JPH10206904A - エレクトロクロミック素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐紫外線性を備えたエレクトロクロミック素
子の提供。 【解決手段】 内面側に電極を有する一対の対向導電基
板と、その対向導電基板との間に介在するイオン伝導物
質と、導電基板の内面側の電極及びイオン伝導物質との
間に設けたエレクトロクロミック性物質含有層とを備え
たエレクトロクロミック素子に於いて、対向導電基板の
基板と電極との間に、アミド結合を有する紫外線吸収層
を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はエレクトロクロミッ
ク素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロクロミック材料を用いた素子
は広く用途が期待されているが、従来のエレクトロクロ
ミック素子は屋外等紫外線の照射される環境下において
劣化し易いという欠点がある。これを防ぐためには、例
えばエレクトロクロミック素子を構成する基板の外側に
紫外線遮断層を設けることが提案されているが、美観、
耐磨耗性、耐久性等の点で満足しえるものではない。ま
た、エレクトロクロミック調光体は、通常一対の透明基
板間に一対の透明電極が配され、その間にエレクトロク
ロミック層と電解質層が配されており、紫外線遮断層を
透明電極の内側に設けることにより紫外線による劣化を
防ぐことが提案されている（特開昭６２−１４８３３９
号公報、特開昭６３−２３６０１６号公報）。この方法
によれば、デバイスを構成する透明基板の耐擦過性等に
影響を及ぼさない。しかし、紫外線遮断層を金属酸化物
により構成した場合（特開昭６２−１４８３３９号公
報）には近紫外域を充分にカットすることができないた
め、紫外線劣化を十分に抑制することができないという
問題点がある。また、紫外線遮断層としてダイクロイッ
ク層を採用した場合（特開昭６３−２３６０１６号公
報）には、何回もの成膜行程が必要となるため、コスト
的に不利になるという問題がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、屋外
での使用に耐えうる耐紫外線性を有し、かつ安価に製造
できるエレクトロクロミック素子を提供することにあ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、少なく
とも内側面に電極を有する一対の対向導電基板と対向導
電基板の間に挟持して設けたイオン伝導物質と、導電基
板の内側面の電極およびイオン伝導性物質の間の少なく
とも一方に設けたエレクトロクロミック性物質を含む層
とを備えたエレクトロクロミック素子であり、前記対向
電極の少なくとも一方が透明基板およびこの透明基板の
内側に配置した透明電極を備える透明導電基板であり、
透明導電基板の少なくとも一方の透明基板と透明電極と
の間に紫外線吸収層を有し、該紫外線吸収層が、少なく
とも、（ａ）上記一般式（１）に示されるアミノシラン
化合物またはその誘導体（以下、「成分Ａ」と称す）
と、（ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収
剤（以下「成分Ｂ」と称す）とを反応させ、前記アミノ
シラン又はその誘導体に由来するアミド結合を生成せし
めた成分を、透明基板の上に塗布、硬化することによっ
て作製されることを特徴とするエレクトロクロミック素
子が提供される。また、本発明によれば、前記紫外線吸
収層と透明導電膜の間にオーバーコート層を設けたこと
を特徴とするエレクトロクロミック素子が提供される。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明のエレクトロクロミック素
子は、少なくとも内側面に電極を有する一対の対向導電
基板と、イオン導電性物質と、エレクトロクロミック性
物質を含む層と、紫外線吸収層とにより基本的には構成
されている。本発明のエレクトロクロミック素子を構成
する対向導電基板は、少なくとも内側面に電極の機能を
有する基板であればよく、具体的には導電基板全体が電
極機能を有する材料により構成されたもの、基板と基板
の内側に配置した電極とを備えるもの等の何れであって
も良い。前記導電基板全体が電極機能を有する材料によ
り構成されたものの場合には、電極機能を有する材料と
して、鉄、銅、銀、アルミニウム、錫、鉛、金、亜鉛等
の金属の単体、またはこれらの各種合金等が挙げられ
る。前記基板と電極とを備える導電基板を採用する場合
の基板としては、平滑な面を有していれば特に限定はさ
れないが、一対の対向導電基板において少なくとも一方
の基板は透明基板であることが必須である。前記基板と
しては、具体的には、各種プラスチック、樹脂、ガラ
ス、木材、石材等を挙げることができる。また透明基板
は特に限定されず、例えば、無色あるいは有色ガラス、
強化ガラス等が用いられる他、無色あるいは有色の透明
性を有する樹脂でも良い。具体的には、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエー
テルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェ
ニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等が挙げられ
る。なお、本発明における透明とは、１０〜１００％の
透過率を有することであり、また、本発明における基板
は常温において平滑な面を有するものであり、その面は
平面あるいは曲面であってもよく、また応力によって変
形するものであってもよい。前記基板と電極を備える導
電基板を採用する場合の電極としては、本発明の目的を
果たすものである限り特に限定されないが、透明性を満
たすものが望ましく、前記一対の対向導電基板において
少なくとも一方を透明基板とした側の電極は透明電極と
する必要がある。また電極の形態は膜状または層状であ
ることが望ましい。前記電極としては例えば金、銀、ク
ロム、銅、タングステン等の金属薄膜、金属酸化物から
なる導電膜などが挙げられる。前記金属酸化物として
は、例えばＩＴＯ（Ｉｎ₂ Ｏ₃ - ＳｎＯ₂ ）、酸化錫、
酸化銀、酸化亜鉛、酸化バナジウム等が挙げられる。電
極の膜厚は、通常１００〜５０００オングストローム、
好ましくは５００〜３０００オングストロームが望まし
い。また、表面抵抗（抵抗率）は、本発明の基板の用途
により適宜選択できるが、通常、０. ５〜５００Ω／cm
² 、好ましくは１〜５０Ω／cm² が望ましい。前記電極
の形成法としては、特に限定されず、電極を構成する前
記金属および金属酸化物等の種類により適宜公知の方法
が選択できる。通常、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法あるいはゾルゲル法等で形成す
ることができる。何れの場合も、基板温度が通常１００
〜３５０℃の範囲内で形成することが望ましい。また、
前記電極には、酸化還元能の付与、導電性の付与、電気
二重層容量の付与の目的で、部分的に不透明な電極活物
質を付与することもできる。この際電極として透明電極
を採用する場合には、電極面全体の透明性を満たす範囲
で付与する必要がある。不透明な電極活物質としては、
例えば、銅、銀、金、白金、鉄、タングステン、チタ
ン、リチウム等の金属、ポリアニリン、ポリチオフェ
ン、ポリピロール、フタロシアニンなどの酸化還元能を
有する有機物、活性炭、グラファイトなどの炭素材、Ｖ
₂ Ｏ₅ 、ＷＯ₃ 、ＭｎＯ₂ 、ＮｉＯ、Ｉｒ₂ Ｏ₃ などの
金属酸化物またはこれらの混合物等を用いることができ
る。また、これらを電極に結着させるために、さらに各
種樹脂を用いても良い。この不透明な電極活物質等を電
極に付与するには、例えば、ＩＴＯ透明電極上に、活性
炭繊維、グラファイト、アクリル樹脂等からなる組成物
をストライプ状等の微細パターンに形成したり、金（Ａ
ｕ）薄膜上に、Ｖ₂ Ｏ₅ 、アセチレンブラック、ブチル
ゴム等からなる組成物をメッシュ状に形成したりするこ
とができる。

【０００６】本発明のエレクトロクロミック素子におい
て用いられるイオン伝導性物質は、前記対向導電基板の
間に挟持して設けられている。前記挟持して設ける方法
としては特に限定されず、真空注入法、大気注入法、メ
ニスカス法等によって対向導電基板の間に設けた間隙に
注入する方法や、スパッタリング法、蒸着法、ゾルゲル
法等によって導電基板の電極上にイオン伝導性物質の層
を形成した後、対向導電基板を合わせる方法やフィルム
状のイオン導電性物質を用いて合わせガラス化する方法
等を用いることができる。このイオン伝導性物質とは、
後述するエレクトロクロミック性物質を着色、消色、色
変化等をさせることができるものである限り特に限定さ
れないが、通常室温で１×１０^-7Ｓ／ｃｍ以上のイオン
伝導度を示す物質であるのが好ましい。イオン伝導性物
質としては、特に限定されなく、液系イオン伝導性物
質、ゲル化液系イオン伝導性物質あるいは固体系イオン
伝導性物質等を用いることができる。本発明において
は、特に固体系イオン伝導性物質が望ましい。前記液系
イオン導電性物質としては、溶媒に塩類、酸類、アルカ
リ類等の支持電解質を溶解したもの等を用いることがで
きる。前記溶媒としては、支持電解質を溶解できるもの
であれば特に限定されないが、特に極性をするものが好
ましい。具体的には水や、メタノール、エタノール、プ
ロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ジメチ
ルスルホキシド、ジメトキシエタン、アセトニトリル、
γ−ブチロラクトン、スルホラン、１、３ージオキサ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフランなどの有機極性溶媒が挙
げられ、好ましくは、プロピレンカーボネート、エチレ
ンカーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエ
タン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、スルホラ
ン、１、３ージオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフランな
どの有機極性溶媒が望ましい。これらは、使用に際して
単独もしくは混合物として使用できる。支持電解質とし
ての塩類は、特に限定されず、各種のアルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩などの無機イオン塩や４級アンモニ
ウム塩や環状４級アンモニウム塩などがあげられ、具体
的にはＬｉＣｌＯ₄ ，ＬｉＳＣＮ，ＬｉＢＦ₄ ，ＬｉＡ
ｓＦ₆ ，ＬｉＣＦ₃ ＳＯ₃ ，ＬｉＰＦ₆ 、ＬｉＩ、Ｎａ
Ｉ，ＮａＳＣＮ，ＮａＣｌＯ₄ ，ＮａＢＦ₄ ，ＮａＡｓ
Ｆ₆ ，ＫＳＣＮ，ＫＣｌ等のＬｉ，Ｎａ，Ｋのアルカリ
金属塩等や、（ＣＨ₃ ）₄ ＮＢＦ₄ ，（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄ Ｎ
ＢＦ₄ ，（ｎ−Ｃ₄ Ｈ₉ ）₄ ＮＢＦ₄ ，（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄
ＮＢｒ，（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄ ＮＣｌＯ₄ ，（ｎ−Ｃ₄ Ｈ₉ ）
₄ ＮＣｌＯ₄ 等の４級アンモニウム塩および環状４級ア
ンモニウム塩等、もしくはこれらの混合物が好適なもの
として挙げられる。支持電解質としての酸類は、特に限
定されず、無機酸、有機酸などが挙げられ、具体的には
硫酸、塩酸、リン酸類、スルホン酸類、カルボン酸類な
どが挙げられる。支持電解質としてのアルカリ類は、特
に限定されず、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウムなどが挙げられる。前記ゲル化液系イオン
伝導性物質としては、前記液系イオン伝導性物質に、さ
らにポリマーを含有させたり、ゲル化剤を含有させたり
して粘稠若しくはゲル状としたもの等を用いることがで
きる。前記ポリマーとしては、特に限定されず、例えば
ポリアクリロニトリル、カルボキシメチルセルロース、
ポリ塩化ビニル、ポリエチレンオキサイド、ポリウレタ
ン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアミ
ド、ポリアクリルアミド、セルロース、ポリエステル、
ポリプロピレンオキサイド、ナフィオンなどが挙げられ
る。前記ゲル化剤としては、特に限定されず、オキシエ
チレンメタクリレート、オキシエチレンアクリレート、
ウレタンアクリレート、アクリルアミド、寒天、などが
挙げられる。前記固体系イオン伝導性物質としては、室
温で固体であり、かつイオン導電性を有するものであれ
ば特に限定されず、ポリエチレンオキサイド、オキシエ
チレンメタクリレートのポリマー、ナフィオン、ポリス
チレンスルホン酸、Ｌｉ₃ Ｎ、Ｎａ- β- Ａｌ₂ Ｏ₃ 、
Ｓｎ（ＨＰＯ₄ ）₂ ・Ｈ₂ Ｏなどが挙げることができ、
特にオキシアルキレンメタクリレート系化合物、オキシ
アルキレンアクリレート系化合物またはウレタンアクリ
レート系化合物を重合することによって得られる高分子
化合物等を用いた高分子固体電解質が好ましい。

【０００７】前記高分子固体電解質の第１の例として
は、下記一般式（２）で示されるウレタンアクリレー
ト，前記有機極性溶媒，および前記支持電解質を含む組
性物（以下組成物Ａと略す）を固化することにより得ら
れる高分子固体電解質が挙げられる。

【化２】 （式中Ｒ¹ およびＲ² は同一または異なる基であって、
一般式（３）〜（５）から選ばれる基を示す。Ｒ³ およ
びＲ⁴ は同一または異なる基であって、炭素数１〜２
０、好ましくは２〜１２の２価炭化水素残基を示す。Ｙ
はポリエーテル単位、ポリエステル単位、ポリカーボネ
ート単位またはこれらの混合単位を示す。またｎは１〜
１００、好ましくは１〜５０、さらに好ましくは１〜２
０の範囲の整数を示す。）

【化３】

【化４】

【化５】 一般式（３）〜（５）に於いて、Ｒ⁵ 〜Ｒ⁷ は同一また
は異なる基であって、水素原子または炭素数１〜３のア
ルキル基を示す。またＲ⁸ は炭素数１〜２０の、好まし
くは炭素数２〜８の２〜４価有機残基を示す。かかる有
機残基としては、具体的には、アルキルトリル基、アル
キルテトラリル基、下記一般式（６）で示されるアルキ
レン基等の炭化水素残基が挙げられる。

【化６】 一般式（６）に於いて、Ｒ⁹ は炭素数１〜３のアルキル
基または水素を示し、p は０〜６の整数を示す。ｐが２
以上の場合Ｒ⁹ は同一でも異なっても良い。また前記の
炭化水素残基は、水素原子の一部が炭素数１〜６、好ま
しくは１〜３のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリー
ルオキシ基などの含酸素炭化水素基により置換されてい
る基でもよい。一般式（３）〜（５）に於けるＲ⁸ とし
ては具体的には、 等を好ましく挙げることができる。一般式（３）〜
（５）に於けるＲ³ 及びＲ⁴ で示される２価炭化水素残
基としては、鎖状２価炭化水素基、芳香族炭化水素基、
含脂環炭化水素基などが挙げられるが、鎖状２価炭化水
素基としては、先の一般式（６）で示されるアルキレン
基等を挙げることができる。また、前記芳香族炭化水素
基および含脂環炭化水素基としては、下記一般式（７）
〜（９）で示される炭化水素基等が挙げられる。

【化７】

【化８】

【化９】 一般式（７）〜（９）に於いて、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は同一
または異なる基であって、フェニレン基、置換フェニレ
ン基（アルキル置換フェニレン基等）、シクロアルキレ
ン基、置換シクロアルキレン基（アルキル置換シクロア
ルキレン基等）を示す。Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵は同一または異なる
基であって、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基
を示す。また、ｑは１〜５の整数を示す。一般式（２）
に於けるＲ³ およびＲ⁴ の具体例は、下記の一般式（１
０）〜（１６）で例示できる。

【化１０】

【化１１】

【化１２】

【化１３】

【化１４】

【化１５】

【化１６】 一般式（２）に於けるＹはポリエーテル単位、ポリエス
テル単位およびポリカーボネート単位またはこれらの混
合単位を示すが、このポリエーテル単位、ポリエステル
単位、ポリカーボネート単位及びこれらの混合単位とし
ては、それぞれ下記の一般式（ａ）〜（ｄ）で示される
単位を挙げることができる。

【化１７】

【化１８】

【化１９】

【化２０】 一般式（ａ）〜（ｄ）に於いて、Ｒ¹⁶〜Ｒ²¹は同一また
は異なる基であって、炭素数１〜２０、好ましくは２〜
１２の２価の炭化水素残基を示す。特にＲ¹⁹は炭素数２
〜６程度が好ましい。前記Ｒ¹⁶〜Ｒ²¹としては、直鎖ま
たは分岐のアルキレン基などが好ましく、具体的には、
Ｒ¹⁸としてはメチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチ
レン基、プロピレン基等が好ましい。また、Ｒ¹⁶〜Ｒ¹⁷
およびＲ¹⁹〜Ｒ²¹としてはエチレン基、プロピレン基な
どが好ましい。また、ｍは２〜３００、好ましくは１０
〜２００の整数を示す。また、ｒは１〜３００、好まし
くは２〜２００の整数、ｓは１〜２００、好ましくは２
〜１００の整数、ｔは１〜２００、好ましくは２〜１０
０の整数、ｕは１〜３００、好ましくは１０〜２００の
整数を示す。また、一般式（ａ）〜（ｄ）に於いて、各
単位は同一でも、異なる単位の共重合でも良い。即ち、
複数のＲ¹⁶〜Ｒ²¹が存在する場合、Ｒ¹⁶同志、Ｒ¹⁷同
志、Ｒ¹⁸同志、Ｒ¹⁹同志、Ｒ²⁰同志およびＲ²¹同志は同
一でも異なっても良い。前記共重合体の例としてはエチ
レンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合単位な
どが特に好適な例として挙げられる。前記一般式（２）
で示されるウレタンアクリレートの分子量は、２，５０
０〜３０，０００、好ましくは３，０００〜２０，００
０が望ましい。前記ウレタンアクリレート１分子中の重
合官能基数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２
〜４が望ましい。前記一般式（２）で示されるウレタン
アクリレートは、公知の方法により容易に製造すること
ができ、その製法は特に限定されるものではない。組成
物Ａに含まれる有機極性溶媒としては、極性を有し支持
電解質を溶解できるものであれば限定されないが、具体
的には、プロピレンカーボネート，エチレンカーボネー
ト，ブチレンカーボネート，γ−ブチロラクトン，スル
ホラン，１，３−ジオキサン，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド，１，２−ジメトキシエタン，アセトニトリル，
テトラヒドロフラン，等の単独または２種以上の混合物
が好適なものとして挙げられる。有機極性溶媒（有機非
水溶媒）の添加量はウレタンアクリレート１００重量部
に対して通常１００〜１２００重量部，好ましくは２０
０〜９００重量部％の割合である。有機非水溶媒の添加
量が少なすぎると，イオン伝導度も十分ではなく，また
有機非水溶媒の添加量が多すぎると機械強度が低下して
しまう場合がある。

【０００８】支持電解質としては、本発明の高分子固体
電解質の用途などその目的により適宜選択され、本発明
の目的を損なわない限り、特に限定されないが、先に例
示したものが好適なものとして挙げられる。添加量とし
ては有機非水溶媒に対し０．１〜３０重量％好ましくは
１〜２０重量％である。前記組成物Ａは、基本的には前
記ウレタンアクリレート，有機非水溶媒（有機極性溶
媒），および支持電解質からなる基本成分を固化するこ
とにより得られるが、かかる組成物の任意成分として本
発明の目的を損なわないさらに別の成分を必要に応じて
加えることができ、係る任意成分としては、例えば架橋
剤や重合開始剤（光または熱）などが挙げられる。前記
第１の例の高分子固体電解質は、組成物Ａを適宜公知の
方法により所望個所に注入した後、固化することにより
対向する導電基板の間に挟持させることができる。ここ
でいう固化とは、重合性または架橋性の成分などが、重
合（重縮合）や架橋の進行にともない硬化し、組成物全
体として常温において実質的に流動しない状態となるこ
とをいう。なお、この場合ネットワーク状の基本構造を
有する。

【０００９】また、前記高分子固体電解質の第２の例と
しては、下記一般式（１７）で表される単官能アクリロ
イル変性ポリアルキレンオキシド，多官能アクリロイル
変性ポリアルキレンオキシド，有機極性溶媒、および前
記支持電解質を含む組性物（以下組成物Ｂと略す）を固
化することにより得られる高分子固体電解質が挙げられ
る。

【化２１】 （式中，Ｒ²²，Ｒ²³，Ｒ²⁴およびＲ²⁵は，各々水素また
は１〜５の炭素原子を有するアルキル基であり，ｎは１
以上の整数を示す） 一般式（１７）に於いて、Ｒ²²，Ｒ²³，Ｒ²⁴およびＲ²⁵
は，各々水素または１〜５の炭素原子を有するアルキル
基であるが、そのアルキル基としては，メチル基，エチ
ル基，i-プロピル基，n-プロピル基，n-ブチル基，t-ブ
チル基，n-ペンチル基等が挙げられ、互いに同一でも異
なってもよく、特にＲ²²は水素、メチル基、Ｒ²³は水
素、メチル基、Ｒ²⁴は水素、メチル基、Ｒ²⁵は水素、メ
チル基、エチル基であることが好ましい。また，一般式
（１７）のｎは、１以上の整数、通常１≦ｎ≦１００、
好ましくは２≦ｎ≦５０、さらに好ましくは２≦ｎ≦３
０の範囲の整数を示す。一般式（１７）で示される化合
物としては、具体的には、オキシアルキレンユニットを
１〜１００、好ましくは２〜５０、さらに好ましくは１
〜２０の範囲で持つメトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート，メトキシポリプロピレングリコールメタ
クリレート，エトキシポリエチレングリコールメタクリ
レート，エトキシポリプロピレングリコールメタクリレ
ート，メトキシポリエチレングリコールアクリレート，
メトキシポリプロピレングリコールアクリレート，エト
キシポリエチレングリコールアクリレート，エトキシポ
リプロピレングリコールアクリレート、またはこれらの
混合物等を挙げることができる。また、ｎが２以上の場
合、オキシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる
共重合オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、
例えば、オキシエチレンユニットを１〜５０、好ましく
は１〜２０の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニッ
トを１〜５０、好ましくは１〜２０の範囲で持つところ
の、メトキシポリ（エチレン・プロピレン）グリコール
メタクリレート，エトキシポリ（エチレン・プロピレ
ン）グリコールメタクリレート，メトキシポリ（エチレ
ン・プロピレン）グリコールアクリレート，エトキシポ
リ（エチレン・プロピレン）グリコールアクリレート、
またはこれらの混合物などが挙げられる。本発明で使用
可能な多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド
としては、一般式（１８）で示される、いわゆる２官能
アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド及び一般式
（１９）で表される、いわゆる３官能以上の多官能アク
リロイル変性ポリアルキレンオキシドなどが挙げられ
る。

【化２２】 （式中、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸およびＲ²⁹は，各々水素また
は１〜５の炭素原子を有するアルキル基であり，ｍは１
以上の整数を示す。）

【化２３】 （式中，Ｒ³⁰，Ｒ³¹およびＲ³²は，各々水素または１〜
５の炭素原子を有するアルキル基であり，ｐは１以上の
整数を示し，ｑは２〜４の整数であり，Ｌはｑ価の連結
基を示す） 前記一般式（１８）において、式中のＲ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸
およびＲ²⁹は、各々水素または１〜５の炭素原子を有す
るアルキル基であるが、このアルキル基としては，メチ
ル基，エチル基，i-プロピル基，n-プロピル基，n-ブチ
ル基，t-ブチル基，n-ペンチル基等が挙げられる。特に
Ｒ²⁶は水素、メチル基、Ｒ²⁷は水素、メチル基、Ｒ²⁸は
水素、メチル基、Ｒ²⁹は水素、メチル基であることが好
ましい。また，一般式（１８）中のｍは，１以上の整
数、通常１≦ｍ≦１００、好ましくは２≦ｍ≦５０、さ
らに好ましくは２≦ｍ≦３０の範囲の整数を示すが、そ
うした化合物の具体例は、オキシアルキレンユニットを
１〜１００、好ましくは２〜５０、さらに好ましくは１
〜２０の範囲で持つポリエチレングリコールジメタクリ
レート，ポリプロピレングリコールジメタクリレート，
ポリエチレングリコールジアクリレート，ポリプロピレ
ングリコールジメタクリレート、またはこれらの混合物
等を挙げることができる。また、ｍが２以上の場合、オ
キシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる共重合
オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、例え
ば、オキシエチレンユニットを１〜５０、好ましくは１
〜２０の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを
１〜５０、好ましくは１〜２０の範囲で持つところの、
ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールジメタクリレ
ート，ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールジアク
リレート、またはこれらの混合物などが挙げられる。一
般式（１９）に於けるＲ³⁰，Ｒ³¹およびＲ³²は，各々水
素または１〜５の炭素原子を有するアルキル基である
が、このアルキル基としては，メチル基，エチル基，i-
プロピル基，n-プロピル基，n-ブチル基，t-ブチル基，
n-ペンチル基等が挙げられる。特にＲ³⁰，Ｒ³¹およびＲ
³²は水素、メチル基が好ましい。また，式中のｐは，１
以上の整数、通常１≦ｐ≦１００、好ましくは２≦ｐ≦
５０さらに好ましくは２≦ｐ≦３０の範囲の整数を示す
ものである。ｑは連結基Ｌの連結数であり，２≦ｑ≦４
の整数を示す。連結基Ｌとしては、通常、炭素数１〜３
０、好ましくは１〜２０の二価、三価または四価の炭化
水素基である。二価炭化水素基としては、アルキレン
基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルア
リーレン基、またはこれらを基本骨格として有する炭化
水素基などが挙げられ、具体的には、 などが挙げられる。また、三価の炭化水素基としては、
アルキルトリル基、アリールトリル基、アリールアルキ
ルトリル基、アルキルアリールトリル基、またはこれら
を基本骨格として有する炭化水素基などが挙げられ、具
体的には などが挙げられる。また、四価の炭化水素基としては、
アルキルテトラリル基、アリールテトラリル基、アリー
ルアルキルテトラリル基、アルキルアリールテトラリル
基、またはこれらを基本骨格として有する炭化水素基な
どが挙げられ、具体的には 等が挙げられる。こうした化合物の具体例としては、オ
キシアルキレンユニットを１〜１００、好ましくは２〜
５０、さらに好ましくは１〜２０の範囲で持つトリメチ
ロールプロパントリ（ポリエチレングリコールアクリレ
ート），トリメチロールプロパントリ（ポリエチレング
リコールメタクリレート），トリメチロールプロパント
リ（ポリプロピレングリコールアクリレート），トリメ
チロールプロパントリ（ポリプロピレングリコールメタ
クリレート），テトラメチロールメタンテトラ（ポリエ
チレングリコールアクリレート），テトラメチロールメ
タンテトラ（ポリエチレングリコールメタクリレー
ト），テトラメチロールメタンテトラ（ポリプロピレン
グリコールアクリレート），テトラメチロールメタンテ
トラ（ポリプロピレングリコールメタクリレート），
２，２−ビス［４−（アクリロキシポリエトキシ）フェ
ニル］プロパン，２，２−ビス［４−（メタクリロキシ
ポリエトキシ）フェニル］プロパン，２，２−ビス［４
−（アクリロキシポリイソプロポキシ）フェニル］プロ
パン，２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリイソプ
ロポキシ）フェニル］プロパン、またはこれらの混合物
等を挙げることができる。また、ｐが２以上の場合、オ
キシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる共重合
オキシアルキレンユニットを持つものでもよく、例え
ば、オキシエチレンユニットを１〜５０、好ましくは１
〜２０の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを
１〜５０、好ましくは１〜２０の範囲で持つところの、
トリメチロールプロパントリ（ポリ（エチレン・プロピ
レン）グリコールアクリレート），トリメチロールプロ
パントリ（ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールメ
タクリレート），テトラメチロールメタンテトラ（ポリ
（エチレン・プロピレン）グリコールアクリレート），
テトラメチロールメタンテトラ（ポリ（エチレン・プロ
ピレン）グリコールメタクリレート），またはこれらの
混合物などが挙げられる。もちろん、前記一般式（１
８）で示される２官能アクリロイル変性ポリアルキレン
オキシドと前記一般式（１９）で表される３官能以上の
多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドを併用
してもよい。一般式（１８）で示される化合物と一般式
（１９）で示される化合物を併用する場合、その重量比
は通常０．０１／９９．９〜９９．９／０．０１、好ま
しくは１／９９〜９９／１、さらに好ましくは２０／８
０〜８０／２０の範囲が望ましい。本発明に使用される
一般式（１）で示される化合物と多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシドの重量比は通常１／０．００
１〜１／１，好ましくは１／０．０５〜１／０．５の範
囲である。前記極性有機溶媒の配合割合としては、一般
式（２）で示される化合物および多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシドの重量和に対して通常５０〜
８００重量％，好ましくは１００〜５００重量％の範囲
が望ましい。また、前記支持電解質の配合割合は，一般
式（２）で示される化合物，多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドおよび極性有機溶媒の重量和に対
して通常１〜３０重量％，好ましくは３〜２０重量％の
範囲である。前記組成物Ｂは、これらの各成分の他に、
任意成分として、本発明を損なわない限り、さらに別の
成分を必要に応じて加えることができる。任意成分とし
ては、特に限定されないが、光重合のための光重合開始
剤や熱重合するための熱重合開始剤等を挙げることがで
きる。本発明に使用される重合開始剤の使用量は，一般
式（１）で示される化合物および、多官能アクリロイル
変性ポリアルキレンオキシドの重量和に対して通常０．
００５〜５重量％，好ましくは０．０１〜３重量％の範
囲である。

【００１０】前記第２の例の高分子固体電解質は、組成
物Ｂを適宜公知の方法により所望個所に注入した後、固
化することにより対向する導電基板の間に挟持させるこ
とができる。ここでいう固化とは、重合性または架橋性
の成分、例えば単官能または多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドなどが、重合（重縮合）や架橋の
進行にともない硬化し、組成物全体として常温において
実質的に流動しない状態となることをいう。なお、この
場合、通常単官能または多官能アクリロイル変性ポリア
ルキレンオキシドはともににネットワーク状の基本構造
をとる。もちろん、本発明のイオン伝導性物質において
は、これらに限定されるものではない。

【００１１】本発明のエレクトロクロミック素子におい
ては、前記導電基板の内側面の電極および前記イオン導
電性物質の間の少なくとも一方にエレクトロクロミック
性物質を含む層を設けている。このエレクトロクロミッ
ク性物質とは、電気化学的な酸化、あるいは還元反応等
によって着色、消色、色変化などを示す物質であり、本
発明の目的を達するものである限り特に限定されない
が、Ｍｏ₂ Ｏ₃ 、Ｉｒ₂Ｏ₃ 、ＮｉＯ、Ｖ₂ Ｏ₅ 、ＷＯ
₃ 、ビオロゲン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ
ピロール、金属フタロシアニンなどが好適なものとして
あげられる。前記エレクトロクロミック性物質を含有す
る層とは、前記エレクトロクロミック性物質のみからな
る層（膜）でもよく、またエレクトロクロミック性物質
とマトリックス成分に分散させてえられる層（膜）でも
よいが、エレクトロクロミック性物質のみからなる層
（膜）がより好ましい。前記エレクトロクロミック性物
質を含有する層の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１μｍ、好
ましくは５０〜８００ｎｍが望ましい前記エレクトロク
ロミック性物質を含有する層の形成方法としては、特に
限定されず、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッ
タリング法、電解重合法、ディップコート法、スピンコ
ート法等の種々の既知の方法を用いることができる。本
発明のエレクトロクロミック素子おいては、前記対向導
電基板の少なくとも一方を透明基板およびこの透明基板
の内側に配した透明電極を備える透明導電基板とする必
要がある。そして透明導電基板の少なくとも一方の透明
基板と透明電極の間に紫外吸収層を設けている。この具
体的態様としては、一対の対向導電基板の基板と電極と
が全て透明であるエレクトロクロミック素子の場合、透
明基板と透明電極の間の少なくとも一方または両方に前
記紫外線吸収層が設けられている。また、透明基板と透
明電極を備える透明導電基板と、基板および／または電
極が不透明である透明でない導電基板からなる場合、透
明基板と透明電極の間には前記紫外線吸収層が必ず設け
られる。この場合、透明でない導電基板の基板と電極と
の間にも前記紫外線吸収層を設けても良い。前記紫外線
吸収層は、前述の通り、少なくとも、（ａ）上記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導体
（以下、「成分Ａ」と称す）と、（ｂ）分子内にカルボ
キシル基を有する紫外線吸収剤（以下「成分Ｂ」と称
す）とを反応させ、前記アミノシラン又はその誘導体に
由来するアミド結合を生成せしめた成分を，透明基板の
上に塗布、硬化することによって作製されることを特徴
とする。本発明において成分Ａとして用いるアミノシラ
ン化合物としては、下記一般式（１）に示すものであ
る。

【化２４】 一般式（１）に於いて、Ｒ¹ は炭素数１〜１０、好まし
くは１〜５のアルキレン基、または一般式−（ＣＨ₂ ）
_m −ＮＨ−［ｍは１≦ｍ≦４の整数］で表される２価の
基を示す。該アルキレン基としては具体的にはメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基等が例
示される。各々のＲ² は同一若しくは異なる基であっ
て、水素原子、水酸基、塩素、臭素等のハロゲン原子、
炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキル基若しく
はアルコキシ基、または炭素数６〜１０、好ましくは６
〜８のアリール基を示す。但し、全てのＲ² のうち少な
くとも一つはアルコキシ基若しくは水酸基である。前記
Ｒ² のアルキル基としてはメチル基、エチル基。プロピ
ル基、i-プロピル基等が例示でき、アリール基としては
フェニル基、トリル基などが例示できる。アルコキシ基
としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プ
ロポキシ基等が例示できる。ｎはｎ≧０、好ましくは０
≦ｎ≦３の整数を示す。一般式（１）で示されるアミノ
シラン化合物の好適な例としては、３- アミノプロピル
トリエトキシシラン、３- アミノプロピルジイソプロピ
ルエトキシシラン、３- アミノプロピルメチルジエトキ
シシラン、３- アミノプロピルトリクロロシラン、３-
アミノプロピルポリジメチルシロキサン、Ｎ- （２- ア
ミノエチル）- ３- アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、３- アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエト
キシ）シラン等が挙げられる。また、アミノシラン化合
物の誘導体としては、前記好適な化合物の加水分解物等
が好ましく挙げられる。これらのアミノシラン化合物又
はその誘導体である成分Ａは公知の方法により製造でき
る。また、本発明においては、一般式（１）で示される
アミノシラン化合物の誘導体を用いることもできる。か
かる誘導体としては、前記化合物の加水分解物が好まし
いものとして挙げられる。

【００１２】成分Ｂとして用いる分子内にカルボキシル
基を有する紫外線吸収剤としては、分子の側鎖にカルボ
キシル基を１個または２個以上有する化合物が挙げら
れ、例えばベンゾトリアゾール骨格またはベンゾフェノ
ン骨格を有する化合物等が挙げられる。ベンゾトリアゾ
ール骨格を有する化合物としては、下記一般式（２０）
により表される化合物が好適に挙げられる。

【化２５】 一般式（２０）中のＲ³ は、水素原子、ハロゲン原子ま
たは炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基を
示す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等、該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、シク
ロヘキシル基等が例示できる。Ｒ³ の置換位置として
は、ベンゾトリアゾール骨格の４位または５位である
が、ハロゲン原子及びアルキル基は通常４位に位置す
る。式中のＲ⁴ は、水素原子または炭素数１〜１０、好
ましくは１〜６のアルキル基を示す。アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、
ブチル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基等が例示でき
る。式中のＲ⁵ は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３
のアルキレン基または、アルキリデン基を示す。アルキ
レン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレ
ン基、プロピレン基等が、アルキリデン基としては、エ
チリデン、プロピリデン基等が挙げられる。一般式（２
０）で示される化合物としては、３−（５−クロロ−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−
ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン
酸、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４
−ヒドロキシベンゼンエタン酸、３−（５−メチル−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１−メチ
ルエチル）−４−ヒドロキシベンゼンプロパン酸等が挙
げられる。

【００１３】前記ベンゾフェノン骨格を有する化合物と
しては、下記一般式（２１）〜（２４）にて示されるベ
ンゾフェノン系化合物等が好適に挙げられる。

【化２６】

【化２７】

【化２８】

【化２９】 一般式（２１）〜（２４）に於いて、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は、
同一若しくは異なる基であって、水素原子、水酸基、炭
素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基又はアル
コキシ基を示す。ｎ、ｍは、０≦ｍ≦３、０≦ｎ≦３の
範囲の整数を示す。アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチ
ル基、シクロヘキシル基等が、アルコキシ基としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ
基、ブトキシ基等が具体的に例示される。式中Ｒ⁶ は、
炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキレン基又
は、アルキリデン基を示す。アルキレン基としては、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基
等が、アルキリデン基としてはエチリデン基、プロピリ
デン基等が挙げられる。このようなベンゾフェノン骨格
を有する化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−カルボン酸、２，２’
−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−カ
ルボン酸、４−（２−ヒドロキシベンゾイル）−３−ヒ
ドロキシベンゼンプロパン酸等が好適に挙げられる。前
記ベンゾトリアゾール骨格又はベンゾフェノン骨格を有
する紫外線吸収剤は公知の方法により製造できる。

【００１４】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいて、前記成分Ａと成分Ｂとを少なくとも反応させ
て、成分Ａに由来するアミド結合を生成せしめる反応は
通常脱水反応が主である。この際、反応により生成する
アミド結合の量は、特に限定されないが、通常、成分Ａ
の全アミノシランの１０モル％以上、好ましくは、５０
モル％以上に対してアミド結合が生じるようにすれば良
く、上限は通常１００モル％であるが、上限が１００モ
ル％未満でも差し支えない。

【００１５】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいては、上記のとおり、少なくとも成分Ａおよび成分
Ｂを反応させれば良いが、係る反応の際、または反応後
に本発明の目的を損なわない範囲で任意成分をさらに共
存・添加してもよい。次にこれらの任意成分について説
明する。任意成分の一例としてはシリコーン樹脂（以
下、「成分Ｃ」と称す）が挙げられる。成分Ｃとしては
反応性シリコーン樹脂、即ち、成分Ａのアルコキシシリ
ル基部分と反応（通常脱水反応および／または脱アルコ
ール反応等）しうる官能基を有するシリコーン樹脂が好
ましい。官能基としてはアルコキシシリル基やシラノー
ル基等が好ましい。このような反応性シリコーン樹脂
は、一般的にアルコキシシランやクロロシラン類の部分
加水分解反応とそれに続く縮合反応によって容易に合成
することができる。市販品では、純シリコーンワニス
（例えば、商品名「ＸＯ７９３１−クリヤー」：オキツ
モ（株）製）、シリコーンレジン（例えば、商品名「Ｓ
Ｒ２４１０」：東レ・ダウコーニングシリコーン（株）
製）、アクリル変性シリコーン樹脂（例えば、商品名
「サイラコート１０００」：チッソ（株）製）等が好適
に挙げられる。また、シリコーン樹脂を本発明の目的を
損なわない範囲で各種溶剤を用いた溶液の形で用いるこ
とができる。溶剤としては、特に限定されないが、各種
炭化水素系溶剤、ケトン類、エーテル類、エステル類、
エーテル・エステル類などが挙げられる。また、シリコ
ーン樹脂を各種変性したものを用いても良い。成分Ｃ
は、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際、または反応後のい
ずれにおいても共存させられるが、成分Ａおよび成分Ｂ
の反応の際に共存させることが特に好ましい。

【００１６】前記任意成分の他の例としては、各種のエ
ポキシシラン類（以下「成分Ｄ」と称す）が挙げられ、
好ましくは下記一般式（２５）〜（２６）に示すような
エポキシシラン類が挙げられる。

【化３０】

【化３１】 一般式（２５）〜（２６）に於いて、Ｒ⁹ およびＲ¹¹は
同一若しくは異なる基であって、炭素数１〜１０、好ま
しくは１〜５のアルキレン基又は、式−Ｒ−Ｏ−Ｒ' −
（但し、Ｒ及びＲ' は各々炭素数１〜１０、好ましくは
１〜５のアルキレン基を示す）により示される２価の基
を示し、各々のＲ¹⁰は、同一若しくは異なる基であっ
て、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０、好ましくは１〜５のアルキル基若しくはアルコキシ
基、または炭素数６〜１０好ましくは６〜８のアリール
基を示す。但し、全てのＲ¹⁰のうち少なくとも１つはア
ルコキシ基若しくは水酸基である。ｎはｎ≧０、好まし
くは０≦ｎ≦３の整数を示す。前記アルキレン基として
は、メチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等
が好適に例示できる。前記アルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、
t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、、
オクチル基等が好適に挙げられ、前記アルコキシ基とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキ
シ基等が挙げられ、前記アリール基としては、フェニル
基、トリル基等が挙げられる。

【００１７】成分Ｄとしては、３- グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、ジメトキシ- ３- グリシドキシ
プロピルメチルシラン、２- （３，４- エポキシシクロ
ヘキシルエチル）トリメトキシシラン、ジメチルエトキ
シ- ３- グリシドキシプロピルシラン、１，３−ビス
（３−グリシドキシプロピル）−１，３−ジメチル−
１，３−ジメトキシジシロキサン又はこれらの混合物等
が好適に挙げられる。成分Ｄは、予め加水分解して用い
ても良い。また予め適当な重合触媒でエポキシ基を開環
重合させて用いることもできる。重合触媒としては、三
フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウ
ム、ジエチル亜鉛等のルイス酸触媒が好適である。ま
た、エポキシ基を開環重合させる際の重合条件は特に限
定されないが、通常、−８０℃〜１３０℃、好ましくは
−２０℃〜８０℃程度が望ましく、反応時間は反応条
件、反応様式等により適宜選択でき、通常１０分〜１０
時間、好ましくは１時間〜６時間程度が望ましい。この
際用いる溶媒は特に限定されないが、例えば、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、各種のケトン類
やエステル類等が挙げられる。成分Ｄは、成分Ａおよび
成分Ｂの反応の際、または反応後のいずれにおいても共
存させられるが、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加え
ることが好ましい。但し、前記予め成分Ｄのエポキシ基
を開環重合させたものを用いる場合には、成分Ａ及び成
分Ｂの反応の際に加えるのが好ましい。

【００１８】他の任意成分としては、ポリエーテル変性
ポリシロキサン類（以下「成分Ｅ」と称す）が挙げら
れ、好ましくは、下記一般式（２７）で示されるポリエ
ーテル変性ポリシロキサン類が例示される。

【化３２】 一般式（２７）に於いて、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は同一
若しくは異なる基であって、炭素数１〜１０、好ましく
は１〜５のアルキレン基を示し、各々のＲ¹⁵は同一若し
くは異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原
子、炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキル基若
しくはアルコキシ基、または炭素数６〜１０好ましくは
６〜８のアリール基を示す。またＲ¹⁵のうち少なくとも
一つはアルコキシ基である。ｍ、ｎ、ｐは、各々ｍ≧
０、好ましくは０≦ｍ≦１００、ｎ≧０、好ましくは０
≦ｎ≦１０、ｐ≧０、好ましくは０≦ｐ≦１０の整数を
示す。前記アルキレン基としては、メチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基などが好適に挙げられる。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、、オクチル基等が好適に
挙げられる。前記アルコキシ基としては、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、t-ブトキシ
基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ
る。前記アリール基としては、フェニル基、トリル基等
が挙げられる。このような、一般式にて表される成分Ｅ
としては、具体的には、テトラエチレングリコール- ビ
ス（トリエトキシシリルエチル）エーテル、ポリエチレ
ングリコール- ビス（トリエトキシシリルエチル）エー
テル、ポリプロピレングリコール- ビス（トリエトキシ
シリルエチル）エーテル又はこれらの混合物が挙げられ
る。成分Ｅとしては、予め加水分解したものを用いても
良い。成分Ｅは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際、また
は反応後のいずれにおいても共存させられるが、成分Ａ
および成分Ｂの反応の際に加えるのが好ましい。任意成
分として特に、前記成分Ｄのエポキシシラン類や成分Ｅ
のポリエーテル変性ポリシロキサン類を用いることによ
り、当該基板上の紫外線吸収性被膜は、耐熱性を損なう
ことなく基板への密着性が改善され、厚膜にしても割れ
にくくなる等、さらに優れた効果を奏する。

【００１９】他の任意成分としては、無機微粒子分散液
（以下、「成分Ｆ」と称す）が挙げられる。成分Ｆとし
ては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、酸化チ
タン、酸化アンチモン等の微粒子の分散液等が挙げられ
る。微粒子の粒子径は１〜１００nm程度であり、分散媒
としては水、メタノール、キシレン、メチルエチルケト
ン、等が挙げられる。市販品ではＬＵＤＯＸ L Ｓ（デ
ュポン社製）や、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学社製）などが
好適に挙げられる。成分Ｆは、成分Ａおよび成分Ｂの反
応の際、または反応後のいずれにおいても共存させられ
るが、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加えることが好
ましい。成分Ｆを加えることで，表面硬度を改善し，耐
摩耗性，耐薬品性などを向上させることができる。な
お、任意成分はいずれも公知の方法により製造できる。

【００２０】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいては、前述のとおり、少なくとも、成分Ａと成分Ｂ
とを反応させるか、若しくは必要に応じて前記任意成分
の共存下反応させることにより容易に製造することがで
きる。この反応条件は、成分Ａに由来するアミド結合が
生成する条件であれば特に限定されなく、その条件は適
宜選択されるところであるが、通常、成分Ａおよび成分
Ｂ、さらに所望により任意成分を溶媒中にて混合したの
ち、溶媒の存在下において、室温〜３５０℃、好ましく
は６０〜２５０℃において、通常５分〜５０時間、好ま
しくは１０分〜１５時間の条件で好適に行うことができ
る。これらの反応操作は繰り返し行うことができる。こ
の反応に用いる溶媒としては、本発明の目的を損なわな
い限り特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレ
ン等の芳香族系溶剤や、シクロヘキサノン等のケトン系
溶剤、またはこれらの混合物が挙げられる。溶媒は、反
応後除去してもよく、除去せずに溶液の状態でも良い。
前記反応において、成分Ａと成分Ｂとの使用割合は、特
に限定されないが、成分Ｂの使用量が、成分Ａと成分Ｂ
との総量に対し、通常５〜９０質量％、好ましくは１０
〜８０質量％の範囲で任意に選択することができる。塗
布成分（反応混合物）は、このような反応終了後直ち
に、そのままの形態で塗布に供してもよく、また上記の
反応終了後、即ち塗布成分を得た後、各種成分を加えた
ものを塗布液として使用することもできる。各種成分と
しては、本発明の目的を損なわない限り、特に限定され
ないが、例えば、酸化防止剤、クエンチャーもしくはラ
ジカル捕捉剤、または塩酸、硫酸、酢酸などの無機酸や
有機酸、３フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、６フ
ッ化アンチモン酸ナトリウム等のルイス酸、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、アニリン
などの塩基、ジブチルスズジラウレート、チタンテトラ
イソプロポキサイドなどの有機金属に例示されるよう
な、硬化促進作用を有するする触媒（紫外線吸収材料に
対して、通常０．１〜５．０質量％であることが好まし
い）、トルエン、キシレン、エタノール、イソプロパノ
ール、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、１−
メトキシ−２−アセトキシプロパン等、各種シンナー等
の溶剤、などを加えることもでき、これらの成分を加え
たものを塗布液として使用することもできる。また、任
意成分であるシリコーン樹脂の使用量としては、特に限
定されないが、成分Ａと成分Ｂの総量１００質量部に対
して、５〜３００質量部、好ましくは２０〜１５０質量
部が望ましい。また、エポキシシラン類の使用量として
は、特に限定されないが、成分Ａと成分Ｂの総量１００
質量部に対して、１０〜５００質量部、好ましくは１０
０〜４００質量部が望ましい。また、ポリエーテル変性
ポリシロキサン類の使用量としては、特に限定されない
が、成分Ａと成分Ｂの総量１００質量部に対して、１０
〜５００質量部、好ましくは１００〜４００質量部が望
ましい。また、無機微粒子分散液の使用量としては、特
に限定されないが、成分Ａと成分Ｂの総量１００質量部
に対して、５〜４００質量部、好ましくは１０〜２００
質量部が望ましい。

【００２１】本発明の特定の紫外線吸収層は、かくして
得られた塗布成分を，透明基板の上に塗布、硬化するこ
とによって得られる。塗布成分は通常、液状であり、そ
の塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法が選択
されるところである。例えば、スピンコート、スプレー
コート、ディップコート、キャストコート、ブレードコ
ート、フローコートなどが、目的に応じて適宜使用され
る。硬化反応は、前記硬化促進作用を有する触媒を用い
た場合は、通常室温から２５０℃、好ましくは４０℃〜
２００℃程度で硬化させることができる。また該触媒を
用いなくても通常室温〜３５０℃、好ましくは６０℃〜
２５０℃で加熱することによって硬化させることができ
る。硬化に要する時間は、適宜選択されるところである
が、通常１０分〜５時間程度である。透明基板上に形成
される紫外線吸収層の膜厚は、特に限定されなく適宜選
択されるところであるが、通常０. ５〜５０μｍ程度の
範囲内で用いられる。０. ５μｍ以下では充分な紫外線
遮断能力を出すことが難しい場合があり、５０μｍ以上
では亀裂を生じさせずに塗布するのが難しい場合があ
る。また透明電極形成時に有機紫外線吸収剤を保護する
目的で、紫外線吸収層と透明電極との間にオーバーコー
ト層を設けることも行われる。したがって、オーバーコ
ート層に用いられるポリマーは、透明電極形成時に安定
且つ平滑であるものが望ましい。オーバーコート層とし
ては特に限定はしないが、通常耐熱性に優れた樹脂が用
いられる。具体的には、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォ
ン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコーンワニスなどのシリコーン樹脂、尿素樹脂などが
挙げられ、これらの中でもシリコーン樹脂のオーバーコ
ート剤が最適である。またこれらを組み合わせて用いて
も良い。ガラスフィラーや無機粉体と共用することも行
われる。無機粉体としては、通常ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、Ｃ
ｅＯ₂ 、シリカなどの微粒子が用いられる。シリコーン
樹脂オーバーコート剤としてはコロイダルシリカなどの
無機微粒子を分散させたシリコーンレジン系やアルコキ
シシラン，クロロシランなどのシラン類の部分加水分解
生成物及び部分重縮合生成物などが挙げられる。具体的
には，市販品ではトスガード510 （東芝シリコーン製）
やAPZ7703 、APZ7705（日本ユニカー製）、Ｎ- Ｌ１１
０，Ｎ- Ｌ７１０等のポリシラザン（東燃製）が挙げら
れる。またエポキシシランの部分加水分解生成物もオー
バーコート剤として耐摩耗性などが優れていることが知
られている。オーバーコート層の形成法としては、特に
限定されなく適宜公知の方法が選択されるところである
が、通常、オーバーコート層を構成する樹脂の溶液、あ
るいは前駆体からなる溶液を塗布することによって得ら
れる。塗布後はそれぞれの樹脂の性質によって必要な処
理がなされ、オーバーコート層が得られる。また上記樹
脂からなるフィルムを貼る方法も行われる。具体的に
は、例えばシリコーンワニスを用いた場合、ジブチルス
ズジラウリレートなどの触媒を加え、塗布した後１００
〜２００℃程度で５分〜２時間程度加熱硬化すること
で、１〜２０μｍのオーバーコート層を得ることができ
る。また、例えばアクリル−メラミン樹脂前駆体を用い
た場合には、塗布した後１３０〜１９０℃で５分〜２時
間程度加熱硬化することで、１０〜１００μｍのオーバ
ーコート層を得ることができる。また光硬化型のアクリ
ル系樹脂前駆体などを用いた場合には、塗布した後、高
圧水銀灯照射下に置くことによって通常５分以内に１〜
１０μｍのオーバーコート層を得ることができる。塗布
方法としては、既知の方法が用いられる。例えばスピン
コート、スプレーコート、キャストコート、ブレードコ
ート、ディップコートなどが挙げられる。また，オーバ
ーコート作製前に光表面改質やプライマー処理を施すこ
とで，オーバーコート材の塗れ性改善や，オーバーコー
ト層の紫外線吸収層への密着性を改善することもでき
る。

【００２２】本発明のエレクトロクロミック素子は、少
なくとも一方が透明導電基板である一対の対向導電基
板、イオン導電性物質、エレクトロクロミック性物質を
含有する層、および紫外線吸収層によって構成している
が、その具体的形態を、図面を参照してさらに詳細に説
明する。本発明のエレクトロクロミック素子の最も単純
な形態の例としては、図１に示すように、透明基板１ａ
と、その内側に位置する透明電極２ａとこれらの間に形
成した紫外線吸収層３とを備える透明導電基板Ａ、並び
に透明基板１ｂと、その内側に位置する透明電極２ｂと
を備える透明導電基板Ｂを対向して配置しており、透明
導電基板Ｂの透明電極２ｂ内側にエレクトロクロミック
層４が形成されており、透明基板Ａと、エレクトロクロ
ミック層４が形成された透明導電基板Ｂとの間にイオン
導電性物質６を挟持して、イオン導電性物質６の層をシ
ール剤５で密封したエレクトロクロミック素子を挙げる
ことができる。また図２に示すように、透明基板１ａと
紫外線吸収層３との間に、１層以上の中間層７を設ける
こともできる。中間層７の機能は特に限定されないが、
例えば有機紫外線吸収剤種類によっては遠紫外線により
有機紫外線吸収剤が劣化する場合があるので、その劣化
を抑制する目的で、ＺｎＯ、ＣｅＯ₂ 、ＴｉＯ₂ などの
無機酸化物を含む紫外線吸収層を設けたり、あるいは、
紫外線吸収層３と透明基板１ａとの密着性を向上させる
目的で、シランカップリング剤や界面活性剤などを含む
中間層７を設けたりすることができる。尚、図２におい
て図１と同一番号で示す部材は同一のものであるので説
明を省略する。さらに図３に示すように、紫外線吸収層
３と透明電極２ａとの間にオーバーコート層８を設ける
こともできる。オーバーコート層８の機能は特に限定さ
れないが、例えば透明電極２ａ作成時に紫外線吸収層３
を保護する目的や、エレクトロクロミック素子組立後の
透明電極２ａと紫外線吸収層３とを電気的に絶縁する目
的で設けることができる。尚、図３において図１と同一
番号で示す部材は同一のものであるので説明を省略す
る。さらに図４に示すように、透明電極１ａと紫外線吸
収層３との間に中間層７を設けると共に、紫外線吸収層
３と透明電極２ａとの間にオーバーコート層８を設ける
こともできる。尚、図４において図１〜３と同一番号で
示す部材は同一のものであるので説明を省略する。ま
た、図５に示すように、図１〜４の透明導電基板Ａの代
わりに、透明でない不透明基板９と透明でない不透明電
極からなる導電基板Ｃを設けることもできる。尚、図５
において図１と同一番号で示す部材は同一のものである
ので説明を省略する。本発明のエレクトロクロミック素
子を構成する各膜および層の形成方法としては、特に限
定されるものではなく、各膜および層を前述の製法に従
い順次作成することができる。例えば、図１に示す構成
のエレクトロクロミック素子の場合、透明基板１ａ上に
前述の方法により紫外線吸収層３、透明電極２ａを順次
形成し、透明導電基板Ａを得る。次に、もう一枚の透明
導電基板１ｂ上に前述の方法により透明電極２ｂおよび
エレクトロクロミック層４を形成し、透明導電基板１ｂ
を得る。これら透明導電基板（１ａ，１ｂ）を１〜１０
００μｍ程度の間隔で対向させ、注入口を除いた周囲を
シール剤５でシールする。イオン伝導性物質６を前述の
方法で注入し、エレクトロクロミック素子を得ることが
できる。 前記透明導電基板（１ａ，１ｂ）を対向させ
る際、間隔を一定に確保するためにスペーサーを用いる
ことができる。スペーサーとしては特に限定されない
が、ガラス、ポリマー等で構成されるビーズまたはシー
トを用いることができる。スペーサーは、対向する導電
基板の間隙に挿入したり、導電基板の電極上に樹脂等の
絶縁物で構成される突起状物を形成する方法等より設け
ることができる。また、イオン導電性物質６を形成する
方法は、例えば前記固体系イオン導電性物質の前駆体等
を対向する導電基板の間隙に注入し、その後硬化させる
方法等により形成することができる。硬化方法として
は、特に限定されないが、光による方法、熱による方
法、経時的に硬化する反応液を注入直前に混合した後、
直ちに注入し硬化させる方法等が挙げられる。また、図
２に示す構成のエレクトロクロミック素子の場合、透明
基板１ａ上に中間層７を形成し、以後図１に示す構成の
場合と同様の手順によりエレクトロクロミック素子を得
ることができる。図３に示す構成のエレクトロクロミッ
ク素子の場合、透明基板１ａ上に紫外線吸収層３を形成
した後、オーバーコート層７を形成し、以後図１に示す
構成の場合と同様の手順によりエレクトロクロミック素
子を得ることができる。また図４に示す構成のエレクト
ロクロミック素子の場合、透明基板１ａ上に中間層７、
紫外線吸収層３、オーバーコート層８を順次形成し、以
後図１に示す構成の場合と同様の手順によりエレクトロ
クロミック素子を得ることができる。

【００２３】

【発明の効果】本発明のエレクトロクロミック素子は、
透明基板と透明電極との間に紫外線吸収層を備えてお
り、屋外での使用にも耐えうる耐久性、耐紫外線性を有
する。また、安価に製造することができる。さらに該紫
外線吸収層中の有機紫外線吸収剤と母材とが化学的に結
合しているため、透明電極形成時における紫外線吸収層
の安定性を保持することができる。特に紫外線吸収層を
適宜選択することにより、４００nm以下の波長を極めて
クリアに遮断することができる。また紫外線吸収層と透
明電極との間にオーバーコート層を設ける構成を採用す
ることにより、透明電極の形成を容易にすることがで
き、且つこのようなエレクトロクロミック素子を用いて
作製したエレクトロクロミックデバイス自体を紫外線か
ら保護することができる。従って本発明のエレクトロク
ロミック素子は、屋内用窓はもちろん、屋外に面した
窓、天窓、ソーラーハウス用窓材、車両用窓、サンルー
フ、間仕切り等の調光素子や耐候性表示素子などに利用
することができる。以上、本発明について詳細に説明し
てきたが、本発明のエレクトロクロミック素子に関して
好適な実施態様としては以下の態様が挙げられる。 １．紫外線吸収層を形成せしめる塗布成分が、少なくと
も（ａ）前記一般式（１）に示されるアミノシラン化合
物またはその誘導体、および（ｂ）前記分子内にカルボ
キシル基を有する紫外線吸収剤を反応させる際に、この
反応を前記シリコーン樹脂の存在下で行うことにより得
られるものであることを特徴とするエレクトロクロミッ
ク素子。 ２．紫外線吸収層を形成せしめる塗布成分が、少なくと
も、（ａ）前記一般式（１）に示されるアミノシラン化
合物またはその誘導体、および（ｂ）前記分子内にカル
ボキシル基を有する紫外線吸収剤を反応させ、該アミノ
シランに由来するアミド結合を生成せしめたのち、前記
エポキシシラン類をさらに加えることにより得られるも
のであることを特徴とするエレクトロクロミック素子。 ３．紫外線吸収層を形成せしめる塗布成分が、少なくと
も、（ａ）前記一般式（１）に示されるアミノシラン化
合物またはその誘導体、および（ｂ）前記分子内にカル
ボキシル基を有する紫外線吸収剤を反応させ、前記アミ
ノシラン類に由来するアミド結合を生成せしめたのち、
無機微粒子分散液をさらに加えることにより得られるも
のであることを特徴とするエレクトロクロミック素子。

【００２４】

【実施例】以下に本発明の実施例を挙げ説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。

【００２５】実施例１カルボキシル基含有紫外線吸収剤の合成 ２２５ｇ（０. ４６モル）の３- （５- クロロ- ２Ｈ-
ベンゾトリアゾール-２- イル）- ５- （１, １- ジメ
チルエチル）- ４- ヒドロキシ- ベンゼンプロパン酸オ
クチルエステル（ＴＩＮＵＶＩＮ １０９、商標名、Ｃ
ｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）を７００ｍｌのアセトンに溶
解し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液６００ｍｌを加えて
室温で２４時間攪拌した。２Ｎ塩酸６５０ｍｌを加えて
酸性にした後、不溶化した生成物を濾別し、蒸留水で濾
液が中性になるまで洗浄した。この生成物を真空乾燥し
た後、トルエンからの再結晶を行うことで３- （５- ク
ロロ- ２Ｈ- ベンゾトリアゾール- ２- イル）- ５-
（１, １- ジメチルエチル）- ４- ヒドロキシ- ベンゼ
ンプロパン酸［化合物Ｉ］を得た。紫外線吸収層の作製 ３−アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇをキシレン
３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しながら、５ｇの前記化
合物Ｉを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇
温し、３時間還流した。放冷後、３−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、これを紫外線
吸収性塗布液とした。得られた塗布液を１３Ｃ−ＮＭＲ
により分析したところ、アミド結合に由来するカルボニ
ルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミ
ノシラン類に由来するアミド結合が存在していることを
確認した。前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にス
プレー塗布し、室温で２０分放置後２００℃で２０分加
熱し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫外線
吸収ガラスを作製した。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液（日本ユニカー社製ＡＰＺ−６６１５）
をエタノールで２倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから１００℃で２０分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約６. ５μｍのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度２００℃でＩＴＯのスパッタリングを行い、膜厚
約３９００オングストローム、抵抗８. ２Ω／cm²の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図６に示した。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、２０〜３０オング
ストローム／秒の条件下、厚さ約５０００オングストロ
ームとなるように、ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製
した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に、表面積１５００ｍ² ／ｇの活性炭繊維（群栄化
学株式会社）を、導電性接着剤（商品名「シルベストＰ
−２５５」：徳力化学研究所製）を用いて格子状に接着
した。この際、活性炭繊維の格子の形状は、格子間隔２
ｃｍ、格子線幅０．８ｍｍ、活性炭繊維の使用量は０．
８５ｍｇ／ｃｍとした。次に、活性炭繊維の上にポリエ
ステルフィルムを接着し、絶縁層を設けて対向電極を作
製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８８であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００２６】実施例２紫外線吸収層の作製 ３ｇの３- アミノプロピルトリエトキシシランをキシレ
ン４０ｇに溶解し６０℃に加熱しつつ、５ｇの実施例１
における化合物Ｉを徐々に加えた。添加終了後、１３０
℃まで昇温し、３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。得られた溶液を¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析し
たところ、アミド結合に由来するカルボニルのピーク
（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミノシラン類
に由来するアミド結合が存在していることを確認した。
前記塗布液をガラス基板上にスプレー塗布し、室温で２
０分放置後１３０℃で３０分加熱し、厚さ約１０μｍの
紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラスを作製した。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、実施例１と同様
にオーバーコートを施した後、実施例１と同様の条件で
透明電極を作製した。この透明導電基板の分光透過率を
測定したところ実施例１と同様に４００nm以下をほぼ完
全にカットするものが得られた。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８８であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００２７】実施例３紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上に
スプレー塗布し、室温で２０分放置後、２００℃で２０
分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫
外線吸収ガラスを作製した。この紫外線吸収ガラスに対
して碁盤目試験を行ったところ、５０％剥離が見られ
た。また、この紫外線吸収透明基板を沸騰アセトンで２
４時間抽出を行ったところ、重量減少はなかった。この
ことから、紫外線吸収剤はアミノシランを介して樹脂と
結合していることがわかった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液（日本ユニカー社製ＡＰＺ−６６１５）
をエタノールで２倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから１００℃で２０分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約６. ５μｍのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度２００℃でＩＴＯのスパッタリングを行い、膜厚
約３９００オングストローム、抵抗８. ２Ω／cm²の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図７に示した。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．１であった。続い
て、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよう
に１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに着
色は消滅し、この際の光学密度は０．２１であった。こ
の際着色時と消色時の光学密度差は、０．８９であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００２８】実施例４紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、３- グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、紫外
線吸収性塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液をガラ
ス基板上にスプレー塗布し、室温で２０分放置後、２０
０℃で２０分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収被膜
を有する紫外線吸収ガラスを作製した。このガラス基板
の紫外可視吸収スペクトルを図８に示した。また、実施
例３のように碁盤目試験での剥離は認められなかった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液（日本ユニカー社製ＡＰＺ−６６１５）
をエタノールで２倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから１００℃で２０分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約６. ５μｍのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度２００℃でＩＴＯのスパッタリングを行い、膜厚
約３９００オングストローム、抵抗８. ２Ω／cm²の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図８に示した。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．１１であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２２であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８９であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００２９】実施例５紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、３- グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを１６ｇ、コロイダル
シリカ分散液（日産化学製、MIBK-ST ）を８ｇ添加し紫
外線吸収性塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液をガ
ラス基板上にスプレー塗布し、室温で２０分放置後、２
００℃で２０分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収被
膜を有する紫外線吸収ガラスを作製した。鉛筆硬度は４
Ｈであった。このガラス基板の紫外可視吸収スペクトル
を図９に示した。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に基板温度２００℃
でスパッタリングを行い、膜厚約３９００オングストロ
ーム、抵抗８. ２Ω／cm² の透明電極を形成し、紫外線
遮断能を有する透明導電基板を得た。この透明導電基板
の分光透過率を図９に示した。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基ずいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０９であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８７であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３０】実施例６エポキシシランの重合 ３- グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２００ｇ
をキシレン７５ｇに溶解させ、３フッ化ホウ素・ジエチ
ルエーテル錯体４ｍｌを室温で徐々に加えた後、４時間
撹拌しエポキシ基の開環重合を行った。得られたポリマ
ーの分子量はＭｗ＝３３００（ポリスチレン換算）であ
った。紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン２９ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、上記エポキシ
シラン重合体溶液を２２ｇを加え紫外線吸収材料を得
た。前記溶液状の紫外線吸収材料をコーテング液とし
て、これをガラス基板上にスプレー塗布し、室温で２０
分放置後、１５０℃で３０分加熱し、厚さ約１５μｍの
紫外線吸収層のついたガラス基板を作製した。鉛筆硬度
は６Ｈであった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の
作製こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリ
コーンレジン塗布液（日本ユニカー社製ＡＰＺ−６６１
５）をエタノールで２倍に希釈してからスプレーコート
した。溶媒が乾燥してから１００℃で２０分加熱硬化さ
せたところ、紫外線吸収層上に約６. ５μｍのシリコー
ンレジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラ
ス基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収
層、さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上
に基板温度２００℃でＩＴＯのスパッタリングを行い、
膜厚約３９００オングストローム、抵抗８. ２Ω／cm²
の透明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基
板を得た。この透明導電基板の分光透過率を図１０に示
した。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０９であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８９であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３１】実施例７紫外線吸収塗布液の製造 ３- アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇと実施例６
のエポキシシラン重合体溶液１１ｇをキシレン３２ｇに
溶解し、８０℃に加熱しながら化合物Ｉ５ｇを徐々に添
加した。添加終了後、１３０℃まで昇温し３時間還流
し、紫外線吸収材料を得た。前記溶液状の紫外線吸収材
料をコーテング液として、これをガラス基板上にスプレ
ー塗布し、室温で２０分放置後、１５０℃で３０分加熱
し、厚さ約１５μｍの紫外線吸収層のついたガラス基板
を作製した。鉛筆硬度は５Ｈであった。紫外線吸収層を有する透明導電基板の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、さらにシリコー
ンレジン塗布液（日本ユニカー社製ＡＰＺ−６６１５）
をエタノールで２倍に希釈してからスプレーコートし
た。溶媒が乾燥してから１００℃で２０分加熱硬化させ
たところ、紫外線吸収層上に約６. ５μｍのシリコーン
レジンからなる保護層が得られた。こうして透明ガラス
基板の上に有機紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層、
さらにその上に保護層が形成された。さらにこの上に基
板温度２００℃でＩＴＯのスパッタリングを行い、膜厚
約３９００オングストローム、抵抗８. ２Ω／cm²の透
明電極を形成し、紫外線遮断能を有する透明導電基板を
得た。この透明導電基板の分光透過率を図１１に示し
た。発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの前記紫外線吸収層を有する透明導電基
板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極
を作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄ のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２１であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８７であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３２】実施例８発色材電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様に
ＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０ｃｍの実施例７で作製した紫外線吸収層を有
する透明導電基板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配
置し、対向電極を作製した。固体系イオン伝導物質前駆体の作製 メトキシポリエチレングリコール＃２３０メタクリレー
ト（新中村化学製，Ｍ−４０Ｇ）１ｇとポリエチレング
リコール＃４００ジメタクリレート（新中村化学製，９
Ｇ）０．０２ｇと光重合開始剤（ダロキュアー１１７
３，チバガイギー製）２０ｍｇを１Ｍ- ＬｉＣｌＯ₄ ／
γ- ブチロラクトン溶液４ｇに溶解させ、固体系イオン
伝導物質前駆体とした。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を粒径２００μｍのガラ
スビーズを挟んで相対向せしめ、周辺をエポキシ樹脂で
５ｍｍ幅でシールし、内部に前述の固体系イオン伝導物
質前駆体を真空注入して、紫外線硬化後、注入口をエポ
キシ樹脂で封止した。ついで発色材および対向電極の各
々にリード線を接続して調光体とした。次いで得られた
調光体の性能評価を下記の各試験に基ずいて評価した。着消色試験 実施例１と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は１．１５であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は０．２５で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、０．９
０であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３３】実施例９中間層の作製 ガラス基板上にＺｎＯ超微粒子分散塗料（レジノカラー
工業社製、ＵＶ−Ｓ−４００）をディップコートにより
塗布し、２００℃で２０分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約２μｍの紫外線吸収層を作製した。この上に
ポリエーテルサルフォン（ＩＣＩ社製、｀ＶＩＣＴＲＥ
Ｘ´ＰＥＳ ４１００Ｐ）の塩化メチレン溶液をスピン
コートすることにより、厚さ約２μｍのポリマー層を作
製した。紫外線吸収層の作製 さらに、実施例７で作製したのと同様に、厚さ約１５μ
ｍの紫外線吸収層を作製した。オーバーコート層の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、ポリイミドワニ
ス（日産化学工業社製、ＲＮ−８１２）をスピンコート
した。ホットプレート上６０℃で溶媒が乾燥させた後、
オーブン中２００℃で３０分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約２μｍのオーバーコート層を得た。透明導電膜の作製 さらにこの上に、基板温度２５０℃以下でＩＴＯのスパ
ッタリングを行い、膜厚２０５０オングストローム、表
面抵抗９. ５Ω／ｃｍ² の透明電極紫外線遮断能を有す
る透明導電基板を得た。 発色材電極の作製 こうして得られた紫外線遮断能を有する透明導電基板１
０×１０cmを用いて、５モル／ｌの塩酸アニリン、０．
５規定の過塩素酸溶液中で、５００μＡ／ｃｍ² の電流
密度で電解重合を行い、重合面積７０ｃｍ² 、厚さ約３
０００オングストロームのポリアニリン膜を得た。対向電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、電解重合で得られ
た表面積７３ｍ² ／ｇのポリピロール粉末を、実施例１
と同様な導電性接着剤を用いて横縞状に接着した。この
際、線間隔１ｃｍ、線幅０．５ｍｍ、ポリピロール粉末
の使用量は０．６５ｍｇ／ｃｍとした。次に、ポリピロ
ール層の上にポリエステルフィルムを接着して、絶縁層
を設け対向電極とした。イオン伝導性ゲル前駆体の調製 メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート１０
ｇ、γ−ブチロラクトン４０ｇ、過塩素酸リチウム４ｇ
を混合し、遮光下で、光重合開始剤ダロキュアー１１７
３（チバガイギー製）０．２ｇを添加した。調光体の作製 実施例８と同様に、イオン伝導性ゲル前駆体を真空中入
し、調光体を作製した。着消色試験 実施例１と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は０．６５であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、０．４
５であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３４】比較例１発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃ を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 実施例２と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を作製
した。調光体の作製 実施例１と同様に、電解液を真空中入し、調光体を作製
した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印可したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８８であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下が観察され、
光学密度差は、０．２５に減少した。

【００３５】比較例２無機紫外線吸収層の作製 ガラス基板上にＺｎＯ超微粒子分散塗料（レジノカラー
工業社製、ＵＶ−Ｓ−４００）をディップコートにより
塗布し、２００℃で２０分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約２μｍの紫外線吸収層を作製した。透明導電膜の作製 この上に、基板温度２５０℃以下でＩＴＯのスパッタリ
ングを行い、膜厚２０５０オングストローム、表面抵抗
９. ５Ω／ｃｍ² の透明電極紫外線遮断能を有する透明
導電基板を得た。この透明導電基板の分光透過率を図１
２に示した。 発色材電極の作製 実施例１と同様にＷＯ₃ を蒸着し、発色材電極を作製し
た。対向電極の作製 実施例２と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を作製
した。調光体の作製 実施例８と同様に、イオン伝導性ゲル前駆体を真空中入
し、調光体を作製した。着消色試験 実施例１と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は１．１５であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように１Ｖの電圧を６０秒間印可したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は０．２５で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、０．９
０であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下が観察され、
光学密度差は、０．６５まで減少した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエレクトロクロミック素子の構造説明
図である。

【図２】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図３】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図４】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図５】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図６】実施例１で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図７】実施例３で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図８】実施例４で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図９】実施例５で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図１０】実施例６で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。

【図１１】実施例７で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。

【図１２】比較例２で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ 透明基板 ２ａ，２ａ’ 透明電極 ３ 紫外線吸収層 ４ エレクトロクロミック層 ５ シール剤 ６ イオン伝導性物質 ７ 中間層 ８ オーバーコート層 ９ 不透明基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 錦谷 禎範 横浜市中区千鳥町８番地 日本石油株式会 社中央技術研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも内側面に電極を有する一対の
   対向導電基板と、対向導電基板の間に挟持して設けたイ
   オン伝導物質と、導電基板の内側面の電極およびイオン
   伝導性物質の間の少なくとも一方に設けたエレクトロク
   ロミック性物質を含む層とを備えたエレクトロクロミッ
   ク素子であり、 前記対向電極の少なくとも一方が透明基板およびこの透
   明基板の内側に配置した透明電極を備える透明導電基板
   であり、透明導電基板の少なくとも一方の透明基板と透
   明電極との間に紫外線吸収層を有し、該紫外線吸収層
   が、 （ａ）一般式（１）に示されるアミノシラン化合物また
   はその誘導体と、 【化１】 （式中、Ｒ¹ は炭素数１〜１０のアルキレン基、または
   一般式−（ＣＨ₂ ）_m −ＮＨ−［ｍは１≦ｍ≦４の整
   数］で表される２価の基を示し、各々のＲ² は同一若し
   くは異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原
   子、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０の
   アルコキシ基を示す。但し全てのＲ² のうち少なくとも
   一つはアルコキシ基若しくは水酸基を示す。ｎはｎ≧０
   の整数を示す。） （ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤と
   を反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導体に
   由来するアミド結合を生成せしめた成分を、透明基板の
   上に塗布、硬化することによって作製されたることを特
   徴とするエレクトロクロミック素子。
2. 【請求項２】 上記紫外線吸収層と透明電極との間にオ
   ーバーコート層を設けたことを特徴とする請求項１に記
   載のエレクトロクロミック素子。