013057725A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Asahi Kasei Corp | 露光装置 |
| EP2583813B1 (en) * | 2010-06-16 | 2020-07-01 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Roller mold manufacturing device and manufacturing method |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP8188930A patent/JPH1020507A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102114576A (zh) * | 2009-12-31 | 2011-07-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 滚轮加工方法及其采用的激光加工系统 |
| JP2011143647A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | グラビア版胴の製造方法 |
| JP2011173225A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Tsukatani Hamono Seisakusho:Kk | ダイカッターおよびその製造方法 |
| EP2583813B1 (en) * | 2010-06-16 | 2020-07-01 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Roller mold manufacturing device and manufacturing method |
| JP2013057725A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Asahi Kasei Corp | 露光装置 |
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